TWM624080U - 蘭苗之環控立體栽培系統 - Google Patents

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林畯騰
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永宏蘭業股份有限公司
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Abstract

本創作蘭苗之環控立體栽培系統包含一培育室、多數栽培架、一空調機組及一二氧化碳控制機組,栽培架設置於培育室之一培育空間內,本創作用以培育苗株,透過於培育室中設置多數栽培架,每一栽培架設有複數蘭苗放置部,每一蘭苗放置部能擺置多數苗株之設計,而能以立體化的栽種方式培育苗株,藉此降低場地成本,再透過蘭苗放置部上方的發光模組發出選定波長的光線供苗株接收,而該空調機組及該二氧化碳控制機組連接該培育室,並能控制該培育空間中溫度、濕度及二氧化碳濃度,藉此提升所述苗株生長為雙梗苗株之機率。

Description

蘭苗之環控立體栽培系統
本創作係一種蘭苗之環控立體栽培系統,尤指能對蘭苗之生長環境進行控制的蘭苗之環控立體栽培系統。
當蝴蝶蘭之苗株生長時,會因光照及氣溫等環境因素而發育為單梗苗株或雙梗苗株,由於雙梗之蝴蝶蘭於開花時的花朵數量會多於單梗之蝴蝶蘭,因此雙梗之蝴蝶蘭較受消費者的喜愛,使得其價格較高,且蝴蝶蘭之雙梗苗株與單梗苗株的生產成本相近,因此蘭花之培育業者致力於提高雙梗苗株之生成率。
為了促使蝴蝶蘭之苗株於抽梗期時生長為雙梗苗株,現今培育業者會將多數蝴蝶蘭之苗株呈平面狀地擺置於日光溫室中,以使苗株能儘量接受光照,並利用遮陰網遮蓋於日光溫室的頂部,或於日光溫室中架設水簾,以使所述日光溫室內的溫度下降,藉此將所述日光溫室中的溫度維持在適合苗株成長為雙梗苗株的溫度範圍內。
然而,由於苗株需呈平面狀的擺放於日光溫室中,造成所述日光溫室的佔地面積較大,使得場地成本增加,而所述遮陰網之設置容易造成所述日光溫室中不同位置的苗株受光不均勻,使得苗株生長並抽梗的速度不一,造成苗株需分成多批出貨而較為不便,而所述水簾降溫之原理係利用水氣吸收熱能,因此會造成所述日光溫室中的溼度上升,導致苗株容易生病。
本創作之主要目的在於提供一蘭苗之環控立體栽培系統,希藉此改善現今利用日光溫室培育蝴蝶蘭之苗株時,有場地成本較高及苗株受光不均勻,造成出貨不便,且苗株容易受水氣影響等問題。
為達成前揭目的,本創作蘭苗之環控立體栽培系統包含: 一培育室,其內部形成有一培育空間,並具有連通該培育空間之一出入口,該培育空間中設有一養液供應模組; 多數栽培架,該多數栽培架間隔地設置於該培育室之培育空間內,每一栽培架由上至下間隔地設置有複數蘭苗放置部,所述蘭苗放置部上能擺置多數苗株,每一蘭苗放置部上方設有一發光模組,所述發光模組能發出選定波長的光; 一空調機組,其設置於該培育室內,並能用以控制該培育空間的溫度及濕度;及 一二氧化碳控制機組,其連接該培育室之培育空間,並能偵測該培育空間內的二氧化碳濃度,且能對該培育空間輸送二氧化碳。
本創作蘭苗之環控立體栽培系統係用以培育所述苗株,其中,所述蘭苗之環控立體栽培系統具備有下列優點: 1.     能降低場地成本:本創作係透過於該培育室之培育空間中間隔擺置該多數栽培架,每一栽培架由上至下設置有該複數蘭苗放置部,而每一蘭苗放置部又能擺置多數個所述苗株,因此,藉由前述栽培架設計,而能於該培育空間之有限面積中,以多層之立體化栽種方式種植較多的苗株,而能有效降低培育苗株之場地成本。 2.     能有效避免苗株受光不均勻:該多數栽培架的每一蘭苗放置部上方皆設有所述發光模組,所述發光模組係直接對所述蘭苗放置部投射光線,因此擺置於所述蘭苗放置部上的苗株能直接接收光線而不會被阻擋,藉此使多數個所述苗株之生長及抽梗速度趨於相同,能避免該多數苗株因生長程度不一,而需分成多批出貨之情形。 3.     提升所述苗株生長為雙梗苗株之機率:所述蘭苗之環控立體栽培系統能透過該空調機組控制該培育空間中的溫度及濕度,並透過該二氧化碳控制機組控制該培育空間中的二氧化碳濃度,以使所述培育空間中的環境適宜所述苗株之抽梗條件,而所述栽培架之蘭苗放置部上方的發光模組發射出之選定波長的光,能提升所述苗株生長為雙梗苗株之機率。
其中,所述發光模組能發出波長介於430奈米~700奈米之間的光;並能發出紫外線(Ultraviolet, UV)波段中,波長介於320奈米~400奈米之間的光,或能發出近紅外線(Near-infrared, NIR)波段中,波長介於840奈米~1050奈米之間的光,而能提升所述苗株生長為雙梗苗株之機率。
請參閱圖1至圖5,為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之一種較佳實施例,其包含一培育室10、多數栽培架20、一空調機組30及一二氧化碳控制機組40。
如圖1所示,該培育室10內部形成有一培育空間11,並具有連通該培育空間11之一出入口12,較佳地,該培育室10採用隔熱設計。
如圖1至圖3所示,該多數栽培架20間隔地設置於該培育室10之培育空間11內,每一栽培架20由上至下間隔地設置有複數蘭苗放置部21,所述蘭苗放置部21上能擺置多數苗株50,每一蘭苗放置部21上方設有一發光模組22,所述發光模組22能發出選定波長的光,此外,所述栽培架20之底部設有複數滾輪23,以便於移動所述栽培架20。
於本創作之較佳實施例中,所述發光模組22除了能發出波長介於430奈米~700奈米之間的可見光外,還能進一步發出紫外線(Ultraviolet, UV)波段中,波長介於320奈米~400奈米之間的光;或能進一步發出近紅外線(Near-infrared, NIR)波段中,波長介於840奈米~1050奈米之間的光;抑或是UV波段中波長介於320奈米~400奈米之間的光,及NIR波段中波長介於840奈米~1050奈米之間的光皆能發出,以使所述發光模組22發出的光線能接近太陽光之光譜。
較佳地,所述發光模組22發出之光線的強度介於100~150光合作用光子通量密度(Photosynthetic photon flux density, PPFD)之間,以促進所述苗株50生長,於本創作之較佳實施例中,如圖3及圖4所示,所述發光模組22包含複數發光二極體燈管221;或如圖5所示,所述發光模組22包含一發光二極體燈板222,供廠商依需求而選擇。
如圖1所示,該空調機組30設置於該培育室10內,並能用以控制該培育空間11的溫度及濕度,其中,所述空調機組30係將該培育空間11之溫度控制在攝氏18度~攝氏25度之間(包含端點值),並將該培育空間11之濕度控制在45%~70%之間(包含端點值),較佳地,該空調機組30能設置於該培育室10的內部或是外部。
如圖1所示,所述二氧化碳控制機組40連接該培育室10之培育空間11,並能偵測該培育空間11內的二氧化碳濃度,且能對該培育空間11輸送二氧化碳,藉此使該培育空間11內的二氧化碳濃度維持在500ppm~1200ppm之間。
較佳地,該二氧化碳控制機組40包含至少一二氧化碳濃度感測器41、一機組控制器42及一二氧化碳補充器43,所述二氧化碳濃度感測器41設置於該培育空間11中,該機組控制器42及該二氧化碳補充器43設置於該培育室10的外部,該機組控制器42連接所述二氧化碳濃度感測器41及該二氧化碳補充器43,並透過所述二氧化碳濃度感測器41偵測該培育空間11內的二氧化碳濃度,再藉由該二氧化碳補充器43對該培育空間11導入二氧化碳,於本創作之較佳實施例中,該二氧化碳補充器43為填充有二氧化碳並可替換的一鋼瓶。
如圖1所示,所述培育室10中設置有一送風機14及連接該送風機14之一空氣過濾機15,所述送風機14能將經該空氣過濾機15過濾之外部空氣導入該培育空間11中。
另外,該培育室10之培育空間11中設有一養液供應模組13,所述養液供應模組13係用以對所述苗株50提供養液,工作人員能取用養液而直接施加於所述苗株50中,或所述養液供應模組13能連接至該多數栽培架20,並採用自動化之灌溉方式,如噴霧、滴灌或淹灌等,以提供所述苗株50於抽梗期生長所需的養分。
本創作蘭苗之環控立體栽培系統係用以培育所述苗株50,較佳地係指蝴蝶蘭之苗株50,該培育室10中擺置有該多數栽培架20,每一栽培架20由上至下設置有該複數蘭苗放置部21,而每一蘭苗放置部21上能擺置多數個所述苗株50,藉此能以多層之立體化栽種方式來培育所述苗株50,而能於該培育空間11之有限面積中種植較多的苗株50,有效降低培育所述苗株50之場地成本。
另外,所述栽培架20之發光模組22、所述空調機組30及所述二氧化碳控制機組40皆能透過自動控制以運轉,藉此能降低管理成本,而透過該培育室10之隔熱設計,能避免該培育空間11之溫度受外部環境影響,並藉此降低該空調機組30運轉之成本。
於所述苗株50之培育過程中,藉由該空調機組30控制該培育空間11中的溫度及濕度,並透過該二氧化碳控制機組40控制該培育空間11中的二氧化碳濃度,以使所述培育空間11中的環境適宜所述苗株50之抽梗條件,再透過所述栽培架20之蘭苗放置部21上方的發光模組22能長時間的照射所述苗株50,並能發射出之波長介於430奈米~700奈米之間的光,以提升所述苗株50生長為雙梗苗株之機率。
另外,視所述所述苗株50之需求,可進一步對所述苗株50每日短暫而分次地照射UV波段中波長介於320奈米~400奈米之間的光,及NIR波段中波長介於840奈米~1050奈米之間的光,則能使所述苗株50的葉片變綠,而較為接近日光照射生長的狀態,且亦能提升所述苗株50生長為雙梗苗株之機率,以增加所述苗株50之價值。
此外,該培育室10之出入口12能供工作人員及所述栽培架20通過,該培育室10藉由單一個所述出入口12之設計,及該送風機14導入該培育空間11內的空氣經該空氣過濾機15過濾,以避免外部的病菌或汙染物進入該培育空間11中,能避免所述苗株50受到影響,而透過所述發光模組22發出之光線的強度介於100~150PPFD之間,能促進所述苗株50生長,並透過該養液供應模組13對所述苗株50施加養液而提供養分,以提升所述苗株50之生長速度。
再者,如圖4及圖5所示,該多數栽培架20的每一蘭苗放置部21上方皆設有所述發光模組22,所述發光模組22係直接對所述蘭苗放置部21投射光線,並透過控制於所述蘭苗放置部21上所述苗株50之擺放間距,及所述發光模組22之發光二極體燈管221或發光二極體燈板222發出之光線的角度調整,使擺置於所述蘭苗放置部21上的苗株50能直接接收光線而不會被阻擋,藉此使多數個所述苗株50之生長及抽梗速度趨於相同,能避免該多數苗株50因生長程度不一,而需分成多批出貨之情形。
綜上所述,本創作蘭苗之環控立體栽培系統係用以培育所述苗株50,並透過於該培育室10中設置該多數栽培架20,且每一栽培架20設有該複數蘭苗放置部21之設計,而能以立體化的栽種方式培育較多的苗株50,藉此降低場地成本,再透過所述發光模組22使苗株50直接接收選定波長的光線,該空調機組30及該二氧化碳控制機組40會控制該培育空間11中溫度、濕度及二氧化碳濃度,而能提升所述苗株50生長為雙梗苗株之機率。
10:培育室 11:培育空間 12:出入口 13:養液供應模組 14:送風機 15:空氣過濾機 20:栽培架 21:蘭苗放置部 22:發光模組 221:發光二極體燈管 222:發光二極體燈板 23:滾輪 30:空調機組 40:二氧化碳控制機組 41:二氧化碳濃度感測器 42:機組控制器 43:二氧化碳補充器 50:苗株
圖1:為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之一種較佳實施例之平面示意圖。 圖2:為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之栽培架之前視平面示意圖。 圖3:為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之栽培架擺置苗株之側視平面示意圖。 圖4:為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之栽培架設置發光二極體燈管之局部側視平面示意圖。 圖5:為本創作蘭苗之環控立體栽培系統之栽培架設置發光二極體燈板之局部側視平面示意圖。
10:培育室
11:培育空間
12:出入口
13:養液供應模組
14:送風機
15:空氣過濾機
20:栽培架
30:空調機組
40:二氧化碳控制機組
41:二氧化碳濃度感測器
42:機組控制器
43:二氧化碳補充器

Claims (10)

  1. 一種蘭苗之環控立體栽培系統,其包含: 一培育室,其內部形成有一培育空間,並具有連通該培育空間之一出入口; 多數栽培架,該多數栽培架間隔地設置於該培育室之培育空間內,每一栽培架由上至下間隔地設置有複數蘭苗放置部,所述蘭苗放置部上能擺置多數苗株,每一蘭苗放置部上方設有一發光模組,所述發光模組能發出選定波長的光; 一空調機組,其設置於該培育室內,並能用以控制該培育空間的溫度及濕度;及 一二氧化碳控制機組,其連接該培育室之培育空間,並能偵測該培育空間內的二氧化碳濃度,且能對該培育空間輸送二氧化碳。
  2. 如請求項1所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述發光模組發出之光線的強度介於100~150光合作用光子通量密度(Photosynthetic photon flux density, PPFD)之間。
  3. 如請求項1所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述空調機組係將該培育空間之溫度控制在攝氏18度~攝氏25度之間(包含端點值),並將該培育空間之濕度控制在45%~70%之間(包含端點值)。
  4. 如請求項2所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述空調機組係將該培育空間之溫度控制在攝氏18度~攝氏25度之間(包含端點值),並將該培育空間之濕度控制在45%~70%之間(包含端點值)。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述發光模組包含複數發光二極體燈管。
  6. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述發光模組包含一發光二極體燈板。
  7. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述培育室設置有一送風機及連接該送風機之一空氣過濾機,所述送風機能將經該空氣過濾機過濾之外部空氣導入該培育空間中。
  8. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中該培育室之培育空間中設有一養液供應模組,所述養液供應模組係用以對所述苗株提供養液。
  9. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中該二氧化碳控制機組包含至少一二氧化碳濃度感測器、一機組控制器及一二氧化碳補充器,所述二氧化碳濃度感測器設置於該培育空間中,並連接該機組控制器,該機組控制器及該二氧化碳補充器設置於該培育室的外部,該二氧化碳補充器連接至該培育室內,並連接該機組控制器,該機組控制器能透過所述二氧化碳濃度感測器偵測該培育空間內的二氧化碳濃度,再藉由該二氧化碳補充器對該培育空間導入二氧化碳。
  10. 如請求項1至4中任一項所述之蘭苗之環控立體栽培系統,其中所述發光模組能發出波長介於430奈米~700奈米之間的光;並能發出紫外線(Ultraviolet, UV)波段中,波長介於320奈米~400奈米之間的光,或能發出近紅外線(Near-infrared, NIR)波段中,波長介於840奈米~1050奈米之間的光。
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