TWM613938U - 雷射快速鑽孔裝置 - Google Patents

Abstract

一種雷射快速鑽孔裝置，其包含有負責發出光源的光源供應單元，包含用於接收及調變光源的第一控制單元和第二控制單元的光源控制單元，接收調變光源並將其聚焦成光束射向待鑽孔物件的聚光單元，以及與第一控制單元和第二控制單元電性連接的中央控制器；本創作的特色在於第二控制單元控制光源移動發射位置時，第一控制單元仍保持等轉速繞圓，因此當第二控制單元移動到定位後即可立即鑽孔，無須先減速後重新啟動繞圓轉速，故可縮短鑽孔所需時間。

Description

雷射快速鑽孔裝置

本創作係關於一種雷射鑽孔裝置，特別係指可提升鑽孔效率的雷射快速鑽孔裝置。

請參閱圖1、圖2，圖1為習知雷射鑽孔裝置之示意圖，圖2為習知雷射鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖。

習知雷射鑽孔裝置1包含有光源供應器11、光源調變單元12、聚光單元13；所述光源供應器11係將光源C發射至光源調變單元12；所述光源調變單元12係將光源C調整後射向聚光單元13，前述該光源調變單元12係可將光源C調變為繞圓轉動並可控制移動其發射位置；所述聚光單元13係接收來自光源調變單元12的光源C'，並將其聚焦形成光束C''射向待鑽孔物件A；其中，習知雷射鑽孔裝置1進行鑽孔作動的方式如下所述：

首先如圖1、2所示，光源供應器11所射出之光源係透過光源調變單元12控制以繞圓的方式進行轉動，因此聚光單元13同步射出的光束C''也會進行繞圓轉動；透過光源調變單元12逐漸提升繞圓速度至設定的速度，當達到設定的速度後即會以該速度進行等轉速的繞圓，該聚光單元13所射出的光束C''即會以繞圓方式切割出孔洞B，即完成其中一個孔洞B的鑽孔作動；

當一個孔洞B完成後，該光源調變單元12會控制光束C''減慢其繞圓轉動速度直到停止，此時聚光單元13會將光源C'遮蔽使之不會聚焦射出光束C''，接著再由光源調變單元12控制光源C'從已完成的鑽孔位置移動至另一個待鑽孔位置，其移動速度係由靜止進而加速移動至另一待鑽孔位置，當光源C'照射方向由光源調變單元12控制即將移動到該待鑽孔位置時，該光源調變單元12會控制其移動速度減速，直到定位在該待鑽孔位置時停止，此時光源調變單元12控制光源C'開始進行繞圓的轉動，該轉動速度由靜止加速直到設定的轉速，當達到設定的轉速時，該聚光單元13才會解除屏蔽進而使聚焦後的光束C''射向該待鑽孔位置，再對該鑽孔位置切割另一孔洞B'，即完成另一個鑽孔作動，以此類推進行連續多個鑽孔作動。

然，習知雷射鑽孔裝置進行鑽孔作動過程中，光束從一個鑽孔位置移動到另一個鑽孔位置進行鑽孔作動時，都必須要先透過光源調變單元將光源轉速控制減速到靜止，接著將光源移動至另一個鑽孔位置，再將光源從靜止重新加速繞圓，直到達到設定的繞圓轉速才能開始進行另一個鑽孔位置的鑽孔作動，也就是說，每次光源移動到鑽孔位置進行鑽孔作動時，都要重新將光源的繞圓轉速從靜止提升到設定的轉速，而鑽孔完成後又要將光源繞圓轉速減速回到靜止，才能再移動到另一個鑽孔位置進行鑽孔，耗時也耗能，進而也影響雷射鑽孔加工的產能效率，實需改善。

有鑑於此，本案申請人遂依其多年從事相關領域之研發經驗，針對前述之缺失進行深入探討，並依前述需求積極尋求解決之道，歷經長時間的努力研究與多次測試，終於完成本創作。

本創作之主要目的在於提供一種雷射鑽孔裝置；其特別係指可提升鑽孔效率的雷射快速鑽孔裝置。

為達上述目的，本創作雷射快速鑽孔裝置，其大致上包含光源供應單元、光源控制單元、聚光單元以及中央控制器。

所述光源供應單元係用以將光源發射至光源控制單元。

所述光源控制單元包括一個以上的第一控制單元以及一個以上的第二控制單元，該第一控制單元係負責以等速畫圓，該第二控制單元係負責點對點的移動，此外，當光源供應單元發設光源至光源控制單元後，可先由第一控制單元接收後再發送至第二控制單元，或是由第二控制單元收後再發送至第一控制單元。

所述聚光單元係接收來自第二控制單元所發射的光源，並將該光源聚焦成光束發射至待鑽孔物件上以進行鑽孔。

所述中央控制器係分別與第一控制單元和第二控制單元電性連接，該中央控制器係用於調控第一控制單元的繞圓速度和直徑，以及調整第二控制單元來控制光束的移動路徑。

藉由本創作之技術特徵，透過光源供應單元提供光源發射至第一控制單元，該中央控制器發出指令指示第一控制單元調變其所接收到的光源進行從靜止開始轉動至預設的轉速，使光源形成繞圓的轉動態樣射向第二控制單元，接著，中央控制器發出指令指示第二控制單元將其所接收到的光源移動至指定的待鑽孔位置，當該光源移動到定位後即發射至聚光單元，透過聚光單元將光源聚焦形成光束射向指定的位置進行繞圓鑽孔作動，最後形成鑽孔的孔洞。

當一個孔洞完成後，該中央控制器發出指令至第二控制單元控制光源發射位置移動至另一待鑽孔之位置，此時聚光單元將光源屏蔽而不會發出光束，以免在光源移動待鑽孔位置時誤使待鑽孔物件之其他位置受到破壞；當第二控制單元將光源移動到定位時，該聚光單元打開屏蔽而發出光束，即可立即進行繞圓鑽孔作動，無須先行將光源的繞圓態樣減速至靜止再移動光源發射位置，透過第一控制單元及第二控制單元，即可直接移動光源發射位置，並直接進行鑽孔，如此一來即可減少作動的時間，以致使提升產能的效率。

為期許本創作之目的、功效、特徵及結構能夠有更為詳盡之瞭解，茲舉較佳實施例並配合圖式說明如後。

首先請參閱圖3以及圖4。

圖3為本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之示意圖(一)，圖4為本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之示意圖(二)。

據該些圖式可知，本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置2，其大致上包含光源供應單元21、光源控制單元22、聚光單元23以及中央控制器24。

所述光源供應單元21係用以將光源F發射至光源控制單元22。

所述光源控制單元22包括一個以上的第一控制單元221以及一個以上的第二控制單元222，該第一控制單元221係負責以等速畫圓，該第二控制單元222係負責點對點的移動，此外，當光源供應單元21發設光源F至光源控制單元22後，可先由第一控制單元221接收後再發送光源F'至第二控制單元222，或是由第二控制單元222收後再發送光源F'至第一控制單元221。

所述聚光單元23係接收來自第二控制單元222所發射的光源F''，並將該光源F''聚焦成光束G發射至待鑽孔物件D上以進行鑽孔。

所述中央控制器24係分別與第一控制單元221和第二控制單元222電性連接，該中央控制器24係用於調控第一控制單元221的繞圓速度和直徑，以及調整第二控制單元222來控制光束G的移動路徑。

其中，該光源控制單元22可為掃描振鏡(galvano scanner)、光學雷射偏轉機構、雷射聲光控制機構等設備。

其中，該第一控制單元221可設定繞圓鑽出孔徑為40μm至200μm的孔洞E。

其中，該第一控制單元221或第二控制單元222係包括一個以上的光學元件與中央控制器24電性連接。

續請參閱圖5並搭配圖3和圖4。

圖5為本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖(一)，圖6為本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖(二)。

藉由前述之技術特徵，本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置2之作動如下：

如圖5所示，首先該中央控制器24發出指令指示第一控制單元221從靜止開始繞指定直徑的圓並繞至預設的轉速，接著，中央控制器24發出指令指示第二控制單元222開始移動並使鑽孔用的光束G能打在指定的待鑽孔位置上，當第一控制單元221達到指定的轉速且第二控制單元222也移動就位後，光源供應單元21便會發出光源F至第一控制單元221，再由第一控制單元221轉發光源F'至第二控制單元222，之後再由第二控制單元222發射光源F''至聚光單元23，最後由聚光單元23將光源F''聚焦形成光束G射向指定的位置進行鑽孔並最終形成孔洞E。

當一個孔洞E完成後，中央控制器24便會再發出指令至第二控制單元222，並使光源F''的發射位置移動至另一待鑽孔上，而第二控制單元222在移動光源F''的發射位置時，聚光單元23會屏蔽光源F''來避免移動時誤使光束G射向待鑽孔物件D而導致其他部位受到破壞。

當第二控制單元222將光源F''移動到定位後，聚光單元23便會解除屏蔽而使光源F''通過並發出光束G在待鑽孔物件D上鑽出另一個孔洞E'，如此一來即可減少先行將光源F'的繞圓態樣減速至靜止再移動光源F''發射位置的步驟，也減少了將光源F''移動到待鑽孔位置後重新將繞圓轉速加速至預設轉速的步驟，因此透過第一控制單元221及第二控制單元222，即可在移動光源F''發射位置就定位後直接進行繞圓鑽孔作動，如此一來即可減少鑽孔作動的時間，進而提升雷射鑽孔的產能效率。

本創作之雷射快速鑽孔裝置之優點在於：

可縮短鑽孔時間並提升產能效率：當一個孔洞E完成後，該中央控制器24發出指令至第二控制單元222控制光源F''發射位置移動至另一待鑽孔位置，當第二控制單元222將光源F''移動到定位時，即可立即進行鑽孔，無須先行將光源F'的繞圓態樣減速至靜止再移動光源F''發射位置，透過第一控制單元221及第二控制單元222，即可直接移動光源F''發射位置後直接進行鑽孔，如此一來即可減少作動的時間，進而提升產能效率。

故，本創作在同類產品中具有極佳之進步性以及實用性，同時查遍國內外關於此類結構之技術資料文獻後，確實未發現有相同或近似之構造存在於本案申請之前，因此本案應已符合『創作性』、『合於產業利用性』以及『進步性』的專利要件，爰依法提出申請之。

唯，以上所述者，僅係本創作之較佳實施例而已，舉凡應用本創作說明書及申請專利範圍所為之其它等效結構變化者，理應包含在本創作之申請專利範圍內。

1:習知雷射鑽孔裝置 11:光源供應器 12:光源調變單元 13:聚光單元 A:待鑽孔物件 B:孔洞 B'::孔洞 C光源 C':光源 C'':光束 2:雷射快速鑽孔裝置 21:光源供應單元 22:光源控制單元 221:第一控制單元 222:第二控制單元 23:聚光單元 24:中央控制器 D:待鑽孔物件 E:孔洞 E':孔洞 F:光源 F':光源 F'':光源 G:光束

圖1：習知雷射鑽孔裝置之示意圖； 圖2：習知雷射鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖； 圖3：本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之示意圖(一)； 圖4：本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之示意圖(二)； 圖5：本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖(一)； 圖6：本創作較佳實施例雷射快速鑽孔裝置之鑽孔作動示意圖(二)。

2:雷射快速鑽孔裝置

21:光源供應單元

22:光源控制單元

221:第一控制單元

222:第二控制單元

23:聚光單元

24:中央控制器

D:待鑽孔物件

F:光源

F':光源

F":光源

G:光束

Claims (5)

1. 一種雷射快速鑽孔裝置，其包含有光源供應單元、光源控制單元、聚光單元以及中央控制器； 所述光源供應單元係用以將至光源發射至光源控制單元； 所述光源控制單元包括一個以上的第一控制單元以及一個以上的第二控制單元，該第一控制單元係負責以等速畫圓，該第二控制單元係負責點對點的移動，此外，當光源供應單元發設光源至光源控制單元後，可先由第一控制單元接收後再發送至第二控制單元，或是由第二控制單元收後再發送至第一控制單元； 所述聚光單元係接收來自光源控制單元所發射的光源，並將該光源聚焦成光束發射至待鑽孔物件上以進行鑽孔； 所述中央控制器係分別與第一控制單元和第二控制單元電性連接，該中央控制器係用於調控第一控制單元的繞圓速度和直徑，以及調整第二控制單元來控制光束的移動路徑。
2. 如請求項1所述之雷射快速鑽孔裝置，其中，該第一控制單元繞圓的直徑介於40μm至200μm之間。
3. 如請求項1所述之雷射快速鑽孔裝置，其中，該第一控制單元係包括一個以上的光學元件與中央控制器電性連接。
4. 如請求項1所述之雷射快速鑽孔裝置，其中，該第二控制單元係包括一個以上的光學元件與中央控制器電性連接。
5. 如請求項1所述之雷射快速鑽孔裝置，其中，該光源控制單元為掃描振鏡或光學雷射偏轉機構或雷射聲光控制機構。

Images