TWM562369U - 瓦斯器具與瓦斯閥 - Google Patents

Abstract

一種瓦斯器具，包含一燃燒器、一瓦斯閥與一控制裝置，其中瓦斯閥包括一閥體、一流量調節件、一熱膜式流量偵測元件與一步進馬達，閥體連通燃燒器及一瓦斯源，流量調節件係受帶步進馬達帶動而改變流通至燃燒器的瓦斯流量。熱膜式流量偵測元件設置於閥體且具有一探測端暴露於出氣通道。控制裝置執行瓦斯閥的控制方法，透過流量偵測元件偵測出氣通道的瓦斯流量；將測得的瓦斯流量與一預定瓦斯流量比對，並依據比對結果控制步進馬達帶動流量調節件，使流量偵測元件所測得的瓦斯流量維持於預定瓦斯流量。藉此，瓦斯流量可以維持於穩定。

Description

瓦斯器具與瓦斯閥

本創作係與瓦斯器具有關；特別是指一種可以穩定瓦斯流量的瓦斯器具與瓦斯閥。

瓦斯器具是最常用於加熱裝置，相較於電熱式的加熱裝置，燃燒瓦斯所產生的熱能大於使用電力產生的熱能，且加熱時間及反應時間均較電熱式加熱裝置快。

習用的瓦斯器具1包括一燃燒器10、一瓦斯閥12與一壓力調節器14（regulator或稱穩壓器）。燃燒器10用以燃燒瓦斯產生火焰；瓦斯閥12連通燃燒器10，用以供手動或電動的方式調整輸出至燃燒器10的瓦斯流量；壓力調節器14一端連接瓦斯閥12，另一端連接一瓦斯源16（例如液態瓦斯桶或天然氣瓦斯管）。

習用的瓦斯器具1必須透過壓力調節器14來使得瓦斯源輸入至瓦斯閥12的瓦斯壓力維持穩定，然而，當瓦斯源16的壓力小於一定壓力時，將會使得壓力調節器14所輸出的瓦斯壓力不穩定。由於瓦斯閥12是以改變其閥口的開度而使調節通過的瓦斯流量，若輸入瓦斯閥12的瓦斯壓力不穩，將會造成瓦斯流量不穩定，進而影響燃燒器10的燃燒效率。

有鑑於此，本創作之目的在於提供一種瓦斯器具與瓦斯閥，具有穩輸出輸瓦斯流量之效果。

緣以達成上述目的，本創作提供的一種瓦斯閥包括有一閥體、一流量調節件、一熱膜式流量偵測元件與一驅動器，該閥體具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口，及一閥口位於該入氣通道與該出氣通道之間；該流量調節件可移動地設置於該閥體且位於該閥口處，該流量調節件係受帶動而改變該閥口的開啟程度；該熱膜式流量偵測元件設置於該閥體，該熱膜式流量偵測元件具有一探測端，該探測端包括一熱膜電阻暴露於該出氣通道，用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量；該驅動器設置於該閥體且連接該流量調節件，該驅動器接收一控制訊號用以帶動該流量調節件移動。

本創作提供的一種瓦斯器具包含一燃燒器、一瓦斯閥與一控制裝置，其中，該燃燒器用以燃燒瓦斯產生火焰；該瓦斯閥包括一閥體、一流量調節件、一熱膜式流量偵測元件與一驅動器，其中，該閥體具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口，及一閥口位於該入氣通道與該出氣通道之間；其中，該入氣口供連接一瓦斯源，該出氣口連通該燃燒器；該流量調節件可移動地設置於該閥體且位於該閥口處，該流量調節件係受帶動而改變該閥口的開啟程度；該熱膜式流量偵測元件設置於該閥體，該熱膜式流量偵測元件具有一探測端，該探測端包括一熱膜電阻暴露於該出氣通道，用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量；該驅動器設置於該閥體且連接該流量調節件，該驅動器接收一控制訊號用以帶動該流量調節件移動；該控制裝置電性連接該熱膜式流量偵測元件與該驅動器，該控制裝置依據一預定瓦斯流量輸出該控制訊號以控制該驅動器帶動該流量調節件，使該熱膜式流量偵測元件所測得的瓦斯流量維持於該預定瓦斯流量。

本創作之效果在於，藉由熱膜式流量偵測元件設置於出氣通道可以準確且快速地偵測到瓦斯流量之變化，進而作為控制步進馬達的依據，無需再設置壓力調節器即可使通過瓦斯閥輸出的瓦斯流量可以維持於穩定，有效增加控制瓦斯流量的精確度及降低瓦斯器具的成本。

為能更清楚地說明本創作，茲舉較佳實施例並配合圖式詳細說明如後。請參圖２至圖５所示，為本創作第一較佳實施例之瓦斯器具2，包含一燃燒器20、一點火器22、一火焰偵測件24、一瓦斯閥26與一控制裝置52，本實施例中瓦斯器具2可為瓦斯爐、壁爐、熱水器等任何的瓦斯加熱裝置。

該燃燒器20用以燃燒瓦斯產生火焰。該點火器22位於該燃燒器20旁，該點火器22受控制而相對該燃燒器20產生火花，以點燃自燃燒器20輸出的瓦斯。該火焰偵測件24位於該燃燒器20旁，用以偵測火焰，火焰偵測件24可為熱電耦或火焰感應針。

該瓦斯閥26設置於連通該燃燒器的一瓦斯管路P上。該瓦斯閥26受控制而開啟或阻斷該瓦斯管路P，以及受控制而調節輸出至該燃燒器20的瓦斯流量。本實施例中，該瓦斯閥26包括一閥體28、一流量調節件34、一熱膜式（hot film）流量偵測元件38與一以步進馬達50為例的驅動器，其中，該閥體28具有一入氣口301、一出氣口324、一入氣通道303連通該入氣口301、一出氣通道322連通該出氣口324，及一閥口304位於該入氣通道303與該出氣通道322之間，其中，該入氣口301供連接一瓦斯源G，該出氣口324連通該燃燒器20。本實施例中，該入氣口301係經由瓦斯管路P直接連通至該瓦斯源，且該入氣口301與該瓦斯源G之間未設置習用之瓦斯器具1所使用的壓力調節器14（regulator或稱穩壓器）。

本實施例中，該閥體28包含一本體30與一管件32，該本體30具有該入氣口301、該入氣通道303、該閥口304及一連接通道305，且該閥口304位於該入氣通道303與該連接通道305之間；該管件32連接於該連接通道305，且該管件32具有該出氣通道322與該出氣口324。該出氣通道322具有一第一段322a、一第二段322b與一第三段322c，該第一段322a位於該第二段322b與該第三段322c之間，且該第一段322a為一錐段，其內徑係由該第三段322c往該第二段322b的方向漸縮；該第二段322b為一等徑段位於該第一段322a與該出氣口324之間。

該連接通道305具有內螺紋；該管件30包括相連接的一螺紋管32a與一外管32b，該螺紋管32a與該連接通道305的內螺紋結合；該外管32b具有該第二段322b的至少一部分，且該外管32b位於該本體30之外，該熱膜式流量偵測元件38設置於該外管32b。更詳而言，該外管32b具有一凹孔326自該第二段322b之壁面凹入形成。本實施例中，該外管32b形成一頭部，例如外周面為六面之頭部，供驅轉以將螺紋管螺32a入連接通道305，且外管32a與本體30之間設有密封環33，避免瓦斯外漏。

該流量調節件34可移動地設置於該閥體28且位於該閥口304處，該流量調節件34於本實施例中為閥塞，其係連接一傳動機構36且係傳動機構36受帶動而改變該閥口304的開啟程度。

請配合圖３與圖４，該熱膜式流量偵測元件38設置於該閥體28，該熱膜式流量偵測元件38具有一探測端38a暴露於該出氣通道322，用以偵測通過該出氣通道322的瓦斯流量。本實施例中該熱膜式流量偵測元件38包括一基板40、以及一熱膜電阻402與一補償電阻404設置於該基板40上，該熱膜電阻402與該補償電阻404暴露於該出氣通道322，該探測端38a包括該熱膜電阻402與該補償電阻404，該熱膜電阻402的電阻值小於該補償電阻404的電阻值。

實務上，探測端38a亦可只包括熱膜電阻402暴露於該出氣通道322中。本實施例中，該熱膜式流量偵測元件38位於該凹孔326中且其探測端38a暴露於該第二段322b，該熱膜式流量偵測元件38經由一訊號線組44穿過管件32的外管32b而可電性連接至外部的電路。

該基板40上更設置有另外二個電阻406, 408與該熱膜電阻402及該補償電阻404形成一電橋電路40a，該熱膜電阻402及該補償電阻404一端連接一第一節點421，該第一節點421供連接一電壓源，另外二個電阻406, 408的一端連接一第二節點422，該第二節點422供連接一接地端。在電壓源供電後，熱膜電組產生熱能，當瓦斯氣流F通過該熱膜電阻402的流量增加時，熱膜電阻402受到冷卻的程度增大，其電阻值隨之減小，為保持電橋電路40a平衡需要的電流增大，因此補償電阻404上的電流相應增大，讓熱膜電阻402的溫度回升；反之亦然。藉此，補償電阻404的電流與瓦斯流量具有相對應的比例關係，因此，電橋電路40a中的第三節點423與第四節點424兩個節點之間的電壓與瓦斯流量將呈比例關係。本實施例中，該第一至第四節點421~424係透過該訊號線組44連接至閥體28外部。第三節點423與第四節點424連接至一放大電路522，該放大電路位於該閥體28外部，用以將第三節點423與第四節點424之間的電壓放大。實務上，放大電路522亦可設置於該基板40上。

為了增加偵測瓦斯流量的準確度，本實施例的瓦斯閥26更包括一整流件48，設置於該管件32的該出氣通道322的第三段322c中，使該熱膜式流量偵測元件38的探測端38a位於該整流件48與該出氣口324之間。該整流件48具有複數個次通道482（圖３與圖５參照），使瓦斯氣流平順地經過探測端38a，減少紊流造成的偵測誤差。

該步進馬達50設置於該閥體28且連接該流量調節件34，該步進馬達50接收一控制訊號以帶動該流量調節件34移動；本實施例中，步進馬達50的轉軸502係透過該傳動機構36連接流量調節件34。在步進馬達50的轉軸502為正轉或逆轉時，即可帶動流量調節件34沿著轉軸502之軸向移動，進而改變閥口304的開啟程度。

該控制裝置52電性連接該點火器22、該火焰偵測件24、該熱膜式流量偵測元件38與該步進馬達50，本實施例中該控制裝置52包括有該電壓源及該接地端且透過該訊號線組44供電給該熱膜式流量偵測元件38的基板40上的電橋電路40a，且該控制裝置52包括有該放大電路522，並透過該訊號線組44電性連接電橋電路40a以接收該電橋電路40a的第三節點423及第四節點424之間的電壓。

該控制裝置52用以進行本實施例的瓦斯閥26的控制方法，若在瓦斯器具2未使用時（即閥口被關閉的情況下），在進行控制方法之前，控制裝置52先控制該點火器22對燃燒器10產生火花。

接著進行該瓦斯閥的控制方法，方法包含圖６所示之下列步驟：

控制裝置52輸出控制訊號控制該步進馬達50帶動該流量調節件34，使該閥口304開啟，讓瓦斯通過；瓦斯引燃後，控制裝置52即可透過火焰偵測件24回授之電訊號以得知瓦斯已被引燃。

透過該熱膜式流量偵測元件38偵測該出氣通道322的瓦斯流量；本實施例中，該控制裝置52將該熱膜式流量偵測元件38之電橋電路40a所輸出的電壓轉換為對應的瓦斯流量。

該控制裝置52依據一預定瓦斯流量及該熱膜式流量偵測元件38所測得的瓦斯流量輸出控制訊號控制該步進馬達50帶動該流量調節件34，使該熱膜式流量偵測元件38所測得的瓦斯流量維持於該預定瓦斯流量。更詳而言，該控制裝置52將該熱膜式流量偵測元件所測得的瓦斯流量與該預定瓦斯流量比對，依據比對結果控制該步進馬達50帶動該流量調節件34，使該熱膜式流量偵測元件38所測得的瓦斯流量維持於該預定瓦斯流量。

本實施例中，該預定瓦斯流量係對應一預定熱值，供輸給燃燒器20的瓦斯流量為該預定瓦斯流量時，可以讓燃燒器20產生該預定熱值。

藉此，即使該瓦斯源G輸出的壓力不穩定或壓力過小，造成瓦斯流量的變化，都可以藉由控制該流量調節件34而使得經由瓦斯閥26所輸出的瓦斯流量穩定維持於該預定瓦斯流量。由於採用熱膜式流量偵測元件38具有可以快速反應瓦斯流量的優點，因此，可以用於即時的控制步進馬達50，使瓦斯流量可以快速地維持於該預定瓦斯流量。由於熱膜式流量偵測元件38設置於閥口304與出氣口324之間，因此，瓦斯流量已經由流量調節件34調整過，可以讓通過熱膜式流量偵測元件38的瓦斯流量較為穩定。

圖７所示為本創作第二較佳實施例之瓦斯器具，其具有大致相同於第一實施例之結構，不同的是，本實施例更包括一混合器54與一鼓風機56，該混合器54設置於瓦斯閥26與燃燒器20之間。鼓風機56機56電性連接控制裝置52且其出風口連接混合器54。控制裝置52依一預定熱值產生對應的一預定轉速與一預定瓦斯流量，其中控制裝置52依預定轉速值控制該鼓風機56之馬達的轉速，且依據該預定瓦斯流量及該熱膜式流量偵測元件38所測得的瓦斯流量控制該步進馬達50帶動該流量調節件34，使該熱膜式流量偵測元件38所測得的瓦斯流量維持於該預定瓦斯流量。

圖８至圖10所示為本創作第三較佳實施例之瓦斯閥58，其具有類似第一實施例之瓦斯閥26的架構，包括一閥體60、一流量調整件66、一熱膜式流量偵測元件68與一步進馬達70。本實施例的閥體60包括一本體62與一管件64，本體62具有一入氣口622、一入氣通道624、一閥口626與一連接通道628；管件64之結構與第一實施例相同具有出氣通道642及出氣口644。本實施例的流量調整件66為閉子，可轉動地設置於本體62中，流量調整件66具有軸孔661、一第一氣孔662、一第二氣孔663、一第一引槽664與第二引槽665，第一、第二氣孔662, 663與軸孔661相通，第一氣孔662的孔徑大於第二氣孔663的孔徑，第一引槽664、第二引槽665位於第一、第二氣孔662, 663之間，且第一引槽664一端連通第一氣孔662，第二引槽665一端連通第二氣孔663。實務上，流量調整件66只要至少具有軸孔661、第一氣孔662及第一引槽664即可。

熱膜式流量偵測元件68與第一實施例相同，設置於閥體60上。步進馬達70設置於本體62上且步進馬達70的轉軸702連接閉子。藉此，本實施例的瓦斯閥58同樣可以應用於第一實施例的瓦斯器具2中。

圖11所示為本創作第四較佳實施例之瓦斯閥72，其具有大相同於第一實施例的瓦斯閥26之結構，不同的是，本實施例的管件74之出氣通道742的第一段742a與第二段742b的內徑相同，即出氣通道742於整流件76至熱膜式流量偵測元件38之間的內徑相同，藉此，可讓瓦斯之氣流更穩定流過熱膜式流量偵測元件38的探測端38a。

圖12所示為本創作第五較佳實施例之瓦斯閥78，其具有大相同於第一實施例的瓦斯閥26之結構，不同的是，本實施例的管件80之出氣通道802的第一段802a與第二段802b的內徑相同，出氣通道802的第三段802c為錐段，且整流件82位於第一段802a中。出氣通道802於整流件82至熱膜式流量偵測元件38之間的內徑相同，藉此，同樣可讓瓦斯之氣流更穩定流過熱膜式流量偵測元件38的探測端38a。

第三實施例的管件64的出氣通道642同樣可以採用如同第四、第五實施例的管件之結構。

前述各實施例的驅動器係以步進馬達為例，實務上，瓦斯閥亦可採用比例閥，例如美國專利公開號US20090206291A1。比例閥之驅動器包括線圈及磁體，以電磁之作用帶動流量調節件改變閥口的開啟程度。

據上所述，本創作藉由熱膜式流量偵測元件設置於出氣通道可以準確且快速地偵測到瓦斯流量之變化，進而作為控制步進馬達的依據，無需再設置壓力調節器即可使通過瓦斯閥輸出的瓦斯流量可以維持於穩定，有效增加控制瓦斯流量的精確度及降低瓦斯器具的成本。

以上所述僅為本創作較佳可行實施例而已，舉凡應用本創作說明書及申請專利範圍所為之等效變化，理應包含在本創作之專利範圍內。

［習用］
1‧‧‧瓦斯器具
10‧‧‧燃燒器
12‧‧‧瓦斯閥
14‧‧‧壓力調節器
16‧‧‧瓦斯源
［本創作］
2‧‧‧瓦斯器具
20‧‧‧燃燒器
22‧‧‧點火器
24‧‧‧火焰偵測件
26‧‧‧瓦斯閥
28‧‧‧閥體
30‧‧‧本體
301‧‧‧入氣口
303‧‧‧入氣通道
304‧‧‧閥口
305‧‧‧連接通道
32‧‧‧管件
32a‧‧‧螺紋管
32b‧‧‧外管
322‧‧‧出氣通道
322a‧‧‧第一段
322b‧‧‧第二段
322c‧‧‧第三段
324‧‧‧出氣口
33‧‧‧密封環
34‧‧‧流量調節件
36‧‧‧傳動機構
38‧‧‧熱膜式流量偵測元件
38a‧‧‧探測端
40‧‧‧基板
40a‧‧‧電橋電路
402‧‧‧熱膜電阻
404‧‧‧補償電阻
406, 408‧‧‧電阻
421‧‧‧第一節點
422‧‧‧第二節點
423‧‧‧第三節點
424‧‧‧第四節點
44‧‧‧訊號線組
48‧‧‧整流件
482‧‧‧次通道
50‧‧‧步進馬達
502‧‧‧轉軸
52‧‧‧控制裝置
522‧‧‧放大電路
P‧‧‧瓦斯管路
G‧‧‧瓦斯源
F‧‧‧瓦斯氣流
3‧‧‧瓦斯器具
54‧‧‧混合器
56‧‧‧鼓風機
58‧‧‧瓦斯閥
60‧‧‧閥體
62‧‧‧本體
622‧‧‧入氣口
624‧‧‧入氣通道
626‧‧‧閥口
628‧‧‧連接通道
64‧‧‧管件
642‧‧‧出氣通道
644‧‧‧出氣口
66‧‧‧流量調整件
661‧‧‧軸孔
662‧‧‧第一氣孔
663‧‧‧第二氣孔
664‧‧‧第一引槽
665‧‧‧第二引槽
68‧‧‧熱膜式流量偵測元件
70‧‧‧步進馬達
702‧‧‧轉軸
72‧‧‧瓦斯閥
74‧‧‧管件
742‧‧‧出氣通道
742a‧‧‧第一段
742b‧‧‧第二段
76‧‧‧整流件
78‧‧‧瓦斯閥
80‧‧‧管件
802‧‧‧出氣通道
802a‧‧‧第一段
802b‧‧‧第二段
802c‧‧‧第三段
82‧‧‧整流件

圖１為習用的瓦斯器具示意圖。 圖２為本創作第一較佳實施例之瓦斯器具示意圖。 圖３為上述較佳實施例之瓦斯閥示意圖。 圖４為上述較佳實施例之熱模式流量偵測元件示意圖。 圖５為上述較佳實施例之整流件設置於管件中的示意圖。 圖６為上述較佳實施例之瓦斯閥控制方法流程圖。 圖７為本創作第二較佳實施例之瓦斯器具示意圖。 圖８為本創作第三較佳實施例之瓦斯閥示意圖。 圖９與圖10為本創作第三較佳實施例之流量調節件立體圖 圖11為本創作第四較佳實施例之瓦斯閥示意圖。 圖12為本創作第五較佳實施例之瓦斯閥示意圖。

Claims (18)

1. 一種瓦斯閥，包含： 一閥體，具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口，及一閥口位於該入氣通道與該出氣通道之間； 一流量調節件，可移動地設置於該閥體且位於該閥口處，該流量調節件係受帶動而改變該閥口的開啟程度； 一熱膜式流量偵測元件，設置於該閥體，該熱膜式流量偵測元件具有一探測端，該探測端包括一熱膜電阻暴露於該出氣通道，用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量；以及 一驅動器，設置於該閥體且連接該流量調節件，該驅動器接收一控制訊號用以帶動該流量調節件移動。
2. 如請求項1所述之瓦斯閥，其中該熱膜式流量偵測元件包括一基板，且該熱膜電阻設置於該基板上。
3. 如請求項1所述之瓦斯閥，包含一整流件，設置於該出氣通道中，該熱膜式流量偵測元件的探測端位於該整流件與該出氣口之間。
4. 如請求項3所述之瓦斯閥，其中該整流件具有複數個次通道。
5. 如請求項3所述之瓦斯閥，其中該出氣通道具有一第一段與一第二段，該第一段位於該整流件與該第二段之間，該第二段位於該第一段與該出氣口之間；該熱膜式流量偵測元件的探測端位於該第二段。
6. 如請求項3所述之瓦斯閥，其中該出氣通道之該第一段與該第二段的內徑相同。
7. 如請求項5所述之瓦斯閥，其中該閥體包含一本體與一管件，該本體具有該入氣口、該入氣通道及一連接通道，且該閥口位於該入氣通道與該連接通道之間，該管件連接於該連接通道，且該管件具有該出氣通道與該出氣口；該熱膜式流量偵測元件設置於該管件。
8. 如請求項7所述之瓦斯閥，其中該管件包括相連接的一螺紋管與一外管；該連接通道具有一內螺紋與該螺紋管結合；該外管具有該第二段的至少一部分，且該外管位於該本體之外，該熱膜式流量偵測元件設置於該外管。
9. 如請求項8所述之瓦斯閥，其中該外管具有一凹孔自該第二段之壁面凹入；該熱膜式流量偵測元件位於該凹孔中。
10. 一種瓦斯器具，包含： 一燃燒器，用以燃燒瓦斯產生火焰； 一瓦斯閥，包括一閥體、一流量調節件、一熱膜式流量偵測元件與一驅動器，其中： 該閥體具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口，及一閥口位於該入氣通道與該出氣通道之間；其中，該入氣口供連接一瓦斯源，該出氣口連通該燃燒器； 該流量調節件可移動地設置於該閥體且位於該閥口處，該流量調節件係受帶動而改變該閥口的開啟程度； 該熱膜式流量偵測元件設置於該閥體，該熱膜式流量偵測元件具有一探測端，該探測端包括一熱膜電阻暴露於該出氣通道，用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量； 該驅動器設置於該閥體且連接該流量調節件，該驅動器接收一控制訊號用以帶動該流量調節件移動； 一控制裝置，電性連接該熱膜式流量偵測元件與該驅動器，該控制裝置依據一預定瓦斯流量輸出該控制訊號以控制該驅動器帶動該流量調節件，使該熱膜式流量偵測元件所測得的瓦斯流量維持於該預定瓦斯流量。
11. 如請求項10所述之瓦斯器具，其中該熱膜式流量偵測元件包括一基板，且該熱膜電阻設置於該基板上。
12. 如請求項10所述之瓦斯器具，包含一整流件，設置於該出氣通道中，該熱膜式流量偵測元件的探測端位於該整流件與該出氣口之間。
13. 如請求項12所述之瓦斯器具，其中該整流件具有複數個次通道。
14. 如請求項12所述之瓦斯器具，其中該出氣通道具有一第一段與一第二段，該第一段位於該整流件與該第二段之間，該第二段位於該第一段與該出氣口之間；該熱膜式流量偵測元件的探測端位於該第二段。
15. 如請求項14所述之瓦斯器具，其中該出氣通道之該第一段與該第二段的內徑相同。
16. 如請求項14所述之瓦斯器具，其中該閥體包含一本體與一管件，該本體具有該入氣口、該入氣通道及一連接通道，且該閥口位於該入氣通道與該連接通道之間；該管件連接於該連接通道，且該管件具有該出氣通道與該出氣口；該熱膜式流量偵測元件設置於該管件。
17. 如請求項16所述之瓦斯器具，其中該管件包括相連接的一螺紋管與一外管；該連接通道具有一內螺紋與該螺紋管結合；該外管具有該第二段的至少一部分，且該外管位於該本體之外，該熱膜式流量偵測元件設置於該外管。
18. 如請求項17所述之瓦斯器具，其中該外管具有一凹孔自該第二段之壁面凹入；該熱膜式流量偵測元件位於該凹孔中。