TWM449999U - 磁吸式按鍵及其鍵盤 - Google Patents

Description

磁吸式按鍵及其鍵盤

本創作係提供一種按鍵及其鍵盤，尤指一種磁吸式按鍵及其鍵盤。

就目前個人電腦的使用習慣而言，鍵盤為不可或缺的輸入設備之一，用以輸入文字、符號或數字。不僅如此，舉凡日常生活所接觸的消費性電子產品或是工業界使用的大型加工設備，皆需設有按鍵機構作為輸入裝置，以操作上述之電子產品與加工設備。隨著科技的進步，消費性電子產品逐漸邁向輕薄化的設計趨勢，因此按鍵機構也相應地設計出更輕更薄的結構，以適於應用在薄型電子產品。傳統的按鍵大都以剪刀腳結構配合一彈性體來執行鍵帽復位之功能，但其結構體積較為龐大，難以應用在超薄型電子產品中。因此，如何設計出一種可兼具高結構強度及輕薄造型的按鍵及其相關鍵盤，即為現今機構產業亟需努力的發展目標。

本創作係提供一種磁吸式按鍵及其鍵盤，以解決上述之問題。

本創作之申請專利範圍係揭露一種磁吸式按鍵，其包含一底板、一支撐架、一第一磁吸單元、一鍵帽以及一第二磁吸單元。該支撐架設置於該底板上，且該支撐架具有一開孔。該第一磁吸單元設置於該支撐架。該鍵帽以可活動方式設置於該支撐架與該底板之間，該鍵帽係沿著一預設方向相對該底板移動。該第二磁吸單元設置於該鍵帽之一底部。該第二磁吸單元係與該第一磁吸單元產生平行於該預設方向的一磁性吸附力，用以驅動該第二磁吸單元抵靠於該開孔之周緣，且驅動該鍵帽穿出該開孔。

本創作之申請專利範圍另揭露一種鍵盤，其包含一底板以及複數個磁吸式按鍵。該複數個磁吸式按鍵分別設置於該底板上。各磁吸式按鍵包含一支撐架、一第一磁吸單元、一鍵帽以及一第二磁吸單元。該支撐架設置於該底板上，且該支撐架具有一開孔。該第一磁吸單元設置於該支撐架。該鍵帽以可活動方式設置於該支撐架與該底板之間，該鍵帽係沿著一預設方向相對該底板移動。該第二磁吸單元設置於該鍵帽之一底部。該第二磁吸單元係與該第一磁吸單元產生平行於該預設方向的一磁性吸附力，用以驅動該第二磁吸單元抵靠於該開孔之周緣，且驅動該鍵帽穿出該開孔。

本創作之申請專利範圍另揭露一種磁吸式按鍵，其包含一底板、一支撐架、一第一磁吸元件、一第二磁吸元件、一 鍵帽、一第三磁吸元件以及一第四磁吸元件。該支撐架設置於該底板上，且該支撐架具有一開孔。該支撐架具有一第一輪廓的內側壁，該內側壁沿著一預設方向線性延伸。該內側壁具有一第一側壁和一第二側壁，該第一側壁和該第二側壁係不相鄰的相對兩側。該第一磁吸元件設置於鄰近該第一側壁上端處，該第二磁吸元件設置於鄰近該第二側壁上端處。該鍵帽具有一鍵帽上部和一鍵帽底部，該鍵帽底部大於該鍵帽上部，。該鍵帽底部具有一第二輪廓的外側壁，該外側壁具有一第三側壁和一第四側壁，且該第三側壁和該第四側壁係分別對應於該第一側壁和該第二側壁。

該第三磁吸元件設置於鄰近該第三側壁處，該第一磁吸元件係與該第三磁吸元件產生一第一磁性吸附力。該第四磁吸元件設置於鄰近該第四側壁處，該第二磁吸元件係與該第四磁吸元件產生一第二磁性吸附力。該第二輪廓係實質吻合該第一輪廓，且該第二輪廓略小於該第一輪廓，使得該鍵帽沿著該預設方向相對於該底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發生干涉。該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力係從不相鄰兩側吸引該鍵帽，用以驅動該鍵帽上升，進而使該鍵帽上部穿出該開孔。

本創作之申請專利範圍另揭露一種磁吸式按鍵，其包含一底板、一支撐架、一第一磁吸元件、一第二磁吸元件、一 鍵帽、一第三磁吸元件以及一第四磁吸元件。該支撐架設置於該底板上，且該支撐架具有一開孔和一限位部。該支撐架具有一第一輪廓的內側壁，該內側壁沿著一預設方向線性延伸。該內側壁具有一第一側壁和一第二側壁，該第一側壁和該第二側壁係不相鄰的相對兩側。該限位部與該底板之間形成一容置空間。該第一磁吸元件設置於鄰近該第一側壁上端處，該第二磁吸元件設置於鄰近該第二側壁上端處。該鍵帽具有一鍵帽上部和一鍵帽底部，且該鍵帽底部具有一第二輪廓的外側壁。該外側壁具有一第三側壁和一第四側壁，該第三側壁和該第四側壁係分別對應於該第一側壁和該第二側壁，且該鍵帽底部受到該限位部限制而無法脫離該容置空間。

該第三磁吸元件設置於鄰近該第三側壁處，該第一磁吸元件係與該第三磁吸元件產生一第一磁性吸附力。該第四磁吸元件設置於鄰近該第四側壁處，該第二磁吸元件係與該第四磁吸元件產生一第二磁性吸附力。該容置空間具有一垂直高度與一水平寬度，該垂直高度與該水平寬度之比值小於0.3，如此該鍵帽在該容置空間內所能具有之傾斜角度的最大值實質小於17度。該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力係從不相鄰兩側吸引該鍵帽，用以驅動該鍵帽上升，進而使該鍵帽上部穿出該開孔。

本創作之磁吸式按鍵及其鍵盤利用複數個對應排列的磁吸單元或磁吸元件產生磁性吸附力。使用者在按壓鍵帽時，施加外力克服磁性吸附力以提供較佳的操作手感；在移除外力後，磁性吸附力可吸引鍵帽上升而回到初始位置。本創作之鍵帽受磁性吸附力的驅動方向實質平行於鍵帽相對底板的運動方向，磁性吸附力為支撐鍵帽上升的機制，意即鍵帽在磁性吸附力大於施加外力時上升，在施加外力大於磁性吸附力時下降，其具有結構簡單、操作容易之優點，並可大幅縮減所佔的空間，有利於應用在薄型鍵盤。

請參閱第1圖，第1圖為本創作實施例之一鍵盤10之示意圖。鍵盤10包含有一底板12以及複數個磁吸式按鍵14，複數個磁吸式按鍵14係分別設置在底板12上的不同位置處。請參閱第2圖，第2圖為本創作第一實施例之磁吸式按鍵14之示意圖。磁吸式按鍵14包含一支撐架16、一第一磁吸單元18、一鍵帽20以及一第二磁吸單元22。支撐架16具有一開孔24，並設置於底板12上。鍵帽20以可活動方式設置在支撐架16與底板12之間。

鍵帽20可沿著一預設方向D相對底板12移動，使得鍵帽20可凸出或縮入開孔24。預設方向D實質平行於底板12之一平面法向量。第一磁吸單元18與第二磁吸單元22分別 設置於之支撐架16及鍵帽20之底部。第一磁吸單元18與第二磁吸單元22係用來相配合以產生一磁性吸附力，磁性吸附力可用來驅動鍵帽20上升，使得第二磁吸單元22抵靠在開口24之周緣對應到第一磁吸單元18的位置，且同時造成鍵帽20部分穿出開孔24。其中，第一磁吸單元18與第二磁吸單元22可分別為一磁性材料及一導磁性材料，例如一個為磁鐵另一個為導磁金屬、或兩個都是磁鐵。

此外，支撐架16另包含數個限位部26。限位部26與底板12之間可形成一容置空間28，且數個限位部26彼此環繞而形成開孔24。限位部26用來限制鍵帽20的移動行程，當鍵帽20被磁性吸附力驅動上升時，限位部26可止擋鍵帽20進行限位，以避免鍵帽20脫離容置空間28。如第2圖所示，第一磁吸單元18可設置在限位部26之下表面。第一磁吸單元18之一下端可與第二磁吸單元22之一上端作用產生磁性吸附力，因此磁性吸附力之作用方向實質平行於預設方向D，用來驅動鍵帽20相對底板12進行垂直的移動行程。

請參閱第3圖與第4圖，第3圖與第4圖分別為本創作不同實施例之鍵帽20的部分結構示意圖。一般來說，第一磁吸單元18較佳地以環形方式設置在支撐架16之限位部26，第二磁吸單元22可包含複數個區段22A，且各個區段22A選擇性以對稱方式(如第3圖所示)或非對稱方式(如第4 圖所示)設置在鍵帽20底部，以配合第一磁吸單元18產生磁性吸附力，穩定地驅動鍵帽20相對支撐架16向上移動。

請參閱第5圖，第5圖為本創作第二實施例之磁吸式按鍵14’之示意圖。第二實施例中，與第一實施例相同編號之元件具有相同的結構及功能，於此不再詳述。第二實施例與第一實施例之差異在於，磁吸式按鍵14’之支撐架16具有一第一輪廓的內側壁161。內側壁161沿著預設方向D線性延伸。內側壁161具有一第一側壁162和一第二側壁163，且第一側壁162與第二側壁163為不相鄰的相對兩側。此外，磁吸式按鍵14’之鍵帽20具有一鍵帽上部30以及一鍵帽底部32。鍵帽底部32實質大於鍵帽上部30，鍵帽底部32具有一第二輪廓的外側壁321，外側壁321具有一第三側壁322和一第四側壁323，且第三側壁322與第四側壁323分別對應於第一側壁162和第二側壁163。磁吸式按鍵14’另包含一開關42。開關42可為一薄膜電路板，設置於底板12上且位於鍵帽20的下方。使用者係施力克服磁吸元件的磁性吸附力，使得鍵帽20下移並觸碰到開關42時，開關42才會被啟動而輸出一電子訊號。

磁吸式按鍵14’另包含一第一磁吸元件34、一第二磁吸元件36、一第三磁吸元件38以及一第四磁吸元件40。第一磁吸元件34設置於鄰近第一側壁162的上端處，第二磁吸 元件36設置於鄰近第二側壁163的上端處，第三磁吸元件38設置於鄰近第三側壁322的位置，第四磁吸元件40設置於鄰近第四側壁323的位置。第一磁吸元件34係與第三磁吸元件38沿著預設方向D相鄰設置以產生一第一磁性吸附力，且第二磁吸元件36亦與第四磁吸元件40沿著預設方向D相鄰設置以產生一第二磁性吸附力。第一磁性吸附力和第二磁性吸附力分別從不相鄰的兩側吸引鍵帽20，用以於施加在鍵帽20的外力移除後驅動鍵帽20上升，進而可使鍵帽上部30穿出開孔24。

其中，第一磁吸元件34(或第二磁吸元件36)與第三磁吸元件38(或第四磁吸元件40)可分別為一磁性材料及一導磁性材料，例如一個為磁鐵另一個為導磁金屬，其組配方式如同第一實施例之磁吸單元所述，故此不再加以敘明。除此之外，第三磁吸元件38(或第四磁吸元件40)可包含複數個區段，且各區段如同第一實施例之第二磁吸單元22的區段22A環繞地設置在鍵帽底部32的周緣，以配合相應的第一磁吸元件34(或第二磁吸元件36)，提供穩定的磁性吸附力。

在第二實施例中，內側壁161的第一輪廓可實質吻合外側壁321的第二輪廓，且外側壁321的第二輪廓略小於內側壁161的第一輪廓，因此鍵帽20沿著預設方向D相對底板12垂直作動時，鍵帽底部32不會與支撐架16發生結構干 涉。再者，鍵帽上部30和限位部26之間可具有一預留間隙I，意即開孔24之孔徑可略大於鍵帽上部30的尺寸，因此鍵帽20沿著預設方向D相對底板12運動時，鍵帽上部30和限位部26間不會發生結構干涉，使得本創作之磁吸式按鍵14’的操作更為流暢。

第二實施例的磁吸式按鍵14’另可包含一第五磁吸元件。第三磁吸元件38、第四磁吸元件40與第五磁吸元件可呈三角形分佈而圍繞鍵帽上部30，如第3圖所示的三個區段22A。再者，磁吸式按鍵14’還可包含第五磁吸元件與一第六磁吸元件。第三磁吸元件38、第四磁吸元件40、第五磁吸元件與第六磁吸元件可呈四邊形分佈而圍繞鍵帽上部30，如第4圖所示的四個區段22A。

請參閱第6圖，第6圖為本創作第三實施例之磁吸式按鍵14”之示意圖。第三實施例中，與前述實施例相同編號之元件具有相同的結構及功能，於此不再詳述。第三實施例與前述實施例之差異在於，磁吸式按鍵14”之容置空間28係為限位部26與底板12組成，用來防止鍵帽底部32脫離。容置空間28具有一垂直高度H與一水平寬度W，其中，鍵帽20沿著預設方向D相對底板12的移動行程實質接近容置空間28之垂直高度H，且容置空間28的水平寬度W實質接近鍵帽底部32的上表面寬度，因此鍵帽20和支撐架16不 會發生干涉。磁吸式按鍵14”之開關42可設置於鍵帽20的下方。使用者係按壓鍵帽20以驅動下移，鍵帽20觸碰到開關42時，開關42才會被啟動而輸出一電子訊號。

第三實施例的磁吸式按鍵14”另可包含第五磁吸元件。第三磁吸元件38、第四磁吸元件40與第五磁吸元件可呈三角形分佈而圍繞鍵帽上部30，如第3圖所示的三個區段22A。再者，磁吸式按鍵14”還可包含第五磁吸元件與第六磁吸元件。第三磁吸元件38、第四磁吸元件40、第五磁吸元件與第六磁吸元件可呈四邊形分佈而圍繞鍵帽上部30，如第4圖所示的四個區段22A。

此外，在第三實施例中，垂直高度H與水平寬度W的比值可實質小於0.3，使得鍵帽20在容置空間28內的最大傾斜角度可實質小於17度。如此一來，磁吸式按鍵14”雖使用磁吸元件提供鍵帽20復位的驅動力，鍵帽20未有實體的支撐機構，但藉由容置空間28的尺寸設計仍可確保鍵帽20在按壓過程中不會過度傾斜。欲進一步將磁吸式按鍵14”應用在薄型鍵盤，可將垂直高度H與水平寬度W的比值設計為實質小於0.05，如此鍵帽20在容置空間28內的最大傾斜角度則會實質小於3度，以避免鍵帽20在按壓過程有過大的傾斜翻轉，進而可提高磁吸式按鍵14”的操作手感。

綜上所述，本創作之磁吸式按鍵及其鍵盤利用複數個對應排列的磁吸單元或磁吸元件產生磁性吸附力。使用者在按壓鍵帽時，施加外力克服磁性吸附力以提供較佳的操作手感；在移除外力後，磁性吸附力可吸引鍵帽上升而回到初始位置。本創作之鍵帽受磁性吸附力的驅動方向實質平行於鍵帽相對底板的運動方向，磁性吸附力為支撐鍵帽上升的機制，意即鍵帽在磁性吸附力大於施加外力時上升，在施加外力大於磁性吸附力時下降，其具有結構簡單、操作容易之優點，並可大幅縮減所佔的空間，有利於應用在薄型鍵盤。

以上所述僅為本創作之較佳實施例，凡依本創作申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本創作之涵蓋範圍。

10‧‧‧鍵盤

12‧‧‧底板

14‧‧‧磁吸式按鍵

14’‧‧‧磁吸式按鍵

14”‧‧‧磁吸式按鍵

16‧‧‧支撐架

161‧‧‧內側壁

162‧‧‧第一側壁

163‧‧‧第二側壁

18‧‧‧第一磁吸單元

20‧‧‧鍵帽

22‧‧‧第二磁吸單元

22A‧‧‧區段

24‧‧‧開孔

26‧‧‧限位部

28‧‧‧容置空間

30‧‧‧鍵帽上部

32‧‧‧鍵帽底部

321‧‧‧外側壁

322‧‧‧第三側壁

323‧‧‧第四側壁

34‧‧‧第一磁吸元件

36‧‧‧第二磁吸元件

38‧‧‧第三磁吸元件

40‧‧‧第四磁吸元件

42‧‧‧開關

I‧‧‧預留間隙

H‧‧‧垂直高度

W‧‧‧水平寬度

D‧‧‧預設方向

第1圖為本創作實施例之鍵盤之示意圖。

第2圖為本創作第一實施例之磁吸式按鍵之示意圖。

第3圖與第4圖分別為本創作不同實施例之鍵帽的部分結構示意圖。

第5圖為本創作第二實施例之磁吸式按鍵之示意圖。

第6圖為本創作第三實施例之磁吸式按鍵之示意圖。

12‧‧‧底板

14‧‧‧磁吸式按鍵

16‧‧‧支撐架

18‧‧‧第一磁吸單元

20‧‧‧鍵帽

22‧‧‧第二磁吸單元

24‧‧‧開孔

26‧‧‧限位部

28‧‧‧容置空間

D‧‧‧預設方向

Claims (30)

1. 一種磁吸式按鍵，其包含：一底板；一支撐架，設置於該底板上，該支撐架具有一開孔；一第一磁吸單元，設置於該支撐架；一鍵帽，以可活動方式設置於該支撐架與該底板之間，該鍵帽係沿著一預設方向相對該底板移動；以及一第二磁吸單元，設置於該鍵帽之一底部，該第二磁吸單元係與該第一磁吸單元產生平行於該預設方向的一磁性吸附力，用以驅動該第二磁吸單元抵靠於該開孔之周緣，且驅動該鍵帽穿出該開孔。
2. 如請求項1所述之磁吸式按鍵，其中該支撐架包含一限位部，該限位部與該底板之間形成一容置空間，且該限位部用來限制該鍵帽脫離該容置空間。
3. 如請求項2所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸單元設置於該限位部之一下表面，該第一磁吸單元之一下端係與該第二磁吸單元之一上端作用，以產生該磁性吸附力。
4. 如請求項1所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸單元與該第二磁吸單元分別為一磁性材料及一導磁性材料。
5. 如請求項1所述之磁吸式按鍵，其中該第二磁吸單元包含複數個區段，各區段環繞地設置在該鍵帽之該底部。
6. 一種鍵盤，其包含：一底板；以及複數個磁吸式按鍵，分別設置於該底板上，各磁吸式按鍵包含：一支撐架，設置於該底板上，該支撐架具有一開孔；一第一磁吸單元，設置於該支撐架；一鍵帽，以可活動方式設置於該支撐架與該底板之間，該鍵帽係沿著一預設方向相對該底板移動；以及一第二磁吸單元，設置於該鍵帽之一底部，該第二磁吸單元係與該第一磁吸單元產生平行於該預設方向的一磁性吸附力，用以驅動該第二磁吸單元抵靠於該開孔之周緣，且驅動該鍵帽穿出該開孔。
7. 如請求項6所述之鍵盤，其中該支撐架包含一限位部，該限位部與該底板之間形成一容置空間，且該限位部用來限制該鍵帽脫離該容置空間。
8. 如請求項7所述之鍵盤，其中該第一磁吸單元設置於該限位部之一下表面，該第一磁吸單元之一下端係與該第二磁吸單元之一上端作用，以產生該磁性吸附力。
9. 如請求項6所述之鍵盤，其中該第一磁吸單元與該第二磁吸單元分別為一磁性材料及一導磁性材料。
10. 如請求項6所述之鍵盤，其中該第二磁吸單元包含複數個區段，各區段環繞地設置在該鍵帽之該底部。
11. 一種磁吸式按鍵，其包含：一底板；一支撐架，設置於該底板上，該支撐架具有一開孔，該支撐架具有一第一輪廓的內側壁，該內側壁沿著一預設方向線性延伸，該內側壁具有一第一側壁和一第二側壁，該第一側壁和該第二側壁係不相鄰的相對兩側；一第一磁吸元件，設置於鄰近該第一側壁上端處；一第二磁吸元件，設置於鄰近該第二側壁上端處；一鍵帽，該鍵帽具有一鍵帽上部和一鍵帽底部，該鍵帽底部大於該鍵帽上部，該鍵帽底部具有一第二輪廓的外側壁，該外側壁具有一第三側壁和一第四側壁，該第三側壁和該第四側壁係分別對應於該第一 側壁和該第二側壁；一第三磁吸元件，設置於鄰近該第三側壁處，該第一磁吸元件係與該第三磁吸元件產生一第一磁性吸附力；以及一第四磁吸元件，設置於鄰近該第四側壁處，該第二磁吸元件係與該第四磁吸元件產生一第二磁性吸附力，其中該第二輪廓係實質吻合該第一輪廓，且該第二輪廓略小於該第一輪廓，使得該鍵帽沿著該預設方向相對於該底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發生干涉；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力係從不相鄰兩側吸引該鍵帽，用以驅動該鍵帽上升，進而使該鍵帽上部穿出該開孔。
12. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一開關，設置於該底板上且位於鍵帽下方，當一使用者施力克服該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力，使該鍵帽向下移動接觸該開關時，該開關被該鍵帽接觸而啟動。
13. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一第五磁吸元件，該第三磁吸元件、該第四磁吸元件 與該第五磁吸元件呈一三角形分佈而圍繞該鍵帽上部。
14. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一第五磁吸元件以及一第六磁吸元件，該第三磁吸元件、該第四磁吸元件、該第五磁吸元件與該第六磁吸元件呈一四邊形分佈而圍繞該鍵帽上部。
15. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該支撐架更具有一限位部，該限位部與該底板之間形成一容置空間，該限位部用來限制該鍵帽底部脫離該容置空間。
16. 如請求項15所述之磁吸式按鍵，其中該鍵帽上部和該限位部間具有一預留間隙，使得該鍵帽沿著該預設方向相對於該底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發生干涉。
17. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預設方向相鄰設置以產生該第一磁性吸附力。
18. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸元件與該第三磁吸元件分別為一磁性材料及一導磁性材料。
19. 如請求項11所述之磁吸式按鍵，其中該第三磁吸元件包含複數個區段，各區段環繞地設置於該鍵帽底部。
20. 一種磁吸式按鍵，其包含：一底板；一支撐架，設置於該底板上，該支撐架具有一開孔和一限位部，該支撐架具有一第一輪廓的內側壁，該內側壁沿著一預設方向線性延伸，該內側壁具有一第一側壁和一第二側壁，該第一側壁和該第二側壁係不相鄰的相對兩側，該限位部與該底板之間形成一容置空間；一第一磁吸元件，設置於鄰近該第一側壁上端處；一第二磁吸元件，設置於鄰近該第二側壁上端處；一鍵帽，該鍵帽具有一鍵帽上部和一鍵帽底部，該鍵帽底部具有一第二輪廓的外側壁，該外側壁具有一第三側壁和一第四側壁，該第三側壁和該第四側壁係分別對應於該第一側壁和該第二側壁，且該鍵帽底部受到該限位部限制而無法脫離該容置空間；一第三磁吸元件，設置於鄰近該第三側壁處，該第一磁吸元件係與該第三磁吸元件產生一第一磁性吸附力；以及一第四磁吸元件，設置於鄰近該第四側壁處，該第二磁吸元件係與該第四磁吸元件產生一第二磁性吸附 力，其中該容置空間具有一垂直高度與一水平寬度，該垂直高度與該水平寬度之比值小於0.3，如此該鍵帽在該容置空間內所能具有之傾斜角度的最大值實質小於17度；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力係從不相鄰兩側吸引該鍵帽，用以驅動該鍵帽上升，進而使該鍵帽上部穿出該開孔。
21. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一開關，設置於該底板上且位於鍵帽下方，當一使用者施力克服該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力，使該鍵帽向下移動接觸該開關時，該開關被該鍵帽接觸而啟動。
22. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一第五磁吸元件，該第三磁吸元件、該第四磁吸元件與該第五磁吸元件呈一三角形分佈而圍繞該鍵帽上部。
23. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該磁吸式按鍵另包含一第五磁吸元件以及一第六磁吸元件，該第三磁吸元件、該第四磁吸元件、該第五磁吸元件與該第六磁吸 元件呈一四邊形分佈而圍繞該鍵帽上部。
24. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該鍵帽被按壓以沿著該預設方向相對於該底板運動的行程係接近該容置空間之該垂直高度，且該容置空間之該水平寬度係接近該鍵帽底部的上表面寬度。
25. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該垂直高度與該水平寬度比值小於0.05，該鍵帽在該容置空間內所能具有之傾斜角度的最大值實質小於3度。
26. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該第二輪廓係實質吻合該第一輪廓，且該第二輪廓略小於該第一輪廓，使得該鍵帽沿著該預設方向相對於該底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發生干涉。
27. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該鍵帽上部和該限位部間具有一預留間隙，使得該鍵帽沿著該預設方向相對於該底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發生干涉。
28. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預設方向相鄰設置以產生該第 一磁性吸附力。
29. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該第一磁吸元件與該第三磁吸元件分別為一磁性材料及一導磁性材料。
30. 如請求項20所述之磁吸式按鍵，其中該第三磁吸元件包含複數個區段，各區段環繞地設置於該鍵帽底部。