TWM332000U - Cleaning apparatus of drill-head grinder - Google Patents

Description

M332000 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係關於一種可清除鑽頭上之粉塵的鑽頭研磨機 之清潔裝置。 【先前技術】 電路板在進行電子元件配置之前，須在其板體上的適 當位置間隔貫穿成型有複數個穿孔，以供各電子元件穿設 或定位之用，其中，用以在電路板上鑽設穿孔的鑽頭，其 端部在經過多次的使用後會逐漸鈍化甚至切削部斷裂，造 成加工的不便甚至誤差，此時，加工業者會將鑽頭取下並 夾持於一夾具上，利用砂輪研磨其端部，使鑽頭端部恢復 至可順暢地於電路板上鑽孔的狀態。 參見第七圖所示，為一現有技術之鑽頭研磨機（7)， 其上裝設有一研磨裝置（71)、一設於研磨裝置（71)旁側的 火持衣置（72)以及至少一監視裝置（73)，該研磨裝置（了1) 上没有至少一砂輪（711 )，將待研磨的鑽頭設於該夾持裝 置（72)上，並使其端部朝向研磨裝置（71)的砂輪（711)， 配合夹持裝置（72)帶動鑽頭移動，使砂輪（711 )對鑽頭端 部進行研磨，同時可藉設於旁側的監視裝置（73 )觀看放大 後的鑽頭，確認其研磨狀態。 唯該鑽頭無論是在對電路板進行鑽孔時或是在利用砂 輪（711 )研磨時，皆會產生大量粉塵，而且黏附於其上， 粉塵的顆粒雖然微小，但卻可能對加工精度產生極大的影 響’而前述現有技術之鑽頭研磨機上並沒有可針對鑽頭進 4 M332000 行β β的裝置，因此加工人員在使鑽頭對電路板鑽孔前， 或是要對鑽頭端部進行研磨前，都必須以手動方式除去黏 附於鑽頭上的粉塵，以利進一步的加工或利用，徒增加工 人員的操作步驟，且若稍有不慎，人工清潔易對桿徑較細 的鑽頭造成另次損壞，4有其使用上的不便之處。 【新型内容】 有鑑於前述現有技術的不便，本創作提供一鑽頭研磨 機之清潔裝置，希藉此設計解決目前既有之鑽頭研磨機在 字鑽員研磨過後’加工人員必須以手動方式清除殘留於鑽 頭上的粉塵，不但徒增加工人員的操作步驟，而且容易清 潔不完全的缺點。 本創作於鑽頭研磨機上加 為了達到上述的創作目的 設一清潔裝置，其包括有： 一旋轉座，其包含有一可進行樞轉的轉柱以及一固設 於轉柱頂面的轉盤；以及

一清潔組，其設於旋轉座的旁側，包含有一固定座以 及叹於固疋座上且高於旋轉座之頂φ的壓&，該壓缸上 設有一填充有黏土的黏土盒。 本創作的優點在於’加工人員僅須將待研磨或已研磨 :畢之待清潔的鑽頭依序置放於旋轉座之轉盤上，使 者旋轉座移動至與清潔組之黏土盒的心 浩私私丄人 对位置處，藉壓缸 之二 下移動，重覆使鑽頭***、退出黏土盒内 」’精黏土除去鑽頭上之粉塵，接著轉動旋轉座，讓 m青潔其他置於轉盤上之鑽頭’而加工人員則將” 5 M332000 完畢的鑽頭取下，便可使待研磨的鑽頭進行下 磨，或是使已研磨完畢的鑽頭再次使 ν的研 應文丨^ 用於針對電路板進扞 鑽孔，達到自動且確實去除粉塵的目的。 丁 【實施方式】 參見第-、五及六圖所示’本創作之清潔袭置⑴可 設置於-鑽頭研磨機上待清潔的鑽頭（2)上可環 一套環（2G2)，並設於該清潔裝置⑴中，藉以除去^於

其端部的粉塵，其中，該清潔裝置⑴包括有—旋轉座⑽ 及至少一清潔組（20)，其中： —旋轉座（10)包含有-轉柱⑼、一轉盤⑽及複數個 定位塊（13)，該轉柱（⑴係可樞轉地以其底端設於鑽頭研 磨機上，該轉盤（12)固設於轉柱（u)頂面，使其可與轉柱 ^12) —同樞轉，該定位塊（13)間隔環設於轉盤頂面， j分別於其上設有一與轉柱（11)軸向平行的通孔（13丨）， 前述待清潔之鑽頭（2)可穿設位於該通孔（131)内，並藉豆 環側的套環（202)卡孽於定位塊（13)之通孔（131)外側，胃使 鲁該鑽頭（2)可設於該定位塊（13)上且隨著樞轉的轉柱（⑴ ' 及轉盤（12)而移動其位置； 進一步參見第二圖所示，清潔組（2〇)設於旋轉座 旁側，且包含有一固定座（21)、一第一壓缸（22)及一第二 壓叙（2 4 ); 該固定座（21)以其底面固設於鑽頭研磨機上； 配合參見第二圖所示，該第一壓缸（22)固設於固定座 (21)上’且可以於垂直轉柱（u)之軸向的方向上往復移 6 M332000 動，第一壓缸（22)包括有可相對滑移的一基座與一移動 座，5亥基座與固疋座（21)連接，另移動座上固設有一壓片 (23)，該壓片（22)之自由端彎折形成有一抵部（231)，並 於端邊上内凹形成有一嵌槽（232)，使得當旋轉座（1〇)上 的其中一定位塊（13)及設於該定位塊（13)上的鑽頭（2)移 動至與第一壓缸（22)相對的位置處時，可令第一壓缸（22) '之移動座帶動壓片（23)朝旋轉座（1〇)移動，使壓片（23)之 抵部（231)位於鑽頭（2)之套環（202)上方，且壓片（23)之 _ 嵌槽（232)環設於鑽頭（2)旁側； 配合參見第四圖所示，該第二壓缸（24)設於固定座（21) 上高於旋轉座（10)之位置處，且包括有可相對滑移的一基 •座與一移動座，該基座與固定座（21)連接，該移動座可於 平行於轉柱（11)之軸向的方向上往復移動，第二壓缸（24) 之移動座上設有一旋轉馬達（25)，該旋轉馬達（25)上設有 黏土孟（26)，違黏土盒（26)内部填充有黏土並與設於旋 轉座（1 0)上之鑽頭（2)相對，使旋轉馬達（2 5)帶動黏土盒 鲁（26)於與旋轉座（10)之轉盤（12)相互平行的兩平面上進行 轉動，且旋轉馬達（25)之轉動軸心與黏土盒（26)之軸心不 位於同一直線上，令第二壓缸（24)之移動座帶動旋轉馬達 (25)及黏土盒（26)朝旋轉座（10)之定位塊（13)上的鑽頭（2) 來回往復移動數次，使鑽頭（2)重覆***、退出黏土盒（26) 内之黏土的動作，利用黏土除去鑽頭（2)上的粉塵，並藉 壓片（23)防止鑽頭（2)被黏土黏離定位塊（13)，其中，因 旋轉馬達（25)與黏土盒（26)的軸心不在同一直線上，因此 M332000 在每清潔完一鑽頭（2)後，可令旋轉馬達（25)驅動黏土盒 (26)進仃一任意角度的旋轉，以避免每一鑽頭（2)皆在黏 土上的同一點進行清潔，俾維持黏土之清潔功效。 則述設有清潔裝置（1 )之鑽頭研磨機可進一步於該清 潔裝置（1)的一側設有一置放盤（3)(如第五圖所示），另一 側設有一夾持定位裝置（4)及一研磨裝置（5)，並於清潔裝 '置（1)與置放盤（3)之間，以及清潔裝置（1)與夾持定位裝 置（4)之間分別設有至少一自動夾具（6a，此），加工人員 • 將待研磨的鑽頭（2)置於置放盤（3)中，讓自動夾具（6a)分 別夾持鑽頭（2)，以將其置於旋轉座（1〇)之定位塊（13)的 通孔（131)中，並隨著轉盤（12)移動至與清潔組（2〇)相對， 以進行清除其上粉塵的動作，接著再以另一自動夾具（6匕） 夹持鑽頭（2)，將其置於夾持定位裝置（4)上，並藉研磨裝 置（5)對鑽頭（2)之端部進行研磨及研磨，隨後再以自動夾 具（6b)夾持研磨後的鑽頭（2)，將其置於旋轉座之定 位塊（13)的通孔（131)中，以再次藉清潔組（2〇)清除鑽頭（2) 泰上於研磨過程中所沾附的粉塵，最後再以自動夹具（6幻將 研磨且清潔完畢的鑽頭（2)放回置物盤（3)供加工人員取 用，有效達到精簡加工人員之操作步驟及徹底清潔鑽頭（2) 的目的。 【圖式簡單說明】 第一圖為本創作之立體外觀圖。 弟二圖為本創作之立體分解圖。 第三圖為本創作之實施狀態示意圖。 8 M332000 第四圖為本創作之實施狀態示意圖。 第五圖為本創作設於一鑽頭研磨機上之上視圖。 第六圖為本創作之上視圖。 第七圖為現有技術之立體外觀圖。 【主要元件符號說明】 (10)旋轉座 (12)轉盤 (131)通孔 (21)固定座 (23)壓片 (232)嵌槽 (25)旋轉馬達 (2) 鑽頭 (3) 置放盤 (5)研磨裝置 (7)鑽頭研磨機 (711)砂輪 (73)監視裝置 (I) 清潔裝置 (II) 轉柱

(13)定位塊 (20)清潔組 (22)第一壓缸 (231)抵部 (24)第二壓缸 (26)黏土盒 (202)套環 (4)夾持定位裝置 (6a)(6b)自動夾具 (71) 研磨裝置 (72) 炎持裝置

Claims (1)

1. M332000 九、申請專利範圍·· 1.一種鑽頭研磨機之清潔裝置，其包括有一旋轉座 及至少―清潔組，其I 轉座 ▲方疋轉座包含有—轉柱及一轉盤，該轉柱可進行框轉， 5亥轉盤固設於轉柱頂面，並於其上間隔設有複數個通孔， 該通孔與轉柱軸向平行； 清潔組設於旋轉座旁側，其包含有一固定座及一第二 壓缸，該第二壓缸設於固定座上高於旋轉座之位置處，其 可:平行於轉柱之軸向的方向上往復移動，第二塵缸上設 有J 土孤，該黏土盒内部填充有黏土並與設於旋轉 轉盤相對。 2如申睛專利範圍帛工項戶斤述之鐵頭研磨機之清潔 :置清潔組進一步包含有一第一壓缸，該第一壓缸固 δ又於，定座上’且可以於垂直轉柱之軸向的方向上往復移 動’弟-壓缸上固設有一壓4 ’該壓片之自由端彎折形成 有一抵部，並於端邊上内凹形成有一嵌槽。 3.如申請專利範圍第1項所述之鑽頭研磨機之清潔 衣置其/月办組之第二麼缸上進一步設有一旋轉馬達，前 述黏土盒設於旋轉馬達上，該旋轉馬達可帶動黏土盒於與 旋轉座之轉盤相互平行的兩平面上進行轉動。 4如申研專利範圍第2項所述之鑽頭研磨機之清潔 裝置’其清潔組之第二壓缸上進一步設有一旋轉馬達，前 述黏土盒設於旋轉馬達上，該旋轉馬達可帶動黏土盒於與 旋轉座之轉盤相互平行的兩平面上進行轉動。 M332000 5 ·如申請專利範圍楚 狀誉*够 弟3項所述之鑽頭研磨機之清潔 ^ ^ ^ 匕栝有可相對滑移的一基座及一 私動座，該基座與固定座 ^ ^ 度運接其中，前述馬達設於第二 反缸之移動座上，兩者一 有门於千行於轉柱之軸向的方向上 彺復移動。 狀 如申印專利範圍第4項所述之鑽頭研磨機之清潔 衣置其第一壓缸及第二壓缸進一步分別包括有可相對滑 移的一基座及一移動座，該基座分別與相對應的固定座連 接其中，如述壓片固設於第一壓缸之移動座上，前述馬 達5又於第二壓缸之移動座上，兩者一同於平行於轉柱之軸 向的方向上往復移動。 7 ·如申請專利範圍第5或6項所述之鑽頭研磨機之 清潔裝置，其清潔組之旋轉馬達的轉動軸心與黏土盒之軸 心不位於同一直線上。 8 ·如申請專利範圍第1、2、5或6項所述之鑽頭 研磨機之清潔裝置，其旋轉座之轉盤頂面上進一步間隔環 設有複數個定位塊，前述轉盤之通孔分別成型於該定位塊 上0 9 ·如申請專利範圍第7項所述之鑽頭研磨機之清潔 裝置，其旋轉座之轉盤頂面上進一步間隔環設有複數個定 位塊，前述轉盤之通孔分別成型於該定位塊上。 十、圖式： 如次頁