TWI825405B - 金屬遮罩檢測方法 - Google Patents
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Abstract
一種金屬遮罩檢測方法。在此檢測方法中,首先,提供金屬遮罩,其具有第一長邊、第二長邊、第一短邊、第二短邊與多個圖案區。接著,根據鄰近第一長邊與第二長邊的這些圖案區,定義第一基準直線與第二基準直線,其中第一基準直線鄰近第一長邊,而第二基準直線鄰近第二長邊。接著,量測鄰近第一長邊的這些圖案區與第一基準直線之間的第一最大偏移長度。量測鄰近第二長邊的這些圖案區與第二基準直線之間的第二最大偏移長度。當第一最大偏移長度與第二最大偏移長度之間的相差值小於或等於20微米時,判斷金屬遮罩為符合檢測標準。
Description
本發明是有關於一種用於圖案化製程工具的檢測方法,且特別是有關於一種金屬遮罩檢測方法。
現今有些顯示面板,例如有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode,OLED)顯示面板,採用精細金屬遮罩(Fine Metal Mask,FMM)為製程工具之一。具體而言,有機發光二極體顯示面板是採用蒸鍍(evaporation)製造。在蒸鍍過程中,使用精細金屬遮罩放置在玻璃板上,而蒸鍍過程中產生的鍍料能依照精細金屬遮罩的多個開口沉積在玻璃板上,以形成有機發光二極體顯示面板內的膜層,例如發光層。
目前顯示面板(包括有機發光二極體顯示面板)已朝向高解析度趨勢發展。為了製造高解析度的顯示面板,金屬遮罩需要具有相當薄的厚度,而且金屬遮罩的這些開口在位置與形狀上的誤差不能過大,否則會製造出不良的顯示面板,造成良率下降。
本發明至少一實施例提出一種金屬遮罩的檢測方法,其能幫助篩選金屬遮罩,確保使用符合檢測標準的金屬遮罩,以達到提升良率的目的。
本發明至少一實施例還提出一種金屬遮罩,其可用上述檢測方法而篩選得到。
本發明至少一實施例所提出的金屬遮罩的檢測方法包括提供金屬遮罩,其中金屬遮罩具有彼此相對的第一長邊與第二長邊、彼此相對的第一短邊與第二短邊以及多個圖案區,其中第一長邊、第二長邊、第一短邊與第二短邊圍繞這些圖案區,而這些圖案區呈規則排列。根據鄰近第一長邊與第二長邊的這些圖案區,定義第一基準直線與第二基準直線,其中第一基準直線鄰近第一長邊,並沿著第一長邊延伸。第二基準直線鄰近第二長邊,並沿著第二長邊延伸。接著,量測鄰近第一長邊的這些圖案區與第一基準直線之間的第一最大偏移長度,其中第一最大偏移長度與第一基準直線垂直。量測鄰近第二長邊的這些圖案區與第二基準直線之間的第二最大偏移長度,其中第二最大偏移長度與第二基準直線垂直。當第一最大偏移長度與第二最大偏移長度之間的相差值小於或等於20微米時,判斷金屬遮罩符合檢測標準,即符合製程使用之合格金屬遮罩。在本發明至少一實施例中,上述檢測方法還包括當第一最大偏移長度小於或等於30微米時,判斷金屬遮罩為符合檢測標準之遮罩,即符合製程所需的合格金屬遮罩。反之,當第一最大偏移長度大於30微米時,判斷金屬遮罩為不合格遮罩。
在本發明至少一實施例中,上述檢測方法還包括當第二最大偏移長度小於或等於30微米時,判斷金屬遮罩為符合檢測標準之遮罩,即符合製程所需的合格金屬遮罩。反之,當第二最大偏移長度大於30微米時,判斷金屬遮罩為不合格遮罩。在本發明至少一實施例中,上述檢測方法還包括根據鄰近第一短邊的這些圖案區,定義第三基準直線,其中第三基準直線鄰近第一短邊,並沿著第一短邊延伸。接著,量測鄰近第一短邊的這些圖案區與第三基準直線之間的第三最大偏移長度,其中第三最大偏移長度與第三基準直線垂直。當第三最大偏移長度小於或等於10微米時,判斷金屬遮罩為符合檢測標準之遮罩,即符合製程所需的合格金屬遮罩。反之,當第三最大偏移長度大於10微米時,判斷金屬遮罩為不合格遮罩。
本發明至少一實施例所提出的金屬遮罩的檢測方法包括在翹曲的金屬遮罩上定義彼此平行且分離的第一基準直線與第二基準直線,其中第一基準直線的長度為L1,第二基準直線的長度為L2。接著,攤平金屬遮罩,以使第一基準直線變成第一形變線,第二基準直線變成第二形變線,其中第一形變線的長度為L3,第二形變線的長度為L4。接著,判斷第一基準直線的長度L1、第二基準直線的長度L2、第一形變線的長度L3與第二形變線的長度L4是否滿足以下數學式:
│(L3+L4)/2-(L1+L2)/2│≤20微米
當第一基準直線的長度L1、第二基準直線的長度L2、第一形變線的長度L3與第二形變線的長度L4滿足數學式時,判斷金屬遮罩符合檢測標準。
在本發明至少一實施例中,上述攤平金屬遮罩的方法包括將金屬遮罩夾置於兩塊硬式基板之間,以使這些硬式基板壓平金屬遮罩。
在本發明至少一實施例中,上述第一基準直線與第二基準直線之間的距離介於3公分至25公分之間。
在本發明至少一實施例中,上述第一基準直線與第二基準直線兩者長度不相等。
本發明至少一實施例所提出的金屬遮罩的檢測方法包括提供金屬遮罩,其中金屬遮罩具有彼此相對的第一長邊與第二長邊、彼此相對的第一短邊與第二短邊以及多個圖案區,其中第一長邊、第二長邊、第一短邊與第二短邊圍繞這些圖案區,而這些圖案區呈規則排列。接著,根據鄰近第一長邊與第二長邊的這些圖案區,定義第一基準直線與第二基準直線,其中第一基準直線鄰近第一長邊,並沿著第一長邊延伸,第二基準直線鄰近第二長邊,並沿著第二長邊延伸。接著,量測鄰近第一長邊的這些圖案區與第一基準直線之間的第一最大偏移長度,其中第一最大偏移長度與第一基準直線垂直。量測鄰近第二長邊的這些圖案區與第二基準直線之間的第二最大偏移長度,其中第二最大偏移長度與第二基準直線垂直。當第一最大偏移長度與第二最大偏移長度任一者小於或等於30微米時,判斷金屬遮罩為符合檢測標準之遮罩,即符合製程所需的合格金屬遮罩。
本發明至少一實施例所提出的金屬遮罩包括基板。基板具有彼此相對的第一長邊與第二長邊、彼此相對的第一短邊與第二短邊以及多個圖案區,其中第一長邊、第一短邊、第二長邊與第二短邊依序連結並圍繞這些圖案區,且於基板上定義第一基準直線與第二基準直線。此外,第一基準直線鄰近第一長邊,並沿著第一長邊延伸。第二基準直線鄰近第二長邊,並沿著第二長邊延伸,其中第一長邊的這些圖案區與第一基準直線之間具有第一最大偏移長度,且第一最大偏移長度與第一基準直線垂直。第二長邊的這些圖案區與第二基準直線之間具有第二最大偏移長度,其中第二最大偏移長度與第二基準直線垂直,而第一最大偏移長度與第二最大偏移長度之間的相差值小於或等於20微米。
在本發明至少一實施例中,上述圖案區呈規則排列。
在本發明至少一實施例中,上述第一基準直線的兩分別鄰近第一短邊與第二短邊,而第二基準直線的兩端點也分別鄰近第一短邊與第二短邊。
在本發明至少一實施例中,這些圖案區分別具有多個周緣。第一最大偏移長度為鄰近第一長邊的這些周緣與第一基準直線之間的最大距離,而第二最大偏移長度為鄰近第二長邊的這些周緣與第二基準直線之間的最大距離。
在本發明至少一實施例中,各個圖案區的形狀為多邊形,其中各個圖案區具有多個頂點。第一長邊與第一短邊之間形成第一角落,第一長邊與第二短邊之間形成第二角落,第二長邊與第一短邊之間形成第三角落,第二長邊與第二短邊之間形成第四角落。第一基準直線的兩端點分別位於鄰近第一角落與第二角落的兩頂點,而第二基準直線的兩端點分別位於鄰近第三角落與第四角落的兩頂點。
在本發明至少一實施例中,各個圖案區的形狀為四邊形或六邊形。
在本發明至少一實施例中,上述第一基準直線的兩端點與第二基準直線的兩端點皆位於這些圖案區外,並且分別鄰近第一角落、第二角落、第三角落與第四角落。
在本發明至少一實施例中,各個圖案區具有多個開口。第一基準直線的兩端點分別位於鄰近第一角落與第二角落的兩開口,而第二基準直線的兩端點分別位於鄰近第三角落與第四角落的兩開口。
在本發明至少一實施例中,上述各個圖案區的形狀為圓形,其中各個圖案區具有圓心。第一基準直線的兩端點分別位於鄰近第一角落與第二角落的兩圓心,而第二基準直線的兩端點分別位於鄰近第三角落與第四角落的兩圓心,其中第一最大偏移長度為鄰近第一長邊的這些圓心與第一基準直線之間的最大距離,而第二最大偏移長度為鄰近第二長邊的這些圓心與第二基準直線之間的最大距離。
基於上述,本發明至少一實施例所揭示的檢測方法能幫助挑選合格的金屬遮罩,並淘汰不合格的金屬遮罩,以減少不良顯示面板的產出,從而提升顯示面板的良率。
在以下的內文中,為了清楚呈現本案的技術特徵,圖式中的元件(例如層、膜、基板以及區域等)的尺寸(例如長度、寬度、厚度與深度)會以不等比例的方式放大。因此,下文實施例的說明與解釋不受限於圖式中的元件所呈現的尺寸與形狀,而應涵蓋如實際製程及/或公差所導致的尺寸、形狀以及兩者的偏差。例如,圖式所示的平坦表面可以具有粗糙及/或非線性的特徵,而圖式所示的銳角可以是圓的。所以,本案圖式所呈示的元件主要是用於示意,並非旨在精準地描繪出元件的實際形狀,也非用於限制本案的申請專利範圍。
其次,本案內容中所出現的「約」、「近似」或「實質上」等這類用字不僅涵蓋明確記載的數值與數值範圍,而且也涵蓋發明所屬技術領域中具有通常知識者所能理解的可允許偏差範圍,其中此偏差範圍可由測量時所產生的誤差來決定,而此誤差例如是起因於測量系統或製程條件兩者的限制。舉例而言,兩物件(例如基板的平面或走線)「實質上平行」或「實質上垂直」,其中「實質上平行」與「實質上垂直」分別代表這兩物件之間的平行與垂直可包括允許偏差範圍所導致的不平行與不垂直。
此外,「約」可表示在上述數值的一個或多個標準偏差內,例如±30%、±20%、±10%或±5%內。本案文中所出現的「約」、「近似」或「實質上」等這類用字可依光學性質、蝕刻性質、機械性質或其他性質來選擇可以接受的偏差範圍或標準偏差,並非單以一個標準偏差來套用以上光學性質、蝕刻性質、機械性質以及其他性質等所有性質。
圖1A是利用本發明至少一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖1A,在本實施例的檢測方法中,首先,提供金屬遮罩100,其中金屬遮罩100包括基板,其具有彼此相對的第一長邊111與第二長邊112、彼此相對的第一短邊121與第二短邊122以及多個圖案區130,其中第一長邊111、第一短邊121、第二長邊112與第二短邊122依序相連,並圍繞這些圖案區130。
金屬遮罩100可以是金屬材料依序經過輾壓與光刻(包括蝕刻)後而形成,或者也可以採用電鑄(electroforming)而製成,其中前述金屬材料可以是金屬片或金屬板。因此,金屬遮罩100的形狀不一定是矩形。換句話說,第一長邊111、第二長邊112、第一短邊121與第二短邊122任一者的形狀不一定是直線。
以圖1A為例,第一長邊111與第二長邊112的形狀皆為曲線,其中圖1A所示的第一長邊111與第二長邊112的形狀更可以是二次曲線。不過,在其他實施例中,第一長邊111、第二長邊112、第一短邊121與第二短邊122其中至少一者的形狀也可以是直線,所以第一長邊111、第二長邊112、第一短邊121與第二短邊122任一者的形狀不限制是直線或曲線。
各個圖案區130的形狀可以是多邊形,而這些圖案區130可以呈規則排列,例如矩陣排列。以圖1A為例,四個圖案區130可以排列成1×4矩陣,而各個圖案區130的形狀可以是四邊形,例如矩形。各個圖案區130具有多個開口131,其中各個開口131的形狀可為矩形,且這些開口131也可以呈規則排列,例如矩陣排列,如圖1A所示。
金屬遮罩100可以用於製造顯示面板,例如有機發光二極體(OLED)顯示面板。當金屬遮罩100用於製造有機發光二極體顯示面板時,各個圖案區130的尺寸可以相當於一個有機發光二極體顯示面板的尺寸,而各個開口131的尺寸可以相當於一個畫素,其中上述畫素可為次畫素(sub-pixel)。或者,上述畫素可由多個次畫素所組成。當進行蒸鍍時,金屬遮罩100能阻擋部分鍍料,以使鍍料基本上只會在這些開口131內沉積,從而形成有機發光二極體顯示面板內的膜層,例如發光層。
金屬遮罩100還具有四個角落,即第一角落191、第二角落192、第三角落193與第四角落194。第一角落191形成在第一長邊111與第一短邊121之間,而第二角落192形成在第一長邊111與第二短邊122之間。第三角落193形成在第二長邊112與第一短邊121之間,而第四角落194形成在第二長邊112與第二短邊122之間。
在提供金屬遮罩100之後,根據鄰近第一長邊111與第二長邊112的這些圖案區130,在基板上定義第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2。第一基準直線Sa1鄰近第一長邊111,並且沿著第一長邊111延伸,而第二基準直線Sa2鄰近第二長邊112,並且沿著第二長邊112延伸。因此,第一基準直線Sa1不會與第二基準直線Sa2交錯或重疊。由於金屬遮罩100可以是金屬材料依序經過輾壓與光刻後而形成,因此金屬遮罩100會變的翹曲而不平整,其中第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者可以是在翹曲且不平整的金屬遮罩100上定義。
第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者都具有端點。在圖1A所示的實施例中,第一基準直線Sa1具有兩端點E11a與E11b,而第二基準直線Sa2具有兩端點E12a與E12b,其中兩端點E11a與E11b分別鄰近第一短邊121與第二短邊122,而兩端點E12a與E12b也分別鄰近第一短邊121與第二短邊122。由於第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2皆具有端點,所以第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2不是無限長的直線。因此,一旦確定好這些端點E11a、E11b、E12a與E12b的位置,代表也定義好第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2。
由於各個圖案區130的形狀為多邊形,因此各個圖案區130具有多個頂點130a。例如,在圖1A中,形狀為四邊形的圖案區130具有四個頂點130a。第一基準直線Sa1的兩端點E11a與E11b分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個頂點130a,而第二基準直線Sa2的兩端點E12a與E12b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個頂點130a。
換句話說,圖1A所示的這些端點E11a、E11b、E12a以及E12b實質上可以視為兩個圖案區130的四個頂點130a,其中這兩個圖案區130分別鄰近第一短邊121與第二短邊122。由此可知,在圖1A所示的實施例中,第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2是由鄰近第一角落191、第二角落192、第三角落193以及第四角落194的四個頂點130a來定義,所以端點E11a、E11b、E12a與E12b是肉眼可見的。此外,第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2基本上都是虛擬直線,所以除了端點E11a、E11b、E12a與E12b,第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者其他部分都是虛擬的。
在定義好第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2之後,也就是確定好這些端點E11a、E11b、E12a與E12b的位置之後,量測鄰近第一長邊111的這些圖案區130與第一基準直線Sa1之間的第一最大偏移長度La1,以及量測鄰近第二長邊112的這些圖案區130與第二基準直線Sa2之間的第二最大偏移長度La2,其中第一最大偏移長度La1與第一基準直線Sa1垂直,而第二最大偏移長度La2與第二基準直線Sa2垂直。
須說明的是,第一最大偏移長度La1與第一基準直線Sa1是「實質上垂直」,而第二最大偏移長度La2與第二基準直線Sa2也是「實質上垂直」。因此,第一最大偏移長度La1與第一基準直線Sa1之間的垂直以及第二最大偏移長度La2與第二基準直線Sa2之間的垂直可包括允許偏差範圍所導致的不垂直。此外,各個圖案區130實際上具有這些開口131,但為了簡潔圖式以及利於呈現第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2,圖1A中的中間兩個圖案區130省略繪示開口131。
這些圖案區130分別具有多個周緣130e,而在同一個圖案區130中,周緣130e具有四個頂點130a,如圖1A所示。在本實施例中,第一最大偏移長度La1為鄰近第一長邊111的這些周緣130e與第一基準直線Sa1之間的最大距離,而第二最大偏移長度La2為鄰近第二長邊112的這些周緣130e與第二基準直線Sa2之間的最大距離。
當第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2之間的相差值小於或等於20微米時,金屬遮罩100判斷為符合檢測標準,亦即前述符合檢測標準的金屬遮罩100中這些開口131的誤差值範圍在製程的容許範圍內。因此,在金屬遮罩100未有其他瑕疵以及不合規格的參數的條件下,此金屬遮罩100即可投入於相關製程使用,其中前述相關製程例如是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD),而上述符合檢測標準的金屬遮罩100適用於製造顯示面板,特別可以製造高解析度的有機發光二極體顯示面板。
另一方面,當第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2之間的相差值大於20微米時,代表金屬遮罩100的這些開口131誤差過大,不符合檢測標準,以至於使用金屬遮罩100所製成的顯示面板(特別是高解析度的有機發光二極體顯示面板)容易造成例如次畫素區內的發光層偏移、有些次畫素區內沒有發光層或是這些發光層的尺寸差異過大等缺陷。因此,這種金屬遮罩100不適合應用於物理氣相沉積,例如濺鍍或蒸鍍,從而判斷金屬遮罩100為不合格遮罩。
須說明的是,即使第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2之間的相差值小於或等於20微米,金屬遮罩100仍可能會被判斷為不符合檢測標準。例如,當第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2兩者任一者大於30微米時,判斷金屬遮罩100為不符合檢測標準的不合格遮罩。此外,當第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2之間的相差值小於或等於20微米,第一最大偏移長度La1小於或等於30微米,且第二最大偏移長度La2也小於或等於30微米時,判斷金屬遮罩100為符合檢測標準的合格遮罩。
值得一提的是,以上第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2兩者的量測以及第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者的定義皆可以利用尺寸量測儀來執行。具體而言,尺寸量測儀可以先在金屬遮罩100上找到這些端點E11a、E11b、E12a與E12b,以定義第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2。
尺寸量測儀可以對這些端點E11a、E11b、E12a與E12b提供座標值。以第一基準直線Sa1為例,端點E11a的座標值可以是(X1,Y1),而端點E11b的座標值可以是(X2,Y2)。接著,將以上端點E11a與E11b的座標值(X1,Y1)與(X2,Y2)代入以下數學式(1),以計算出第一最大偏移長度La1,其中上述尺寸量測儀在量測出上端點E11a與E11b的座標值(X1,Y1)與(X2,Y2)之後,可以進行數學式(1)的運算。
數學式(1):
上述數學式(1)中的L等於第一最大偏移長度La1,而X與Y為第一最大偏移長度La1的一個端點SP1的座標值(X,Y),其中端點SP1位於周緣130e,如圖1A所示。同理,尺寸量測儀也可對端點E12a與E12b提供座標值,以使端點E12a的座標值可以是(X3,Y3),而端點E12b的座標值可以是(X4,Y4)。接著,端點E12a與E12b的座標值(X3,Y3)與(X4,Y4)代入以下數學式(2),其中尺寸量測儀也可進行數學式(2)的運算。
數學式(2):
數學式(2)實質上相同於上述數學式(1)。具體而言,在數學式(1)中,將X1替換成X3,X2替換成X4,Y1替換成Y3,以及Y2替換成Y4,即可以得到數學式(2)。在數學式(2)s中,L等於第二最大偏移長度La2,而X與Y為第二最大偏移長度La2的一個端點SP2的座標值(X,Y),其中端點SP2也位於周緣130e。
利用上述數學式(1)與(2),尺寸量測儀不僅可以定義第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2,而且還可以量測第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2,以判斷第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2之間的相差值是否大於20微米,以及判斷第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2兩者任一者是否大於30微米,從而淘汰不合格的金屬遮罩100,並挑選符合檢測標準的合格金屬遮罩100。如此,本實施例的檢測方法能避免不適用於物理氣相沉積(例如蒸鍍)的金屬遮罩100用來製造顯示面板,減少不良顯示面板的產出,以提升良率。
圖1B是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖1B,本實施例的檢測方法相似於前述實施例的檢測方法。例如,在圖1B所示的實施例中,也可利用數學式(1)與(2)量測第一最大偏移長度Lb1與第二最大偏移長度Lb2。本實施例與前述實施之間的差異僅在於圖1B中的第一基準直線Sb1與第二基準直線Sb2兩者定義不同於第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者定義。
在本實施例的檢測方法中,雖然第一基準直線Sb1與第二基準直線Sb2也是根據鄰近第一長邊111與第二長邊112的這些圖案區130而定義,但有別於前述圖1A所示的實施例,第一基準直線Sb1的兩端點E21a、E21b以及第二基準直線Sb2的兩端點E22a、E22b皆位於這些圖案區130外,並且分別鄰近第一角落191、第二角落192、第三角落193與第四角落194。
此外,這些端點E21a、E21b、E22a與E22b可以分別位於製作在金屬遮罩100上的多個肉眼可見的記號上。以圖1B為例,金屬遮罩100可以還具有肉眼可見的第一記號181、第二記號182、第三記號183與第四記號184,其中第一記號181鄰近第一角落191,第二記號182鄰近第二角落192,第三記號183鄰近第三角落193,而第四記號184鄰近第四角落194。端點E21a位於第一記號181,端點E21b位於第二記號182,端點E22a位於第三記號183,而端點E22b位於第四記號184。因此,除了端點E21a、E21b、E22a與E22b之外,第一基準直線Sb1與第二基準直線Sb2兩者其他部分皆為虛設的。
圖1C是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖1C,本實施例的檢測方法相似於前述圖1A及圖1B所示的檢測方法。例如,在圖1C所示的實施例中,也可利用數學式(1)與(2)量測第一最大偏移長度Lc1與第二最大偏移長度Lc2。惟本實施例中的第一基準直線Sc1與第二基準直線Sc2兩者定義不同於前述第一基準直線Sa1、Sb1以及第二基準直線Sa2、Sb2的定義。
在定義第一基準直線Sc1與第二基準直線Sc2的過程中,第一基準直線Sc1的兩端點E31a與E31b分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個開口131,而第二基準直線Sc2的兩端點E32a與E32b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個開口131。以圖1C為例,這些端點E31a、E31b、E32a與E32b可以位於這些開口131的邊緣。或者,在其他實施例中,這些端點E31a、E31b、E32a與E32b每一個可以位於其中一個開口131內。因此,這些端點E31a、E31b、E32a與E32b皆位於這些圖案區130內。
圖1D是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖1D,圖1D所示的檢測方法實質上相同於圖1A所示的檢測方法,而圖1D的金屬遮罩101可以相同於金屬遮罩100。例如,金屬遮罩101也可以是金屬材料依序經過輾壓與光刻後而形成,或者也可採用電鑄而製成。然而,圖1A所示的第一長邊111與第二長邊112兩者形狀皆為二次曲線,但圖1D所示的第一長邊111d與第二長邊112d兩者形狀皆為具有至少一個反曲點(inflection point)的曲線。
雖然在圖1D所示的金屬遮罩101中,第一長邊111d與第二長邊112d不是二次曲線,但在圖1D的實施例中,兩端點E11a與E11b分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個頂點130a,而兩端點E12a與E12b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個頂點130a。其次,第一最大偏移長度La1是鄰近第一長邊111的這些周緣130e與第一基準直線Sa1之間的最大距離,而第二最大偏移長度La2也是鄰近第二長邊112的這些周緣130e與第二基準直線Sa2之間的最大距離。
因此,不論第一長邊111d與第二長邊112d是否具有反曲點,圖1D與圖1A中的第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2定義皆相同,而且圖1D與圖1A中的第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2定義也皆相同。此外,在其他實施例中,圖1D中的這些端點E11a、E11b、E12a與E12b也可位於這些圖案區130外(如圖1B所示),或是位於這些圖案區130的開口131內(如圖1C所示)。因此,圖1D中的第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2兩者定義也可以實質上相同於第一基準直線Sb1、Sc1以及第二基準直線Sb2、Sc2的定義。
圖2是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖2,本實施例與前述實施例相似。例如,金屬遮罩200具有多個圖案區230,而這些圖案區230可以呈規則排列。其次,各個圖案區230也具有多個開口131,且各個圖案區230的形狀也是多邊形。然而,不同於前述實施例中的圖案區130,在本實施例中,各個圖案區230的形狀為六邊形,而且這些圖案區230也未呈矩陣排列。
金屬遮罩200的檢測方法基本上相同於金屬遮罩100的檢測方法。在金屬遮罩200的檢測方法中,第一基準直線S21是根據鄰近第一長邊111的這些圖案區230而定義,而第二基準直線S22也是根據鄰近第二長邊112的這些圖案區230而定義,其中第一基準直線S21鄰近第一長邊111,並沿著第一長邊111延伸,而第二基準直線S22鄰近第二長邊112,並沿著第二長邊112延伸。
各個圖案區230也具有多個頂點230a。例如,一個圖案區230具有六個頂點230a(如圖2所示)。與圖1A實施例相同,第一基準直線S21的兩端點E41a與E41b分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個頂點230a,而第二基準直線Sa2的兩端點E42a與E42b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個頂點230a。因此,這些端點E41a、E41b、E42a與E42b實質上可視為四個圖案區230的頂點230a,其中兩個圖案區230鄰近第一短邊121,而其他兩個圖案區230鄰近第二短邊122。
第一角落191具有第一頂點191a,而第一長邊111與第一短邊121相交於第一頂點191a。第二角落192具有第二頂點192a,而第一長邊111與第二短邊122相交於第二頂點192a。第三角落193具有第三頂點193a,而第二長邊112與第一短邊121相交於第三頂點193a。第四角落194具有第四頂點194a,而第二長邊112與第二短邊122相交於第四頂點194a。
在本實施例中,端點E41a、E41b、E42a與E42b是根據鄰近第一頂點191a、第二頂點192a、第三頂點193a與第四頂點194a的頂點230a來決定。詳細而言,在第一角落191中,端點E41a位於最接近第一頂點191a的頂點230a。同理,端點E41b位於最接近第二頂點192a的頂點230a,端點E42a位於最接近第三頂點193a的頂點230a,而端點E42b位於最接近第四頂點194a的頂點230a。
在定義好第一基準直線S21與第二基準直線S22之後,量測鄰近第一長邊111的這些圖案區230與第一基準直線S21之間的第一最大偏移長度L21,以及量測鄰近第二長邊112的這些圖案區230與第二基準直線S22之間的第二最大偏移長度L22,其中第一最大偏移長度L21與第一基準直線S21實質上垂直,而第二最大偏移長度L22與第二基準直線S22實質上垂直。
當第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22之間的相差值大於20微米,或者是第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22兩者任一者大於30微米時,金屬遮罩200會被判斷為不合格遮罩。當第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22之間的相差值小於或等於20微米,第一最大偏移長度L21小於或等於30微米,且第二最大偏移長度L22也小於或等於30微米時,判斷金屬遮罩200為合格遮罩,並符合檢測標準。
另外,第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22兩者的量測方法可以相同於前述實施例中的第一最大偏移長度La1與第二最大偏移長度La2。例如,第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22可透過尺寸量測儀而測得,其中尺寸量測儀可定義第一基準直線S21與第二基準直線S22,並利用上述數學式(1)與(2)計算得到第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22。因此,第一最大偏移長度L21與第二最大偏移長度L22兩者的量測方法可相同於前述實施例,在此不再重複敘述。
須說明的是,在圖2所示的實施例中,第一基準直線S21的兩端點E41a與E41b以及第二基準直線Sa2的兩端點E42a與E42b分別位於四個頂點230a,其中端點E41a與E42a位於鄰近第一短邊121的最外側圖案區230的頂點230a,而端點E41b與E42b位於鄰近第二短邊122的最外側圖案區230的頂點230a。
然而,在其他實施例中,這些端點E41a、E41b、E42a與E42b分別鄰近第一角落191、第二角落192、第三角落193與第四角落194,並且皆可位於這些圖案區230外。換句話說,這些端點E41a、E41b、E42a與E42b每一者可不在任一個圖案區230內,並可鄰近金屬遮罩200的其中一個角落(即第一角落191、第二角落192、第三角落193或第四角落194)。
或者,第一基準直線S21的兩端點E41a與E41b可分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個開口131,而第二基準直線S22的兩端點E42a與E42b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個開口131。例如,這些端點E41a、E41b、E42a與E42b任一者可位於其中一個開口131的邊緣(如圖1C所示)或是位於其中一個開口131內。因此,圖2所示的端點E41a、E41b、E42a與E42b任一者不限制位於頂點230a。
圖3是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖3,本實施例與前述實施例相似。例如,金屬遮罩300具有多個圖案區330,而且這些圖案區330可呈規則排列,例如矩陣排列,如圖3所示,其中各個圖案區330也具有多個開口131。然而,不同於前述圖案區130與230,本實施例中的各個圖案區330的形狀為圓形,所以各個圖案區330具有圓心330c。
本實施例的檢測方法相似於前述實施例的檢測方法,而且本實施例也可利用上述數學式(1)與(2)來量測第一最大偏移長度L31與第二最大偏移長度L32。本實施例與前述實施例兩者檢測方法的差異僅在於:圖3中的第一基準直線S31與第二基準直線S32兩者定義不同於第一基準直線Sa1與第二基準直線Sa2,且圖3中的第一最大偏移長度L31不同於前述第一最大偏移長度La1、Lb1、Lc1或L21,第二最大偏移長度L32不同於前述第二最大偏移長度La2、Lb2、Lc2或L22。
第一基準直線S31的兩端點E51a與E51b分別位於鄰近第一角落191與第二角落192的兩個圓心330c,而第二基準直線S32的兩端點E52a與E52b分別位於鄰近第三角落193與第四角落194的兩個圓心330c。實質上垂直於第一基準直線S31的第一最大偏移長度L31為鄰近第一長邊111的這些圓心330c與第一基準直線S31之間的最大距離,而實質上垂直於第二基準直線S32的第二最大偏移長度L32為鄰近第二長邊112的這些圓心330c與第二基準直線S32之間的最大距離。
值得一提的是,在以上圖1A至圖1D以及圖2至圖3的實施例中,上述第一基準直線與第二基準直線兩者任一端點(即端點E11a、E11b、E12a、E12b、E21a、E21b、E22a、E22b、E31a、E31b、E32a、E32b、E41a、E41b、E42a、E42b、E51a、E51b、E52a或E52b)皆鄰近第一角落191、第二角落192、第三角落193與第四角落194其中一者,所以上述第一基準直線與第二基準直線兩者個別的長度小於但接近金屬遮罩100、101、200與300的長度。
因此,即使這些第一基準直線Sa1、Sb1、Sc1、S21與S31的定義不同,但經由數學式(1)計算而得到的這些第一最大偏移長度La1、Lb1、Lc1、L21與L31不會有顯著的差異。同樣地,縱使這些第二基準直線Sa2、Sb2、Sc2、S22與S32的定義不同,經由數學式(2)計算而得到的這些第二最大偏移長度La2、Lb2、Lc2、L22與L32之間也不會有顯著的差異。換句話說,這些第一基準直線Sa1、Sb1、Sc1、S21與S31以及這些第二基準直線Sa2、Sb2、Sc2、S22與S32皆可利用上述數學式(1)與(2)來計算出以上第一最大偏移長度與第二最大偏移長度。
圖4是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。請參閱圖4,本實施例的檢測方法相似於前述實施例的檢測方法。不過,有別於前述實施例,本實施例的檢測方法不僅量測第一最大偏移長度與第二最大偏移長度,而且還定義第三基準直線S43以及量測第三最大偏移長度L4。
在本實施例中,金屬遮罩400具有彼此相對的第一長邊411與第二長邊412、彼此相對的第一短邊421與第二短邊422以及多個圖案區430,其中第一長邊411、第二長邊412、第一短邊421與第二短邊422相連,並圍繞這些圖案區430。圖4所示的金屬遮罩400的材料與製造方法可相同於金屬遮罩100的材料與製造方法,而各個圖案區430具有多個開口(未繪示),其中這些開口可呈規則排列。
在檢測金屬遮罩400的方法中,根據鄰近第一短邊421的這些圖案區430,定義第三基準直線S43,其中第三基準直線S43鄰近第一短邊421,並沿著第一短邊421延伸。與前述第一基準直線及第二基準直線一樣,第三基準直線S43具有端點E63a與E63b,所以第三基準直線S43也非無限長的直線。一旦確定這些端點E63a與E63b的位置,代表也定義好第三基準直線S43。
各個圖案區430的形狀可以是多邊形或是變形的多邊形,並具有多個頂點430a。以圖4為例,各個圖案區430的形狀可以是扭曲的四邊形,因此雖然圖案區430的形狀與一般四邊形(例如矩形)有些差異,但各個圖案區430所具有的四個頂點430a仍可辨識。第三基準直線S43的兩端點E63a與E63b可以分別位於鄰近第一角落491與第三角落493的兩個頂點430a。也就是說,圖4所示的這些端點E63a與E63b實質上可視為兩個頂點430a。
須說明的是,在其他實施例中,端點E63a與E63b也可位於這些圖案區430外,並分別鄰近第一角落491與第三角落493。或者,第三基準直線S43的兩端點E63a與E63b可分別位於鄰近第一角落491與第三角落493的兩個開口,其中這些端點E63a與E63b任一者可位於其中一個開口的邊緣或是位於其中一個開口內。所以,圖4所示的端點E63a與E63b任一者不限制位於頂點430a。
接著,量測鄰近第一短邊421的這些圖案區430與第三基準直線S43之間的第三最大偏移長度L4,其中第三最大偏移長度L4與第三基準直線S43垂直。相似於圖1A的實施例,這些圖案區430分別具有多個周緣430e,而第三最大偏移長度L4為鄰近第一短邊421的這些周緣430e與第三基準直線S43之間的最大距離。第三基準直線S43的定義與第三最大偏移長度L4的量測皆可利用尺寸量測儀來進行,其中第三最大偏移長度L4更可根據前述數學式(1)而測得。當第三最大偏移長度L4大於10微米時,判斷金屬遮罩400為不合格遮罩。反之,當第三最大偏移長度L4小於或等於10微米時,判斷金屬遮罩400為符合檢測標準之遮罩,即符合製程所需的合格金屬遮罩400。
在圖4所示的實施例中,第一長邊411與第二長邊412兩者為直線,但在其他實施例中(例如圖1A所的實施例),第一長邊411與第二長邊412也可皆為曲線。因此,圖4並不限制第一長邊411與第二長邊412的形狀。此外,根據圖4所示的第三基準直線S43,更可定義鄰近第二短邊422的第四基準直線(未繪示)。第四基準直線的兩端點也分別鄰近第二角落492與第四角落494,而利用此第四基準直線,更可量測第四最大偏移長度,以確保金屬遮罩400適合應用於物理氣相沉積,避免降低顯示面板(例如有機發光二極體顯示面板)的良率。
圖5A是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖,而圖5B是圖5A中的金屬遮罩的側視示意圖。請參閱圖5A與圖5B,首先,提供金屬遮罩500。金屬遮罩500具有彼此相對的第一長邊511與第二長邊512、彼此相對的第一短邊521與第二短邊522以及多個圖案區(未繪示)。與金屬遮罩100相同,第一長邊511、第二長邊512、第一短邊521與第二短邊522相連,並圍繞這些圖案區。其次,金屬遮罩500也可以是金屬材料依序經過輾壓與光刻後而形成,或者採用電鑄而製成,所以金屬遮罩500也會翹曲而變的不平整,如圖5B所示。
接著,在翹曲的金屬遮罩500上定義彼此平行且分離的第一基準直線S51與第二基準直線S52,其中第一基準直線S51與第二基準直線S52不會交錯或重疊,而且第一基準直線S51與第二基準直線S52兩者長度可以彼此相等。第一基準直線S51具有端點E71a與E71b,而第二基準直線S52具有端點E72a與E72b。所以,第一基準直線S51與第二基準直線S52都不是無限長的直線。
在本實施例中,可以先在金屬遮罩500上形成至少一個對位標記(未繪示),其中一個對位標記可以位在端點E71a、E71b、E72a與E72b其中一個上。尺寸量測儀可以偵測上述對位標記,並根據對位標記的位置而定義出端點E71a、E71b、E72a與E72b的座標值。如此,尺寸量測儀能計算出第一基準直線S51與第二基準直線S52兩者的長度。
第一基準直線S51與第二基準直線S52兩者可以是實質上平行,所以第一基準直線S51與第二基準直線S52之間的平行可包括允許偏差範圍所導致的不平行,其中前述允許偏差範圍可以在3微米以內。此外,第一基準直線S51與第二基準直線S52之間的距離可以介於3公分至25公分之間,而此距離的誤差可在±3微米內。
圖5C是圖5A中的金屬遮罩在被攤平之後的俯視示意圖。請參閱圖5C,接著,攤平金屬遮罩500,以使第一基準直線S51變成第一形變線S51d,而第二基準直線S52變成第二形變線S52d。當金屬遮罩500攤平時,第一長邊511、第二長邊512、第一短邊521與第二短邊522也會發生形變。例如,第一長邊511變成較長的第一長邊511p,而第二長邊512變成較長的第二長邊512p。
圖5D是圖5C中的金屬遮罩被夾置在兩塊硬式基板之間的側視示意圖。請參閱圖5C與圖5D,攤平金屬遮罩500的方法可以是將金屬遮罩500夾置於兩塊硬式基板51之間,以使這些硬式基板51壓平金屬遮罩500,其中硬式基板51可以是玻璃板或鋼板。
請參閱圖5A與圖5C,接著,判斷第一基準直線S51的長度、第二基準直線S52的長度、第一形變線S51d的長度與第二形變線S52d的長度是否滿足以下數學式(3)。
數學式(3):
│(L3+L4)/2-(L1+L2)/2│≤20(微米)
在上述數學式(3)中,L1為第一基準直線S51的長度,L2為第二基準直線S52的長度,L3為第一形變線S51d的長度,而L4為第二形變線S52d的長度。當第一基準直線S51的長度、第二基準直線S52的長度、第一形變線S51d的長度與第二形變線S52d的長度滿足數學式(3)時,判斷金屬遮罩500為符合檢測標準之合格遮罩。
此外,第一基準直線S51的長度、第二基準直線S52的長度、第一形變線S51d的長度與第二形變線S52d的長度可以利用尺寸量測儀來量測,而數學式(3)也可透過尺寸量測儀來運算,其中尺寸量測儀可以根據上述對位標記的位置,自動選取第一形變線S51d兩端點的位置以及第二形變線S52d兩端點的位置,從而計算出第一形變線S51d的長度與第二形變線S52d的長度。
值得一提的是,在圖5A所示的實施例中,第一基準直線S51與第二基準直線S52兩者長度彼此相等。然而,在其他實施例中,第一基準直線S51與第二基準直線S52兩者長度也可以不相等。例如,在圖6所示的實施例中,可以在翹曲的金屬遮罩500上定義彼此平行且分離的第一基準直線S51與第二基準直線S62,其中第一基準直線S51與第二基準直線S62兩者長度彼此不相等。例如,第一基準直線S51大於第二基準直線S62,如圖6所示。因此,圖5A中的第一基準直線S51與第二基準直線S52不限制要彼此相等。
綜上所述,本發明至少一實施例所揭示的檢測方法能幫助挑選合格的金屬遮罩,並淘汰不合格的金屬遮罩,以避免不適用於物理氣相沉積(例如蒸鍍)的金屬遮罩被用來製造顯示面板(例如,有機發光二極體顯示面板)。如此,可以減少不良顯示面板的產出,從而提升良率。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明精神和範圍內,當可作些許更動與潤飾,因此本發明保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
51:硬式基板
100、101、200、300、400、500:金屬遮罩
111、411、511:第一長邊
112、412、512:第二長邊
121、421、521:第一短邊
122、422、522:第二短邊
130、230、330、430:圖案區
130a、191a、192a、193a、194a、230a、430a:頂點
130e、430e:周緣
131:開口
181:第一記號
182:第二記號
183:第三記號
184:第四記號
191、491:第一角落
192、492:第二角落
193、493:第三角落
194、494:第四角落
330c:圓心
E11a、E11b、E12a、E12b、E21a、E21b、E22a、E22b、E31a、E31b、E32a、E32b、E41a、E41b、E42a、E42b、E51a、E51b、E52a、E52b、E63a、E63b、E71a、E71b、E72a、E72b、SP1、SP2:端點
La1、Lb1、Lc1、L21、L31:第一最大偏移長度
La2、Lb2、Lc2、L22、L32:第二最大偏移長度
L4:第三最大偏移長度
Sa1、Sb1、Sc1、S21、S31、S51:第一基準直線
Sa2、Sb2、Sc2、S22、S32、S52、S62:第二基準直線
S51d:第一形變線
S52d:第二形變線
S43:第三基準直線
圖1A是利用本發明至少一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖1B是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖1C是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖1D是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖2是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖3是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖4是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖5A是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
圖5B是圖5A中的金屬遮罩的側視示意圖。
圖5C是圖5A中的金屬遮罩在被攤平之後的俯視示意圖。
圖5D是圖5C中的金屬遮罩被夾置在兩塊硬式基板之間的側視示意圖。
圖6是利用本發明另一實施例的檢測方法所檢測的金屬遮罩的俯視示意圖。
100:金屬遮罩
111:第一長邊
112:第二長邊
121:第一短邊
122:第二短邊
130:圖案區
130a:頂點
130e:周緣
131:開口
191:第一角落
192:第二角落
193:第三角落
194:第四角落
E11a、E11b、E12a、E12b、SP1、SP2:端點
La1:第一最大偏移長度
La2:第二最大偏移長度
Sa1:第一基準直線
Sa2:第二基準直線
Claims (2)
- 一種金屬遮罩的檢測方法,包括:提供一金屬遮罩,其中該金屬遮罩具有彼此相對的一第一長邊與一第二長邊、彼此相對的一第一短邊與一第二短邊以及複數個圖案區,其中該第一長邊、該第二長邊、該第一短邊與該第二短邊圍繞該些圖案區,該些圖案區中靠近該第一短邊的一者具有靠近該第一短邊與該第一長邊的一第一頂點,該些圖案區中靠近該第二短邊的一者具有靠近該第二短邊與該第一長邊的一第二頂點,該第一頂點與該第二頂點之間的連線為一第一基準直線,該些圖案區中靠近該第一短邊的該者具有靠近該第一短邊與該第二長邊的一第三頂點,該些圖案區中靠近該第二短邊的該者具有靠近該第二短邊與該第二長邊的一第四頂點,該第三頂點與該第四頂點之間的連線為一第二基準直線,該第一頂點與該第三頂點之間的連線為一第三基準直線;量測鄰近該第一長邊的該些圖案區與該第一基準直線之間的一第一最大偏移長度,其中該第一最大偏移長度與該第一基準直線垂直;量測鄰近該第二長邊的該些圖案區與該第二基準直線之間的一第二最大偏移長度,其中該第二最大偏移長度與該第二基準直線垂直;量測鄰近該第一短邊的該些圖案區與該第三基準直線之間的一第三最大偏移長度,其中該第三最大偏移長度與該第三基準直線垂直;以及 當該金屬遮罩滿足一第一條件、一第二條件以及一第三條件時,判斷該金屬遮罩符合一檢測標準,其中該第一條件為該第一最大偏移長度與該第二最大偏移長度之間的相差值小於或等於20微米,該第二條件為該第一最大偏移長度與該第二最大偏移長度皆小於或等於30微米,該第三條件為該第三最大偏移長度小於或等於10微米。
- 一種金屬遮罩的檢測方法,包括:提供一金屬遮罩,其中該金屬遮罩具有彼此相對的一第一長邊與一第二長邊、彼此相對的一第一短邊與一第二短邊以及複數個圖案區,其中該第一長邊、該第二長邊、該第一短邊與該第二短邊圍繞該些圖案區,該些圖案區的每一者具有一周緣與位於該周緣上的複數個頂點,其中該些頂點包含最靠近該第一長邊與最靠近該第一短邊的一第一頂點、最靠近該第一長邊與最靠近該第二短邊的一第二頂點、最靠近該第二長邊與最靠近該第一短邊的一第三頂點,以及最靠近該第二長邊與最靠近該第二短邊的一第四頂點,該第一頂點與該第二頂點之間的連線為一第一基準直線,該第三頂點與該第四頂點之間的連線為一第二基準直線,該第一頂點與該第三頂點之間的連線為一第三基準直線;量測鄰近該第一長邊的該些圖案區與該第一基準直線之間的一第一最大偏移長度,其中該第一最大偏移長度與該 第一基準直線垂直;量測鄰近該第二長邊的該些圖案區與該第二基準直線之間的一第二最大偏移長度,其中該第二最大偏移長度與該第二基準直線垂直;量測鄰近該第一短邊的該些圖案區與該第三基準直線之間的一第三最大偏移長度,其中該第三最大偏移長度與該第三基準直線垂直;以及當該金屬遮罩滿足一第一條件、一第二條件以及一第三條件時,判斷該金屬遮罩符合一檢測標準,其中該第一條件為該第一最大偏移長度與該第二最大偏移長度之間的相差值小於或等於20微米,該第二條件為該第一最大偏移長度與該第二最大偏移長度皆小於或等於30微米,該第三條件為該第三最大偏移長度小於或等於10微米。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN203451605U (zh) * | 2013-08-15 | 2014-02-26 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种金属掩膜板集成装配检测中心 |
CN104111030A (zh) * | 2013-04-22 | 2014-10-22 | 无锡华润微电子有限公司 | 一种光掩模中心偏移测量装置及其测量方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103760747B (zh) * | 2013-12-25 | 2015-05-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板,对其曝光的方法以及包括该掩膜板的液晶面板 |
CN106933024B (zh) * | 2015-12-30 | 2020-05-01 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种可检测掩膜弯曲度的光刻***及检测方法 |
CN105568218A (zh) | 2016-01-11 | 2016-05-11 | 友达光电股份有限公司 | 一种遮罩组件 |
JP6465075B2 (ja) * | 2016-05-26 | 2019-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及びに有機elディスプレイの製造方法 |
JP6376483B2 (ja) * | 2017-01-10 | 2018-08-22 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスクの良否判定方法 |
JP6832170B2 (ja) * | 2017-01-20 | 2021-02-24 | 旭化成株式会社 | 可撓性基板の歪量検出方法 |
KR102520811B1 (ko) * | 2018-07-09 | 2023-04-12 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 증착 마스크의 양부 판정 방법, 증착 마스크의 제조 방법, 증착 마스크 장치의 제조 방법, 증착 마스크의 선정 방법 및 증착 마스크 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104111030A (zh) * | 2013-04-22 | 2014-10-22 | 无锡华润微电子有限公司 | 一种光掩模中心偏移测量装置及其测量方法 |
CN203451605U (zh) * | 2013-08-15 | 2014-02-26 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种金属掩膜板集成装配检测中心 |
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