TWI821528B - 液晶面板及液晶顯示裝置 - Google Patents

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TWI821528B TW109105868A TW109105868A TWI821528B TW I821528 B TWI821528 B TW I821528B TW 109105868 A TW109105868 A TW 109105868A TW 109105868 A TW109105868 A TW 109105868A TW I821528 B TWI821528 B TW I821528B
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明為一種液晶面板，其具有液晶單元與附黏著劑層之偏光薄膜，且在前述附黏著劑層之偏光薄膜的側面具有導通結構，該液晶單元具有於兩面夾持液晶層的第1透明基板及第2透明基板，且該附黏著劑層之偏光薄膜未隔著導電層而透過第1黏著劑層配置於前述液晶單元之視辨側的第1透明基板之側；前述附黏著劑層之偏光薄膜依序具有第1偏光薄膜及第1黏著劑層，前述第1偏光薄膜含有碘濃度6重量%以下之偏光件，且前述第1黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及陽離子成分之分子量為210以下之離子性化合物(B)的黏著劑組成物所形成。本發明之液晶面板的抗靜電機能良好，且可滿足在高溫區域下之導通可靠性。

Description

液晶面板及液晶顯示裝置
本發明涉及具有液晶單元及於該液晶單元之視辨側具有預定附黏著劑層之偏光薄膜之液晶面板。並且，本發明涉及一種使用該液晶面板之液晶顯示裝置。使用有本發明液晶面板之液晶顯示裝置亦可與應用於液晶顯示裝置之視辨側之觸控面板等輸入裝置一同使用，且可作為附觸控感測機能之液晶顯示裝置作為各種輸入顯示裝置使用。
液晶顯示裝置一般依其影像形成方式，係於液晶單元兩側透過黏著劑層貼合有偏光薄膜。且，於液晶顯示裝置之顯示畫面搭載觸控面板之產品業已實用化。就觸控面板而言，有電容式、阻抗膜式、光學式、超音波式或電磁感應式等各種格式，近來多採用電容式。近年有在使用內嵌有電容感測器作為觸控感測器部的附觸控感測機能之液晶顯示裝置。
另一方面，於製造液晶顯示裝置時，將前述附黏著劑層之偏光薄膜貼附於液晶單元時，會從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離脫模薄膜，而剝離該脫模薄膜會產生靜電。另，在剝離貼附於液晶單元之偏光薄膜的表面保護薄膜時、或是在剝離覆蓋窗的表面保護薄膜時也會產生靜電。因而產生的靜電會影響液晶顯示裝置內部的液晶層定向，導致不良。所以，例如藉由在偏光薄膜外面形成抗靜電層，可抑制靜電的產生。
另一方面，附觸控感測機能之液晶顯示裝置的電容感測器係用以檢測使用者手指接近其表面時，透明電極圖案與手指所形成之微弱的電容量。如果於上述透明電極圖案與使用者手指之間具有如抗靜電層般之導電層，驅動電 極與感測器電極之間的電場便會紊亂，造成感測器電極容量不穩定，降低觸控面板敏感度而成為誤動作之原因。就附觸控感測機能之液晶顯示裝置來說，在抑制產生靜電的同時還要求抑制電容感測器之誤動作。例如針對前述課題，有文獻提議在附觸控感測機能之液晶顯示裝置中，於液晶層之視辨側配置具有表面電阻值為1.0×109~1.0×1011Ω/□之抗靜電層的偏光薄膜，以減低顯示不良或誤動作的發生(專利文獻1)。又，提出有將配置於視辨側之偏光薄膜透過含有抗靜電劑之黏著劑層與含有導電聚合物之錨固層等配置(專利文獻2、3)。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2013-105154號公報
專利文獻2：日本特開2017-068022號公報
專利文獻3：日本特開2011-528448號公報
根據專利文獻1中記載之具有抗靜電層的偏光薄膜，可某程度抑制靜電產生。但專利文獻1中，抗靜電層的配置處離產生靜電的源頭位置較遠，所以效果比不上對黏著劑層賦予抗靜電機能之情形。且已知，在附觸控感測機能之液晶顯示裝置中，藉由於偏光薄膜側面設置導通結構，可賦予來自側面的導通性，不過當抗靜電層很薄時，因側面與導通結構的接觸面積小，便無法獲得充分的導電性而發生導通不良。另一方面已知當抗靜電層一旦變厚，觸控感測器敏感度會下降。又已知，設在偏光薄膜外面的抗靜電層在加濕或加熱環境下(加濕或加熱可靠性試驗後)可能會因為與設在側面之導通結構的密著性不良而無法獲得充分的導電性，引發導通不良。
另一方面，又根據專利文獻2、3記載之使用有具有導電性黏著劑 層等之偏光薄膜的液晶面板，相較於專利文獻1更可抑制靜電不均。尤其，以於液晶單元之視辨側未隔著導電層而配置附黏著劑層之偏光薄膜之態樣的液晶面板來說，係要求高導電性。惟，在將液晶面板應用於車載用途之液晶顯示裝置時，會暴露在較應用於一般電視或手機等時更高溫之環境下，故會要求在高溫區域下之導電特性，而即便利用專利文獻2、3記載之液晶面板仍無法滿足在高溫區域下之導電特性。並且，以車載用途之液晶表示裝置來說會要求在高溫區域下之耐久性。
本發明目的在於提供一種液晶面板，其具有液晶單元及應用在其視辨側之附黏著劑層之偏光薄膜，該液晶面板之抗靜電機能良好，且可滿足在高溫區域下之導通可靠性及耐久性。
且本發明之目的還在於提供一種使用有前述液晶面板之液晶顯示裝置。
本發明人等為解決前述課題而反覆地努力檢討之結果，發現藉由下述液晶面板可解決上述課題，遂而完成本發明。
亦即本發明涉及一種液晶面板，其具有液晶單元與附黏著劑層之偏光薄膜，且在前述附黏著劑層之偏光薄膜的側面具有導通結構，該液晶單元具有液晶層、於兩面夾持前述液晶層的第1透明基板及第2透明基板，該液晶層包含在無電場存在之狀態下平行定向之液晶分子，且該附黏著劑層之偏光薄膜未隔著導電層而透過第1黏著劑層配置於前述液晶單元之視辨側的第1透明基板之側；該液晶面板之特徵在於：前述附黏著劑層之偏光薄膜依序具有第1偏光薄膜及第1黏著劑層，前述偏光薄膜含有碘濃度為6重量%以下之偏光件，且 前述第1黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及陽離子成分之分子量為210以下之離子性化合物(B)的黏著劑組成物所形成。
前述液晶面板中，前述陽離子成分宜為鋰離子。
前述液晶面板中，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有1~13重量份之前述離子性化合物(B)。
前述液晶面板中，前述第1偏光薄膜宜含有厚度大於10μm之偏光件。
前述液晶面板中，前述導通結構宜至少設置於下述位置：當在85℃、500小時之環境下進行前述附黏著劑層之偏光薄膜的尺寸收縮試驗時，前述附黏著劑層之偏光薄膜在薄膜面方向上之尺寸變化量成為400μm以下之側面的點b。
前述液晶面板中，前述第1偏光薄膜宜為具有偏光件及於前述偏光件之兩面具有保護薄膜之雙面保護偏光薄膜。
前述內置型液晶面板中，前述液晶單元可使用內置型液晶單元，該內置型液晶單元係於前述第1透明基板與第2透明基板之間具有觸控感測器及觸控驅動機能相關的觸控感測電極部。
前述液晶面板中，可於前述液晶單元之第2透明基板側具有透過第2黏著劑層配置的第2偏光薄膜。
又，本發明涉及一種具有前述液晶面板的液晶顯示裝置。
本發明液晶面板中視辨側的附黏著劑層之偏光薄膜係於黏著劑層含有離子性化合物，藉由該黏著劑層可提升抗靜電性能，且，前述附黏著劑層之偏光薄膜於側面與導通結構接觸。因此，即便是在將附黏著劑層之偏光薄膜未隔著導電層而設於液晶單元之視辨側時，該附黏著劑層之偏光薄膜之側面的導通仍受到確 保，而可抑制導通不良所造成之靜電不均發生。
如同前述，藉由於黏著劑層添加離子性化合物可提升導電特性，但已知黏著劑層之硬度(膠位移量)會因所添加之離子性化合物的種類而異，黏著劑層因添加離子性化合物而變柔軟者，黏著劑層之位移量會變大，在高溫(尤其是高於80℃)之環境下易發生斷線所造成之導通不良。另，偏光薄膜之加熱收縮可藉由使用薄型偏光件來控制得較小，因而可使前述斷線之影響較小，但若偏光件變薄則每單位厚度之碘濃度會有變高之傾向，從而在薄型偏光件中碘濃度會變高，因此使用薄型偏光件時，在高溫(尤其是高於80℃)之環境下易發生偏光件之多烯化，而光學特性不足。
在本發明中，已知陽離子成分之分子量小的離子性化合物即便在高溫(尤其是高於80℃)之環境下仍可抑制黏著劑層之位移量，因此作為離子性化合物係使用陽離子成分之分子量為210以下者。尤其已知當在使用鋰鹽作為離子性化合物的陽離子成分時，抑制位移量之效果佳。
如以上，本發明中，偏光薄膜係使用含有碘濃度6重量%以下之偏光件者，且前述離子性化合物設為陽離子成分之分子量為210以下者，藉此可滿足在高溫區域(尤其高於80℃)下之導通可靠性及耐久性。
A,A′:附黏著劑層之偏光薄膜
B:液晶單元(內置型液晶單元)
C:液晶面板(內置型液晶面板)
1,11:第1、第2偏光薄膜
2,12:第1、第2黏著劑層
3:錨固層
4:表面處理層
20:液晶層
31:觸控感測器電極
32:觸控驅動電極
33:觸控驅動電極兼感測器電極
41,42:第1、第2透明基板
50,51:導通結構
a,a′,b1,b1′,b2,b2′:點
a,b:邊
圖1係顯示用在本發明液晶面板之視辨側的附黏著劑層之偏光薄膜一例的截面圖。
圖2係用以說明用於本發明液晶面板之視辨側的附黏著劑層之偏光薄膜在薄膜面方向上之收縮前後之尺寸變化狀態的俯視概念圖之一例。
圖3係顯示本發明液晶面板之一例的截面圖。
圖4係顯示本發明內置型液晶面板一例的截面圖。
圖5係顯示本發明內置型液晶面板一例的截面圖。
圖6係顯示本發明內置型液晶面板一例的截面圖。
圖7係顯示本發明內置型液晶面板一例的截面圖。
圖8係顯示本發明內置型液晶面板一例的截面圖。
圖9係於計算偏光件之碘濃度時做出之檢量曲線。
以下參照圖式說明本發明。用於本發明液晶面板之視辨側的附黏著劑層之偏光薄膜A具有第1偏光薄膜1、第1黏著劑層2。又，前述附黏著劑層之偏光薄膜A可於第1偏光薄膜1之視辨側具有表面處理層4，且可於第1偏光薄膜1與第1黏著劑層2之間具有錨固層3。圖1係例示依序具有表面處理層4、第1偏光薄膜1、錨固層3、第1黏著劑層2之情況。另，圖1中雖未記載，不過可在本發明之附黏著劑層之偏光薄膜A的第1黏著劑層2設置分離件，且可在表面處理層4設置表面保護薄膜。
又，第1偏光薄膜1可使用於偏光件之單面或兩面具有保護薄膜者，但由光學耐久性之觀點來看，相較於僅於偏光件之單面具有保護薄膜之單面保護偏光薄膜，宜使用於兩面具有保護薄膜之雙面保護偏光薄膜(無圖式)。
又，在本發明之液晶面板中，係選擇在附黏著劑層之偏光薄膜的側面上加熱收縮較小之處(亦即尺寸變化量為400μm以下)來設置導通結構，藉此可滿足在高溫區域(尤其是高於80℃)下之導通可靠性及耐久性。
圖2係顯示在將前述附黏著劑層之偏光薄膜A投入85℃之環境下500小時進行尺寸收縮試驗時，投入前與投入後在薄膜面方向上之收縮前後之尺寸變化狀態的俯視概念圖之一例。圖2中係顯示前述投入前之附黏著劑層之偏光薄膜A與投入後已收縮之狀態下的附黏著劑層之偏光薄膜A'。附黏著劑層之偏光薄膜A之尺寸變化量為前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面的預定點與附黏著劑層之偏光薄膜A'之側面的預定點之距離。至少於前述尺寸變化量為400μm以下 之點b設置導通結構。前述尺寸變化量宜為350μm，且300μm以下更佳，又以250μm以下為佳，200μm以下更佳。
針對圖2之附黏著劑層之偏光薄膜A，就吸收軸方向與正交於吸收軸之方向(慢軸方向)的關係說明點b。圖2之附黏著劑層之偏光薄膜A中，係例示位於與吸收軸方向相同方向之側面的點b1與附黏著劑層之偏光薄膜A'的點b1'的距離(慢軸方向之尺寸變化量)滿足前述尺寸變化量400μm以下時之情形。另，以圖2之附黏著劑層之偏光薄膜A來說，吾等認為只要就點b1滿足尺寸變化量400μm以下，在邊b的各點上便亦會滿足尺寸變化量400μm以下。又，圖2之附黏著劑層之偏光薄膜A中，係針對於矩形之角部施有加工之異形物，例示位於連結吸收軸方向與慢軸方向之各側面之曲線的側面的點b2與附黏著劑層之偏光薄膜A'的點b2'的距離滿足前述尺寸變化量400μm以下時之情形。
另一方面，圖2之附黏著劑層之偏光薄膜A中，係例示位於慢軸方向之側面的點a與附黏著劑層之偏光薄膜A'的點a'的距離(吸收軸方向之尺寸變化量)不滿足前述尺寸變化量400μm以下時之情形。另，以圖3之附黏著劑層之偏光薄膜A來說，吾等認為只要就點a滿足尺寸變化量400μm以下，在邊a的各點上便亦不會滿足尺寸變化量400μm以下。
又，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜A中，由保持其與設於側面之導通結構的密著性的觀點來看，在前述點b之尺寸變化量b(μm)與吸收軸方向之尺寸變化量a(μm)的比(b/a)滿足小於0.8之範圍較佳。比(b/a)宜為0.7以下，且0.6以下更佳。此外，本發明所用偏光薄膜(附黏著劑層之偏光薄膜A)之大小無特別限制，例如以矩形物來說，宜為長50~1500mm、寬50~1500mm者。
本發明之液晶面板C中，前述附黏著劑層之偏光薄膜A如圖3所示，未隔著導電層而透過前述黏著劑層2配置於液晶單元B(在圖4至圖8中為內置型液晶單元B)之視辨側的第1透明基板41之側。又，前述液晶面板C中，於前述附 黏著劑層之偏光薄膜A的側面具有導通結構50。
<附黏著劑層之偏光薄膜>
以下說明附黏著劑層之偏光薄膜A。如上述，本發明附黏著劑層之偏光薄膜A具有第1偏光薄膜、第1黏著劑層。
第1偏光薄膜一般可使用具有偏光件及於前述偏光件之單面或兩面具有保護薄膜者。偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘並加以單軸延伸者等。該等之中又以由聚乙烯醇系薄膜與碘構成之偏光件較適宜。該等偏光件之厚度無特別限制，一般在80μm左右以下。
又，由耐熱性之觀點來看，作為偏光件宜使用碘濃度6重量%以下之偏光件。由耐熱性之觀點來看，前述碘濃度宜為5重量%以下，更宜為4重量%以下。此外，由光學特性之觀點來看，前述偏光件中之碘濃度宜為1重量%以上，且宜為1.5重量%以上，更宜為2重量%以上。又，偏光件若碘濃度變高，尺寸變化量便多，加熱收縮所造成之導通結構的密著性不足而易引起導通不良，因此偏光件之碘濃度宜在前述範圍內作調整。
又，由耐熱性之觀點來看，作為偏光件宜使用厚度大於10μm之偏光件。前述厚度宜大於10μm且至25μm，且以10~22μm為佳，10~20μm更佳。又，偏光件愈厚，尺寸變化量便多，加熱收縮所造成之導通結構的密著性不足而易引起導通不良，因此偏光件之厚度宜在前述範圍內作調整。
作為構成保護薄膜的材料，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。所述熱塑性樹脂的具體例可舉例如三醋酸纖維素等之纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀 聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等之混合物。此外，在偏光件的單側，保護薄膜係藉由接著劑層而貼合，而在另一側，保護薄膜可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。保護薄膜中亦可含有1種以上任意適當的添加劑。
前述保護薄膜(透明保護薄膜)之材料，由可將黏著劑層之表面電阻值的變動控制得較小來看以纖維素樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂為佳。此外，(甲基)丙烯酸樹脂宜使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂可列舉日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。尤其是纖維素樹脂在會在單面保護偏光薄膜造成課題之抑制偏光件裂痕上較(甲基)丙烯酸樹脂更有效，就此觀點來看較佳。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、擴散薄膜等。相位差薄膜可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦可作為偏光件保護薄膜發揮功能，故可謀求薄型化。
前述保護薄膜與偏光件係透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer layer；底漆層)等中介層來積層。此時期望可藉由中介層將兩者無空氣間隙地積層。前述保護薄膜與偏光件宜透過接著劑層積層。用於前述偏光件與保護薄膜的貼合之接著劑只要在光學上是透明的，則可無特別限制地使用水系、溶劑系、熱熔膠系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態的接著劑，惟水系接著劑或自由基硬化型接著劑較適宜。
<第1黏著劑層>
前述第1黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及離子性化合物(B)之黏著劑組成物形成。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。另，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)亦為同義。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示直鏈狀或支鏈狀烷基碳數1~18者。例如前述烷基可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。該等可單獨使用或可組合來使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
前述(甲基)丙烯酸烷基酯之重量比率，作為單體單元於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)之重量比率中宜為70重量%以上。前述(甲基)丙烯酸烷基酯之重量比率可視為其他共聚單體之剩餘部分作考量。前述(甲基)丙烯酸烷基酯之重量比率若設在前述範圍內，於確保接著性上為佳。
為了改善接著性及耐熱性，除前述(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元外，可於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，藉由共聚來導入1種以上具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚單體。
前述共聚單體可舉例如含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體等含官能基單體。
含羧基單體係一於其結構中含有羧基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。含羧基單體之具體例可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、 巴豆酸等。從共聚性、價格及黏著特性的觀點來看，前述含羧基單體中以丙烯酸為宜。
含羥基單體係一於其結構中含有羥基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。含羥基單體的具體例可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等。由耐久性之觀點，前述含羥基單體中宜為(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯，尤以(甲基)丙烯酸4-羥丁酯為佳。
含羧基單體、含羥基單體在黏著劑組成物含有交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。含羧基單體、含羥基單體在分子間與交聯劑之反應性佳，故適宜用於提升所得第1黏著劑層之凝集性及耐熱性。又，就兼具耐久性與重工性之觀點而言，含羧基單體較為理想，而就重工性之觀點而言，以含羥基單體較為理想。
含羧基單體的前述重量比率宜為10重量%以下，且宜為0.01~8重量%，0.05~6重量%更佳，又以0.1~5重量%更佳。將含羧基單體的重量比率設為0.01重量%以上由耐久性之觀點來看為佳。另一方面，超過10重量%時以重工性之觀點來看不宜。
含羥基單體的前述重量比率宜為3重量%以下，且宜為0.01~3重量%，0.1~2重量%更佳，且更佳為0.2~2重量%。由交聯第1黏著劑層之觀點、耐久性或黏著特性之觀點來看，含羥基單體的重量比率設為0.01重量%以上為佳。另一方面，超過3重量%時，以耐久性觀點來看不宜。
含醯胺基單體係一於其結構中含有醯胺基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。含醯胺基單體之具體例可舉(甲基)丙 烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基內醯胺系單體等。含醯胺基單體在可抑制歷時性的(尤其在加濕環境下的)表面電阻值的上升或滿足耐久性來看為佳。尤其在含醯胺基單體之中，由可抑制歷時性(尤其在加濕環境下)表面電阻值的上升或滿足對透明導電層(觸控感測器層)之耐久性來看，以含N-乙烯基內醯胺系單體尤佳。
含醯胺基單體的前述重量比率一大，有對光學薄膜之投錨性降低之傾向，故前述重量比率宜為10重量%以下，且以5重量%以下更佳。從可抑制歷時性(特別在加濕環境下)表面電阻值的上升之觀點來看，含醯胺基單體之前述重量比率宜為0.1重量%以上。前述重量比率宜為0.3重量%以上，更宜為0.5重量%以上。含醯胺基單體就與本發明之第1黏著劑層所含有之離子性化合物(B)的關係來看較為適宜。
用於形成前述第1黏著劑層的黏著劑組成物中，在有被導入基底聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之側鏈的醯胺基存在時，藉由該醯胺基之存在，即使在加濕環境下仍能抑制藉由摻混離子性化合物(B)而經調整的第1黏著劑層的表面電阻值變動而大增，從而可維持在所期望之值的範圍內，由此看來較佳。吾等認為藉由作為共聚單體之官能基被導入前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之側鏈的醯胺基之存在，能提高(甲基)丙烯酸系聚合物(A)與離子性化合物(B)的相溶性。
又，前述第1黏著劑層在有被導入基底聚合物之(甲基)丙烯酸系聚 合物(A)中之側鏈的醯胺基存在時，對玻璃及透明導電層(ITO層等)的耐久性皆良好，而可抑制在貼附於液晶面板之狀態下發生剝落或浮凸等。且，在加濕環境下(加濕可靠性試驗後)依舊可滿足耐久性。
又，共聚單體例如可使用含芳香環(甲基)丙烯酸酯。含芳香環(甲基)丙烯酸酯係一於其結構中含有芳香環結構且含有(甲基)丙烯醯基之化合物。作為芳香環，可舉如苯環、萘環或聯苯環。
含芳香環(甲基)丙烯酸酯的具體例可舉例如(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸鄰苯基苯酚酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質壬苯酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質甲酚(甲基)丙烯酸酯、苯酚環氧乙烷改質(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基苄基(甲基)丙烯酸酯、氯苄基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲苯酚酯、(甲基)丙烯酸聚苯乙烯酯等具有苯環之物；羥乙基化β-萘酚丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-萘酚乙酯、丙烯酸2-萘氧乙酯、2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯等具有萘環之物；(甲基)丙烯酸聯苯酯等具有聯苯環者。
由黏著特性及耐久性之觀點，前述含芳香環(甲基)丙烯酸酯宜為(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯，且尤為(甲基)丙烯酸苯氧乙酯。
含芳香環(甲基)丙烯酸酯的前述重量比率宜為25重量%以下，且宜為3~25重量%，以10~22重量%為佳，14~20重量%更佳。含芳香環(甲基)丙烯酸酯的重量比率為3重量%以上時，由抑制顯示不均來看為佳。另一方面，若超過25重量%，顯示不均的抑制反而不夠充分，有耐久性降低之傾向。
上述以外之其他共聚單體之具體例可舉馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸的己內酯加成物；烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺基-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺基丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯等含磺酸基單體；2- 羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，以改質為目的的單體之例還可列舉(甲基)丙烯酸胺乙酯、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、三級丁基胺乙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
並且，改質單體也可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯單體等。更可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
並且，上述以外之可共聚單體可舉如含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可列舉例如3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，也可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二 醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等的具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)的重量比率中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中前述其他共聚單體的比率宜為0~10重量%左右，且宜為0~7重量%左右，更宜為0~5重量%左右。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常重量平均分子量宜為100萬~250萬。若考慮耐久性、尤其是耐熱性，重量平均分子量宜為120萬~200萬。以耐熱性觀點來看，重量平均分子量如果在100萬以上為宜。又，重量平均分子量若大於250萬，有黏著劑容易變硬的傾向，而易發生剝落。另，顯示分子量分布之重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn)宜為1.8以上且10以下，較宜為1.8~7，更宜為1.8~5。分子量分布(Mw/Mn)若大於10，由耐久性觀點來看不宜。此外，重量平均分子量、分子量分布(Mw/Mn)是依照GPC(凝膠滲透層析法)來測定且從以聚苯乙烯換算所算出之值而求得。
所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的製造，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
此外，溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應可於氮等非活性氣體氣流下添加聚合引發劑，且一般 係於50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等無特別限定可適當選擇並使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當調整其使用量。
<離子性化合物(B)>
形成本發明之第1黏著劑層之黏著劑組成物含有之離子性化合物(B)係使用陽離子成分的分子量為210以下者。由抑制在高溫環境下斷線造成之導通不良之觀點，前述陽離子成分的分子量更宜為150以下，且110以下更佳，又以50以下為佳，10以下更佳。前述陽離子成分的分子量愈大，愈會阻礙黏著劑層中的(甲基)丙烯酸聚合物彼此纏結，而有使黏著劑層之物性變柔軟的傾向。因此，前述分子量愈小，第1黏著劑層之物性便愈不易變柔軟，且前述分子量愈小愈可抑制在高溫環境下斷線造成之導通不良。又，前述陽離子成分的分子量愈小，第1黏著劑層之表面電阻值便愈容易降低而能抑制靜電不均，由此觀點來看亦較佳。
又，前述離子性化合物(B)可適宜使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。另，本發明中所謂的「有機陽離子陰離子鹽」係指：其為有機鹽且其陽離子成分係由有機物所構成之物，陰離子成分可為有機物亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。藉由使前述第1黏著劑層含有離子性化合物(B)，可使第1黏著劑層之表面電阻值降低而抑制靜電產生，從而可抑制靜電打亂液晶層之定向而發生漏光(帶電不均)。
<鹼金屬鹽>
構成鹼金屬鹽之陽離子成分的鹼金屬離子可舉鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽之陰離子成分可以有機物構成，亦可以無機物構成。構成有機鹽之陰離子成分例如可使用CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-或下述通式(1)至(4)所示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(惟，n為0~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(惟，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(惟，l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(惟，p、q為1~10之整數)。
特別是含氟原子之陰離子成分由於可獲得離子解離性佳的離子化合物故適於使用。構成無機鹽之陰離子成分可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。陰離子成分宜為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等前述通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤以(CF3SO2)2N-所示(三氟甲磺醯基)醯亞胺為宜。
鹼金屬之有機鹽具體上可舉如醋酸鈉、海藻酸鈉、木質磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，其等之中以LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等為佳，Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等屬雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰鹽之含氟鋰醯亞胺鹽較佳，(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽尤佳。其他還可舉4,4,5,5-四氟-1,3,2-二四氫噻唑-1,1,3,3-四氧化鋰鹽等。
而鹼金屬的無機鹽可列舉如過氯酸鋰、碘化鋰。
<有機陽離子-陰離子鹽>
本發明所用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，且前述陽離子成分為有機物所構成之物。作為陽離子成分，具體而言可舉如吡啶陽 離子、哌啶陽離子、吡咯啶陽離子、具二氫吡咯骨架的陽離子、具吡咯骨架的陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、吡唑啉陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
陰離子成分例如可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、((CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -或下述通式(1)至(4)所示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(惟，n為0~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(惟，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(惟，l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(惟，p、q為1~10之整數)。
其中特別是含氟原子之陰離子成分因可獲得離子解離性良好的離子化合物故適於使用。
有機陽離子-陰離子鹽可適當選擇由上述陽離子成分與陰離子成分組合構成之化合物來使用。有機陽離子-陰離子鹽之較佳具體例可舉例如甲基三辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基甲基咪唑鎓雙(氟磺醯基醯亞胺)。其中更宜為1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基甲基咪唑鎓雙(氟磺醯基醯亞胺)。
又，離子性化合物(B)除了前述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽之外，尚可列舉如氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等之無機鹽。
前述離子性化合物(B)為鹼金屬鹽時，鋰、鈉、鉀等鹼金屬離子係分子量為210以下之陽離子成分，故可適宜使用以該等鹼金屬離子作為陽離子成分之鹼金屬鹽。尤其，由與黏著劑之相溶性之觀點來看，宜為鹼金屬鹽之陰離子 成分以有機物構成之鹼金屬的有機鹽。且，前述鹼金屬離子宜為分子量最小之鋰離子。前述離子性化合物(B)宜為鋰鹽，且鋰的有機鹽尤佳。另一方面，前述離子性化合物(B)為有機陽離子-陰離子鹽時，宜從前述例示之陽離子成分中選擇分子量為210以下來使用。尤其由上述觀點來看，宜為陰離子成分以有機物構成之有機陽離子-陰離子鹽。
為了獲得所期望的電阻值，前述離子性化合物(B)可單獨使用或可將多種併用。尤其當目的是將第1黏著劑層之表面電阻值控制在1×1010~1×1012Ω/□之範圍內時，就前述離子性化合物(B)來說，在可提高抗靜電性能之觀點上以鹼金屬鹽為佳，藉由使用鹼金屬鹽，即使只有少量的摻混份數也可獲得抗靜電性能高的黏著劑。另一方面，當目的是將第1黏著劑層之表面電阻值控制在1×108~1×1011Ω/□之範圍內時，就前述離子性化合物(B)來說，在可提高抗靜電性能之觀點上以有機陽離子-陰離子鹽為佳，藉由使用有機陽離子-陰離子鹽，即使只有少量的摻混份數也可獲得抗靜電性能高的黏著劑。
本發明之黏著劑組成物的離子性化合物(B)比率宜適當調整成可滿足第1黏著劑層之抗靜電特性與觸控面板的敏感度。例如，為使第1黏著劑層的表面電阻值成為1.0×108~1.0×1012Ω/□之範圍，宜一邊考慮偏光薄膜之保護薄膜的種類等，一邊因應內嵌觸控感測機能之液晶面板的種類來調整離子性化合物(B)之比率。例如，圖8所示之內置型內嵌觸控感測機能之液晶面板中，第1黏著劑層之初始的表面電阻值宜控制在1×108~1×1011Ω/□之範圍。又，欲控制前述第1黏著劑層2之導電性時，從抗靜電機能與觸控感測器敏感度的觀點來看，前述第1黏著劑層2之表面電阻值宜為1×108~1×1012Ω/□，1×108~1×1011Ω/□較佳，1×108~1×1010Ω更佳。
前述離子性化合物(B)若變多，離子性化合物(B)可能會析出，進而易發生加濕剝落。且前述離子性化合物(B)若變多，會有表面電阻值變得過低而 發生基線變動(因表面電阻值過低造成觸控時之誤動作)，使觸控面板的敏感度降低之虞。前述離子性化合物(B)之比率，例如相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，一般宜為40重量份以下，且20重量份以下更佳，並以13重量份以下為佳。若過少則會有抗靜電性差之虞，過多則會有觸控敏感度降低、離子性化合物析出、黏著劑之加濕剝落惡化之虞。另一方面，以使抗靜電性能提升來看，宜使用0.1重量份以上之前述離子性化合物(B)。基於此觀點，前述離子性化合物(B)宜為1重量份以上，更宜為5重量份以上。
本發明之黏著劑組成物可含有交聯劑(C)。作為交聯劑(C)，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物可舉如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
交聯劑(C)宜為異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化系交聯劑。
異氰酸酯系交聯劑(C)可使用具有至少2個異氰酸酯基之化合物。例如，一般會使用胺甲酸乙酯化反應所用之公知的脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯、芳香族聚異氰酸酯等。
過氧化物只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者即可適當使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。
可使用之過氧化物可舉如二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度： 92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，尤從交聯反應效率佳之觀點來看，以二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，交聯劑(C)之使用量宜為3重量份以下，且較宜為0.01~3重量份，更宜為0.02~2重量份，又更宜為0.03~1重量份。另，交聯劑(C)低於0.01重量份時，第1黏著劑層恐交聯不足而無法滿足耐久性或黏著特性；另一方面，若多過3重量份，第1黏著劑層會變得太硬而有耐久性降低之傾向。
本發明之黏著劑組成物中可含有矽烷耦合劑(D)。藉由使用矽烷耦合劑(D)可提高耐久性。作為矽烷耦合劑，具體上可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3-4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽 烷耦合劑等。前述例示之矽烷耦合劑宜為含環氧基之矽烷耦合劑。
又，矽烷耦合劑(D)亦可使用於分子內具有多個烷氧矽基者。具體上可列舉如信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651等。該等於分子內具有多個烷氧矽基之矽烷耦合劑由於不易揮發且具有多個烷氧矽基，因此可有效提升耐久性而較為理想。尤其是在附黏著劑層之光學薄膜的被黏著體為較玻璃更不易與烷氧矽基反應的透明導電層(例如ITO等)時，耐久性仍佳。又，於分子內具有多個烷氧矽基之矽烷耦合劑宜為於分子內具有環氧基者，且環氧基於分子內具有多個更佳。於分子內具有多個烷氧矽基且具有環氧基之矽烷耦合劑在被黏著體為透明導電層(例如ITO等)時耐久性仍有良好之傾向。於分子內具有多個烷氧矽基且具有環氧基之矽烷耦合劑的具體例可舉信越化學公司製X-41-1053、X-41-1059A、X-41-1056，尤以環氧基含量多的信越化學公司製X-41-1056為佳。
前述矽烷耦合劑(D)可單獨使用，亦可將2種以上混合來使用，但整體含量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜為5重量份以下，且0.001~5重量份為佳，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~1重量份，並且以0.05~0.6重量份為佳。是可提升耐久性之量。
並且本發明黏著劑組成物中亦可含有其他公知的添加劑，例如可視使用用途適當添加具有反應性矽基之聚醚化合物、聚丙二醇等聚伸烷基二醇的聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，亦可在可控制的範圍內採用添加還原劑的氧化還原系。該等添加劑相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份宜在5重量份以下、較宜在3重量份以下且更宜在1重量份以下的範圍使用。
形成第1黏著劑層的方法可藉由例如以下方法來製作：將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理過的分離件等，並乾燥去除聚合溶劑等形成第1黏著劑層後轉印到光學薄膜(偏光薄膜)之方法；或者將前述黏著劑組成物塗佈於光學薄膜(偏光薄膜)後，乾燥去除聚合溶劑等以在光學薄膜形成第1黏著劑層的方法。另，於塗佈黏著劑時可適當另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
第1黏著劑層之厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
從確保耐久性及確保與側面導通結構之接觸面積的觀點來看，前述第1黏著劑層2之厚度宜為5~100μm，5~50μm較佳，10~35μm更佳。
<錨固層>
錨固層可利用各種材料來形成。錨固層之厚度宜為0.01~0.5μm，且宜為0.01~0.2μm，更宜為0.01~0.1μm。
欲對錨固層賦予導電性時，由抗靜電機能之觀點來看，其表面電阻值宜為1×106~1×109Ω/□。導電性之錨固層可由各種抗靜電劑組成物形成。就形成錨固層之抗靜電劑而言，以離子性界面活性劑系、導電性聚合物、導電性微粒子等為宜。
從光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果於加熱時、加濕時之穩定性的觀點來看，該等抗靜電劑中又宜使用導電性聚合物。尤其宜使用聚苯胺、聚噻吩等導電性聚合物。導電性聚合物可適當使用有機溶劑可溶性、水溶性、水分散性者，惟宜使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。因為水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物可將形成抗靜電層時的塗佈液調製成水溶液或水分散液，該塗佈液無須使用非水系有機溶劑，即可抑制光學薄膜基材因該有機溶劑變質的情況。又，水溶液或水分散液可含有水以外的水系溶劑。可舉如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、三級丁醇、正 戊醇、異戊醇、二級戊醇、三級戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、正己醇、環己醇等醇類。
又，前述聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物宜於分子中具有親水性官能基。親水性官能基可舉如磺酸基、胺基、醯胺基、亞胺基、四級銨鹽基、羥基、巰基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基或該等之鹽等。因為分子內具有親水性官能基，可輕易溶於水或可以微粒子狀輕易地分散於水中，而可易調製出前述水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。
就水溶性導電聚合物之市售物例子來說，可列舉聚苯胺磺酸(Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製，聚苯乙烯換算所得重量平均分子量150000)等。就水分散性導電聚合物之市售物例子來說，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(Nagase ChemteX Co.製、商品名Denatron系列)等。
又，就錨固層之形成材料而言，在提升抗靜電劑之皮膜形成性、對光學薄膜之密著性等目的下，亦可連同前述抗靜電劑一起添加黏結劑成分。抗靜電劑為水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物之水系材料時，使用水溶性或水分散性之黏結劑成分。黏結劑之例子可舉如含
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唑啉基聚合物、聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、環氧樹脂、聚乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂、聚乙二醇、新戊四醇等。尤其以聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂為宜。該等黏結劑可依其用途適當使用1種或2種以上。
抗靜電劑、黏結劑之使用量依該等之種類而定，不過宜控制成所得錨固層之表面電阻值成為1×106~1×109Ω/□。
<表面處理層>
作為前述表面處理層可設置硬塗層、防眩處理層、抗反射層、抗黏結層或防 眩層等之機能層。前述表面處理層可設於前述保護薄膜之不接著偏光件之面。
又，欲對述表面處理層4控制導電性時，從抗靜電機能及觸控感測器敏感度的觀點來看，前述表面處理層4之表面電阻值宜為1×107~1×1011Ω/□，1×107~1×1010Ω/□較佳，1×107~1×109Ω更佳。
欲對前述表面處理層賦予導電性時，表面處理層宜形成為表面電阻值為1×107~1×1011Ω/□。對於前述表面處理層，可藉由使其含有抗靜電劑來賦予導電性。表面處理層可設於第1偏光薄膜所用之保護薄膜上，除此之外亦可另外設成與保護薄膜為相異個體。用以賦予前述表面處理層導電性的抗靜電劑可使用前述示例之物，惟宜含有選自離子性界面活性劑、導電性微粒子及導電性聚合物中之至少任1種。從光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果在加熱時、加濕時之穩定性的觀點來看，用於表面處理層之抗靜電劑宜為導電性微粒子。
前述表面處理層宜為硬塗層。硬塗層的形成材料可適用例如熱可塑性樹脂、可藉由熱或放射線硬化之材料。前述材料可列舉熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等的放射線硬化性樹脂。該等中又以紫外線硬化型樹脂為宜，該紫外線硬化型樹脂可藉由利用紫外線照射的硬化處理，以簡單的加工操作有效率地形成硬化樹脂層。該等硬化型樹脂可舉聚酯系、丙烯酸系、胺甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系、三聚氰胺系等各種樹脂，且包含該等之單體、寡聚物、聚合物等。從加工速度的迅速性、對基材之熱損少的觀點來看，尤以放射線硬化型樹脂、特別是紫外線硬化型樹脂為宜。可適宜使用的紫外線硬化型樹脂可舉例如具有紫外線聚合性官能基者，其中包含具有2個以上該官能基、特別是具有3~6個該官能基之丙烯酸系單體或寡聚物成分者。又，紫外線硬化型樹脂中摻混有光聚合起始劑。
又，就前述表面處理層來說，可設置以提升視辨性為目的之防眩處理層或抗反射層。且可於前述硬塗層上設置防眩處理層或抗反射層。防眩處理 層之構成材料無特別限定，譬如可使用放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱塑性樹脂等。抗反射層可使用氧化鈦、氧化鋯、氧化矽、氟化鎂等。抗反射層可設置多層。除此之外，表面處理層還可舉抗黏結層等。
前述表面處理層之厚度可按表面處理層種類適當設定，一般宜為0.1~100μm。譬如，硬塗層之厚度宜為0.5~20μm。硬塗層厚度並無特別限制，不過，太薄會無法獲得作為硬塗層的充分硬度，而太厚又容易產生破裂或剝離。硬塗層厚度較宜為1~10μm。
前述表面處理層的抗靜電劑、黏結劑(樹脂材料等)之使用量依該等之種類而定，不過宜將所得表面處理層之表面電阻值控制成1×107~1×1011Ω/□。通常，相對於抗靜電劑100重量份，黏結劑宜為1000重量份以下，更宜為10~200重量份。
<其他層>
對於本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，除了前述各層以外，亦可於第1偏光薄膜之設置錨固層之側的表面設置易接著層或施行電暈處理、電漿處理等各種易接著處理。
以下說明液晶單元B及液晶面板C。
(液晶單元B)
如圖3所示，液晶單元B具有液晶層20、於兩面夾持前述液晶層20之第1透明基板41及第2透明基板42，該液晶層20含有在電場不存在之狀態下平行定向的液晶分子。圖3中係省略液晶單元B內之電極。
液晶單元B所用之液晶層20可使用包含在電場不存在之狀態下平行定向之液晶分子的液晶層。就液晶層20來說，適宜使用譬如IPS方式之液晶層。除此之外，液晶層20譬如可使用TN型或STN型、π型、VA型等任意類型之液晶層。前述液晶層20之厚度例如為1.5μm~4μm左右。
形成前述透明基板之材料可列舉如玻璃或聚合物薄膜。前述聚合物薄膜可舉如聚對苯二甲酸乙二酯、聚環烯烴、聚碳酸酯等。前述透明基板係由玻璃形成時，其厚度例如為0.1mm~1mm左右。前述透明基板係由聚合物薄膜形成時，其厚度例如為10μm~200μm左右。上述透明基板可於其表面具有易接著層或硬塗層。
(內置型液晶單元B)
前述液晶單元B可使用圖4至圖8所示內置型液晶單元B。又，內置型液晶單元B係於前述第1透明基板41與第2透明基板42之間具有觸控感測器及觸控驅動機能相關的觸控感測電極部。
如圖4、圖5、圖8所示，前述觸控感測電極部可利用觸控感測器電極31及觸控驅動電極32形成。在此所指觸控感測器電極為觸控偵測(接收)電極。前述觸控感測器電極31及觸控驅動電極32可分別獨立以各種圖案形成。譬如，將內置型液晶單元B設為平面時，該等可以分別獨立設於X軸方向、Y軸方向之形式呈直角交錯的圖案作配置。又，圖4、圖5、圖8中，前述觸控感測器電極31係配置在比前述觸控驅動電極32更靠前述第1透明基板41之側(視辨側)，但亦可與前述相反地將前述觸控驅動電極32配置在比前述觸控感測器電極31更靠前述第1透明基板41之側(視辨側)。
另一方面，如圖6、圖7所示，前述觸控感測電極部可使用觸控感測器電極及觸控驅動電極一體形成的電極33。
又，前述觸控感測電極部可配置在前述液晶層20與前述第1透明基板41或與第2透明基板42之間。圖4、圖6係前述觸控感測電極部配置在前述液晶層20與前述第1透明基板41之間(比前述液晶層20更靠視辨側)的情況。圖5、圖7係前述觸控感測電極部配置在前述液晶層20與前述第2透明基板42之間(比前述液晶層20更靠背光側)的情況。
又，如圖8所示，前述觸控感測電極部於前述液晶層20與第1透明基板41之間具有觸控感測器電極31，且於前述液晶層20與第2透明基板42之間具有觸控驅動電極32。
另，前述觸控感測電極部之驅動電極(前述觸控驅動電極32、觸控感測器電極及觸控驅動電極一體形成的電極33)可兼作控制液晶層20的共通電極來使用。
如上述，內置型液晶單元B於液晶單元內具有觸控感測器及觸控驅動機能相關的觸控感測電極部，且於液晶單元外部不具觸控感測器電極。即，在比內置型液晶單元B之第1透明基板41更靠視辨側(比內置型液晶面板C之第1黏著劑層2更靠液晶單元側)之側未設置導電層(表面電阻值為1×1013Ω/□以下)。又，在圖4至圖8中記載之內置型液晶面板C顯示了各構成之順序，不過於內置型液晶面板C可適當具有其他構成。可於液晶單元上(第1透明基板41)設置彩色濾光片基板。
形成觸控感測電極部的觸控感測器電極31(電容感測器)、觸控驅動電極32、或觸控感測器電極及觸控驅動電極一體形成的電極33可作為透明導電層而形成。前述透明導電層之構成材料無特別限定，可列舉如金、銀、銅、鉑、鈀、鋁、鎳、鉻、鈦、鐵、鈷、錫、鎂、鎢等金屬及該等金屬之合金等。又，前述透明導電層之構成材料可列舉銦、錫、鋅、鎵、銻、鋯、鎘之金屬氧化物，具體上可列舉氧化銦、氧化錫、氧化鈦、氧化鎘及由該等之混合物等所構成的金屬氧化物。其他可使用由碘化銅等所構成之其他金屬化合物等。前述金屬氧化物中可視需求進一步含有上述群組所示金屬原子之氧化物。宜使用譬如含有氧化錫之氧化銦(ITO)、含銻之氧化錫等，且尤宜使用ITO。ITO宜含有80~99重量%之氧化銦及1~20重量%之氧化錫。
前述觸控感測電極部之電極(觸控感測器電極31、觸控驅動電極 32、觸控感測器電極及觸控驅動電極一體形成的電極33)通常可利用常法以透明電極圖案形成於第1透明基板41及/或第2透明基板42之內側(內置型液晶單元B內之液晶層20側)。上述透明電極圖案通常係與形成於透明基板端部之繞線(未圖示)電連接，上述繞線則與控制器IC(未圖示)連接。透明電極圖案之形狀除了櫛形以外，可視用途採用任意形狀如條紋狀或菱形形狀等。透明電極圖案之高度例如為10nm~100nm，寬為0.1mm~5mm。
(液晶面板C)
如圖3所示，本發明之液晶面板C可於液晶單元B之視辨側具有附黏著劑層之偏光薄膜A，且於其相反側具有第2偏光薄膜11。此外，圖4至圖8中係顯示使用有內置型液晶單元B之內置型液晶面板。
前述附黏著劑層之偏光薄膜A未隔著導電層而透過前述第1黏著劑層2配置於前述液晶單元B之第1透明基板41之側。另一方面，於前述液晶單元B之第2透明基板42之側係透過第2黏著劑層12配置有第2偏光薄膜11。前述附黏著劑層之偏光薄膜A的第1偏光薄膜1、第2偏光薄膜11係以各自之偏光件之透射軸(或吸收軸)呈正交的方式配置在液晶層20兩側。
第2偏光薄膜11可使用在第1偏光薄膜1中所述之物。第2偏光薄膜11可使用與第1偏光薄膜1相同之物，亦可使用不同物。
於第2黏著劑層12之形成可使用第1黏著劑層2中所說明之黏著劑。用來形成第2黏著劑層12之黏著劑可使用與第1黏著劑層2相同之物，亦可使用不同物。第2黏著劑層12之厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
又，液晶面板C中，如圖3(圖4乃至圖8)所示，於前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面具有導通結構50。另，只要導通結構50有設於含有離子性化合物的第1黏著劑層2之側面，對錨固層3之側面設置導通結構便是任意選項。又， 圖3(圖4至圖8)中，係例示除了導通結構50，將導通構造51設於表面處理層4及第1偏光薄膜1之側面之情況，但設置導通結構51為任意選項。在各層具有導電性時，宜設置導通結構。
導通結構51、50可設置在前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面全部，亦可局部設置。局部設置前述導通結構時，為了確保在側面之導通，前述導通結構宜以佔前述側面面積之1面積%以上、更佳為3面積%以上之比例來設置。另一方面，由配線之觀點來看，前述導通結構宜為前述側面之99面積%以下，更宜為95面積%以下。前述導通結構51、50宜設置於前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面的至少圖2所示之點b(前述尺寸變化量400μm以下)。
藉由前述導通結構51、50，可從前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面於其他的適當位置連接電位，藉以抑制靜電產生。形成導通結構51、50之材料可列舉如銀、金或其他金屬糊等導電性糊，其他亦可使用導電性接著劑及其他任意的適當導電材料。導通結構51、50亦可以從前述附黏著劑層之偏光薄膜A之側面延伸的線狀形成。
除此之外，配置在液晶層20視辨側的第1偏光薄膜1及配置在液晶層20視辨側之相反側的第2偏光薄膜11，可分別就各配置位置的適性而與其他光學薄膜積層來使用。前述其他光學薄膜可舉例如反射板或反透射板、相位差薄膜(包含1/2或1/4等的波長板)、視角補償薄膜、增亮薄膜等可成為用於形成液晶顯示裝置等之光學層者。該等可使用1層或2層以上。
(液晶顯示裝置)
使用本發明之液晶面板C的液晶顯示裝置，可適當使用如在照明系統使用背光或反射板等用以形成液晶顯示裝置的構件。
實施例
以下，以製造例、實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等 實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下，未特別規定之室溫放置條件皆為23℃且65%RH。
<(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。針對Mw/Mn亦同樣進行測定。
‧分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC
‧管柱：Tosoh公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
‧管柱尺寸：各7.8mm φ×30cm計90cm
‧管柱溫度：40℃
‧流量：0.8mL/min
‧注入量：100μL
‧溶析液：四氫呋喃
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧標準試料：聚苯乙烯
<製造例1>
(製作附HC之40μmTAC薄膜、附HC之25μmTAC薄膜)
於將胺甲酸酯丙烯酸酯作為主成分之紫外線硬化型樹脂單體或寡聚物溶解於乙酸丁酯之樹脂溶液(DIC(股)製，商品名：UNIDIC 17-806，固體成分濃度：80%)中，相對於該溶液中之固體成分每100份，添加光聚合引發劑(BASF(股)製，商品名：IRGACURE 907)5份及調平劑(DIC(股)製，商品名：GRANDIC PC4100)0.1份。並且，於前述溶液中以45：55之比率加入環戊酮與丙二醇單甲基醚以使前述溶液中之固體成分濃度成為36%，而製作出硬塗層形成材料。將所製作出之硬塗層形成材料以使硬化後之硬塗層厚度成為7μm之方式塗佈至TJ40UL(富士軟片(Fujifilm)製，原料：三醋酸纖維素系聚合物，厚度：40μm)上而形成塗膜。之後， 於90℃下將塗膜乾燥1分鐘，並以高壓水銀燈對塗膜照射累積光量300mJ/cm2之紫外線，使前述塗膜硬化形成硬塗層(HC)而製作出附HC之40μmTAC薄膜。
<製造例2>
(製作30μm丙烯酸薄膜)
於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮導入管的容量30L之釜型反應器中，饋入8,000g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2,000g之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10,000g之4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮，MIBK)、5g之正十二硫醇，並一邊使氮通過其中一邊升溫至105℃並回流後，添加5.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯(Kayakarubon BIC-7，KAYAKU AKZO CO.,LTD.製)作為聚合引發劑，同時耗時4小時滴下由10.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯與230g之MIBK構成之溶液，並在回流下，於約105~120℃下進行溶液聚合，並再耗時4小時進行熟成。
於所得聚合物溶液中加入30g之磷酸十八酯/磷酸二(十八基)酯混合物(Phoslex A-18，堺化學工業(股)製)，並於回流下在約90~120℃下進行5小時環化縮合反應。接著，將所得聚合物溶液以用樹脂量換算為2.0kg/h之處理速度導入通氣孔式雙螺桿擠製機(φ=29.75mm、L/D=30)中，並於該擠製機內進一步進行環化縮合反應與去揮發並進行擠製，藉此製得含內酯環之聚合物的透明丸粒，該通氣孔式雙螺桿擠製機之套筒溫度260℃、旋轉數100rpm、減壓度13.3~400hPa(10~300mmHg)、後通氣孔數1個、前通氣孔數4個。
針對所得含內酯環之聚合物進行動態TG之測定後，檢測出0.17質量%之質量減損。又，該含內酯環之聚合物的重量平均分子量為133,000，熔流速率為6.5g/10min，且玻璃轉移溫度為131℃。
使用單軸擠製機(螺桿30mm φ)將所得丸粒與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂(TOYO AS AS20，TOYO STYRENE CO.,LTD.製)以質量比90/10進行捏合擠製， 藉此獲得透明丸粒。所得丸粒之玻璃轉移溫度為127℃。
使用50mm φ之單軸擠製機將該丸粒從400mm寬的衣架式T型模具進行熔融擠製，而製作出厚度120μm之薄膜。使用雙軸延伸裝置將製作出之薄膜在150℃之溫度條件下縱向延伸成2.0倍且橫向延伸成2.0倍，從而獲得厚度30μm之延伸薄膜(30μm丙烯酸薄膜)。測定該延伸薄膜之光學特性後，得全光線透射率為93%，面內相位差△nd為0.8nm，厚度方向相位差Rth為1.5nm。
<製作偏光薄膜(1)>
將厚度45μm的聚乙烯醇薄膜在速度比不同之輥件間，於30℃且0.3%濃度的碘溶液中染色1分鐘並延伸達3倍為止。之後，一邊在60℃且含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊進行延伸使總延伸倍率達6倍為止。接著，於30℃且含有1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒藉此洗淨後，在50℃下進行4分鐘乾燥，而獲得厚18μm之偏光件。利用聚乙烯醇系接著劑於該偏光件的單面貼合製造例1所得經皂化處理之附HC之40μmTAC薄膜(三醋酸纖維素薄膜側)，並於另一單面貼合製造例2所得30μm丙烯酸薄膜，而製出偏光薄膜(1)。
<製作偏光薄膜(2)>
(製作薄型偏光件A)
於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上施加電暈處理，並在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質聚乙烯醇(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的聚乙烯醇系樹脂層，而製作出積層體。
將所得積層體在120℃之烘箱內於周速相異的輥件間沿縱方向(長邊方向)進 行自由端單軸延伸2.0倍(空中輔助延伸處理)。
接著，使積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。
接著，一邊使其浸漬於液溫30℃的染色浴中一邊調整碘濃度、浸漬時間以使偏光板成為預定之透射率。本實施例係使其浸漬於相對於100重量份的水摻混0.2重量份的碘、1.0重量份的碘化鉀所得之碘水溶液中60秒(染色處理)。
接著，使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。
其後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份的水摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀所得之水溶液)中，一邊於不同周速之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸)。
之後，使積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。
以上述方式獲得了包含厚度5μm之偏光件的光學薄膜積層體。
(製作應用於透明保護薄膜之接著劑)
將丙烯醯基嗎福林45重量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯45份、(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(ARUFON UP1190，東亞合成公司製)10份、光聚合引發劑(IRGACURE 907，BASF公司製)3份、聚合引發劑(KAYACURE DETX-S，日本化藥公司製)1.5份混合，而調製出紫外線硬化型接著劑。
在上述光學薄膜積層體之偏光件A的表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後之接著劑層厚度成為1μm的方式進行塗佈，一邊貼合上述製造例1所得附HC之25μmTAC薄膜(三醋酸纖維素薄膜側)後，照射紫外線作為活性能量線使接著劑硬化。紫外線照射是使用充有鎵之金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰值照度： 1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，紫外線照度則使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著將非晶性PET基材剝離而製出使用有薄型偏光件之偏光薄膜(2)。所得偏光薄膜之光學特性為單體透射率42.8%、偏光度99.99%。
上述所得偏光薄膜(1)之偏光件的碘濃度為3.2重量%。又，上述所得偏光薄膜(2)之偏光件的碘濃度為7.2重量%。另，偏光件之碘濃度(重量%)可在製造偏光件時透過例如將聚乙烯醇系薄膜或聚乙烯醇層在預定濃度之碘水溶液中僅浸漬預定時間來調整。表2所示偏光薄膜(1)之各偏光件的碘濃度係透過變更在調製偏光薄膜(1)時用以將聚乙烯醇薄膜染色之碘溶液的濃度來調整。
<偏光件之膜厚>
使用分光膜厚計MCPD-1000(大塚電子(股)製)測定偏光件之膜厚(μm)。試樣(上述調製出之偏光薄膜(1)或(2))所含偏光件係藉由將試樣浸漬於溶劑使偏光件保護薄膜溶解來取出。於溶劑中舉例而言可分別在偏光件保護薄膜為三醋酸纖維素樹脂時使用二氯甲烷，而在偏光件保護薄膜為丙烯酸樹脂時使用甲基乙基酮。此外，當設置於偏光件之一面的偏光件保護薄膜之樹脂與設置於另一面的偏光件保護薄膜之樹脂相異時，則使用上述溶劑依次分別使各樹脂溶解。
<偏光件之碘濃度>
偏光件之碘濃度係以以下方法測定。另外，試樣中所含之偏光件依與測定偏光件之膜厚時同樣方式，藉由將試樣浸漬於溶劑中使偏光件保護薄膜溶解來取出。
(螢光X射線測定)
測定偏光件之碘濃度時，首先係使用螢光X射線分析之檢量曲線法來定量碘濃度。裝置係使用螢光X射線分析裝置ZSX-PRIMUS IV((股)Rigaku製)。利用螢光X射線分析裝置直接取得之值並非各元素之濃度，而是各元素固有之波長的螢 光X射線強度(kcps)。因此，欲求得偏光件所含碘濃度，須使用檢量曲線將螢光X射線強度轉換為濃度。本說明書等中之偏光件的碘濃度係指以偏光件之重量為基準之碘濃度(重量%)。
(作成檢量曲線)
依以下程序作成檢量曲線。
1.使已知量的碘化鉀溶解至聚乙烯醇水溶液中，製作出7種含有已知濃度之碘的聚乙烯醇水溶液。將該聚乙烯醇水溶液塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯並乾燥後剝離，製作出含有已知濃度之碘的聚乙烯醇薄膜之試料1~7。
此外，聚乙烯醇薄膜的碘濃度(重量%)係利用以下數學式1算出。
[數學式1] 碘濃度(重量%)={碘化鉀量(g)/(碘化鉀量(g)+聚乙烯醇重量(g))}×(127/166)
(碘的分子量：127，鉀的分子量：39)
2.針對所製作出之聚乙烯醇薄膜，使用螢光X射線分析裝置ZSX-PRIMUS IV((股)Rigaku製)，測定出對應碘的螢光X射線強度(kcps)。此外，螢光X射線強度(kcps)係取螢光X射線光譜之峰值。且，使用分光膜厚計MCPD-1000(大塚電子(股)製)測定製出之聚乙烯醇薄膜之膜厚。
3.將螢光X射線強度除以聚乙烯醇薄膜之厚度(μm)，算出薄膜每單位厚度之螢光X射線強度(kcps/μm)。於表1顯示各試料之碘濃度與每單位厚度之螢光X射線強度。
[表1]
Figure 109105868-A0305-02-0039-1
4.以表1所示結果為基礎，以(聚乙烯醇(PVA)薄膜每單位厚度之螢光X射線強度(kcps/μm)為橫軸，並以聚乙烯醇薄膜所含碘濃度(重量%：wt%)為縱軸，作出檢量曲線。於圖9顯示作成之檢量曲線。可從由檢量曲線得聚乙烯醇薄膜每單位厚度之螢光X射線強度求出碘濃度的數學式定如數學式2所示。此外，圖9中之R2係相關係數。
[數學式2] (碘濃度)(重量%)=14.474×(聚乙烯醇薄膜每單位厚度的螢光X射線強度)(kcps/μm)
(偏光件中之碘濃度之計算)
將測定試樣而得之螢光X射線強度除以厚度，求出每單位厚度之螢光X射線強度(kcps/μm)。將各試樣的每單位厚度的螢光X射線強度代入數學式2來求出碘濃度。
實施例1
(調製丙烯酸系聚合物(A))
在備有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中饋入含有丙烯酸丁酯77.9份、丙烯酸苯氧乙酯16份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮1份、丙烯酸5份及丙 烯酸4-羥丁酯0.1份之單體混合物。並相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一起饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)195萬並且Mw/Mn=3.9之丙烯酸系聚合物之溶液。
(調製黏著劑組成物)
相對於上述所得丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份，摻混雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰8份、異氰酸酯交聯劑(Tosoh公司製之Coronate L，三羥甲丙烷二異氰酸甲苯酯)0.6份及過氧化苯甲醯(日本油脂公司製之NYPER BMT)0.1份，而調製出丙烯酸系黏著劑溶液。
(製作附黏著劑層之偏光薄膜)
接著，以使乾燥後的黏著劑層的厚度成為20μm，將上述丙烯酸系黏著劑組成物之溶液塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜：三菱化學聚酯薄膜(股)製，MRF38)的單面上，並以155℃乾燥1分鐘，而於分離薄膜表面形成黏著劑層。接著，將形成於分離薄膜上的黏著劑層轉印至上述製出之偏光薄膜(1)之丙烯酸薄膜側，而製作出了附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~6、比較例1~3
於實施例1中，如表2所示，將偏光薄膜的種類、調製黏著劑組成物所用離子性化合物(B)之種類變更成如表2所示，除此之外依與實施例1相同方式而製出附黏著劑層之偏光薄膜。
針對上述實施例及比較例所得附黏著劑層之偏光薄膜進行以下的評估。將評估結果列於表2。
<表面電阻值(Ω/□)：導電性>
黏著劑層之表面電阻值係針對形成在分離薄膜上的黏著劑層表面進行測 定。測定是使用三菱化學ANALYTECH公司製的MCP-HT450來進行。
<尺寸變化量>
將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成10cm(吸收軸方向)×10cm(慢軸方向)，再貼附於無鹼玻璃(康寧公司製)並將所得之物作為試樣。將試樣投入85℃之加熱試驗機。500小時後取出試樣，測定從投入加熱試驗機前之附黏著劑層之偏光薄膜的位置到投入加熱試驗後之附黏著劑層之偏光薄膜位置之差，將其作為尺寸變化量。測定係針對點a：與矩形試樣之慢軸方向相同方向之側面(於吸收軸方向收縮)的中央點與點b：與矩形之吸收軸方向相同方向之側面(與慢軸方向收縮)的中央點進行。
<加熱後ESD試驗>
將分離薄膜從附黏著劑層之偏光薄膜剝離後，如圖7所示(惟不具有錨固層)貼合於內置型液晶單元之視辨側。接著，於已貼合之附黏著劑層之偏光薄膜的側面部點b塗佈寬5mm的銀糊以覆蓋硬塗層、偏光薄膜、黏著劑層之各側面部，乾燥後，於85℃或95℃下將該液晶單元保管120小時後取出，並與來自外部之接地電極連接。然後將內置型液晶單元內部之透明電極圖案周邊部的繞線配線(未圖示)與控制器IC(未圖示)連接，製出內嵌觸控感測機能之液晶顯示裝置。在施加電壓15kV下對該液晶顯示裝置之偏光薄膜面發射靜電放電槍(Electrostatic discharge Gun)，測定因電氣而出現泛白之部分消失的時間，並以下述基準進行判斷。
(評估基準)
◎：1秒以內。
○：超過1秒至10秒以內。
△：超過10秒至30秒以內。
×：超過30秒。
<多烯化>
在高溫高濕環境下，偏光薄膜積層體的單體透射率會降低。吾等推測聚乙烯醇的多烯化即造成該降低之原因。多烯係指-(CH=CH)n-，經加熱會形成於偏光膜中。多烯會顯著使偏光膜之透射率降低。且，在高溫高濕環境下，聚乙烯醇-多碘錯合物會被破壞而易生成I-及I2。吾等推測聚乙烯醇之多烯化係因在高溫高濕環境下生成之碘(I2)與加熱會促進脫水反應，因而發生(化學式1)。
Figure 109105868-A0305-02-0042-3
推測是存在於偏光件中之聚乙烯醇-多碘錯合物因加熱而被破壞因而產生之I2與聚乙烯醇中之OH基形成電荷轉移錯合物(HO‧‧‧I2)，而在這之後經由OI基而多烯化。
<評估多烯化>
將附黏著劑層之偏光薄膜供於95℃之環境下500小時的加熱試驗，並於其前後測定試料的單體透射率，以下式求出單體透射率的變化量△Ts。
△Ts=Ts(500)-Ts(0)
此處，Ts(0)係試料加熱前之單體透射率，Ts(500)係在105℃之環境下加熱500小時後之單體透射率。
按下述基準評估該試樣。
(評估基準)
○：△Ts為0以上
×：△Ts小於0
Figure 109105868-A0305-02-0044-4
表2中：BA表示丙烯酸丁酯、PEA表示丙烯酸苯氧乙酯、AA表示丙烯酸、NVP表示N-乙烯基-2-吡咯啶酮、HBA表示丙烯酸4-羥丁酯、異氰酸酯系表示異氰酸酯交聯劑(Tosoh公司製之CORONATE L，三羥甲丙烷二異氰酸甲苯酯)、BPO表示氧化苯甲醯(日本油脂公司製之NYPER BMT)、Li-TFSI表示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰、K-TFSI表示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀
EMP-TFSI表示乙基甲基吡咯啶鎓-雙(三氟磺醯基醯亞胺)、TMPA-TFSI表示三甲基丙基銨-雙(三氟磺醯基醯亞胺)、TBMA-TFSI表示三丁基甲基銨-雙(三氟磺醯基醯亞胺)、MTOA-TFSI表示甲基三辛基銨-雙(三氟磺醯基醯亞胺)。
A:附黏著劑層之偏光薄膜
B:液晶單元(內置型液晶單元)
C:液晶面板(內置型液晶面板)
1,11:第1、第2偏光薄膜
2,12:第1、第2黏著劑層
3:錨固層
4:表面處理層
20:液晶層
41,42:第1、第2透明基板
50,51:導通結構

Claims (8)

  1. 一種液晶面板，具有液晶單元與附黏著劑層之偏光薄膜，且在前述附黏著劑層之偏光薄膜的側面具有導通結構，該液晶單元具有液晶層、於兩面夾持前述液晶層的第1透明基板及第2透明基板，該液晶層包含在無電場存在之狀態下平行定向之液晶分子，且該附黏著劑層之偏光薄膜未隔著導電層而透過第1黏著劑層配置於前述液晶單元之視辨側的第1透明基板之側；該液晶面板之特徵在於：前述附黏著劑層之偏光薄膜依序具有第1偏光薄膜及第1黏著劑層，前述第1偏光薄膜含有碘濃度為6重量%以下之偏光件，且前述第1黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及陽離子成分之分子量為210以下之離子性化合物(B)的黏著劑組成物所形成；前述導通結構選擇設置於下述位置：在85℃、500小時之環境下進行前述附黏著劑層之偏光薄膜的尺寸收縮試驗時，前述附黏著劑層之偏光薄膜在薄膜面方向上之尺寸變化量成為400μm以下之側面的點b。
  2. 如請求項1之液晶面板，其中前述陽離子成分為鋰離子。
  3. 如請求項1之液晶面板，其中相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有1~13重量份之前述離子性化合物(B)。
  4. 如請求項1之液晶面板，其中前述第1偏光薄膜含有厚度大於10μm且在80μm以下之偏光件。
  5. 如請求項1之液晶面板，其中前述第1偏光薄膜為具有偏光件及於前述偏光件兩面具有保護薄膜之雙面保護偏光薄膜。
  6. 如請求項1之液晶面板，其中前述液晶單元為內置型液晶單元，該內置型液晶單元係於前述第1透明基板與第2透明基板之間具有觸控感測 器及觸控驅動機能相關的觸控感測電極部。
  7. 如請求項1至6中任一項之液晶面板，其中於前述液晶單元之第2透明基板側具有透過第2黏著劑層配置的第2偏光薄膜。
  8. 一種液晶顯示裝置，具有如請求項7之液晶面板。
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