TWI815906B - 光學積層體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種光學積層體，係依序包含第1液晶層、第1接著層、第2液晶層、第2接著層、及樹脂膜，其中，在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。
Description
本發明係有關於一種光學積層體及其製造方法。
在有機EL顯示裝置和液晶顯示裝置等顯示裝置中，係使用包含偏光膜、相位差膜等的光學異向性膜之構件。作為此種光學異向性膜，已知在經施行配向處理之基材薄膜上形成有液晶化合物層者。
例如JPH7-120620A1係記載將形成在配向基板膜上之液晶高分子層隔著接著層而轉印至透光性基板膜上。又，JP2015-25947A1係記載一種將使用液晶材料而形成的1/2波長相位差層與1/4波長相位差層積層而成之積層體。
[專利文獻1]日本JPH7-120620A1
[專利文獻2]日本JP2015-25947A1
本發明之目的係提供一種外觀不良等受到抑制之光學積層體及其製造方法。
本發明係提供一種以下所示的光學積層體及其製造方法。
[1]一種光學積層體，係依序包含第1液晶層、第1接著層、第2液晶層、第2接著層、及樹脂膜，其中，在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。
[2]如[1]所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係與前述第1液晶層的前述端部位置相同或比其更靠近寬度方向內。
[3]如[1]或[2]所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係與前述樹脂膜的端部位置相同或比其更靠近寬度方向內側。
[4]如[1]至[3]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第1液晶層的端部與前述樹脂膜的端部係隔著前述第2接著層貼合。
[5]如[1]至[4]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的兩端，前述第1接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。
[6]如[1]至[5]項中任一項所述之光學積層體，其中前述樹脂膜為光學薄膜。
[7]如[1]至[6]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含第1配向層。
[8]如[1]至[7]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含光學積層體用接著層。
[9]如[8]所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層與前述光學積層體用接著層之間包含第1配向層。
[10]如[1]至[9]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含第1基材層。
[11]如[10]所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
[12]如[10]或[11]所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層與前述第1基材層之間包含第1配向層。
[13]如[1]至[12]項中任一項所述之光學積層體，其中在前述第2液晶層與前述第2接著層之間包含第2配向層。
[14]如[1]至[13]項中任一項所述之光學積層體，其中前述第1液晶層為相位差層。
[15]如[1]至[14]項中任一項所述之光學積層體，其中前述第2液晶層為相位差層。
[16]一種光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備依序具有第1基材層、第1’液晶層、第1接著層及第2液晶層的液晶膜之步驟；準備樹脂膜之步驟；及將前述樹脂膜隔著第2接著層貼合在前述液晶膜的前述第2液晶層側而得到光學積層體(以下有將該光學積層體稱為「附基材層的光學積層體」之情形)之步驟；其中，在前述液晶膜的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，而且與前述第2液晶層的端部位置相同，前述光學積層體之前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的前述端部位置更靠近寬度方向外側。
[17]如[16]所述之光學積層體的製造方法，其中準備前述液晶膜之步驟係具備下列步驟：
準備包含第1基材層及第1’液晶層的第1積層部、及包含第2基材層及第2’液晶層的第2積層部之步驟；隔著第1接著層將前述第1積層部的前述第1’液晶層與前述第2積層部的前述第2’液晶層貼合而得到液晶層積層體之步驟；及藉由將前述液晶層積層體從包含前述第2基材層之第1剝離層剝離而得到前述液晶膜之步驟；其中，前述第2液晶層係由前述第2’液晶層所形成的層，在前述液晶層積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部更靠近寬度方向內側，而且比前述第2’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
[18]如[16]或[17]所述之光學積層體的製造方法，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
[19]如[16]至[18]項中任一項所述之光學積層體的製造方法，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第2接著層的端部位置係與前述樹脂膜的端部位置相同或比其更靠近寬度方向內側。
[20]如[16]至[19]項中任一項所述之光學積層體的製造方法，其中在前述液晶膜的寬度方向的兩端，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，而且與前述第2液晶層的端部位置相同，前述光學積層體之前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的前述端部位置更靠近寬度方向外側。
[21]如[16]至[20]項中任一項所述之光學積層體的製造方法，更具備將包含前述第1基材層之第2剝離層從光學積層體剝離之步驟。
[22]如[21]所述之光學積層體的製造方法，係藉由將前述第2剝離層剝離之步驟，而由第1’液晶層形成第1液晶層，
在前述第2剝離層剝離後之光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1液晶層的端部位置係與前述第2接著層的端部位置相同。
[23]如[16]至[22]項中任一項所述之光學積層體的製造方法，其中前述樹脂膜為光學薄膜。
依照本發明，能夠提供一種外觀不良受到抑制之光學積層體及其製造方法。
10a、10p:第1積層部
11a、11p:第1基材層
12a:第1相位差層(第1’液晶層)
12a1、12p、12p1:第1相位差層(第1液晶層)
20a、20p:第2積層部
21a、21p:第2基材層
22a、22a1、22p、22p1:第2相位差層(第2液晶層)
30a、30p:接著層(第1接著層)
40a、40p:相位差積層層體(液晶層積層體)
50a、50p:相位差膜(液晶膜)
60a、60p:光學薄膜(樹脂膜)
62a、62p:光學薄膜用接著層(第2接著層)
70a、70p:光學積層體
71a、71p:附基材層的光學積層體(光學積層體)
W:寬度方向
第1圖係示意性地顯示本發明的光學積層體的一個例子之概略剖面圖。
第2圖係示意性地顯示本發明的光學積層體的另一個例子之概略剖面圖。
第3圖(a)至(d)係示意性地顯示本發明的光學積層體的製造步驟的一個例子之一部分之概略剖面圖。
第4圖(a)至(c)係示意性地顯示第3圖顯示的光學積層體的製造步驟的後續之概略剖面圖。
第5圖(a)及(b)係示意性地顯示本發明的前提之光學積層體的製造步驟的一個例子之一部分之概略剖面圖。
第6圖(a)至(c)係示意性地顯示第5圖顯示的光學積層體的製造步驟的後續之概略剖面圖。
說明本發明的光學積層體及其製造方法的較佳實施形態之前，先說明本發明的實施形態的前提。
第5圖(a)、(b)及第6圖(a)至(c)係示意性地顯示後述實施形態的前提之光學積層體70p的製造步驟之概略剖面圖。
圖中，W係表示寬度方向。又，以下，舉出第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層，且液晶膜為相位差膜的情況作為例子而進行說明。
在光學積層體70p的製造方法係如第5圖(a)顯示，有使用相位差積層層體40p之情形，該相位差積層層體40p係隔著接著層30p將包含第1基材層11p及第1相位差層12p之第1積層部10p、與包含第2基材層21p及第2相位差層22p之第2積層部20p積層而成者積層。如第5圖(b)顯示，將第2基材層21p從該相位差積層層體40p剝離時，第2相位差層22p的一部分係轉移至剝離後的第2基材層21p，而得到在接著層30p上形成有第2相位差層22p1之相位差膜50p。這是因為在第5圖(a)顯示之相位差積層層體40p，係在第2相位差層22p的寬度方向的兩端具有未被固定在接著層30p的非固定區域(第5圖(a)中，以往右上升的斜線顯示的部分)，且藉由第2基材層21p的
剝離，第2相位差層22p係分離成為被固定在接著層30p的區域之第2相位差層22p1與轉移至第2基材層21p之非固定區域之緣故。
其次，準備上述所得到的相位差膜50p(第5圖(b)及第6圖(a))與光學薄膜60p，如第6圖(b)，隔著光學薄膜用接著層62p將光學薄膜60p積層在相位差膜50p的第2相位差層22p1上而得到附基材層的光學積層體71p。隨後，將在附基材層的光學積層體71p所包含的第1基材層11p剝離時，第1相位差層12p的一部分係轉移至剝離後的第1基材層11p，而得到在接著層30p之與第2相位差層22p1為相反側處形成有第1相位差層12p1之光學積層體70p(第6圖(c))。這是因為在第6圖(b)顯示之相位差膜50p，係在第1相位差層12p的寬度方向兩端具有未被固定在接著層30p的非固定區域(第6圖(b)中，以往右上升的斜線顯示的部分)，且藉由第1基材層11p的剝離，第1相位差層12p係分離成為被固定在接著層30p的區域之第1相位差層12p1與轉移至第1基材層11p之非固定區域之緣故。
但是，在光學積層體70p的製造方法中，比接著層30p的寬度方向兩端和光學薄膜用接著層62p的寬度方向兩端分別更靠近寬度方向外側的區域，因為隔著接著層30p和光學薄膜用接著層62p而未直接接著在其它層，所以相較於直接接著在其它層的情況容易變形。因此該等區域愈往寬度方向延長存在時，在製造光學積層體70p時等有容易產生折彎和反折的變形之傾向。特別是如第6圖(b)顯示，在附基材層的光學積層體71p之光學薄膜用接著層62p的寬度方向兩端係比第2相位差層22p1的寬度方向兩端更靠近寬度方向內側時，上述的區域在寬度方向變為較長，因此在該等區域容易產生折彎、反折等的變形。此種變形有造成附基材層的光學積層體71p
和光學積層體70p的外觀不良之情形，將具有變形部分之附基材層的光學積層體71p捲取成為捲筒狀時，有引起捲物的端部成為耳狀突起等的不良之情形。而且，由於上述區域產生變形，亦有附基材層的光學積層體71p的搬運不安定化之情形。
因此，在以下的實施形態，說明藉由抑制在寬度方向的端部區域之折彎和反折等的變形，而能夠抑制光學積層體和捲取成為捲筒狀的光學積層體之外觀不良且抑制光學積層體的搬運不良之光學積層體及其製造方法。
以下，參照圖式而說明本發明的光學積層體及其製造方法的較佳實施形態。又，以下，舉出第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層，且液晶膜為相位差膜的情況作為例子而進行說明。
[第1實施形態(光學積層體)]
第1圖係示意性地顯示本實施形態的光學積層體的一個例子之概略剖面圖。圖中，W係表示寬度方向。本實施形態的光學積層體70a係例如：
依序包含第1相位差層12a1(第1液晶層)、接著層30a(第1接著層)、第2相位差層22a1(第2液晶層)、光學薄膜用接著層62a(第2接著層)、及光學薄膜60a(樹脂膜)，
其中，在光學積層體70a的寬度方向兩端，接著層30a的端部位置係比第1相位差層12a1的兩端位置更靠近寬度方向內側，
光學薄膜用接著層62a的端部位置係比接著層30a的端部位置更靠近寬度方向外側，而且比第2相位差層22a1的端部位置更靠近寬度方向外側。
在光學積層體70a的寬度方向W的兩端，光學薄膜用接著層
62a的端部位置可與第1相位差層12a1的兩端位置相同，或比光學薄膜60a的端部位置更靠近寬度方向內側。第1相位差層12a1的寬度方向兩端與光學薄膜60a的寬度方向兩端亦可隔著光學薄膜用接著層62a貼合。
第1圖顯示之光學積層體70a，係能夠依序包含第1相位差層12a1、接著層30a、第2相位差層22a1、光學薄膜用接著層62a、及光學薄膜60a。
如第1圖顯示，光學積層體70a之接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。在光學積層體70a的寬度方向的各端部，從接著層30a的端部位置起算至第1相位差層12a1的端部位置為止之寬度方向距離係分別通常為0.3cm以上，亦可為0.5cm以上，亦可為1.0cm以上，又，通常為20cm以下，以15cm以下為佳，以10cm以下為較佳。在光學積層體70a的寬度方向兩端，該距離可互相相同，亦可互相不同。
如第1圖顯示，光學積層體70a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比接著層30a及第2相位差層22a1各別的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側。如第1圖顯示，在光學積層體70a中，接著層30a的寬度方向兩端位置與第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置係以相同為佳。
在光學積層體70a的寬度方向的各端部，從接著層30a及第2相位差層22a1各別的端部位置起算至光學薄膜用接著層62a的端部位置為止之寬度方向距離係分別通常為0.3cm以上，亦可為0.5cm以上，亦可為1.0cm以上，又，通常為20cm以下，以15cm以下為佳，以10cm以下為較佳。在光學積層體70a的寬度方向兩端，該距離可互相相同，亦可互相不同。
如第1圖顯示，在光學積層體70a中，能夠將光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置設為與第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置相同。
如第1圖顯示，在光學積層體70a中，能夠將光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置設為比光學薄膜60a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。
在光學積層體70a的寬度方向的各端部，從光學薄膜用接著層62a的端部位置起算至光學薄膜60a的端部位置為止之寬度方向距離係分別通常為0.3cm以上，亦可為0.5cm以上，亦可為1.0cm以上，又，通常為20cm以下，以15cm以下為佳，以10cm以下為較佳。在光學積層體70a的寬度方向兩端，該距離可互相相同，亦可互相不同。
在光學積層體70a中，接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，又，光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比接著層30a及第2相位差層22a1各別的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側。因此如第1圖顯示，在光學積層體70a的端部，係能夠將光學薄膜用接著層62a與第1相位差層12a1貼合。又，雖然在第1圖顯示之光學積層體70a中，係顯示第1相位差層12a的寬度方向兩端與光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端為分離的狀態，但因為構成光學積層體70a之各層非常薄，所以比接著層30a及第2相位差層22a1各別的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端、與第1相位差層12a1的寬度方向兩端係處於容易接著的狀態。
在第1圖顯示之光學積層體70a中，亦能夠隔著光學薄膜用接
著層62a而將光學薄膜60a與第1相位差層12a1積層。藉此，在後述之製造光學積層體70a時所得到之附基材層的光學積層體71a(第2圖、第4圖(b))中，係能夠將在比光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端更靠近寬度方向外側存在的區域之長度，變成比上述第6圖(b)顯示之附基材層的光學積層體71p之與上述對應的區域的長度更相對地往寬度方向縮短。藉此，能夠抑制在比附基材層的光學積層體71a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端更靠近寬度方向外側存在的區域產生折彎、反折等的變形且抑制光學積層體70a的外觀不良。
而且，在第1圖顯示的光學積層體70a中，光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比光學薄膜60a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，而且與第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置相同。因此，在搬運光學積層體70a時能夠抑制光學薄膜用接著層62a被擠出至寬度方向外側的情形，所以能夠抑制光學薄膜用接著層62a的一部分附著在搬運路線上而將搬運路線污染之情形。
本實施形態的光學積層體亦可變更成以下顯示的變形例。又，亦可將上述實施形態及下述顯示的變形例任意地組合。
(第1實施形態的變形例1)
在本實施形態的光學積層體中，可在第1相位差層之與接著層為相反側處進一步包含第1基材層。以下，有將包含第1基材層之光學積層體特別地稱為「附基材層的光學積層體」之情形。
第2圖係顯示附基材層的光學積層體71a(光學積層體)的一個例子之概略剖面圖。以下，針對與第1圖顯示的構件相同的構件加註相同
符號且將其說明省略。附基材層的光學積層體71a係依序包含第1基材層11a、第1相位差層12a、接著層30a(第1接著層)、第2相位差層22a1、光學薄膜用接著層62a(第2接著層)、及光學薄膜60a(樹脂膜)。
如第2圖顯示，附基材層的光學積層體71a之，接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。在附基材層的光學積層體71a的寬度方向的各端部，從接著層30a的端部位置起算至第1相位差層12a的端部位置為止之寬度方向距離係分別通常為0.5cm以上，亦可為0.7cm以上，亦可為1.0cm以上，又，通常為20cm以下，以15cm以下為佳，以10cm以下為較佳。在第1相位差層12a的寬度方向兩端，該距離可互相相同，亦可互相不同。
如第2圖顯示，附基材層的光學積層體71a係以將光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置設為與第1相位差層12a的寬度方向兩端位置相同、或比其更靠近寬度方向內側為佳。光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近外側時，將光學薄膜用接著層62a貼合在第1基材層11a而製造後述之光學積層體之方法中，難以將第1基材層11a剝離。
如第2圖顯示，附基材層的光學積層體71a係以將第1基材層11a的寬度方向兩端位置設為比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側為佳。在附基材層的光學積層體71a的寬度方向的各端部，從第1相位差層12a的端部位置起算至第1基材層11a的端部位置為止之寬度方向距離係分別通常為0.3cm以上，亦可為0.5cm以上，亦可為1.0cm以上，又，通常為20cm以下，以15cm以下為佳，以10cm以下為較佳。在附
基材層的光學積層體71a的寬度方向兩端，該距離可互相相同，亦可互相不同。
在第2圖顯示之附基材層的光學積層體71a中，接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，而且光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比接著層30a及第2相位差層22a1各別的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側。因此，如第2圖顯示，藉由附基材層的光學積層體71a的第1端部，係能夠將光學薄膜用接著層62a與第1相位差層12a貼合。又，在第2圖顯示之附基材層的光學積層體71a中，亦能夠隔著光學薄膜用接著層62a而將光學薄膜60a與第1相位差層12a貼合。藉此，在附基材層的光學積層體71a中，係能夠將在比光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端更靠近寬度方向外側存在的區域之長度，變成比上述第6圖(b)顯示之附基材層的光學積層體71p之與上述對應的區域的長度更相對地往寬度方向變短。藉此，能夠抑制在比附基材層的光學積層體71a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端更靠近寬度方向外側存在的區域產生折彎、反折等的變形之情形。
在第2圖顯示之附基材層的光學積層體71a中，光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比光學薄膜60a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，而且與第1相位差層12a的寬度方向兩端位置相同、或比其更靠近寬度方向內側。因此，在搬運光學積層體71a時能夠抑制光學薄膜用接著層62a被擠出至寬度方向外側的情形，所以能夠抑制光學薄膜用接著層62a的一部分附著在搬運路線上而將搬運路線污染之情形。
(第1實施形態的變形例2)
在本實施形態的光學積層體之光學積層體70a的寬度方向的一端部，第1接著層的端部位置亦可比第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，第2接著層的端部位置亦可比第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。此時，在該一端部，能夠抑制用以得到光學積層體之附基材層的光學積層體產生折彎、反折等的變形且抑制光學積層體的外觀不良。
(第1實施形態的變形例3)
在本實施形態的光學積層體中，光學薄膜用接著層的寬度方向兩端位置與光學薄膜60a的寬度方向兩端位置亦可相同。藉此，在搬運光學積層體70a時亦能夠抑制光學薄膜用接著層62a被擠出至寬度方向外側的情形，所以能夠抑制光學薄膜用接著層62a的一部分附著在搬運路線上而將搬運路線污染之情形。
(第1實施形態的變形例4)
在本實施形態的光學積層體中，亦可具備光學薄膜用接著層及保護該光學薄膜用接著層之剝離膜(樹脂膜)、後述光學積層體用接著層及保護該光學積層體用接著層之剝離膜(樹脂膜)來代替光學薄膜用接著層及光學薄膜。剝離膜能夠在其剝離處理面設置光學薄膜用接著層或光學積層體用接著層，而且將該光學薄膜用接著層或光學積層體用接著層轉印至第2相位差層之後而剝離。在將剝離膜剝離而露出的光學薄膜用接著層上，係能夠積層光學薄膜。又，將剝離膜剝離而露出的光學積層體用接著層，係能夠在貼合於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示面板時使用。
(第1實施形態的變形例5)
在上述已說明的光學積層體70a中，亦可將光學積層體用接著層設置在第1相位差層12a1之與接著層30a為相反側處。光學積層體用接著層係能夠在貼合於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示面板時使用。又，將光學積層體用接著層設置在第2相位差層22a1上時，亦可隔著光學薄膜用接著層而將光學薄膜設置在第1相位差層12a1之與接著層30a為相反側處。
[第2實施形態(光學積層體的製造方法)]
第3圖(a)至(d)係示意性地顯示本實施形態的光學積層體的製造步驟之一個例子的一部分之概略剖面圖。第4圖(a)至(c)係示意性地顯示第3圖顯示之光學積層體的製造步驟的後續之概略圖。圖中，W係表示寬度方向。
光學積層體70a的製造方法係具備下列步驟：準備依序具有第1基材層11a、第1相位差層12a(第1’液晶層)、接著層30a(第1接著層)及第2相位差層22a1(第2液晶層)之相位差膜50a(液晶膜)之步驟(第4圖(a))；準備光學薄膜60a(樹脂膜)之步驟(第4圖(a))；及隔著光學薄膜用接著層62a(第2接著層)將光學薄膜60a貼合在相位差膜50a之第2相位差層22a1側而得到附基材層的光學積層體71a之步驟(第4圖(b))。
在此，如第4圖(a)顯示，在相位差膜50a的寬度方向兩端，接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，而且與第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置相同，
如第4圖(b)顯示，附基材層的光學積層體71a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比接著層30a的寬度方向兩端位置及第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側。
光學積層體70a的製造方法中，準備相位差膜50a之步驟係具備下列步驟：準備第1積層部10a、及第2積層部20a之步驟(第3圖(a)及(b))；隔著接著層30a將第1積層部10a的第1相位差層12a、與第2積層部20a的第2相位差層22a貼合而得到相位差積層層體40a(液晶層積層體)之步驟(第3圖(c))；及藉由將包含第2基材層21a之第1剝離層從相位差積層層體40a剝離，來得到相位差膜50a之步驟；前述第2相位差層22a1係由第2相位差層22a所形成之層，如第3圖(c)顯示，相位差積層層體40a之接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端更靠近寬度方向內側，而且亦可比第2相位差層22a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。
附基材層的光學積層體71a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置，係可比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，亦可比光學薄膜60a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。附基材層的光學積層體71a中，第1相位差層12a的寬度方向兩端與光學薄膜60a的寬度方向兩端亦可隔著光學薄膜用接著層62a貼合。
在光學積層體70a的製造方法，亦可具有將包含第1基材層11a之第2剝離層從附基材層的光學積層體71a剝離之步驟(第4圖(c))。藉由
將第2剝離層從附基材層的光學積層體71a剝離，能夠得到具有第1相位差層12a1且該第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置係與光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置相同之光學積層體70a。
光學積層體70a的製造方法亦可具有將光學積層體用接著層形成在光學積層體70a的第1相位差層12a1上之步驟。
以下，基於圖式而具體地說明。第4圖(b)顯示之光學積層體71a係與第2圖顯示之附基材層的光學積層體71a相同，第4圖(c)顯示之光學積層體70a係與第1圖顯示之光學積層體70a相同，因此，以下針對與第1圖及第2圖顯示之光學積層體以及構成該等光學積層體之構件為相同構件者，加註相同符號且將其說明省略。
在光學積層體71a的製造方法中，首先準備如第3圖(a)顯示之包含第1基材層11a及第1相位差層12a之第1積層部10a、及如第3圖(b)顯示之包含第2基材層21a及第2相位差層22a之第2積層部20a。第1積層部10a及第2積層部20a為長條薄膜狀物，一邊將第1積層部10a及第2積層部20a連續地搬運，一邊進行後述之步驟。寬度方向W係與薄膜狀物的長度方向為正交之方向。
接著，隔著接著層30a而將第1積層部10a的第1相位差層12a、與第2積層部20a的第2相位差層22a積層而得到第3圖(c)顯示之相位差積層層體40a。隨後，藉由將第2基材層21a(第1剝離層)從相位差積層層體40a剝離而得到第3圖(d)顯示之相位差膜50a。
第1積層部10a之第1基材層11a的寬度方向兩端位置，雖然顯示比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近外側之情況，但是亦可
與第1相位差層12a的寬度方向兩端位置相同。如第3圖(b)顯示，第2積層部20a之第2基材層21a的寬度方向兩端位置，雖然顯示比第2相位差層22a的寬度方向兩端位置更靠近外側之情況，但是亦可與第2相位差層22a的寬度方向兩端位置相同。
如第3圖(c)顯示，相位差積層層體40a之接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側，而且比第2相位差層22a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。接著層30a的寬度方向兩端位置係沒有特別限定。例如能夠設為從第1相位差層12a或第2相位差層22a的寬度方向的端部位置起算往寬度方向內側0.2cm以上的區域，亦可設為0.5cm以上的區域，亦可設為1.0cm以上的區域，又，通常為20cm以下的區域，以15cm以下的區域為佳。
相位差膜50a係能夠將第2基材層21a(第1剝離層)從相位差積層層體40a剝離而得到。相位差膜50a係在其寬度方向剖面具有第1基材層11a、第1相位差層12a、接著層30a及第2相位差層22a1。在相位差膜50a之寬度方向剖面中，接著層30a的寬度方向兩端位置係與第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置相同。
將第2基材層21a從第3圖(c)顯示之相位差積層層體40a剝離時，如第3圖(d)顯示，第2相位差層22a的一部分容易轉移至第2基材層21a。在第3圖(c)顯示之相位差積層層體40a中，第2相位差層22a的寬度方向兩端位置係比接著層30a的寬度方向兩端位置更靠近外側，因為第2相位差層22a具有不固定在接著層30a之非固定區域(第3圖(c)中，以往右上升的斜線顯示的部分)。因而，將第2基材層21a從相位差積層層體40a剝離時，第3圖
(c)顯示之第2相位差層22a係分離成為被固定在接著層30a之區域(第3圖(d)顯示的第2相位差層22a1)、與轉移至第2基材層21a之非固定區域(第3圖(c)及(d)中，以往右上升的斜線顯示的部分)，如第3圖(d)顯示，能夠得到第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置與接著層30a的寬度方向兩端位置為相同之相位差膜50a。
如第4圖(a)顯示，準備上述步驟所得到的相位差膜50a、及光學薄膜60a。相位差膜50a及光學薄膜60a為長條薄膜狀物，一邊連續地搬運相位差膜50a及光學薄膜60a，一邊進行後述之步驟。
如第4圖(b)顯示，藉由將光學薄膜60a隔著光學薄膜用接著層62a而積層在相位差膜50a的第2相位差層22a1，而能夠得到在前面的實施形態已說明之附基材層的光學積層體71a(光學積層體)。此時，亦可將光學薄膜用接著層62a預先設置在光學薄膜60a上而將該光學薄膜用接著層62a與相位差膜50a的第2相位差層22a1貼合，亦可將光學薄膜用接著層62a預先設置在相位差膜50a的第2相位差層22a1上而將該光學薄膜用接著層62a與光學薄膜60a貼合。
如第4圖(b)顯示，附基材層的光學積層體71a之光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比接著層30a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側，而且比第2相位差層22a1的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向外側，亞且比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。
因此在附基材層的光學積層體71a的寬度方向兩端，係能夠將光學薄膜用接著層62a與第1相位差層12a貼合，而且亦能夠隔著光學薄膜用接著層62a而將光學薄膜60a與第1相位差層12a積層。藉此，在光學積
層體70a的製造方法中，能夠抑制在附基材層的光學積層體71a之比光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端更靠近寬度方向外側存在的區域產生折彎、反折等的變形之情形。其結果，亦能夠抑制在光學積層體70a的製造方法所得到之光學積層體70a的外觀不良。
藉由將第1基材層11a(第2剝離層)從上述附基材層的光學積層體71a剝離，而能夠得到光學積層體70a(第4圖(c))。在附基材層的光學積層體71a中，如第4圖(b)顯示，光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端位置更靠近寬度方向內側。因此，因光學薄膜用接著層62a並未貼合在第1基材層11a，所以能夠容易地將第1基材層11a剝離。如第4圖(c)顯示，如此進行而得到的光學積層體70a係依序積層有第1相位差層12a1、接著層30a、第2相位差層22a1、光學薄膜用接著層62a、及光學薄膜60a積層。
將第1基材層11a從第4圖(b)顯示之附基材層的光學積層體71a剝離時，如第4圖(c)顯示，第1相位差層12a的一部分容易轉移至剝離後的第1基材層11a。這是因為在第4圖(a)顯示之附基材層的光學積層體71a之寬度方向剖面中，第1相位差層12a的寬度方向兩端位置係比光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置更靠近外側，而且第1相位差層12a係具有未被固定在光學薄膜用接著層62a的非固定區域(第4圖(b)中，以往右上升的斜線顯示之部分)之緣故。在第4圖(b)顯示之附基材層的光學積層體71a中，雖然顯示第1相位差層12a的寬度方向兩端與光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端為分離的狀態，但是因為構成附基材層的光學積層體71a之各層非常薄，所以實際上第1相位差層12a的寬度方向兩端與光學薄膜用接著層
62a的寬度方向兩端係處於接著的狀態。
因而，將第1基材層11a從附基材層的光學積層體71a剝離時，第4圖(b)顯示之第1相位差層12a係分離成為被固定在光學薄膜用接著層62a的區域(第4圖(c)顯示之第1相位差層12a1)、與轉移至第1基材層11a之非固定區域(第4圖(b)及(c)中，以往右上升的斜線顯示之部分)，如第4圖(c)顯示，能夠得到在寬度方向剖面中，第1相位差層12a1的寬度方向兩端位置與光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置為相同之光學積層體70a。
光學積層體70a的製造方法亦可具有：在藉由將第1基材層11a剝離而露出的第1相位差層12a1上，形成未圖示的學積層體用接著層之步驟。光學積層體用接著層係能夠在貼合於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示面板時使用。
本實施形態的光學積層體的製造方法亦可變更成以下顯示的變形例。又，亦可將上述的實施形態與下述顯示的變形例任意地組合。
(第2實施形態的變形例1)
在本實施形態的光學積層體70a的製造方法，亦能夠準備例如第4圖(a)顯示的相位差膜50a，其係在相位差膜50a的寬度方向剖面中，接著層30a的寬度方向兩端位置係比第1相位差層12a更靠近寬度方向內側，而且與第2相位差層22a1的寬度方向兩端部位置相同之相位差膜，而且使用該相位差膜而製造光學積層體。
(第2實施形態的變形例2)
在本實施形態的光學積層體70a的製造方法中，在相位差積層層體40a、相位差膜50a、附基材層的光學積層體71a、及光學積層體70a各別之寬度方
向的同一側的一端部，能夠將各層的位置關係設為上述的關係。而且在該一端部，能夠抑制用以得到光學積層體之附基材層的光學積層體產生折彎、反折等的變形而抑制光學積層體的外觀不良，而且亦能夠抑制附基材層的光學積層體的搬運之不安定化。
(第2實施形態的變形例3)
在本實施形態的光學積層體70a的製造方法中，光學薄膜用接著層62a的寬度方向兩端位置、與光學薄膜60a的寬度方向兩端位置可為相同。藉此，在搬運光學積層體70a時，亦能夠抑制光學薄膜用接著層62a被擠出至寬度方向外側，所以能夠抑制光學薄膜用接著層62a的一部分附著在搬運路線上而污染搬運路線。
(第2實施形態的變形例4)
在本實施形態的光學積層體70a的製造方法中，亦可使用光學薄膜用接著層62a及保護該光學薄膜用接著層62a之剝離膜(樹脂膜)、光學積層體用接著層及保護該光學積層體用接著層之剝離膜(樹脂膜)來代替光學薄膜用接著層62a及光學薄膜60a。
使用保護光學薄膜用接著層62a之剝離膜時，光學積層體的製造方法係進一步具備下列步驟，並藉此能夠得到附基材層的光學積層體：將光學薄膜用接著層62a設置在剝離膜的剝離處理面之步驟；將設置有光學薄膜用接著層62a之剝離膜，以使光學薄膜用接著層62a側與第2相位差層22a1為相對向之方式積層在相位差膜50a之步驟；將剝離膜剝離且將光學薄膜用接著層62a轉印至相位差膜50a的第2相位差層22a1上之步驟；及
在光學薄膜用接著層62a之與第2相位差層22a1為相反側處積層光學薄膜60a之步驟。
使用保護光學積層體用接著層之剝離膜時，光學積層體的製造方法能夠具備下列步驟：將光學積層體用接著層設置在剝離膜的剝離處理面之步驟；及將設置有光學積層體用接著層之剝離膜，以使光學積層體用接著層側與第2相位差層22a1為相對向之方式積層在相位差膜50a之步驟。此時，能夠隔著光學薄膜用接著層而將光學薄膜設置在藉由將第1基材層11a剝離而露出的第1相位差層12a1上。
以上，說明了本發明的實施形態及其變形例，但是本發明不被該等實施形態及其變形例限定，例如亦能夠將上述各實施形態及其變形例的各結構及各步驟組合而實施。以下，詳細地說明全部實施形態及其變形例之共通的各事項。
(第1基材層及第2基材層)
第1基材層及第2基材層係具有作為支撐形成在該等基材層上之後述第1配向層及第2配向層、以及第1液晶及第2液晶層之支撐層的功能。第1基材層及第2基材層係以由樹脂材料所形成的薄膜為佳。
作為樹脂材料，例如能夠使用具有優異的透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等之樹脂材料。具體而言，能夠舉出：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳
酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚苯醚系樹脂、及該等樹脂的混合物、共聚物等。該等樹脂之中，以使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂的任一者或該等樹脂的混合物為佳。又，所謂上述「(甲基)丙烯酸」，係意味著「丙烯酸及甲基丙烯酸的至少1種」。
第1基材層及第2基材層可為將樹脂1種類或2種以上混合而成之單層，亦可為具有2層以上的多層結構。具有多層結構時，構成各層之樹脂可互相相同亦可不同。
構成由樹脂材料所形成的薄膜之樹脂材料中，亦可添加任意的添加劑。作為添加劑，例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。
第1基材層及第2基材層的厚度係沒有特別限定，通常就強度、操作性等的作業性而言，係以1至500μm為佳，以1至300μm為較佳，以5至200μm為更佳。
第1積層部具有後述之第1配向層時、或第2積層部具有後述之第2配向層時，為了使第1基材層與第1配向層的密著性、及第2基材層與第2配向層的密著性提升，亦可對至少第1基材層之形成第1配向層側的表面、及至少第2基材層之形成第2配向層側的表面進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可形成底漆層等。又，亦可藉由調整用以形成第1配向層及第2配向層而使用的配向層形成用組成物的成分、和用以形成第1液晶層及第
2液晶層而使用的液晶層形成用組成物的成分來調整上述的密著性。
(第1配向層及第2配向層)
第1積層部亦可在第1基材層與第1液晶層之間包含第1配向層。又，第2積層部亦可在第2基材層與第2液晶層之間包含第2配向層。
第1配向層及第2配向層係具有使形成在該等配向層上的第1液晶層及第2液晶層所含有的液晶化合物往期望的方向進行液晶配向之配向限制力。作為第1配向層及第2配向層，係能夠舉出由配向性聚合物所形成的配向性聚合物層、由光配向聚合物所形成的光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數條溝(groove)之溝配向層，第1配向層與第2配向層可為相同種類的層，亦可為不同種類的層。第1配向層及第2配向層的厚度係通常為10至500nm，以10至200nm為佳。
配向性聚合物層，係能夠將使配向性聚合物溶解在溶劑而成之組成物塗佈在基材層(第1基材層或第2基材層)，而且將溶劑除去且按照必要而進行摩擦處理來形成。此時，在由配向性聚合物所形成的配向性聚合物層中，配向限制力係能夠藉由配向性聚合物的表面狀態和摩擦條件而任意地調整。
光配向性聚合物層，係能夠藉由將含有具有光反應性基的聚合物或含有單體及溶劑之組成物塗佈在基材層(第1基材層或第2基材層)且照射偏光而形成。此時，在光配向性聚合物層中，配向限制力係能夠藉由對光配向性聚合物之偏光照射條件等而任意地調整。
溝配向層係例如能夠藉由下列方法而形成：隔著具有圖案形狀狹縫的曝光用遮罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光、顯影等而形成凹
凸圖案之方法；在於表面具有溝的板狀原版形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，且將該層轉印至基材層(第1基材層或第2基材層)而使其硬化之方法；及在基材層(第1基材層或第2基材層)形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，且藉由將具有凹凸的捲筒狀原版推靠於該層等而形成凹凸且使其硬化之方法等。
在上述第1剝離層及第2剝離層中，亦可包含第1配向層及第2配向層。亦即，第1剝離層係包含第2基材層時，第1剝離層亦可包含第2配向層。同樣地，第2剝離層係包含第1基材層時，第2剝離層亦可包含第1配向層。在第1剝離層係包含第1基材層時，第2剝離層係包含第2基材層時亦同樣。又，第1剝離層不包含第1配向層或第2配向層時，在第1剝離層剝離後，第1配向層或第2配向層可分別殘留在第1液晶層上或第2液晶層上。同樣地，第2剝離層係不包含第1配向層或第2配向層時，在第2剝離層剝離後，第1配向層或第2配向層可分別殘留在第1液晶層上或第2液晶層上。又，第1剝離層及第2剝離層所含有的層，係能夠藉由調整各層間的密著力之關係而設定，例如能夠藉由對第1基材層及第2基材層進行之上述的電暈處理、電漿處理、火焰處理、底漆層、配向層形成用組成物的成分、液晶層形成用組成物的成分等而調整。
在第1液晶層上殘留有第1配向層時、或在第2液晶層上殘留有第2配向層時，光學積層體用接著層係能夠設置在第1配向層上或第2配向層上。又，在第2液晶層上殘留有第2配向層時、或第1液晶層上殘留有第1配向層時，光學薄膜用接著層係能夠設置在第2配向層上或第1配向層上。
(第1液晶層及第2液晶層)
第1液晶層及第2液晶層係能夠使用眾所周知的液晶化合物而形成。液晶化合物的種類係沒有特別限定，能夠使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該等化合物的混合物。又，液晶化合物可為高分子液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物，亦可為該等化合物的混合物。例如使用聚合性液晶化合物時，係能夠藉由將含有聚合性液晶化合物之組成物塗佈在配向層(第1配向層或第2配向層)上而形成塗膜且使該塗膜硬化，藉此形成作為液晶硬化層之第1液晶層或第2液晶層。或者亦可藉由將液晶化合物塗佈在基材層(第1基材層或第2基材層)上而形成塗膜，而且將該塗膜與基材層一起進行延伸，藉此形成液晶層(第1液晶層或第2液晶層)。
第1液晶層及第2液晶層係例如分別可為第1相位差層及第2相位差層。第1相位差層及第2相位差層只要是對光線賦予既定的相位差者，就沒有特別限定，例如能夠舉出達成作為1/2波長板、1/4波長板、正型C板、逆波長分散性的1/4波長板等的功能者。
在本實施形態的光學積層體中，光學薄膜為偏光膜時，本實施形態的光學積層體係能夠作為複合偏光板使用。複合偏光板係構成圓偏光板時，較佳係以使複合偏光板的層結構成為依序積層偏光層(直線偏光層)、1/2波長板、1/4波長板的結構、或依序積層偏光層(直線偏光層)、逆波長分散性三1/4波長板、正型C板的結構之方式選定構成第1液晶層及第2液晶層(第1相位差層及第2相位差層)之液晶層的種類。
(液晶膜)
液晶膜係包含第1液晶層及第2液晶層，例如第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層時，能夠為相位差膜。
(樹脂膜)
作為樹脂膜，係能夠舉出光學薄膜、保護黏著劑層之剝離膜(隔離膜)。作為光學薄膜，能夠舉出偏光膜、反射膜、半穿透型反射膜、亮度提升膜、光學補償膜、附防眩功能的薄膜等。又，亦可為具有與上述相位差膜(液晶膜)同樣的結構者。作為剝離膜，能夠舉出對基材薄膜表面施行聚矽氧處理等離型處理後之薄膜。作為構成基材薄膜之樹脂材料，能夠舉出與構成上述第1基材層及第2基材層之樹脂材料同樣者。樹脂膜可為1層結構，亦可為2層以上的多層結構之多層樹脂膜。
(接著層)
接著層係能夠由接著劑、黏著劑(pressure-sensitive adhesive)及該等接著劑、黏著劑的組合而形成，通常為1層，亦可為2層以上。接著層係由2層以上的層所構成時，各層可由互相相同的材料形成，亦可由互相不同的材料形成。
作為接著劑，例如能夠將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑等之中1種或2種以上組合而形成。作為水系接著劑，例如能夠舉出聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺甲酸酯系乳化液接著劑等。作為活性能量線硬化型接著劑，係會藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑，例如能夠舉出含有聚合性化合物及光聚合性起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏結劑樹脂及光反應***聯劑者等。作為上述聚合性化合物，能夠舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸酯系單體等光聚合性單體、或源自該等單體之寡聚物等。作為上述光聚合起始劑，能夠舉出含有照射紫外線等活性能量線而產生中性自由
基、陰離子自由基、陽離子自由基之活性種的物質者。
作為黏著劑，能夠舉出將(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基質聚合物且添加異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮雜環丙烷化合物等交聯劑而成之組成物。
接著層係以使用活性能量線硬化型接著劑而形成為佳，以使用含有紫外線硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑之接著劑而形成為特佳。
(光學薄膜用接著層)
光學薄膜用接著層係能夠由接著劑、黏著劑及該等接著劑、黏著劑的組合而形成。光學薄膜用接著層係通常為1層，亦可由2層以上的層形成。光學薄膜用接著層係由2層以上的層所構成時，各層可由互相相同的材料形成，亦可由互相不同的材料形成。
作為構成光學薄膜用接著層之接著劑及黏著劑，能夠舉出與上述接著層所使用的接著劑及黏著劑的例子同樣者。作為光學薄膜用接著層，係以使用黏著劑為佳。
(光學積層體用接著層)
光學積層體用接著層係能夠由接著劑、黏著劑及該等接著劑、黏著劑的組合而形成。光學積層體用接著層係通常為1層，亦可由2層以上的層形成。光學積層體用接著層係由2層以上的層所構成時，各層可由互相相同的材料形成，亦可由互相不同的材料形成。
作為構成光學積層體用接著層之接著劑及黏著劑，能夠舉出與上述接著層所使用的接著劑及黏著劑的例子同樣者。作為光學膜用接著層，係以使用黏著劑為佳。
12a1‧‧‧第1相位差層(第1液晶層)
22a1‧‧‧第2相位差層(第2液晶層)
30a‧‧‧接著層(第1接著層)
60a‧‧‧光學薄膜(樹脂膜)
62a‧‧‧光學薄膜用接著層(第2接著層)
70a‧‧‧光學積層體
W‧‧‧寬度方向
Claims (23)
- 一種光學積層體，係依序包含第1液晶層、第1接著層、第2液晶層、第2接著層、及樹脂膜，其中，在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係與前述第1液晶層的前述端部位置相同或比其更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係與前述樹脂膜的端部位置相同或比其更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第1液晶層的端部與前述樹脂膜的端部係隔著前述第2接著層貼合。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的兩端，前述第1接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前 述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向外側。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述樹脂膜為光學薄膜。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含第1配向層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含光學積層體用接著層。
- 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層與前述光學積層體用接著層之間包含第1配向層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層之與前述第1接著層為相反側處包含第1基材層。
- 如申請專利範圍第10項所述之光學積層體，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第10項所述之光學積層體，其中在前述第1液晶層與前述第1基材層之間包含第1配向層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中在前述第2液晶層與前述第2接著層之間包含第2配向層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第1液晶層為相位差層。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體，其中前述第2液晶層為相位差層。
- 一種光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備依序具有第1基材層、第1’液晶層、第1接著層及第2液晶層的液晶膜之步驟；準備樹脂膜之步驟；及將前述樹脂膜隔著第2接著層貼合在前述液晶膜的前述第2液晶層側而得到光學積層體之步驟；其中，在前述液晶膜的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，而且與前述第2液晶層的端部位置相同，前述光學積層體之前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的前述端部位置更靠近寬度方向外側。
- 如申請專利範圍第16項所述之光學積層體的製造方法，其中準備前述液晶膜之步驟係具備下列步驟：準備包含第1基材層及第1’液晶層的第1積層部、及包含第2基材層及第2’液晶層的第2積層部之步驟；隔著第1接著層將前述第1積層部的前述第1’液晶層與前述第2積層部的前述第2’液晶層貼合而得到液晶層積層體之步驟；及藉由將前述液晶層積層體從包含前述第2基材層之第1剝離層剝離而得到前述液晶膜之步驟；其中，前述第2液晶層係由前述第2’液晶層所形成的層，在前述液晶層積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部更靠近寬度方向內側，而且比前述第2’ 液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，更進一步，前述第2接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，其中在前述光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第2接著層的端部位置係與前述樹脂膜的端部位置相同或比其更靠近寬度方向內側。
- 如申請專利範圍第16或17所述之光學積層體的製造方法，其中在前述液晶膜的寬度方向的兩端，前述第1接著層的端部位置係比前述第1’液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側，而且與前述第2液晶層的端部位置相同，前述光學積層體之前述第2接著層的端部位置係比前述第1接著層的前述端部位置及前述第2液晶層的前述端部位置更靠近寬度方向外側。
- 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，更具備將包含前述第1基材層之第2剝離層從光學積層體剝離之步驟。
- 如申請專利範圍第21項所述之光學積層體的製造方法，係藉由將前述第2剝離層剝離之步驟，而由第1’液晶層形成第1液晶層，在前述第2剝離層剝離後之光學積層體的寬度方向的至少一端部，前述第1液晶層的端部位置係與前述第2接著層的端部位置相同。
- 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，其中前述樹脂膜為光學薄膜。
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