TWI809908B - 顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
一種顯示裝置包括至少一顯示面板。顯示面板包括第一基板、第二基板、液晶層、多條資料線、多條掃描線、多個畫素結構、多個第一擋牆結構及多個第二擋牆結構。設置在第一基板上的多條資料線和多條掃描線彼此相交並定義出多個畫素區。這些畫素結構分別設置在這些畫素區內。第一擋牆結構設置在第一基板和第二基板的一者。這些第一擋牆結構具有重疊於這些資料線與這些掃描線的多個相交處的多個凹槽。第二擋牆結構設置在第一基板和第二基板的另一者。這些第二擋牆結構分別貫穿這些第一擋牆結構的這些凹槽,並且與這些第一擋牆結構間隔開來。
Description
本發明是有關於一種顯示技術,且特別是有關於一種顯示裝置。
一般來說,液晶顯示面板會根據不同的使用情境或顯示應用而採取不同的結構設計。舉例來說,一種無須配置背光模組的反射式液晶顯示面板,可在環境光的照明下進行顯示。為了增加環境光的反射率或對特定波長光線的吸收效率,反射式液晶顯示面板的液晶層大都具有較大的膜厚。然而,具有高膜厚的液晶層同時也會讓偏離正視的大角度光線因通過兩個相鄰的畫素區而產生影像訊號串擾的風險增加,造成影像品質的下降。
本發明提供一種顯示裝置,其顯示品質因不同畫素區之間的光線串擾較少而較佳。
本發明的顯示裝置,包括至少一顯示面板。顯示面板包括第一基板、第二基板、液晶層、多條資料線、多條掃描線、多個畫素結構、多個第一擋牆結構以及多個第二擋牆結構。液晶層設置在第一基板與第二基板之間。設置在第一基板上的多條資料線和多條掃描線彼此相交並定義出多個畫素區。這些畫素結構分別設置在這些畫素區內。這些第一擋牆結構設置在第一基板和第二基板的一者。這些第一擋牆結構具有多個凹槽,且這些凹槽重疊於這些資料線與這些掃描線的多個相交處。這些第二擋牆結構設置在第一基板和第二基板的另一者。這些第二擋牆結構分別貫穿這些第一擋牆結構的這些凹槽,並且與這些第一擋牆結構間隔開來。
基於上述,在本發明的一實施例的顯示裝置中,為了降低偏離正視的大角度光線同時通過相鄰的兩畫素區而產生影像訊號的串擾,每一個畫素區的周圍都設有在一方向上延伸的第一擋牆結構以及在另一方向上延伸的第二擋牆結構。第一擋牆結構在資料線與掃描線的相交處設有適於讓第二擋牆結構延伸通過的凹槽,且第一擋牆結構定義凹槽的部分與第二擋牆結構間隔開來。據此,可增加液晶層在不同畫素區之間的流動性,並提升製程良率。
本文使用的「約」、「近似」、「本質上」、或「實質上」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,「約」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或例如±30%、±20%、±15%、±10%、±5%內。再者,本文使用的「約」、「近似」、「本質上」、或「實質上」可依量測性質、切割性質或其它性質,來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差,而可不用一個標準偏差適用全部性質。
在附圖中,為了清楚起見,放大了層、膜、面板、區域等的厚度。應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件「上」或「連接到」另一元件時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到」另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,「連接」可以指物理及/或電性連接。再者,「電性連接」可為二元件間存在其它元件。
現將詳細地參考本發明的示範性實施方式,示範性實施方式的實例說明於所附圖式中。只要有可能,相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。
圖1是依照本發明的第一實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖2A及圖2B是圖1的顯示裝置的剖視示意圖。圖2A對應圖1的剖線A1-A2,圖2B對應圖1的剖線A3-A4。為清楚呈現起見,圖1省略了圖2A及圖2B的共電極層150的繪示。
請參照圖1、圖2A及圖2B,顯示裝置10A包括顯示面板100A。顯示面板100A包括第一基板101、第二基板102、多條資料線DL、多條掃描線GL、多個畫素結構PX和液晶層200。液晶層200設置在第一基板101與第二基板102之間。資料線DL和掃描線GL設置在第一基板101上。
在本實施例中,多條資料線DL沿著方向X排列並且延伸於方向Y,多條掃描線GL沿著方向Y排列並且延伸於方向X。更具體地說,這些資料線DL相交於這些掃描線GL,並且定義出多個畫素區PA。這些畫素區PA內分別設有多個畫素結構PX。畫素結構PX可包括主動元件T和畫素電極PE,其中主動元件T電性連接畫素電極PE、一條資料線DL和一條掃描線GL。在本實施例中,液晶層200在畫素區PA內的膜厚可介於3微米至25微米之間,甚至是介於5微米至15微米之間。
舉例來說,這些畫素結構PX各自的畫素電極PE可經由在時序上依序開啟的主動元件T接收來自資料線DL的電壓信號而具有相同或不同的驅動電位。在本實施例中,第二基板102上可設有共電極層150,且此共電極層150具有一接地電位或固定電位。畫素電極PE與共電極層150之間的電位差所產生的電場可驅使液晶層200的多個液晶分子(未繪示)轉動並形成相應的排列狀態,而不同的排列狀態能讓通過這些液晶分子的偏振光線具有不同的偏振態,進而產生不同的出光強度。因此,個別地控制這些畫素結構PX的畫素電極PE的電位,即可讓通過不同畫素區PA的偏振光線產生不同或相同的出光強度,進而達到影像顯示的效果。
畫素電極PE和共電極層150例如是光穿透式電極,而光穿透式電極的材料可選自金屬氧化物,例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少兩者之堆疊層,但不以此為限。在另一實施例中,畫素電極PE也可以是反射式電極,而反射式電極的材料可選自金屬、合金、金屬材料的氧化物或氮化物、金屬材料的氮氧化物、或其他合適的材料、或是金屬材料與其他導電材料的堆疊層。
在本實施例中,顯示面板100A例如是穿透式液晶顯示面板。相應地,顯示裝置10A還可選擇性地包括背光模組(未繪示),以作為顯示面板100A的背光源,但不以此為限。在其他實施例中,顯示面板也可以是反射式液晶顯示面板。亦即,顯示裝置可以不具有背光模組,而是利用環境光作為照明光源來顯示影像。
舉例來說,多條掃描線GL可形成在第一金屬層,而多條資料線DL可形成在第二金屬層,其中第一金屬層位在第一基板101與第二金屬層之間。為了電性分離第一金屬層與第二金屬層,這兩金屬層間還設有絕緣層110,並且在第二金屬層上覆蓋有另一絕緣層120。絕緣層110和絕緣層120的材料可選自氧化矽、氮化矽或是其他合適的介電材料。
需說明的是,為了清楚呈現出本發明的結構特徵,所附圖式省略了部分膜層的繪示。舉例來說,顯示面板100A還可包括半導體層、鈍化層、層間絕緣層、其他的金屬層、或上述的組合,來形成所需的畫素電路結構。也就是說,本發明並未以圖式揭示內容為限制,第一擋牆結構141與絕緣層120之間還可設有其他未繪示的膜層,來形成所需的電子元件(例如主動元件T或儲存電容)。
為了降低偏離正視的大角度光線同時通過相鄰的兩個畫素區PA而產生影像訊號的串擾,顯示面板100A還設有多個第一擋牆結構141和多個第二擋牆結構142。詳細地,多個第一擋牆結構141具有多個凹槽141rs,且這些凹槽141rs重疊於多條資料線DL與多條掃描線GL的多個相交處。多個第二擋牆結構142分別貫穿這些第一擋牆結構141的這些凹槽141rs。
這些第一擋牆結構141的延伸方向相交於這些第二擋牆結構142的延伸方向,並且大致上形成圍繞每個畫素電極PE的擋牆結構。舉例來說,在本實施例中,多個第一擋牆結構141可設置在第一基板101上,並且重疊多條掃描線GL設置,而多個第二擋牆結構142可設置在第二基板102上,並且重疊多條資料線DL設置。需說明的是,此處兩構件間的重疊關係例如是所述兩構件沿著方向Z的重疊關係。以下若非特別提及,則多個構件間的重疊關係都是以此方式進行界定,便不再贅述。
特別注意的是,雖然第二擋牆結構142貫穿第一擋牆結構141的凹槽141rs,但第二擋牆結構142中位在凹槽141rs內的部分並未接觸第一擋牆結構141,而是與第一擋牆結構141間隔開來(如圖2A所示)。也即,第一擋牆結構141和第二擋牆結構142在各自延伸方向的相交處設有間隙,而此間隙可增加液晶層200在不同畫素區PA之間的流動性。舉例來說,顯示面板100A的組立(assembly)過程中,以液滴型態塗佈在第一基板101與第二基板102之間的液晶材料在第一基板101與第二基板102的擠壓下會沿著兩基板上的結構表面進行擴散。由於擋牆結構的高度較高,藉由前述間隙的設置,可有效改善液晶材料在第一擋牆結構141和第二擋牆結構142相交處的擴散性,進而提升製程良率。
第一擋牆結構141和第二擋牆結構142的材料可選自有機絕緣材料(例如聚酯類、聚烯類、聚丙醯類、聚碳酸酯類、聚環氧烷類、聚苯烯類、聚醚類、聚酮類、聚醇類、聚醛類、或其它合適的材料、或上述之組合)或無機絕緣材料(例如氮化矽、氧化矽、碳化矽或氧化鋁),但不以此為限。
為了增加光能利用率,第一擋牆結構141和第二擋牆結構142也可選用具有高反射率的材料(例如白色的光阻材料)來製作。較佳地,第一擋牆結構141和第二擋牆結構142的反射率可大於20%。
另一方面,顯示面板100A還可包括多個間隔物SP。在本實施例中,這些間隔物SP可設置在第一擋牆結構141上。更具體地,第一擋牆結構141具有朝向第二基板102的表面141s,而這些間隔物SP可自第一擋牆結構141的表面141s凸出,並抵靠在第二基板102和共電極層150上。舉例來說,間隔物SP和第一擋牆結構141的材料可選擇性地相同,且可在同一道微影蝕刻製程中形成,但不以此為限。在本實施例中,這些間隔物SP沿著第一擋牆結構141的表面141s的法線方向(例如方向Z)不重疊於第二擋牆結構142,但不以此為限。
特別注意的是,間隔物SP與畫素區PA的配置關係並非是一對一的關係,而是彼此相鄰的複數個畫素區PA內才設置一個間隔物SP(如圖1所示)。據此,可進一步增加液晶材料在這些畫素區PA間的流動性。
以下將列舉另一些實施例以詳細說明本揭露,其中相同的構件將標示相同的符號,並且省略相同技術內容的說明,省略部分請參考前述實施例,以下不再贅述。
圖3是依照本發明的第二實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖4A及圖4B是圖3的顯示裝置的剖視示意圖。圖4A對應圖3的剖線B1-B2,圖4B對應圖3的剖線B3-B4。為清楚呈現起見,圖3省略了圖4A及圖4B的共電極層150的繪示。
請參照圖3、圖4A及圖4B,本實施例的顯示裝置10B與圖1的顯示裝置10A的差異在於:擋牆結構的配置方式不同。具體而言,在本實施例的顯示裝置10B中,其顯示面板100B的第一擋牆結構141A是設置在第二基板102上,並且重疊多條資料線DL設置。第二擋牆結構142A是設置在第一基板101上,並且重疊多條掃描線GL設置。
另一方面,不同於圖2A的顯示面板100A,本實施例的顯示面板100B,其間隔物SP”是設置在第二擋牆結構142A上。更具體地,多個第二擋牆結構142A具有朝向第二基板102的表面142s,而多個間隔物SP”自這些第二擋牆結構142A的表面142s凸出,並且抵靠在第二基板102和共電極層150上。舉例來說,間隔物SP”和第二擋牆結構142A的材料可選擇性地相同,且可在同一道微影蝕刻製程中形成,但不以此為限。在本實施例中,這些間隔物SP”沿著第二擋牆結構142A的表面142s的法線方向(例如方向Z)不重疊於第一擋牆結構141A,但不以此為限。
由於本實施例的第一擋牆結構141A、第二擋牆結構142A和間隔物SP”在顯示面板100B中所產生的技術功效相似於圖2A的顯示面板100A,詳細的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
圖5是依照本發明的第三實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖6A及圖6B是圖5的顯示裝置的剖視示意圖。圖6A對應圖5的剖線C1-C2,圖6B對應圖5的剖線C3-C4。為清楚呈現起見,圖5省略了圖6A及圖6B的共電極層150的繪示。
請參照圖5、圖6A及圖6B,本實施例的顯示裝置10C與圖3的顯示裝置10B的差異在於:擋牆結構的配置方式不同。具體而言,在本實施例的顯示裝置10C中,其顯示面板100C的第一擋牆結構141B是設置在第一基板101上,並且重疊多條資料線DL設置。第二擋牆結構142B是設置在第二基板102上,並且重疊多條掃描線GL設置。
另一方面,不同於圖2A的顯示面板100A,本實施例的顯示面板100C,其間隔物SP”是設置在第二擋牆結構142B上。更具體地,多個第二擋牆結構142B具有朝向第一基板101的表面142s,而多個間隔物SP”自這些第二擋牆結構142B的表面142s凸出,並且抵靠在第一基板101、絕緣層110、絕緣層120和掃描線GL所形成的疊層結構上。舉例來說,間隔物SP”和第二擋牆結構142B的材料可選擇性地相同,且可在同一道微影蝕刻製程中形成,但不以此為限。在本實施例中,這些間隔物SP”沿著第二擋牆結構142B的表面142s的法線方向(例如方向Z)不重疊於第一擋牆結構141B,但不以此為限。
由於本實施例的第一擋牆結構141B、第二擋牆結構142B和間隔物SP”在顯示面板100C中所產生的技術功效相似於圖2A的顯示面板100A,詳細的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
圖7是依照本發明的第四實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖8A及圖8B是圖7的顯示裝置的剖視示意圖。圖8A對應圖7的剖線D1-D2,圖8B對應圖7的剖線D3-D4。為清楚呈現起見,圖7省略了圖8A及圖8B的共電極層150的繪示。
請參照圖7、圖8A及圖8B,本實施例的顯示裝置10D與圖1的顯示裝置10A的差異在於:擋牆結構的配置方式不同。具體而言,在本實施例的顯示裝置10D中,其顯示面板100D的第一擋牆結構141C是設置在第二基板102上,並且重疊多條掃描線GL設置。第二擋牆結構142C是設置在第一基板101上,並且重疊多條資料線DL設置。
另一方面,顯示面板100D的間隔物SP是設置在第一擋牆結構141C上。更具體地,多個第一擋牆結構141C具有朝向第一基板101的表面141s,而多個間隔物SP自這些第一擋牆結構141C的表面141s凸出,並且抵靠在第一基板101、絕緣層110、絕緣層120和掃描線GL所形成的疊層結構上。舉例來說,間隔物SP和第一擋牆結構141C的材料可選擇性地相同,且可在同一道微影蝕刻製程中形成,但不以此為限。在本實施例中,這些間隔物SP沿著第一擋牆結構141C的表面141s的法線方向(例如方向Z)不重疊於第二擋牆結構142C,但不以此為限。
由於本實施例的第一擋牆結構141C、第二擋牆結構142C和間隔物SP在顯示面板100D中所產生的技術功效相似於圖2A的顯示面板100A,詳細的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
圖9是依照本發明的第五實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖10A及圖10B是圖9的顯示裝置的剖視示意圖。圖10A對應圖9的剖線E1-E2,圖10B對應圖9的剖線E3-E4。為清楚呈現起見,圖9省略了圖10A及圖10B的共電極層150的繪示。
請參照圖9、圖10A及圖10B,本實施例的顯示裝置20A與圖1的顯示裝置10A的差異在於:第一擋牆結構的構型和間隔物的配置方式不同。具體而言,在本實施例的顯示裝置20A中,其顯示面板100E的第一擋牆結構141D還具有定義多個凹槽141rs-A的多個凹槽底部141bp,且這些凹槽底部141bp分別重疊於多條資料線DL與多條掃描線GL的多個相交處。
也就是說,不同於圖1實施例的第一擋牆結構141,本實施例的第一擋牆結構141D在掃描線GL與資料線DL的相交處並沒有斷開,而是經由這些凹槽底部141bp的連接連續性地延伸分布在掃描線GL上。
另一方面,顯示面板100E的間隔物SP”-A是設置在第二擋牆結構142D上。更具體地,多個第二擋牆結構142D具有朝向第一基板101的表面142s,而多個間隔物SP”-A自這些第二擋牆結構142D的表面142s凸出,並且抵靠在第一基板101、絕緣層110、絕緣層120、掃描線GL和第一擋牆結構141D的凹槽底部141bp所形成的疊層結構上。亦即,在本實施例中,這些間隔物SP”-A沿著第二擋牆結構142D的表面142s的法線方向(例如方向Z)重疊於第一擋牆結構141D的凹槽底部141bp。舉例來說,間隔物SP”-A和第二擋牆結構142D的材料可選擇性地相同,且可在同一道微影蝕刻製程中形成,但不以此為限。
特別說明的是,當間隔物SP”-A和第二擋牆結構142D的整體高度不足以在第一基板101與第二基板102之間分隔出所需的空間時,透過在液晶層200另一側的第一基板101上的第一擋牆結構141D中形成凹槽底部141bp,並且讓間隔物SP”-A抵靠在此凹槽底部141bp上,即可解決上述高度不足的問題。從另一觀點來說,藉由第一擋牆結構141D的凹槽底部141bp和第二擋牆結構142D上的間隔物SP”-A的相配合,可增加擋牆結構和間隔物SP”-A的材料選用彈性及製程裕度。
由於本實施例的第一擋牆結構141D、第二擋牆結構142D和間隔物SP”-A在顯示面板100E中所產生的技術功效相似於圖2A的顯示面板100A,詳細的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
圖11是依照本發明的第六實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖12A及圖12B是圖11的顯示裝置的剖視示意圖。圖12A對應圖11的剖線F1-F2,圖12B對應圖11的剖線F3-F4。為清楚呈現起見,圖11省略了圖12A及圖12B的共電極層150的繪示。
請參照圖11、圖12A及圖12B,本實施例的顯示裝置20B與圖9的顯示裝置20A的差異在於:擋牆結構的配置方式不同。具體而言,在本實施例的顯示裝置20B中,其顯示面板100F的第一擋牆結構141E是設置在第二基板102上,並且重疊多條資料線DL設置,第二擋牆結構142E是設置在第一基板101上,並且重疊多條掃描線GL設置。
相應地,多個第二擋牆結構142E具有朝向第二基板102的表面142s,而多個間隔物SP”-A自這些第二擋牆結構142E的表面142s凸出,並且抵靠在第二基板102、共電極層150和第一擋牆結構141E的凹槽底部141bp所形成的疊層結構上。亦即,在本實施例中,這些間隔物SP”-A沿著第二擋牆結構142E的表面142s的法線方向(例如方向Z)重疊於第一擋牆結構141E的凹槽底部141bp。
由於本實施例的第一擋牆結構141E、第二擋牆結構142E和間隔物SP”-A的相對配置關係及其產生的技術功效都相似於圖10A及圖10B的顯示面板100E,詳細的說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
圖13是依照本發明的第七實施例的顯示裝置的下視示意圖。圖14A及圖14B是圖13的顯示裝置的剖視示意圖。圖14A對應圖13的剖線G1-G2,圖14B對應圖13的剖線G3-G4。為清楚呈現起見,圖13省略了圖14A及圖14B的部分膜層的繪示。
請參照圖13、圖14A及圖14B,不同於前述任一實施例的顯示裝置,本實施例的顯示裝置30是由複數個顯示面板堆疊而成。舉例來說,顯示裝置30可以由兩個顯示面板(例如是第一顯示面板100A1和第二顯示面板100A2)堆疊而成。詳細地,第一顯示面板100A1設置在第二顯示面板100A2的第二基板102的一側,第二顯示面板100A2設置在第一顯示面板100A1的第一基板101的一側。顯示裝置30還可包括黏著層300,用以連接第一顯示面板100A1與第二顯示面板100A2。黏著層300的材料可選自水膠(Optical Clear Resin,OCR)、光學透明膠(Optical Clear Adhesive,OCA)、感壓膠(Pressure Sensitive Adhesive,PSA)、或其他適合的膠材。
這兩個顯示面板的擋牆結構和間隔物SP的配置方式都相似於圖2A及圖2B的顯示面板100A,因此不再贅述。特別說明的是,顯示裝置30的兩個顯示面板都可以前述任一實施例的顯示面板來取代,且這兩個顯示面板的擋牆結構和間隔物的配置方式也可不同,本發明並不加以限制。
在本實施例中,顯示裝置30例如是反射式顯示裝置。因此,第二顯示面板100A2的第一基板101上可設有反射層160,此反射層160可增加顯示裝置30的整體反射率和出光均勻性。舉例來說,反射層160朝向第一顯示面板100A1的表面可設有多個光學微結構,且這些光學微結構適於將入射的光線以更為均勻的方式反射出。亦即,讓反射光的出光光型的分布較為均勻。
另一方面,顯示裝置30還可包括遮光圖案層180。舉例來說,遮光圖案層180可設置在第一顯示面板100A1的第二基板102上,且重疊於多條資料線DL與多條掃描線GL。遮光圖案層180具有重疊於多個畫素區PA的多個開口180OP,且反射層160重疊於這些開口180OP設置。然而,本發明不限於此。在其他實施例中,顯示裝置中的每一個顯示面板也都可以相似於本實施例的第一顯示面板100A1的方式設置遮光圖案層。
進一步地,在本實施例中,兩個顯示面板的液晶層200A和液晶層200B例如是添加有二色性染料(dichroic dye)和旋光劑(chiral dopant)的液晶材料所形成,其中液晶層200A所添加的二色性染料的吸收波長範圍不同於液晶層200B所添加的二色性染料的吸收波長範圍。舉例來說,從第一顯示面板100A1的第二基板102的一側入射顯示裝置30的環境光線EB在通過第一顯示面板100A1的液晶層200A後,其部分的光能量會被液晶層200A中所添加的二色性染料吸收而形成具有第一顏色的光線。接著,在通過第二顯示面板100A2的液晶層200B後,其另一部分的光能量會被液晶層200B中所添加的二色性染料吸收而形成具有第二顏色的光線。亦即,液晶層200A適於讓具有第一顏色或第二顏色的光線通過,而液晶層200B適於讓具有第二顏色的光線通過。
此具有第二顏色的光線經由反射層160的反射後形成子光線EBa和子光線EBb。其中,子光線EBa再一次地通過液晶層200A和第二顯示面板100A2後出射顯示裝置30,而另一子光線EBb則是以較大的角度傳遞至第二顯示面板100A2的第二擋牆結構142,並且被第二擋牆結構142至少部分反射。也就是說,擋牆結構的設置在多個顯示面板的堆疊結構中,還能進一步抑制偏離正視的大角度光線同時通過不同顯示面板上沿著方向Z不重疊的兩畫素區PA而產生影像訊號的串擾。從另一觀點來說,還能增加光線的光能利用率。
需說明的是,在另一未繪示的實施例中,顯示裝置的顯示面板數量也可以是三個或三個以上,且每一個顯示面板的結構設計可以前述任一實施例的顯示面板來實現。由於本實施例的第一顯示面板100A1和第二顯示面板100A2各自的第一擋牆結構141與第二擋牆結構142的配置關係及產生的技術功效都相似於圖2A的顯示面板100A,詳細說明請參見前述實施例的相關段落,於此便不再贅述。
綜上所述,在本發明的一實施例的顯示裝置中,為了降低偏離正視的大角度光線同時通過相鄰的兩畫素區而產生影像訊號的串擾,每一個畫素區的周圍都設有在一方向上延伸的第一擋牆結構以及在另一方向上延伸的第二擋牆結構。第一擋牆結構在資料線與掃描線的相交處設有適於讓第二擋牆結構延伸通過的凹槽,且第一擋牆結構定義凹槽的部分與第二擋牆結構間隔開來。據此,可增加液晶層在不同畫素區之間的流動性,並提升製程良率。
10A、10B、10C、10D、20A、20B、30:顯示裝置
100A、100B、100C、100D、100E、100F、100A1、100A2:顯示面板
101:第一基板
102:第二基板
110、120:絕緣層
141、141A、141B、141C、141D、141E:第一擋牆結構
141bp:凹槽底部
141rs、141rs-A:凹槽
141s、142s:表面
142、142A、142B、142C、142D、142E:第二擋牆結構
150:共電極層
160:反射層
180:遮光圖案層
180OP:開口
200、200A、200B:液晶層
DL:資料線
EB:環境光線
EBa、EBb:子光線
GL:掃描線
PA:畫素區
PE:畫素電極
PX:畫素結構
SP、SP”、SP”-A:間隔物
T:主動元件
X、Y、Z:方向
A1-A2、A3-A4、B1-B2、B3-B4、C1-C2、C3-C4、D1-D2、D3-D4、E1-E2、E3-E4、F1-F2、F3-F4、G1-G2、G3-G4:剖線
圖1是依照本發明的第一實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖2A及圖2B是圖1的顯示裝置的剖視示意圖。
圖3是依照本發明的第二實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖4A及圖4B是圖3的顯示裝置的剖視示意圖。
圖5是依照本發明的第三實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖6A及圖6B是圖5的顯示裝置的剖視示意圖。
圖7是依照本發明的第四實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖8A及圖8B是圖7的顯示裝置的剖視示意圖。
圖9是依照本發明的第五實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖10A及圖10B是圖9的顯示裝置的剖視示意圖。
圖11是依照本發明的第六實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖12A及圖12B是圖11的顯示裝置的剖視示意圖。
圖13是依照本發明的第七實施例的顯示裝置的下視示意圖。
圖14A及圖14B是圖13的顯示裝置的剖視示意圖。
10A:顯示裝置
100A:顯示面板
101:第一基板
102:第二基板
110、120:絕緣層
141:第一擋牆結構
141rs:凹槽
141s:表面
142:第二擋牆結構
150:共電極層
200:液晶層
DL:資料線
GL:掃描線
SP:間隔物
X、Y、Z:方向
A1-A2:剖線
Claims (13)
- 一種顯示裝置,包括: 至少一顯示面板,包括: 一第一基板與一第二基板; 一液晶層,設置在該第一基板與該第二基板之間; 多條資料線與多條掃描線,設置在該第一基板上,該些資料線相交於該些掃描線,並定義出多個畫素區; 多個畫素結構,分別設置在該些畫素區內; 多個第一擋牆結構,設置在該第一基板和該第二基板的一者,該些第一擋牆結構具有多個凹槽,該些凹槽重疊於該些資料線與該些掃描線的多個相交處;以及 多個第二擋牆結構,設置在該第一基板和該第二基板的另一者,該些第二擋牆結構分別貫穿該些第一擋牆結構的該些凹槽,並且與該些第一擋牆結構間隔開來。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該些第一擋牆結構設置在該第一基板上,且重疊該些掃描線設置,該些第二擋牆結構設置在該第二基板上,且重疊該些資料線設置。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該些第一擋牆結構設置在該第二基板上,且重疊該些資料線設置,該些第二擋牆結構設置在該第一基板上,且重疊該些掃描線設置。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該些第一擋牆結構設置在該第一基板上,且重疊該些資料線設置,該些第二擋牆結構設置在該第二基板上,且重疊該些掃描線設置。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該些第一擋牆結構設置在該第二基板上,且重疊該些掃描線設置,該些第二擋牆結構設置在該第一基板上,且重疊該些資料線設置。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該至少一顯示面板更包括: 多個間隔物,設置在該些第一擋牆結構上,其中該些第一擋牆結構設置在該第一基板與該第二基板中的一者上,且具有朝向該第一基板與該第二基板中的另一者的一表面,該些間隔物自該些第一擋牆結構的該表面凸出,並且抵靠在該第一基板與該第二基板中的另一者上。
- 如請求項6所述的顯示裝置,其中該些間隔物沿著該些第一擋牆結構的該表面的法線方向不重疊於該些第二擋牆結構。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該至少一顯示面板更包括: 多個間隔物,設置在該些第二擋牆結構上,其中該些第二擋牆結構設置在該第一基板與該第二基板中的一者上,且具有朝向該第一基板與該第二基板中的另一者的一表面,該些間隔物自該些第二擋牆結構的該表面凸出,並且抵靠在該第一基板與該第二基板中的另一者上。
- 如請求項8所述的顯示裝置,其中該些間隔物沿著該些第二擋牆結構的該表面的法線方向不重疊於該些第一擋牆結構。
- 如請求項8所述的顯示裝置,其中該些間隔物位在該些第一擋牆結構的至少部分該些凹槽內,該些第一擋牆結構還具有定義該些凹槽的多個凹槽底部,該些間隔物沿著該些第二擋牆結構的該表面的法線方向重疊於該些第一擋牆結構的該些凹槽底部。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該些第一擋牆結構與該些第二擋牆結構的反射率大於20%。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中該至少一顯示面板包括重疊設置的一第一顯示面板和一第二顯示面板,該第一顯示面板設置在該第二顯示面板的該第二基板的一側,該第二顯示面板設置在該第一顯示面板的該第一基板的一側,該第一顯示面板的該液晶層適於讓具有一第一顏色的光線通過,該第二顯示面板的該液晶層適於讓具有一第二顏色的光線通過,且該第一顯示面板的該液晶層還適於讓經由該第二顯示面板反射並具有該第二顏色的光線通過。
- 如請求項12所述的顯示裝置,其中該第二顯示面板的該第一基板上設有一反射層,該第一顯示面板的該第二基板上設有一遮光圖案層,該遮光圖案層重疊於該些掃描線和該些資料線,且具有重疊於該些畫素區的多個開口,該反射層重疊於該些開口。
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