TWI795500B - 偏光板用堆疊體、偏光板、堆疊體薄膜卷、偏光板用堆疊體的製造方法及偏光板的製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種偏光板用堆疊體，其具有：波長550 nm之光線的穿透率為50%以上的聚乙烯醇樹脂薄膜，與直接堆疊於前述聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面的樹脂層。前述樹脂層，以藉由於前述聚乙烯醇樹脂薄膜塗覆樹脂而形成之層體為佳。亦一併揭露偏光板用堆疊體的製造方法、使用偏光板堆疊體而製造之偏光板、堆疊體薄膜卷及偏光板的製造方法。

Description

偏光板用堆疊體、偏光板、堆疊體薄膜卷、偏光板用堆疊體的製造方法及偏光板的製造方法
本發明係關於偏光板用堆疊體、偏光板、堆疊體薄膜卷、偏光板用堆疊體的製造方法及偏光板的製造方法。
作為液晶顯示裝置及有機電致發光（EL）顯示裝置等顯示裝置，以往以來便要求顯示面積大、重量輕且厚度薄者。因此，構成顯示裝置的面板亦自以往便要求較薄者。
在顯示裝置上，一般使用具備偏光件及保護偏光件之保護薄膜的偏光板。為了構成厚度薄的顯示裝置，偏光板亦要求較薄者。尤其，由於偏光件在顯示裝置的使用環境中有時會收縮，故在薄且面積大之顯示裝置中，此種收縮所致之彎曲可能成為問題。因此，藉由採用厚度10 μm以下般的薄偏光件，除了可期待偏光件厚度的減少本身所致之顯示裝置厚度的減少以外，還可期待如前所述之彎曲之發生的減少。
然在欲藉由以往的製造方法，製造此種厚度薄的聚乙烯醇之偏光件的情況下，偏光件的熔斷會頻繁發生。作為製造此種「防止偏光件之熔斷，且包含薄偏光件」之偏光板的方法，已提案有數種方法。
例如在專利文獻1中，已提案將包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液塗布於由非晶質酯系熱塑性樹脂而成之樹脂薄膜，藉此製造聚乙烯醇系樹脂層而做成堆疊體，並在對該堆疊體進行延伸處理後，使二色性物質定向而做成著色堆疊體，再對該著色堆疊體進行延伸處理而獲得光學薄膜的方法。
『專利文獻』 《專利文獻1》：日本專利第4691205號公報（對應公報：美國專利第8314987號說明書）
在藉由專利文獻1所記載之方法製造薄偏光板的情況下，有時會因以高延伸倍率延伸堆疊體，而在延伸處理後的樹脂薄膜產生相位差。在此種情況下，由於難以將樹脂薄膜直接作為偏光板保護薄膜使用，而變得要剝離並廢棄，故會產生浪費的材料。再者，可能會增加另外準備用以保護偏光板的保護薄膜並貼附至偏光板的工作。
因此，本發明之目的在於提供「即便將樹脂薄膜（樹脂層）作為保護薄膜仍可使用，且即便厚度薄仍可有效率製造」的偏光板用堆疊體及其製造方法、使用前述堆疊體的偏光板及其製造方法，以及使用前述堆疊體的偏光板用堆疊體薄膜卷。
為解決上述問題而進行研究的結果，本發明人發現，藉由使用具有「指定波長之光線的穿透率為50%以上的聚乙烯醇樹脂薄膜」與「直接堆疊於該薄膜的樹脂層」的堆疊體，得解決上述問題，進而完成本發明。
因此，根據本發明，可提供下述〔1〕～〔18〕。
〔1〕一種偏光板用堆疊體，其具有： 波長550 nm之光線的穿透率為50%以上的聚乙烯醇樹脂薄膜，與 直接堆疊於前述聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面的樹脂層。
〔2〕如〔1〕所記載之偏光板用堆疊體，其中前述樹脂層係藉由於前述聚乙烯醇樹脂薄膜塗覆樹脂而形成的樹脂層。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所記載之偏光板用堆疊體，其中前述聚乙烯醇樹脂薄膜之面內方向的相位差Re1為50 nm以下。
〔4〕如〔1〕～〔3〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，其中 前述聚乙烯醇樹脂薄膜的厚度T為45 μm以下，且 前述樹脂層的延伸物之面內方向的相位差Re2為0 nm以上且20 nm以下，前述相位差Re2係在50℃～120℃之溫度條件下將前述偏光板用堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍，而將前述樹脂層做成前述延伸物時，前述延伸物所具有之相位差。
〔5〕如〔1〕～〔4〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，其中前述樹脂層的厚度為50 μm以下。
〔6〕如〔1〕～〔5〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，其中前述樹脂層係由環烯烴系樹脂而成。
〔7〕如〔6〕所記載之偏光板用堆疊體，其中 前述環烯烴系樹脂包含環烯烴系聚合物， 前述環烯烴系聚合物係將嵌段共聚物［D］氫化後的嵌段共聚物氫化物，所述嵌段共聚物［D］係由： 以源自芳族乙烯化合物之重複單元［I］作為主成分的聚合物嵌段［A］，與 以源自芳族乙烯化合物之重複單元［I］及源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元［II］作為主成分的聚合物嵌段［B］，或以源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元［II］作為主成分的聚合物嵌段［C］而成。
〔8〕如〔1〕～〔7〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，其中前述樹脂層含有塑化劑、軟化劑或此等二者。
〔9〕如〔8〕所記載之偏光板用堆疊體，其中前述塑化劑、前述軟化劑或此等二者，係選自酯系塑化劑及脂族烴聚合物之一種以上。
〔10〕如〔1〕～〔9〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，其中前述樹脂層含有有機金屬化合物。
〔11〕一種偏光板，其係如〔1〕～〔10〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體經單軸延伸者。
〔12〕一種堆疊體薄膜卷，其經收捲成輥狀，且具有： 如〔1〕～〔10〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體，以及 堆疊於該偏光板用堆疊體的樹脂層之與前述聚乙烯醇樹脂薄膜相反之側之面的隔離膜。
〔13〕一種偏光板用堆疊體的製造方法，其依序包含： 於波長550 nm之光線的穿透率為50%以上之聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面塗覆樹脂以形成樹脂層的第一工序；與 將在前述第一工序中形成之樹脂層乾燥的第二工序。
〔14〕如〔13〕所記載之偏光板用堆疊體的製造方法，其中前述塗覆之方法係選自溶液塗覆、乳液塗覆或熔融擠製塗覆之一種以上的方法。
〔15〕如〔13〕或〔14〕所記載之偏光板用堆疊體的製造方法，其包含：在前述第一工序之前，對前述聚乙烯醇樹脂薄膜進行加熱處理的第三工序。
〔16〕如〔13〕～〔15〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體的製造方法，其包含：在前述第一工序之前，對前述聚乙烯醇樹脂薄膜之表面進行活化處理的第四工序。
〔17〕一種偏光板的製造方法，其係使用如〔1〕～〔10〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體或藉由如〔13〕～〔16〕之任一項所記載之偏光板用堆疊體的製造方法而獲得之偏光板用堆疊體來製造偏光板的方法，其包含： 將前述偏光板用堆疊體以二色性染料染色的第五工序，與 將前述偏光板用堆疊體單軸延伸的第六工序。
〔18〕如〔17〕所記載之偏光板的製造方法，其包含：在歷經前述第五工序及／或前述第六工序之後，於前述偏光板用堆疊體的聚乙烯醇樹脂薄膜之與樹脂層相反之側的面，貼合保護薄膜的第七工序。
根據本發明，可提供「即便將樹脂薄膜（樹脂層）作為保護薄膜仍可使用，且即便厚度薄仍可有效率製造」的偏光板用堆疊體及其製造方法、使用前述堆疊體的偏光板及其製造方法，以及堆疊體薄膜卷。
以下揭示實施型態及示例物以詳細說明本發明。惟本發明並非受以下所說明之實施型態及示例物所限定者，在不脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍的範圍中亦可任意變更而實施。
在本申請中，所謂「長條」的薄膜，係指相對於薄膜之幅寬，具有5倍以上之長度者，以具有10倍或其以上之長度為佳，具體上係指具有可收捲成輥狀儲存或搬運之程度的長度者。相對於薄膜幅寬之長度的比例之上限並不特別受限，但得定為例如100,000倍以下。
在本申請中，薄膜之面內方向的相位差Re及厚度方向的相位差Rth，係依循式Re＝（nx－ny）×d及Rth＝｛［（nx＋ny）／2］－nz｝×d而計算出。並且薄膜的Nz係數係由［（nx－nz）／（nx－ny）］所表示之值，亦得表示為［（Rth／Re）＋0.5］。於此，nx係薄膜之面內之慢軸方向的折射率（面內的最大折射率），ny係與薄膜之面內之慢軸垂直之面內方向的折射率，nz係薄膜之厚度方向的折射率，d係薄膜的厚度（nm）。量測波長，除非另有註記，否則設為可見光區域的代表性波長550 nm。
［實施型態1：偏光板用堆疊體及其製造方法、堆疊體薄膜卷、偏光板及其製造方法］
以下參照圖1～圖5，同時說明本發明的一實施型態之實施型態1的偏光板用堆疊體（以下亦僅稱作「堆疊體」）及其製造方法、使用該堆疊體的堆疊體薄膜卷、以及使用該堆疊體的偏光板及其製造方法。
［1.堆疊體］
本發明之堆疊體，具有：波長550 nm之光線的穿透率為50%以上的聚乙烯醇樹脂薄膜，與直接堆疊於聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面的樹脂層。
誠如文章脈絡上所明言，在本申請中，「樹脂層」係有別於聚乙烯醇樹脂薄膜的層體。
在本申請中，所謂「直接堆疊」於聚乙烯醇樹脂薄膜之面的樹脂層，係為以下狀態的樹脂層：於構成聚乙烯醇樹脂薄膜的材料之層體的面上形成，結果便與聚乙烯醇樹脂薄膜之面直接相接。
圖1係繪示本發明相關之實施型態1之堆疊體10的剖面示意圖之一例。如圖1所示，本實施型態之堆疊體10包含未延伸之聚乙烯醇樹脂薄膜11，與設置於聚乙烯醇樹脂薄膜11其中之一面（圖示之上側面）的樹脂層12。本發明之堆疊體10係用以製造偏光件（偏光板）的材料。
［聚乙烯醇樹脂薄膜］
在本發明中，聚乙烯醇樹脂薄膜，係波長550 nm之光線的穿透率（以下亦將「波長550 nm之光線的穿透率」稱作「光線穿透率」）為50%以上的薄膜。在本發明中作為聚乙烯醇樹脂薄膜，使用未著色之薄膜。聚乙烯醇樹脂薄膜的光線穿透率，以55%以上為佳，以60%以上為較佳，且以99%以下為佳，以97%以下為較佳。
聚乙烯醇樹脂薄膜係由聚乙烯醇樹脂（以下有時將「聚乙烯醇」簡稱為「PVA」）而成之未延伸之薄膜。在本申請中，所謂「未延伸之薄膜」，係指未供予延伸處理者。
在本發明中，作為PVA樹脂薄膜（聚乙烯醇樹脂薄膜）並不盡然受限，但就取得性等而言，以使用藉由將聚合乙酸乙烯酯而獲得之聚乙酸乙烯酯皂化來製造者為佳。PVA樹脂所包含之PVA，就延伸性或可獲得之偏光件的偏光性能等優異的觀點而言，聚合度以位於500～8000之範圍為佳，皂化度以90莫耳%以上為佳。於此所謂聚合度，係遵循JIS K6726-1994之記載而量測到的平均聚合度，所謂皂化度，係遵循JIS K6726-1994之記載而量測到的值。聚合度之較佳範圍為1000～6000，以1500～4000為更佳。皂化度之較佳範圍為95莫耳%以上，以99莫耳%以上為更佳。PVA亦可為乙酸乙烯酯與能共聚合之其他單體的共聚合物或接枝聚合物。
在本發明中，PVA樹脂薄膜的製法並不特別受限，可藉由眾所周知的方法等任意方法製造。作為製法之例，可舉出：以將PVA溶解於溶劑之PVA溶液作為製膜原液使用之依流延製膜法、濕式製膜法（向不良溶劑中排出）、乾濕式製膜法、凝膠製膜法（先將PVA水溶液冷卻凝膠化後，抽離去除溶劑，獲得PVA樹脂薄膜的方法）及此等之組合的方法。作為製法之另一例，可舉出：以將含有溶劑的PVA熔融後之物作為製膜原液來進行的熔融擠製製膜法。此等之中，就可獲得透明性高且著色少的PVA之樹脂薄膜而言以流延製膜法及熔融擠製製膜法為佳，就可獲得高製膜速度而言以熔融擠製製膜法為較佳。
在本發明中，PVA樹脂薄膜，為了改善機械物理性質或二次加工時之作業順暢性等，以相對於PVA含有甘油等多元醇等塑化劑0.01～30重量%為佳，並且為了改善操作性或薄膜外觀等，以相對於PVA含有陰離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑等界面活性劑0.01～1重量%為佳。
PVA樹脂薄膜亦可視需要更包含抗氧化劑、紫外線吸收劑、滑劑、pH調節劑、無機物微粒子、著色劑、防腐劑、滅真菌劑、上述成分以外的其他高分子化合物、水分等任意成分。PVA樹脂薄膜可包含前述任意成分之1種或2種以上。
PVA樹脂薄膜的厚度T以45 μm以下為佳，以35 μm以下為較佳，以25 μm以下為更佳，且以5 μm以上為佳，以10 μm以上為較佳，以15 μm以上為更佳。藉由PVA樹脂薄膜的厚度為前述範圍之上限值以下可有效降低偏光板的收縮力，且藉由為前述範圍之下限值以上可獲得具有充分高之偏光度的偏光板。
PVA樹脂薄膜之面內方向的相位差Re1以50 nm以下為佳，以40 nm以下為較佳，以30 nm以下為更佳，且以0 nm以上為佳，以3 nm以上為較佳。藉由PVA樹脂薄膜之面內方向的相位差Re1為上述範圍之上限值以下，可以充分之倍率延伸堆疊體，而可獲得高偏光度的偏光板。
PVA樹脂薄膜的形狀及尺寸得適當調整成相應於期望之用途者。在製造效率上，PVA樹脂薄膜以長條的薄膜為佳。
［樹脂層］
樹脂層係由樹脂而成之層體。樹脂層得為藉由於PVA樹脂薄膜塗覆樹脂而形成之樹脂層。在本發明中，形成樹脂層之樹脂，以具有能在低溫（例如50～120℃）下以高延伸倍率（例如6.0倍）延伸之柔軟性的樹脂為佳，具體而言以環烯烴系樹脂為佳。環烯烴系樹脂係包含環烯烴系聚合物的樹脂。
［樹脂］
作為環烯烴系樹脂所包含之環烯烴系聚合物，以將嵌段共聚物［D］氫化後的嵌段共聚物氫化物為佳，所述嵌段共聚物［D］係由：以源自芳族乙烯化合物之重複單元［I］作為主成分的聚合物嵌段［A］，與以源自芳族乙烯化合物之重複單元［I］及源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元［II］作為主成分的聚合物嵌段［B］或以源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元［II］作為主成分的聚合物嵌段［C］而成。作為此種嵌段共聚物氫化物，可列舉：WO2000/32646號公報、WO2001/081957號、日本專利公開第2002-105151號公報、日本專利公開第2006-195242號公報、日本專利公開第2011-13378號公報、WO2015／002020號等所記載之聚合物。
［塑化劑及軟化劑］
在本發明中，形成樹脂層之樹脂，以含有塑化劑及／或軟化劑（塑化劑及軟化劑之中之任一者或兩者）為佳。藉由含有塑化劑及／或軟化劑，可減小在延伸堆疊體而獲得偏光板時於樹脂層產生的相位差。
作為塑化劑及軟化劑，得使用可均勻溶解乃至於分散至形成樹脂層之樹脂者。作為塑化劑及軟化劑之具體例，可列舉：由多元醇與一元羧酸而成之酯系塑化劑（以下稱作「多元醇酯系塑化劑」。）及由多元羧酸與一元醇而成之酯系塑化劑（以下稱作「多元羧酸酯系塑化劑」。）等酯系塑化劑，以及磷酸酯系塑化劑、醣酯系塑化劑及其他聚合物軟化劑。
作為在本發明中係為較佳使用之酯系塑化劑之原料的多元醇之例，並不特別受限，但以乙二醇、甘油、三羥甲基丙烷為佳。
作為多元醇酯系塑化劑之例，可列舉：乙二醇酯系塑化劑、甘油酯系塑化劑及其他多元醇酯系塑化劑。
作為多元羧酸酯系塑化劑之例，可列舉：二羧酸酯系塑化劑及其他多元羧酸酯系塑化劑。
作為磷酸酯系塑化劑之例，具體而言可列舉：磷酸三乙醯酯、磷酸三丁酯等磷酸烷酯；磷酸三環戊酯、磷酸環己酯等磷酸環烷酯；磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯等磷酸芳酯。
作為醣酯系塑化劑，具體而言可列舉以五乙酸葡萄糖酯、五丙酸葡萄糖酯、五丁酸葡萄糖酯、八乙酸蔗糖酯、八苯甲酸蔗糖酯等為佳，在此之內以八乙酸蔗糖酯為較佳。
作為聚合物軟化劑，具體而言可列舉：脂族烴聚合物、脂環烴系聚合物、聚丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯與甲基丙烯酸-2-羥乙酯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯與丙烯酸甲酯與甲基丙烯酸-2-羥乙酯的共聚物等丙烯酸系聚合物；聚乙烯基異丁基醚、聚-N-乙烯氫吡咯酮等乙烯系聚合物；聚苯乙烯、聚-4-羥基苯乙烯等苯乙烯系聚合物；聚丁二酸丁二酯、聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯；聚環氧乙烷、聚環氧丙烷等聚醚；聚醯胺、聚胺甲酸酯、聚脲等。
作為脂族烴聚合物之具體例，可列舉：聚異丁烯、聚丁烯、聚-4-甲基戊烯、聚-1-辛烯、乙烯―α-烯烴共聚物等之低分子量物及其氫化物；聚異戊二烯、聚異戊二烯―丁二烯共聚物等的低分子量物及其氫化物等。就易於均勻溶解乃至於分散至環烯烴樹脂的觀點而言，脂族烴系聚合物以數量平均分子量為300～5,000為佳。
此等聚合物軟化劑可為由1種重複單元而成之均聚物，亦可為具有多個重複結構物的共聚物。並且，亦可將上述聚合物合併2種以上使用。
在本發明中，作為塑化劑及／或軟化劑，就與形成樹脂層之樹脂的相容性尤為優異而言，以選自酯系塑化劑及脂族烴聚合物之一種以上為佳。
在樹脂層中之塑化劑及／或軟化劑（以下亦稱作「塑化劑等」）的比例，相對於形成樹脂層之樹脂100重量份，以0.2重量份以上為佳，以0.5重量份以上為較佳，以1.0重量份以上更為較佳，另一方面以50重量份以下為佳，以40重量份以下為較佳。藉由將塑化劑等的比例定為前述範圍內，即便歷經包含延伸處理之偏光板的製造工序，仍可將樹脂層做成相位差之顯現足夠低者。
［有機金屬化合物］
在本發明中，樹脂層以含有有機金屬化合物為佳。藉由包含有機金屬化合物，可更有效抑制在以高延伸倍率延伸堆疊體（例如以延伸倍率6.0進行濕式延伸）的情形中樹脂層之剝離的發生。
有機金屬化合物係包含金屬與碳的化學鍵以及金屬與氧的化學鍵之至少一者的化合物，且係具有有機基的金屬化合物。作為有機金屬化合物，可列舉：有機矽化合物、有機鈦化合物、有機鋁化合物、有機鋯化合物等。此等之中，就與聚乙烯醇的反應性優異而言，以有機矽化合物、有機鈦化合物及有機鋯化合物為佳，以有機矽化合物為較佳。有機金屬化合物亦可使用一種或組合二種以上使用。
作為有機金屬化合物，可舉出例如：由下述式（1）表示之有機矽化合物，但不受限於此。 R1 a Si(OR2 )3 − a （1） （在式（1）中，R1 及R2 分別獨立，表示選自由氫原子、鹵素原子、碳原子數1～10的烴基、環氧基、胺基、巰基、異氰酸基及碳原子數1～10的有機基而成之群組之基，a表示0～3的整數。）
在式（1）中，若要舉出佳例作為R1 ，可列舉：環氧基、胺基、巰基、異氰酸基、乙烯基、丙烯醯基、芳基、－CH2 OCn H2n+1 （n代表1～4的整數。）、碳原子數1～8的烷基等。
並且，在式（1）中，若要舉出佳例作為R2 ，可列舉：氫原子、乙烯基、芳基、丙烯醯基、碳原子數1～8的烷基、－CH2 OCn H2n+1 （n代表1～4的整數。）等。
作為有機矽化合物之例，可列舉：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等環氧系有機矽化合物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷等胺系有機矽化合物、三聚異氰酸(三甲氧基矽基丙基)酯等異氰酸酯系有機矽化合物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等巰系有機矽化合物、3-異氰酸丙酯基三乙氧基矽烷等異氰酸酯系有機矽化合物。
作為有機鈦化合物之例，可列舉：鈦酸四異丙酯等烷氧化鈦、乙醯丙酮鈦等鈦螯合物、異硬脂酸鈦等醯氧鈦。
作為有機鋯化合物之例，可列舉：鋯酸正丙酯等烷氧化鋯、四乙醯丙酮鋯等鋯螯合物、硬脂酸鋯等醯氧鋯。
作為有機鋁化合物之例，可列舉：二級丁基氧化鋁等烷氧化鋁、三乙醯丙酮鋁等鋁螯合物。
在樹脂層中之有機金屬化合物的比例，相對於形成樹脂層之樹脂100重量份，以0.005重量份以上為佳，以0.01重量份以上為較佳，以0.03重量份以上更為較佳，另一方面以1.0重量份以下為佳，以0.5重量份以下為較佳。藉由將有機金屬化合物的比例定為前述範圍內，可更有效抑制在以高倍率（例如延伸倍率6.0）濕式延伸堆疊體的情形中，樹脂層之剝離的發生。
［任意成分］
樹脂層於樹脂、塑化劑、有機金屬化合物等之外還得包含任意成分。作為任意成分之例，可列舉：抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑等穩定劑；滑劑等樹脂改質劑；染料或顏料等著色劑；及抗靜電劑。此等摻合劑可單獨使用1種，或組合2種以上使用，其摻合量可適當選擇。
［樹脂層的厚度］
樹脂層的厚度以1 μm以上為佳，以3 μm以上為較佳，且以50 μm以下為佳，以20 μm以下為較佳。藉由樹脂層的厚度為前述範圍之下限值以上，可有效防止在偏光板化工序中之偏光件的熔斷，且藉由為前述範圍之上限值以下，可減小在延伸堆疊體而獲得偏光板時於樹脂層產生的相位差。
［樹脂層的Re2］
樹脂層的Re2以0 nm以上且20 nm以下為佳。Re2以0 nm以上為較佳，且以10 nm以下為較佳，以5 nm以下為尤佳。藉由Re2為上限值以下，可減小在延伸堆疊體10而做成偏光板時於樹脂層顯現的相位差。
Re2係於在50℃～120℃之溫度條件下將堆疊體10自由端單軸延伸至6.0倍，而將在堆疊體中之樹脂層做成延伸物時，樹脂層之延伸物所具有之面內方向的相位差。亦即，Re2並非在堆疊體中之樹脂層本身的相位差，而是對堆疊體施加特定之延伸處理後，於樹脂層之延伸物產生的相位差。
用以獲得此種延伸物的延伸溫度，可為50℃～120℃之範圍內的任何溫度。因此，可設想用於獲得延伸物之延伸的多個操作條件。在延伸物因此種多個操作條件之任一者而顯現0 nm以上且20 nm以下之相位差的情況下，堆疊體即滿足前述要件。
惟以「延伸物因所有得獲取之前述多個操作條件而顯現0 nm以上且20 nm以下之相位差」為佳。在此情況下，於透過本發明之偏光板用堆疊體的偏光板之製造中，可獲得高的「延伸條件設定之自由度」。
一般而言，於該溫度範圍中，在延伸溫度較低的情況下，會有較大的相位差顯現。因此，只要「以50℃之延伸做成的延伸物之相位差」及「以120℃之延伸做成的延伸物之相位差」兩者為0 nm以上且20 nm以下之範圍內，即得判斷延伸物因所有前述多個操作條件而顯現0 nm以上且20 nm以下之相位差。
［2.堆疊體的製造方法］
本實施型態相關之堆疊體的製造方法依序包含：於波長550 nm之光線的穿透率為50%以上之PVA樹脂薄膜之至少一面塗覆樹脂以形成樹脂層的第一工序，與將在第一工序中形成之樹脂層乾燥的第二工序。
並且，堆疊體的製造方法亦可包含選自以下之任一工序或兩個工序：在第一工序之前，對PVA樹脂薄膜進行加熱處理的第三工序，以及對PVA樹脂薄膜之表面進行活化處理的第四工序。
［堆疊體的製造裝置］
圖2係繪示在本實施型態相關之堆疊體的製造方法中所使用的製造裝置200之一例的概略示意圖。製造裝置200具備捲出裝置201、塗覆裝置202、收捲裝置203、進行加熱處理及活化處理等處理的處理裝置204，以及乾燥裝置205。
［堆疊體的製造方法］
如圖2所示，將自捲出裝置201捲出之PVA樹脂薄膜11運送至處理裝置204，並於在處理裝置204進行過選自加熱處理（第三工序）及活化處理（第四工序）的處理（處理工序）之後，歷經於塗覆裝置202形成樹脂層12（第一工序），並於乾燥裝置205乾燥的工序（第二工序），獲得堆疊體10。所製造的堆疊體10可由收捲裝置203收捲成輥的形狀，以供予進一步之工序。以下說明各工序。
［第一工序］
第一工序係於PVA樹脂薄膜11之至少一面塗覆樹脂以形成樹脂層12的工序。於PVA樹脂薄膜11塗覆樹脂的方法（塗覆之方法）並不特別受限，但以選自例如：溶液塗覆、乳液塗覆或熔融擠製塗覆之一個以上之方法為佳，就能高速塗布且可獲得均勻之膜厚度的樹脂層而言以溶液塗覆為較佳。
在藉由溶液塗覆以形成樹脂層12的情況下，會將於樹脂層12之形成所使用的樹脂及視需求所添加的成分溶解於溶劑而做成樹脂組成物，將該樹脂組成物塗覆於PVA樹脂薄膜11。亦即「塗覆樹脂」之詞句，包含「僅塗覆樹脂的情形」以及「塗覆包含樹脂及其以外之成分之樹脂組成物的情形」兩者。
［第二工序］
第二工序係將在第一工序中所形成之樹脂層乾燥的工序。
於第二工序中，以在溫度50℃～120℃之溫度的乾燥機中，將樹脂層乾燥0.5分鐘～10分鐘為佳。前述樹脂層之乾燥溫度，以60℃以上為較佳，以70℃以上為更佳，且以100℃以下為較佳，以90℃以下為更佳。藉由將乾燥溫度定為下限值以上可縮短乾燥時間，且藉由將乾燥溫度定為上限值以下可抑制PVA樹脂薄膜的結晶化。
［處理工序］
處理工序係進行選自加熱處理（第三工序）及活化處理（第四工序）之處理的工序。
［第三工序］
第三工序係在第一工序之前，對PVA樹脂薄膜進行加熱處理的工序。在本發明中該第三工序係任意工序，可包含亦可不包含。藉由在第三工序中對PVA樹脂薄膜進行加熱處理，可去除存在於PVA樹脂薄膜之皺褶，提升平坦性。藉由使PVA樹脂薄膜平滑，可提升在第一工序中所形成之樹脂層的膜厚精確度。PVA樹脂薄膜的加熱溫度以50℃以上為佳，以60℃以上為較佳，且以100℃以下為佳，以90℃以下為較佳。
［第四工序］
第四工序係在第一工序之前，對PVA樹脂薄膜之要形成樹脂層的面進行活化處理的工序。在本發明中該第四工序係任意工序，可包含亦可不包含。在第四工序中，透過活化PVA樹脂薄膜的表面，去除滲出至PVA樹脂薄膜表面的塑化劑等，將PVA樹脂薄膜表面氧化，藉此可提高樹脂層的接合性，在形成樹脂層時抑制樹脂層剝離。
作為活化處理的方法，可列舉例如：電暈處理、電漿處理、皂化處理、底塗處理、錨式塗覆處理。
進行第四工序的時間，只要為第一工序之前即無限定，亦可在第三工序之前、第三工序之後或與第三工序同時之任一時間進行。由於有PVA樹脂薄膜所包含之塑化劑等因第三工序而滲出至PVA樹脂薄膜之表面的可能性，第四工序以在第三工序之後進行為尤佳。
［堆疊體的用途］
本發明之堆疊體10係用以製造偏光板的材料。堆疊體在進行過延伸處理及染色處理等指定之處理之後，被做成偏光板。在將堆疊體10作為偏光板的材料之情況下，可直接使用經圖2所示之收捲裝置203收捲的堆疊體，亦可將經收捲裝置203收捲之堆疊體的樹脂層12堆疊於隔離膜，收捲成輥狀，做成堆疊體薄膜卷再使用。以下依序說明使用本實施型態之堆疊體10的本實施型態之堆疊體薄膜卷及偏光板。
［3.堆疊體薄膜卷］
圖3係繪示使用本實施型態相關之堆疊體的堆疊體薄膜卷的剖面示意圖。
如圖3所示，本實施型態之堆疊體薄膜卷15具有堆疊體10，以及堆疊於堆疊體10的樹脂層12之與PVA樹脂薄膜11相反之側的面（圖示之上側面）的隔離膜13，且係經收捲成輥狀的薄膜卷。
作為隔離膜13，只要係由能自樹脂層12剝離之材料而成的薄膜則並無特別限定，可使用由選自例如：環烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚對酞酸乙二酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂及三乙醯纖維素樹脂之一種以上之樹脂而成的薄膜。
［4.偏光板的製造方法］
本發明之偏光板100可藉由將本實施型態之偏光板用堆疊體10單軸延伸而獲得。圖4係繪示使用本實施型態相關之偏光板用堆疊體來製造偏光板的製造裝置之一例的示意圖。
本發明之偏光板的製造方法，包含：以二色性染料將堆疊體染色的第五工序，與將堆疊體單軸延伸的第六工序。
並且，本發明之偏光板的製造方法亦可包含：在歷經第五工序及／或第六工序之後，於堆疊體的PVA樹脂薄膜之與樹脂層相反之側的面，貼合保護薄膜的第七工序。第七工序係任意工序，在實施型態中，係說明藉由不包含第七工序之製造方法來製造偏光板之例。
［製造偏光板的裝置］
如圖4所示，製造偏光板的製造裝置300具備捲出裝置301&307、處理裝置302～305、乾燥裝置306&309、貼合裝置308及收捲裝置310。
［偏光板的製造方法］
在本實施型態中，將自捲出裝置301捲出之堆疊體10運送至處理裝置302～305，進行將堆疊體10之PVA樹脂薄膜11染色的染色處理（第五工序）、將堆疊體單軸延伸的延伸處理（第六工序），以及指定之處理。進行「將進行過此等處理後之堆疊體於乾燥裝置306乾燥」的處理（乾燥工序），即可獲得偏光板100。以下詳細說明各工序。
［第五工序］
第五工序係將堆疊體10之PVA樹脂薄膜11染色的工序。於本實施型態中，儘管係將堆疊體之PVA樹脂薄膜染色，但PVA樹脂薄膜的染色亦可對形成堆疊體之前的PVA樹脂薄膜進行。
作為將第五工序中之PVA樹脂薄膜染色的物質，可舉出二色性物質，而作為二色性物質，可列舉：碘、有機染料等。使用此等二色性物質的染色方法係為任意。舉例而言，亦可藉由將PVA樹脂薄膜的層體浸漬於包含二色性物質的染色溶液來進行染色。並且，在使用碘作為二色性物質的情況下，就提高染色效率的觀點而言，染色溶液亦可包含碘化鉀等碘化物。二色性物質並無特別限制，但在將偏光板使用於車載用之顯示裝置的情況下，作為二色性物質，以有機染料為佳。
［第六工序］
第六工序係將堆疊體單軸延伸的工序。作為延伸堆疊體的方法並不特別受限，但以濕式延伸為佳。第六工序亦可在第五工序之前、第五工序之後或與第五工序同時之任一時間進行。並且，第六工序亦可在第五工序之前、第五工序之後或與第五工序同時之任一時間分割進行多次。延伸工序可進行1次，亦可進行2次以上。
堆疊體的延伸倍率以5.0以上為佳，以5.5以上為較佳，且以7.0以下為佳，以6.5以下為較佳。若將堆疊體的延伸倍率定為前述範圍之上限值以下，則即便歷經包含延伸處理之偏光板的製造工序，仍可降低樹脂層之相位差的顯現，防止偏光板之斷裂的發生，且藉由將延伸倍率定為前述範圍之下限值以上，則可獲得擁有充分偏光性能的偏光板。在進行2次以上堆疊體之延伸的情況下，以由各次的延伸倍率之積所表示之總延伸倍率成為前述範圍者為佳。
堆疊體的延伸溫度並無特別之限制，但以30℃以上為佳，以40℃以上為較佳，以50℃以上為尤佳，且以140℃以下為佳，以90℃以下為較佳，以70℃以下為尤佳。藉由延伸溫度為前述範圍之下限值以上可順利進行延伸，並且，藉由為前述範圍之上限值以下可透過延伸進行有效的定向。前述延伸溫度之範圍雖以乾式延伸及濕式延伸之任一方法皆為佳，但以濕式延伸的情形為尤佳。
堆疊體的延伸處理進行以下任一者皆可：沿薄膜長邊方向進行延伸的縱向延伸處理、沿薄膜幅寬方向進行延伸的橫向延伸處理、沿既不平行亦不垂直於薄膜幅寬方向的斜向進行延伸的斜向延伸處理。堆疊體的延伸處理以自由端單軸延伸為佳，以縱向的自由端單軸延伸為較佳。
［乾燥工序］
乾燥工序係將歷經第五工序及第六工序的堆疊體乾燥的工序。在乾燥工序中，以在溫度50℃～100℃之溫度的乾燥機中，將堆疊體乾燥0.5分鐘～10分鐘為佳。前述堆疊體的乾燥溫度以60℃以上為較佳，且以90℃以下為較佳。藉由將乾燥溫度定為下限值以上可縮短乾燥時間，且藉由將乾燥溫度定為上限值以下可防止PVA樹脂薄膜的破裂。前述堆疊體的乾燥時間以1分鐘以上為較佳，且以5分鐘以下為較佳。藉由將乾燥時間定為下限值以上可使前述堆疊體充分乾燥，藉由定為上限值以下，可防止堆疊體中之PVA樹脂薄膜的破裂。
在僅由以往的PVA樹脂而成之薄膜的偏光件中，有時會於乾燥工序後發生破裂，但由於本實施型態之偏光板係使用具有PVA樹脂薄膜及直接堆疊於PVA樹脂薄膜之樹脂層的堆疊體而製造，故即便在歷經乾燥工序之後仍可抑制偏光件之破裂的發生。
［5.偏光板］
藉由上述本實施型態之偏光板的製造方法，可獲得偏光板。本實施型態之偏光板係本實施型態之堆疊體經單軸延伸的偏光板。圖5係繪示使用本實施型態相關之堆疊體而製造之偏光板的剖面示意圖。
如圖5所示，在偏光板100中，於PVA樹脂薄膜111其中一面（圖示之上側面）之上堆疊有樹脂層112。
［在偏光板中之各層之特性］
在偏光板100中之PVA樹脂薄膜111的厚度，以20 μm以下為佳，以10 μm以下為較佳，且以3 μm以上為佳，以5 μm以上為較佳。藉由厚度為上限值以下，可減小偏光板的厚度，藉由厚度為下限值以上，可獲得具有充分高之偏光度的偏光板。
在偏光板中的樹脂層之面內方向的相位差以20 nm以下為佳，以15 nm以下為較佳，以10 nm以下為更佳，且以0 nm以上為佳。藉由在偏光板中的樹脂層之面內方向的相位差為上述範圍內，可抑制在將偏光板裝設於液晶顯示裝置時的黑色偏移。
［偏光板的用途］
使用本發明之偏光板用堆疊體而製造的偏光板得成為液晶顯示裝置的材料。
通常，液晶顯示裝置得依序具備光源、光源側偏光板、液晶單元及觀看側偏光板，但藉由本發明所獲得之偏光板，使用於光源側偏光板及觀看側偏光板之任一者皆可。該液晶顯示裝置可藉由將本發明之偏光板作為光源側偏光板及觀看側偏光板兩者或其中一者，設置於液晶面板而製造。
並且使用本發明之偏光板用堆疊體而製造的偏光板得成為有機EL顯示裝置或無機EL顯示裝置等的材料。
通常，有機EL顯示裝置，自光出射側依序具備基板、透明電極、發光層及金屬電極層，但藉由本發明之製造方法而獲得的偏光板可配置於基板的光出射側。
EL顯示裝置具有2片基板、位於其間的發光層、配置於2片基板之其中一基板之外側的偏光板。該顯示裝置可藉由將本發明之偏光板設置於有機EL面板或無機EL面板來製造。
［6.本實施型態的作用、效果］
在本實施型態中，由於係藉由將具有「光線穿透率為50%以上的PVA樹脂薄膜」與「直接堆疊於PVA樹脂薄膜之面的樹脂層」的堆疊體延伸來製造偏光板，故即使在於低溫下以高倍率延伸堆疊體的時候，仍可抑制PVA樹脂薄膜之熔斷的發生，且可抑制在延伸後的樹脂層中之相位差的顯現。其結果，根據本實施型態，可不剝離樹脂層而直接將之作為PVA樹脂薄膜之其中一面的保護薄膜來使用，且可減少浪費的材料，故可提供「即便將樹脂層作為保護薄膜仍可使用，且即便厚度薄仍可有效率製造」的偏光板用堆疊體及其製造方法、使用前述堆疊體的偏光板及其製造方法、以及堆疊體薄膜卷。
並且，根據本實施型態，由於使用將樹脂層12直接堆疊於PVA樹脂薄膜11的堆疊體，在樹脂層與PVA樹脂薄膜之間不中介其他材料，故斷裂抑制效果優異，且可防止生產環境中之其他物質所致之環境汙染，或防止對製品之瑕玷（混入異物）的效果。
［實施型態2：偏光板及其製造方法］
以下參照圖4及圖6，同時說明實施型態2相關之偏光板120及其製造方法。本實施型態相關之偏光板120，係使用實施型態1相關之偏光板100而製造者。針對與實施型態1相同之結構及態樣標註相同之符號，並省略重複之說明。
［偏光板］
圖6係繪示本發明之實施型態2相關之偏光板120的剖面示意圖。在此偏光板120中，如圖6所示，於PVA樹脂薄膜111之其中一面（圖示之上側面）之上堆疊有樹脂層112，PVA樹脂薄膜111之另一面側（圖示之下側面）堆疊有保護薄膜115。圖5的114為接合劑。
本實施型態之偏光板120的製造方法包含：在歷經第五工序及第六工序之後，於堆疊體的PVA樹脂薄膜之與樹脂層相反之側的面，貼合保護薄膜的第七工序。以下詳細說明之。
本實施型態之偏光板120係使用圖4所示之裝置所製造。於本實施型態之偏光板120的製造方法中，係使用：在將堆疊體10之PVA樹脂薄膜11染色的染色處理（第五工序）及將堆疊體單軸延伸的延伸處理（第六工序）之後，於乾燥裝置306乾燥而獲得的偏光板100。
偏光板120可藉由將歷經染色處理（第五工序）及延伸處理（第六工序）而獲得之偏光板100運送至貼合裝置308，於堆疊體的PVA樹脂薄膜之與樹脂層相反之側的面（未堆疊有樹脂層之側的面）塗布接合劑114，並貼合自捲出裝置307捲出之保護薄膜115（第七工序）而獲得。所獲得之偏光板120，可經收捲裝置310收捲成輥的形狀以供予進一步之工序。
作為在第七工序所使用之用以將保護薄膜115貼合至PVA樹脂薄膜111的接合劑113，並無特別限制，可列舉例如：丙烯酸系接合劑、環氧系接合劑、胺甲酸酯系接合劑、聚酯系接合劑、聚乙烯醇系接合劑、聚烯烴系接合劑、改質聚烯烴系接合劑、聚乙烯基烷基醚系接合劑、橡膠系接合劑、氯乙烯―乙酸乙烯酯系接合劑、SEBS（苯乙烯―乙烯―丁烯―苯乙烯共聚物）系接合劑、乙烯―苯乙烯共聚物等乙烯系接合劑、乙烯―（甲基）丙烯酸甲酯共聚物、乙烯―（甲基）丙烯酸乙酯共聚物等丙烯酸酯系接合劑等。
作為在第7工序中所使用之保護薄膜115，可舉出由選自：環烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚對酞酸乙二酯樹脂及三乙醯纖維素樹脂之一種以上之樹脂而成的薄膜。
本實施型態之偏光板由於與實施型態1之偏光板同樣係藉由將具有「光線穿透率為50%以上的PVA樹脂薄膜」與「直接堆疊於PVA樹脂薄膜之面的樹脂層」的偏光板用堆疊體延伸來製造偏光板，故具有與實施型態1相同的作用效果。
並且，根據本實施型態，由於在PVA樹脂薄膜111之未堆疊有樹脂層112之側的面具備保護薄膜115，故亦起到防止於PVA樹脂薄膜111之表面留下傷痕等的效果。
［其他實施型態］
於實施型態1中，揭示了已於PVA樹脂薄膜之其中一面堆疊樹脂層的偏光板用堆疊體，在實施型態1及2中，揭示了使用前述堆疊體而製造之偏光板，但本發明並不受限於此。
『實施例』
以下參照實施例及比較例，進一步詳細說明本發明，但本發明並非受下述實施例所限定者。在以下關於成分之量比的「份」及「%」，除非另有註記，否則表示重量份。
［評價方法］
［重量平均分子量（Mw）及分子量分布（Mw／Mn）］
嵌段共聚物及嵌段共聚物氫化物的分子量，係在38℃下量測作為將THF做成溶析液之GPC的標準聚苯乙烯換算值。使用TOSOH公司製之HLC8020GPC作為量測裝置。
［氫化率］
嵌段共聚物氫化物的氫化率係藉由1 H-NMR光譜或GPC分析算出。氫化率99%以下之區域係量測1 H-NMR光譜而算出，超過99%之區域係藉由GPC分析，自UV檢測器及RI檢測器之峰值面積的比率算出。
［相位差的量測方法］
聚乙烯醇樹脂薄膜之面內方向的相位差Re1、相位差Re2，以及在偏光板中之樹脂層之面內方向的相位差，係使用相位差計（OPTO SCIENCE, INC.製，商品名「Mueller matrix polarimeter（AxoScan）」）量測。量測時，量測波長定為550 nm。
相位差Re2的量測，係量測在指定溫度（50℃及120℃）下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差。於本申請中，只要「在50℃之溫度條件下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差」及「在120℃之溫度條件下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差」兩者為0 nm以上且20 nm以下之範圍內，則判斷「在50℃～120℃之溫度條件下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差Re2」即為0 nm以上且20 nm以下。
［厚度的量測方法］
堆疊體所包含之各薄膜（聚乙烯醇樹脂薄膜與樹脂層）的厚度、偏光板所包含之各薄膜的厚度，係使用厚度計（Mitutoyo Corporation公司製，商品名「ABS數位測厚計（547-401）」）量測5次，將其平均值定為各薄膜的厚度。
［密合性的評價］
於各例之偏光板的製造中之至第二延伸處理為止的工序中，將聚乙烯醇樹脂薄膜與樹脂層之間未發生剝離者定為A，將有發現一部分剝離者定為B，將完全剝離者定為C。
［乾燥工序性的評價］
於各例之偏光板的製造中之70℃、5分鐘的乾燥工序中，將於偏光件未產生裂紋者定為A，產生裂紋者定為C。
［堆疊體之貼合表面狀態的評價］
以目視觀察堆疊體之10 cm正方形（100 cm2 ）的氣泡數量。
［黑色偏移］
自液晶顯示裝置（LG Electronics Japan, Inc.製，商品名「IPS面板顯示器（23MP47）」）拆下液晶顯示面板，將配置於觀看側的偏光板剝離，再以樹脂層成為面板側的方式貼合實施例及比較例中所製作的偏光板。並且，將單個無保護薄膜的偏光件貼合至實施例及比較例中所製作之偏光板旁，重組液晶顯示裝置。「實施例及比較例中所製作的偏光板、單個無保護薄膜的偏光件」之吸收軸，以與剝離前之偏光板的吸收軸成為同方向的方式貼合。
在將配置於觀看側的偏光板之吸收軸的方向定為方位角0°，且將面板的垂直方向定為極角0°時，將面板設為黑色顯示狀態（亦即，面板的整個顯示畫面顯示黑色的狀態），自方位角45°、極角45°的方位目視，將與無保護薄膜之偏光件的情況色調變化相同者判斷為A，將有些許色調變化者判斷為B，將變化大者判斷為C。
［實施例1］
（1-1）聚合物X的製作
參照日本專利公開第2002-105151號公報所記載之製造例，在第1階段使苯乙烯單體25份聚合後，在第2階段使苯乙烯單體30份及異戊二烯單體25份聚合，之後在第3階段使苯乙烯單體20份聚合而獲得嵌段共聚物［D1］後，將該嵌段共聚物氫化，合成嵌段共聚物氫化物［E1］。嵌段共聚物氫化物［E1］之Mw為84,500，Mw／Mn為1.20，主鏈及芳環的氫化率為幾乎100%。
於嵌段共聚物氫化物［E1］100份中，熔融混煉肆{3-[3,5-二(三級丁基)-4-羥基苯基]丙酸}新戊四醇酯（松原產業公司製，製品名「Songnox1010」）0.1份作為抗氧化劑而摻合後，做成顆粒狀，獲得成形用的聚合物X。
（1-2）堆疊體的製造
使（1-1）中所製造之聚合物X溶解於環己烷後，對於聚合物X 100重量份，添加40重量份的聚異丁烯（JX日鑛日石能源公司製「日石聚丁烯 HV-300」，數量平均分子量1,400）及0.1重量份的有機矽化合物（3-胺基丙基三乙氧基矽烷，KBM903，信越化學公司製），製作製膜用塗布液。
將所獲得之製膜用塗布液，使用模塗機塗布至未延伸之聚乙烯醇樹脂薄膜（平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%，寬650 mm，厚20 μm，在以下亦稱作「PVA20」）之其中一面並乾燥。藉此，獲得由PVA樹脂薄膜與包含聚合物X之樹脂層（寬600 mm，厚10 μm）而成的長條之堆疊體。
量測所獲得之堆疊體中之樹脂層的厚度、聚乙烯醇樹脂薄膜的厚度及面內方向的相位差Re1，以及相位差Re2（溫度條件50℃、120℃）。結果揭示於表1。
（1-3）偏光板的製造
將在（1-2）中所製造之堆疊體中介導輥沿長邊方向連續運送，同時進行下述操作。
對前述堆疊體進行浸漬於水的潤脹處理、浸漬於包含碘及碘化鉀之染色溶液的染色處理，以及將染色處理後之堆疊體延伸的第一延伸處理。隨後，對第一延伸處理後之堆疊體，進行在包含硼酸及碘化鉀之浴槽中延伸的第二延伸處理。以由第一延伸處理時的延伸倍率與第二延伸處理時的延伸倍率之積所表示的總延伸倍率成為6.0的方式設定。延伸溫度定為57℃。於乾燥機中，在70℃下將第二延伸處理後的堆疊體乾燥5分鐘（乾燥工序），獲得偏光板。
在至第二延伸處理為止的工序中進行密合性的評價，在乾燥工序中進行乾燥工序性的評價，針對所獲得之偏光板進行黑色偏移的評價。評價結果揭示於表1。
並且，量測所獲得之偏光板中之樹脂層的厚度及相位差，以及聚乙烯醇樹脂薄膜的厚度，並將量測結果揭示於表1。
［實施例2］
除了在實施例1之（1-2）中，使用添加了0.1重量份之有機鈦化合物（鈦酸四異丙酯，ORGATIX TA-8，Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.製）取代0.1重量份之有機矽化合物的製膜用塗布液來形成樹脂層以外，比照實施例1，製作堆疊體及偏光板，並比照實施例1進行評價。結果揭示於表1。
［實施例3］
除了在實施例1之（1-2）中，使用添加了0.1重量份之有機鋯化合物（鋯酸正丙酯，ORGATIX ZA-45，Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.製）取代0.1重量份之有機矽化合物的製膜用塗布液來形成樹脂層以外，比照實施例1，製作堆疊體及偏光板，並比照實施例1進行評價。結果揭示於表1。
［實施例4］
除了在實施例1之（1-2）中，於進行使用模塗機將製膜用塗布液塗布至聚乙烯醇樹脂薄膜並乾燥的操作時，調整塗布量等，以使厚度成為5 μm的方式形成樹脂層（寬度與實施例1相同）以外，比照實施例1，製作堆疊體及偏光板，並比照實施例1進行評價。結果揭示於表1。
［實施例5］
除了在實施例1之（1-2）中未使用聚異丁烯以外，比照實施例1，製作堆疊體及偏光板，並比照實施例1進行評價。結果揭示於表2。
［實施例6］
除了在實施例1之（1-2）中，未使用有機矽化合物，以及於進行使用模塗機將製膜用塗布液塗布至聚乙烯醇樹脂薄膜並乾燥的操作時，調整塗布量等，以使厚度成為5 μm的方式形成樹脂層（寬度與實施例1相同）以外，比照實施例1，製作堆疊體及偏光板，並比照實施例1進行評價。結果揭示於表2。
［比較例1］
在實施例1之（1-3）中，僅使用未延伸之聚乙烯醇樹脂薄膜（PVA20）取代在（1-2）中所製造之堆疊體，來進行與（1-3）相同之操作的結果，在第一延伸處理及第二延伸處理中多次發生熔斷，在乾燥工序中多次發生斷裂，無法評價密合性及黑色偏移。
［參考例1］
在實施例1之（1-3）中，使用以下（R1-2）之堆疊體取代在（1-2）中所製造之堆疊體來製作偏光板，進行與實施例1相同之評價。結果揭示於表2。
（R1-2）堆疊體的製造
在實施例1之（1-2）中，使用模塗機將製膜用塗布液塗布至隔離膜（三菱化學公司製，「MRV38」）取代將製膜用塗布液塗布至聚乙烯醇樹脂薄膜，並將之乾燥，藉此獲得寬650 mm、長500 m、厚10 μm之包含聚合物X的長條之薄膜（樹脂薄膜）。
將水100重量份、聚乙烯醇系接合劑（日本合成化學公司製「Z-200」）3重量份及交聯劑（日本合成化學公司製「SPM-01」）0.3重量份混合，獲得接合劑。將此接合劑塗布於上述樹脂薄膜之其中一面，貼合未延伸之聚乙烯醇樹脂薄膜（平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%，寬650 mm，厚20 μm，在以下亦稱「PVA20」）。在此狀態下，於70℃中將接合劑加熱乾燥5分鐘，獲得堆疊體。
實施例、比較例及參考例之評價結果揭示於表1及表2。
表中，所謂「Re2（50℃）」，意謂於在50℃之溫度條件下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差，而所謂「Re2（120℃）」，意謂於在120℃之溫度條件下將堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍時所產生的樹脂層之面內方向的相位差。
表中，所謂「Re1」，意謂在堆疊體中之聚乙烯醇樹脂薄膜之面內方向的相位差。
表中，所謂「塗布」，代表藉由於聚乙烯醇樹脂薄膜塗布製膜用塗布液（樹脂組成物）塗布而形成樹脂層者，所謂「貼合」代表將樹脂薄膜中介接合劑貼合至聚乙烯醇樹脂薄膜。
『表1』
Figure 107147072-A0304-0001
『表2』
Figure 107147072-A0304-0002
由表1及表2的結果可知，根據本發明，可減小於歷經延伸堆疊體之工序後之樹脂層顯現的相位差，可獲得密合性、乾燥工序性及光學物理性質優異的偏光板。由此可知，得提供「即便將樹脂層作為保護薄膜仍可使用，且即便厚度薄仍可有效率製造」的偏光板用堆疊體及其製造方法、使用前述堆疊體的偏光板及其製造方法，以及堆疊體薄膜卷。
10‧‧‧堆疊體（偏光板用堆疊體） 11‧‧‧聚乙烯醇樹脂薄膜（PVA樹脂薄膜） 12‧‧‧樹脂層 13‧‧‧隔離膜 15‧‧‧堆疊體薄膜卷 100、120‧‧‧偏光板 111‧‧‧聚乙烯醇樹脂薄膜（PVA樹脂薄膜） 112‧‧‧樹脂層 114‧‧‧接合劑層 115‧‧‧保護薄膜 200‧‧‧製造裝置 201、202‧‧‧捲出裝置 203‧‧‧收捲裝置 205‧‧‧乾燥裝置 300‧‧‧製造裝置 301、307‧‧‧捲出裝置 302～305‧‧‧處理裝置 306、309‧‧‧乾燥裝置 308‧‧‧貼合裝置 310‧‧‧收捲裝置
〈圖1〉圖1係繪示本發明之實施型態1相關之偏光板用堆疊體的剖面示意圖。
〈圖2〉圖2係繪示實施型態1相關之偏光板用堆疊體的製造裝置之一例的示意圖。
〈圖3〉圖3係繪示使用本發明之實施型態1相關之偏光板用堆疊體而製造之堆疊體薄膜卷的剖面示意圖。
〈圖4〉圖4係繪示使用實施型態1相關之偏光板用堆疊體來製造偏光板的製造裝置之一例的示意圖。
〈圖5〉圖5係繪示使用本發明之實施型態1相關之偏光板用堆疊體而製造之偏光板的剖面示意圖。
〈圖6〉圖6係繪示本發明之實施型態2相關之偏光板的剖面示意圖。
10‧‧‧堆疊體(偏光板用堆疊體)
11‧‧‧聚乙烯醇樹脂薄膜(PVA樹脂薄膜)
12‧‧‧樹脂層

Claims (16)

  1. 一種偏光板用堆疊體，其具有：波長550nm之光線的穿透率為50%以上的聚乙烯醇樹脂薄膜，與直接堆疊於該聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面的樹脂層，其中該樹脂層含有環烯烴系樹脂及有機金屬化合物，在該樹脂層中之該有機金屬化合物的比例，相對於形成該樹脂層之該樹脂100重量份，為0.005重量份以上且0.5重量份以下。
  2. 如請求項1所述之偏光板用堆疊體，其中該樹脂層係藉由於該聚乙烯醇樹脂薄膜塗覆樹脂而形成的樹脂層。
  3. 如請求項1或2所述之偏光板用堆疊體，其中該聚乙烯醇樹脂薄膜之面內方向的相位差Re1為50nm以下。
  4. 如請求項1或2所述之偏光板用堆疊體，其中該聚乙烯醇樹脂薄膜的厚度T為45μm以下，且該樹脂層的延伸物之面內方向的相位差Re2為0nm以上且20nm以下，該相位差Re2係在50℃~120℃之溫度條件下將該偏光板用堆疊體自由端單軸延伸至6.0倍，而將該樹脂層做成該延伸物時，該延伸物所具有之相位差。
  5. 如請求項1或2所述之偏光板用堆疊體，其中該樹脂層的厚度為50μm以下。
  6. 如請求項1或2所述之偏光板用堆疊體，其中 該環烯烴系樹脂包含環烯烴系聚合物，該環烯烴系聚合物係將嵌段共聚物〔D〕氫化後的嵌段共聚物氫化物，所述嵌段共聚物〔D〕係由：以源自芳族乙烯化合物之重複單元〔I〕作為主成分的聚合物嵌段〔A〕，與以源自芳族乙烯化合物之重複單元〔I〕及源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元〔II〕作為主成分的聚合物嵌段〔B〕，或以源自鏈狀共軛二烯化合物之重複單元〔II〕作為主成分的聚合物嵌段〔C〕而成。
  7. 如請求項1或2所述之偏光板用堆疊體，其中該樹脂層含有塑化劑、軟化劑或此等二者。
  8. 如請求項7所述之偏光板用堆疊體，其中該塑化劑、該軟化劑或此等兩二者，係選自酯系塑化劑及脂族烴聚合物之一種以上。
  9. 一種偏光板，其係如請求項1至8之任一項所述之偏光板用堆疊體經單軸延伸者。
  10. 一種堆疊體薄膜卷，其經收捲成輥狀，且具有：如請求項1至8之任一項所述之偏光板用堆疊體，以及堆疊於該偏光板用堆疊體的樹脂層之與該聚乙烯醇樹脂薄膜相反之側之面的隔離膜。
  11. 一種偏光板用堆疊體的製造方法，其依序包含： 於波長550nm之光線的穿透率為50%以上之聚乙烯醇樹脂薄膜之至少一面塗覆樹脂及含有有機金屬化合物之樹脂組成物以形成樹脂層的第一工序；與將在該第一工序中形成之樹脂層乾燥的第二工序，其中該樹脂層含有環烯烴系樹脂及有機金屬化合物，在該樹脂層中之該有機金屬化合物的比例，相對於形成該樹脂層之該樹脂100重量份，為0.005重量份以上且0.5重量份以下。
  12. 如請求項11所述之偏光板用堆疊體的製造方法，其中該塗覆之方法係選自溶液塗覆、乳液塗覆或熔融擠製塗覆之一種以上的方法。
  13. 如請求項11或12所述之偏光板用堆疊體的製造方法，其包含：在該第一工序之前，對該聚乙烯醇樹脂薄膜進行加熱處理的第三工序。
  14. 如請求項11或12所述之偏光板用堆疊體的製造方法，其包含：在該第一工序之前，對該聚乙烯醇樹脂薄膜之表面進行活化處理的第四工序。
  15. 一種偏光板的製造方法，其係使用如請求項1至8之任一項所述之偏光板用堆疊體或藉由如請求項11至14之任一項所述之偏光板用堆疊體的製造方法而獲得之偏光板用堆疊體來製造偏光板的方法，其包含：將該偏光板用堆疊體以二色性染料染色的第五工序，與 將該偏光板用堆疊體單軸延伸的第六工序。
  16. 如請求項15所述之偏光板的製造方法，其包含：在歷經該第五工序及/或該第六工序之後，於該偏光板用堆疊體的聚乙烯醇樹脂薄膜之與樹脂層相反之側的面，貼合保護薄膜的第七工序。
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