TWI768279B - 頭戴式顯示器 - Google Patents

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TWI768279B
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黃士挺
李彥賢
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Abstract

一種頭戴式顯示器,包括分別配置在使用者的兩眼前方的兩個顯示單元。每一個顯示單元包括顯示裝置、菲涅耳透鏡以及多個蛾眼結構。菲涅耳透鏡設置在顯示裝置與使用者的其中一眼之間。多個蛾眼結構位於顯示裝置與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上。

Description

頭戴式顯示器
本發明是有關於一種顯示器,且特別是有關於一種頭戴式顯示器。
頭戴式顯示器通常採用眼罩或頭盔等形式將顯示裝置設置在使用者的眼睛前方,並藉由透鏡元件將顯示裝置輸出的影像光投射至使用者的眼中。為了縮減頭戴式顯示器的體積及重量,習知的頭戴式顯示器採用了菲涅耳透鏡作為光導引元件,但卻因此衍生出嚴重的雜散光問題。
圖1是習知的一種頭戴式顯示器1的局部示意圖。請參照圖1,顯示裝置10輸出的影像光B在朝使用者的眼睛E傳遞的途中,容易在菲涅耳透鏡11的表面S11B發生介面反射R,而形成雜散光S。此外,顯示裝置10可能反射雜散光S而使雜散光問題更複雜/嚴重。另外,當顯示裝置10輸出的影像光B入射至菲涅耳透鏡結構110的脫模面S110B上時,會偏離設計的光路徑而形成雜散光S。上述種種皆導致頭戴式顯示器1的影像品質劣化。因此,如何在縮減頭戴式顯示器的體積及重量的同時,改善雜散光問題,便成為研發人員亟欲解決的問題之一。
本發明提供一種頭戴式顯示器,其具有良好的顯示品質。
本發明的一種頭戴式顯示器包括分別配置在使用者的兩眼前方的兩個顯示單元。每一個顯示單元包括顯示裝置、菲涅耳透鏡以及多個蛾眼結構。菲涅耳透鏡設置在顯示裝置與使用者的其中一眼之間。多個蛾眼結構位於顯示裝置與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上。
在本發明的一實施例中,菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡結構與多個蛾眼結構分別位於菲涅耳透鏡的相對兩表面上。
在本發明的一實施例中,多個蛾眼結構位於菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡結構上。
在本發明的一實施例中,多個蛾眼結構的每一個的深寬比大於1。
在本發明的一實施例中,多個蛾眼結構的節距小於或等於750奈米。
在本發明的一實施例中,多個蛾眼結構位於顯示裝置以及菲涅耳透鏡上。
在本發明的一實施例中,菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡結構包括多個導光面以及分別連接相鄰兩個導光面的多個脫模面,且多個脫模面為抗反射面。
在本發明的一實施例中,多個脫模面的每一個為霧化表面,或者多個脫模面的每一個具有至少一粗糙化結構,所述至少一粗糙化結構的高低差大於0.1微米。
在本發明的一實施例中,兩個顯示單元的每一個還包括設置在多個脫模面的每一個上的吸光層。
在本發明的一實施例中,兩個顯示單元的每一個包括多個菲涅耳透鏡,且多個菲涅耳透鏡依序設置在顯示裝置與使用者的其中一眼之間。
基於上述,由於蛾眼結構提供的漸變等效折射率有助於降低反射率,因此藉由在顯示裝置與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上設置多個蛾眼結構有助於降低頭戴式顯示器中的介面反射,從而有效改善雜散光問題。因此,本發明實施例的頭戴式顯示器可具有良好的顯示品質。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
實施方式中所提到的方向用語,例如:「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」等,僅是參考附圖的方向。因此,使用的方向用語是用來說明,而並非用來限制本發明。在附圖中,各圖式繪示的是特定示範實施例中所使用的方法、結構及/或材料的通常性特徵。然而,這些圖式不應被解釋為界定或限制由這些示範實施例所涵蓋的範圍或性質。舉例來說,為了清楚起見,各膜層、區域及/或結構的相對尺寸、厚度及位置可能縮小或放大。
在實施方式中,相同或相似的元件將採用相同或相似的標號,且將省略其贅述。此外,不同示範實施例中的特徵在沒有衝突的情況下可相互組合,且依本說明書或申請專利範圍所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本專利涵蓋之範圍內。另外,本說明書或申請專利範圍中提及的「第一」、「第二」等用語僅用以命名分立(discrete)的元件或區別不同實施例或範圍,而並非用來限制元件數量上的上限或下限,也並非用以限定元件的製造順序或設置順序。
圖2是依照本發明的第一實施例的一種頭戴式顯示器的示意圖。請參照圖2,頭戴式顯示器2包括兩個顯示單元20分別配置在使用者的兩眼(左眼EL及右眼ER)前方。每一個顯示單元20包括顯示裝置200、菲涅耳透鏡201以及多個蛾眼結構202。
顯示裝置200適於提供帶有影像資訊(例如灰階、色彩等資訊)的影像光B。舉例來說,顯示裝置200可以是液晶顯示器,但不以此為限。
菲涅耳透鏡201設置在顯示裝置200與使用者的左眼EL(或右眼ER)之間,且菲涅耳透鏡201適於將顯示裝置200輸出的影像光B導引至使用者的左眼EL(或右眼ER)中。菲涅耳透鏡201具有菲涅耳透鏡結構2010,且菲涅耳透鏡結構2010包括多個導光面S2010A以及分別連接相鄰兩個導光面S2010A的多個脫模面S2010B。當菲涅耳透鏡結構2010作為凸透鏡時,脫模面S2010B會比對應的導光面S2010A更靠近菲涅耳透鏡結構2010的中心。相反地,當菲涅耳透鏡結構2010作為凹透鏡時,脫模面S2010B會比對應的導光面S2010A更遠離菲涅耳透鏡結構2010的中心。圖2示意性繪示出菲涅耳透鏡結構2010作為凸透鏡的架構。
多個蛾眼結構202位於顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上。舉例來說,多個蛾眼結構202可位於菲涅耳透鏡201的內表面SI(面向顯示裝置200的表面)或外表面SO(面向使用者的表面)上。此外,菲涅耳透鏡201的菲涅耳透鏡結構2010的設置表面也可以是菲涅耳透鏡201的內表面SI或外表面SO。圖2示意性繪示出菲涅耳透鏡結構2010與多個蛾眼結構202分別位於菲涅耳透鏡201的相對兩表面上,其中菲涅耳透鏡結構2010位於菲涅耳透鏡201的外表面SO上,且多個蛾眼結構202位於菲涅耳透鏡201的內表面SI上。藉由將多個蛾眼結構202設置在菲涅耳透鏡201的內表面SI上,可避免人為或環境因素對多個蛾眼結構202造成損傷(如刮傷)及汙染(如灰塵或指紋),而有助於延長頭戴式顯示器2的使用壽命。然而,多個蛾眼結構202的設置表面以及多個蛾眼結構202與菲涅耳透鏡結構2010的相對設置關係不以圖2所顯示的為限。舉例來說,菲涅耳透鏡結構2010可位於菲涅耳透鏡201的內表面SI上,且多個蛾眼結構202可位於菲涅耳透鏡201的外表面SO上。替代地,多個蛾眼結構202也可位於顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的其他表面的至少一個上。
圖3是圖2中多個蛾眼結構202的局部示意圖。請參照圖3,蛾眼結構202為奈米級柱狀結構,且蛾眼結構202的寬度W(或直徑)朝遠離所述多個蛾眼結構202的設置表面S202的方向X遞減。此處,所述多個蛾眼結構202的設置表面S202可以是圖2中顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的任一個表面。
由於蛾眼結構202的寬度W朝方向X遞減,因此在平行於設置表面S202的截面CS中,空氣佔據的面積隨著截面CS與設置表面S202之間的距離DT的增加而增加,且多個蛾眼結構202佔據的面積隨著距離DT的增加而減少。由於空氣的折射率小於蛾眼結構202的折射率,因此截面CS所在處的等效折射率隨著距離DT的增加而減少。亦即,等效折射率沿著方向X遞減。
依據反射率公式,當兩個介質的折射率差距越大,在兩個介質的介面處的反射率越高。因此,將提供漸變等效折射率的蛾眼結構202設置在折射率差距大的兩個介質的介面處,有助於降低該介面處的反射率(介面反射)。例如,可在顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上(有介面反射問題的任何一個表面)設置多個蛾眼結構202,以降低頭戴式顯示器2中的介面反射,從而有效改善雜散光問題。
在圖2中,多個蛾眼結構202位於菲涅耳透鏡201的內表面SI上,因此有助於降低在菲涅耳透鏡201的內表面SI發生介面反射所形成的雜散光。此外,由於在菲涅耳透鏡201的內表面SI處形成的雜散光(即被菲涅耳透鏡201的內表面反射的光)會朝顯示裝置200傳遞而接著被顯示裝置200反射,使雜散光問題更複雜/嚴重(例如形成鬼影),因此降低在菲涅耳透鏡201的內表面SI處形成的雜散光還有助於改善鬼影問題。因此,頭戴式顯示器2可具有良好的顯示品質。
多個蛾眼結構202所在處的等效折射率的變異速率可從多個蛾眼結構202的每一個的深度D與寬度W進行設計。當多個蛾眼結構202的每一個的深寬比(深度D與寬度W的比)大於1時,等效折射率的變異不會過於劇烈,而可實現等效折射率漸變的效果。
另外,多個蛾眼結構202的節距P可依據頭戴式顯示器2所使用的波長範圍進行設計。當波長範圍限於可見光時,多個蛾眼結構202的節距P例如小於或等於750奈米。
依據不同的需求,頭戴式顯示器2可進一步包括其他元件或膜層。舉例來說,頭戴式顯示器2可進一步包括至少一抗反射層(未繪示),以進一步降低頭戴式顯示器2中的介面反射。所述至少一抗反射層可設置在顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上,例如設置在顯示裝置200面向菲涅耳透鏡201的表面上,以降低在所述表面處的介面反射。然而,所述至少一抗反射層的設置表面不以此為限。以下實施例也可依需求而進一步設置所述至少一抗反射層,於下便不再重述。
另外,由於入射脫模面S2010B的光也會形成雜散光並影響影像品質(例如形成影像拖影),因此可進一步將菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B設計成抗反射面,以降低雜散光的指向性,使傳遞至使用者眼中的雜散光的光強度降低,從而有效改善諸如影像拖影等問題。
圖4A至圖4H分別是圖2中菲涅耳透鏡201的其他種實施態樣的局部示意圖。如圖4A至圖4G所示,可藉由改變製作菲涅耳透鏡201的模具,來改變脫模面S2010B的形貌,例如使圖2所示的平滑的脫模面S2010B改變成圖4A至圖4G所示的非平滑(崎嶇不平)的脫模面S2010B,從而達到抗反射的效果。或者,如圖4H所示,兩個顯示單元20(參照圖2)的每一個還可包括設置在多個脫模面S2010B的每一個上的吸光層203,藉由吸光層203吸收傳遞至脫模面S2010B的光,以達到抗反射的效果。
在圖4A中,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個為霧化表面(粗糙化表面)。在圖4B至圖4G中,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個具有至少一粗糙化結構。所述粗糙化結構可以是凹部P1或凸部P2。所述凹部P1(或所述凸部P2)的形狀可以是圓弧狀或鋸齒狀。此外,粗糙化結構的高低差HL大於0.1微米,以有效將雜散光大範圍擴散,使傳遞至使用者眼中的雜散光的光強度有效降低。所述高低差HL定義為凹部P1的最凹陷處(或凸部P2的最凸出處)與參考平面RF之間的距離。所述參考平面RF為脫模面S2010B的最高處與最低處連線所形成的表面。
如圖4B及圖4E所示,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個可具有兩個粗糙化結構,如一個凹部P1及一個凸部P2。在圖4B中,凹部P1及凸部P2的形狀皆為圓弧狀。在圖4E中,凹部P1及凸部P2的形狀皆為鋸齒狀。
如圖4C及圖4F所示,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個可具有兩個粗糙化結構,如兩個凹部P1。在圖4C中,兩個凹部P1的形狀皆為圓弧狀。在圖4F中,兩個凹部P1的形狀皆為鋸齒狀。
如圖4D及圖4G所示,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個可具有兩個粗糙化結構,如兩個凸部P2。在圖4D中,兩個凸部P2的形狀皆為圓弧狀。在圖4G中,兩個凸部P2的形狀皆為鋸齒狀。
應說明的是,菲涅耳透鏡結構2010的多個脫模面S2010B的每一個所具有的粗糙化結構的數量及粗糙化結構的形狀可依需求改變,而不以圖4B至圖4G所顯示的為限。在其他實施例中,脫模面S2010B所具有的粗糙化結構的數量可為一或大於二。此外,當脫模面S2010B的粗糙化結構的數量大於或等於二時,粗糙化結構的形狀可以是圓弧狀、鋸齒狀或上述兩個形狀的組合。另一提的是,以下實施例中的脫模面S2010B也可同上述改良為抗反射面,於下便不再重述。
圖5至圖8分別是依照本發明的第二實施例至第五實施例的頭戴式顯示器3、4、5、6的示意圖。請參照圖5,頭戴式顯示器3與圖2的頭戴式顯示器2的主要差異如下所述。在頭戴式顯示器3的顯示單元30中,菲涅耳透鏡結構2010的設置表面是菲涅耳透鏡201的內表面SI,且多個蛾眼結構202位於菲涅耳透鏡201的菲涅耳透鏡結構2010上,例如位於菲涅耳透鏡結構2010的多個導光面S2010A上,但不以此為限。舉例來說,多個蛾眼結構202也可位於多個導光面S2010A以及多個脫模面S2010B上。
請參照圖6,頭戴式顯示器4與圖2的頭戴式顯示器2的主要差異如下所述。在頭戴式顯示器4的顯示單元40中,多個蛾眼結構202除了位於菲涅耳透鏡201上之外,還位於顯示裝置200上。藉此,可進一步降低在顯示裝置200與空氣的介面處發生的介面反射。本發明的任一實施例皆可同此改良,於下便不再重述。
請參照圖7,頭戴式顯示器5與圖5的頭戴式顯示器3的主要差異如下所述。頭戴式顯示器5的顯示單元50還包括位於顯示裝置200與菲涅耳透鏡201之間的光學膜204。此外,多個蛾眼結構202除了位於菲涅耳透鏡201上之外,還位於光學膜204上。具體地,光學膜204可以是依需求而設置在顯示裝置200與菲涅耳透鏡201之間的任何光學元件或光學層。藉由將多個蛾眼結構202設置在光學膜204上,有助於降低在光學膜204與空氣的介面處發生的介面反射。圖7示意性繪示出多個蛾眼結構202位於光學膜204的其中一表面上。然而,在其他實施例中,多個蛾眼結構202可位於光學膜204的相對兩表面上。本發明的任一實施例皆可同此改良,於下便不再重述。
請參照圖8,頭戴式顯示器6與圖2的頭戴式顯示器2的主要差異如下所述。頭戴式顯示器6的顯示單元60包括多個菲涅耳透鏡(如菲涅耳透鏡205及菲涅耳透鏡201),且多個菲涅耳透鏡(如菲涅耳透鏡205及菲涅耳透鏡201)依序設置在顯示裝置200與使用者的其中一眼之間。圖8省略繪示出多個蛾眼結構以及每一個菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡結構。然而,所述多個蛾眼結構可設置在顯示裝置200與使用者的其中一眼之間的多個表面(如顯示裝置200面向菲涅耳透鏡205的表面、菲涅耳透鏡205的內表面SI、菲涅耳透鏡205的外表面SO、菲涅耳透鏡201的內表面SI、菲涅耳透鏡201的外表面SO、光學膜(如果有的話)的內表面或外表面)的至少一個上。此外,菲涅耳透鏡205(或菲涅耳透鏡201)的菲涅耳透鏡結構可位於菲涅耳透鏡205(或菲涅耳透鏡201)的外表面SO或內表面SI上。
綜上所述,由於蛾眼結構提供的漸變等效折射率有助於降低反射率,因此藉由在顯示裝置與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上設置多個蛾眼結構有助於降低頭戴式顯示器中的介面反射,從而有效改善雜散光問題。因此,本發明實施例的頭戴式顯示器可具有良好的顯示品質。在一實施例中,可在顯示裝置與使用者的其中一眼之間的至少一個表面上設置抗反射層,以進一步降低介面反射。在另一實施例中,可將菲涅耳透鏡結構的多個脫模面設計成抗反射面,以降低雜散光的指向性,使傳遞至使用者眼中的雜散光的光強度降低。在又一實施例中,多個蛾眼結構可設置在顯示裝置或光學膜(如果有的話)上。在再一實施例中,顯示單元可包括多個菲涅耳透鏡,且多個蛾眼結構可設置在所述多個菲涅耳透鏡中的至少一個上。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
1、2、3、4、5、6:頭戴式顯示器 10、200:顯示裝置 11、201、205:菲涅耳透鏡 20、30、40、50、60:顯示單元 110、2010:菲涅耳透鏡結構 202:蛾眼結構 203:吸光層 204:光學膜 B:影像光 CS:截面 D:深度 DT:距離 E:眼睛 EL:左眼 ER:右眼 HL:高低差 P:節距 P1:凹部 P2:凸部 R:介面反射 RF:參考平面 S:雜散光 S11B:表面 S110B、S2010B:脫模面 S202:設置表面 S2010A:導光面 SI:內表面 SO:外表面 W:寬度 X:方向
圖1是習知的一種頭戴式顯示器的局部示意圖。 圖2是依照本發明的第一實施例的一種頭戴式顯示器的示意圖。 圖3是圖2中多個蛾眼結構的局部示意圖。 圖4A至圖4H分別是圖2中菲涅耳透鏡的其他種實施態樣的局部示意圖。 圖5至圖8分別是依照本發明的第二實施例至第五實施例的頭戴式顯示器的示意圖。
2:頭戴式顯示器
20:顯示單元
200:顯示裝置
201:菲涅耳透鏡
202:蛾眼結構
2010:菲涅耳透鏡結構
B:影像光
EL:左眼
ER:右眼
S2010A:導光面
S2010B:脫模面
SI:內表面
SO:外表面

Claims (8)

  1. 一種頭戴式顯示器,包括:兩個顯示單元,分別配置在使用者的兩眼前方,其中所述兩個顯示單元的每一個包括:一顯示裝置;一菲涅耳透鏡,設置在所述顯示裝置與所述使用者的其中一眼之間;以及多個蛾眼結構,位於所述顯示裝置與所述使用者的其中一眼之間的至少一個表面上,其中所述菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡結構包括多個導光面,且所述多個蛾眼結構位於所述多個導光面上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的頭戴式顯示器,其中所述多個蛾眼結構的每一個的深寬比大於1。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的頭戴式顯示器,其中所述多個蛾眼結構的節距小於或等於750奈米。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的頭戴式顯示器,其中所述多個蛾眼結構位於所述顯示裝置以及所述菲涅耳透鏡上。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的頭戴式顯示器,其中所述菲涅耳透鏡的所述菲涅耳透鏡結構還包括分別連接相鄰兩個導光面的多個脫模面,且所述多個脫模面為抗反射面。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的頭戴式顯示器,其中所述多個脫模面的每一個為霧化表面,或者所述多個脫模面的每一個 具有至少一粗糙化結構,所述至少一粗糙化結構的高低差大於0.1微米。
  7. 如申請專利範圍第5項所述的頭戴式顯示器,其中所述兩個顯示單元的每一個還包括:一吸光層,設置在所述多個脫模面的每一個上。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的頭戴式顯示器,其中所述兩個顯示單元的每一個包括多個菲涅耳透鏡,且所述多個菲涅耳透鏡依序設置在所述顯示裝置與所述使用者的所述其中一眼之間。
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