TWI764135B - 導光板、其製造方法、導光板模組及圖像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於實現導光板之塑膠化，且實現安全且輕量之導光板。 本發明係一種導光板，其特徵在於：具備基板、使入射光繞射之入射繞射光柵、及使藉由入射繞射光柵而繞射之光自基板出射之出射繞射光柵。出射繞射光柵由形成於基板面之凹凸圖案形成，該凹凸圖案包含第1平行直線群、及與第1平行直線群相交之第2平行直線群，第1平行直線群之間距與第2平行直線群之間距相等。並且，作為第1平行直線群與第2平行直線群之間距P和凹凸圖案之寬度W之關係，W/P為0.15以上0.85以下。

Description

導光板、其製造方法、導光板模組及圖像顯示裝置

本發明係關於一種將導光板與繞射元件組合之小型、輕量且能夠實現擴增實境(Augmented Reality)等圖像顯示之技術。

於擴增實境之圖像顯示裝置中，使用者不僅可看見所投影之影像，而且亦可同時看見周圍。所投影之影像可與使用者所感覺之現實世界重疊。作為該等顯示器之其他用途，可列舉視訊遊戲、及如眼鏡般之可穿戴裝置等。使用者藉由配戴半透明之導光板及投影機(光源)成為一體之眼鏡或者護目鏡狀之圖像顯示裝置，能夠視認與現實世界重疊而自投影機供給之圖像。

此種圖像顯示裝置之一記載於「專利文獻1」～「專利文獻3」中。於該等專利文獻中，導光板包含形成於玻璃製基板之複數個凹凸形狀之繞射光柵。自投影機出射之光線藉由入射用繞射光柵與導光板結合，一面全反射一面於導光板內部傳播。光線進而轉換為經其他繞射光柵複製而成之複數個光線，並於導光板內進行全反射傳播，最終自導光板出射。一部分出射之光線經由使用者之瞳孔於視網膜成像，作為與現實世界之圖像重疊之擴增實境圖像被識別。

於此種使用凹凸型繞射光柵之導光板中，自投影機出射之光線之波向量K於導光板中折射，根據斯奈爾定律，波向量成為K0。進而轉換為藉由入射用繞射光柵能夠於導光板內部全反射傳播之波向量K1。利用設置於導光板之另一個或複數個繞射光柵接受繞射作用，以K2、K3、···之方式每當重複繞射時，波向量變化。若將最終在導光板出射之光線之波向量設為K'，則｜K'｜＝｜K｜，於投影機介隔導光板處於眼睛之相反側之情形時，K'＝K。另一方面，於投影機介隔導光板處於眼睛之相反側之情形時，關於波向量，導光板發揮與反射鏡相同之作用，於z方向上取導光板之法向矢量，比較波向量之x、y、z成分時，可表示為Kx'＝Kx，Ky'＝Ky，Kz'＝-Kz。

導光板之功能係將自投影機出射之光線一面複製成複數個一面進行波導，使出射之複數個光線作為與原本圖像等效之圖像資訊被使用者識別。此時，複製所得之光線群具有與具有自投影機出射之影像資訊之光線等效之波向量，並且具有空間上之廣度。複製所得之光線群中之一部分進入瞳孔，藉由與外界資訊一起於視網膜成像而被視認，可向使用者提供添加了外界資訊之擴增實境之資訊。

具有影像資訊之光線根據其波長不同而波向量之大小不同。凹凸型繞射光柵由於具有固定之波向量，故根據入射之光線之波長，繞射之波向量K1不同，以不同之角度於導光板內傳播。構成導光板之玻璃基板之折射率相對於波長大致固定，一面全反射一面進行導光之條件之範圍根據入射光線之波長不同而不同。因此，為了使較廣視角之圖像被使用者識別，需要針對每個波長重疊複數片不同之導光板。一般而言，認為導光板之數量適合為分別與R、G、B對應之片數、或±1片之2片至4片左右。

「專利文獻1」所記載之圖像顯示裝置係用以於二維內擴大輸入光者，且具備3個直線狀繞射光柵。1個係入射用繞射光柵，其他2個出射用繞射光柵代表性地於導光板之正面及背面相互重疊地配置，發揮複製用及出射用繞射光柵之功能。又，於「專利文獻1」中，記載有藉由圓柱狀之光子晶體型週期構造形成1面出射用繞射光柵之例。

「專利文獻2」所記載之圖像顯示裝置係為了解決「專利文獻1」中之藉由光子晶體所投影之像於視野中央部亮度較高之問題，而揭示出一種包含複數個直線狀之側面之技術。

於「專利文獻3」、「專利文獻4」所記載之圖像顯示裝置中，兼具入射繞射光柵、偏向用繞射光柵、及出射繞射光柵之3個繞射光柵於導光板內區域不重疊地配置。於「專利文獻3」中，為了提高入射繞射光柵之繞射效率，而揭示有懸突之三角形繞射光柵。

於「專利文獻5」及「專利文獻6」中，作為形成於導光板之繞射光柵，揭示有使用入射用及出射用之2種反射型體積型全息圖之技術。其等之中，體積型全息圖係將與複數個波長對應之繞射光柵於空間內形成多層而成者，與上述凹凸型繞射光柵不同，使複數個波長之光線以相同角度繞射。因此，可於1片導光板中使RGB圖像被使用者識別。另一方面，於上述凹凸型繞射光柵中，由於在導光板內於二維方向上複製光線，故可實現較廣視角，相對於此，其等僅提供一維複製之功能，故具有視角相對較窄之特徵。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特表2017-528739號公報 [專利文獻2]WO 2018/178626號公報 [專利文獻3]US 2016/0231566A1 [專利文獻4]美國專利申請第6,580,529號公報 [專利文獻5]日本專利特開2007-94175號公報 [專利文獻6]日本專利特開2013-200467號公報

[發明所欲解決之問題]

於有利於實現較廣視角之「專利文獻1」～「專利文獻4」所記載之導光板(圖像顯示元件)及使用其之圖像顯示裝置中，藉由使導光板塑膠化，可提供與先前之玻璃製相比，實現對於飛散之安全性之提昇及輕量化之新穎之導光板。於本說明書中，「塑膠」係指包含高分子化合物之材料，且係不含玻璃而包含樹脂、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、光硬化樹脂等之概念。

以下，於本發明中，作為導光板，限定為具有凹凸型繞射光柵之導光板進行說明。又，為了容易理解，省略因眼睛之透鏡作用產生之圖像反轉及以大腦對投影至視網膜上之影像進行處理後進一步使其反轉而認知之效果，針對自相對於導光板與眼睛配置於相同側之影像光源投影至前方屏幕上之投影像，研究像素位置與亮度之關係。實際被視認之像相對於該投影像上下反轉。

於「專利文獻1」中，關於導光板之基板材料，如其圖15A、圖15B所示，揭示有將設置於玻璃板表面之玻璃材料用於光柵之技術。關於繞射光柵，揭示有藉由蝕刻對波導(＝玻璃板)表面進行加工而形成之技術。

於「專利文獻1」之圖3中示出了該導光板之立體圖。又，於「專利文獻1」中，揭示有使用光子晶體將2個出射光柵形成於1面之技術。「專利文獻1」之圖16示出了「專利文獻1」之光子晶體中形成之圓柱之配置。關於光子晶體之圓柱之配置週期，為了構成光子帶隙，需要為波長以下。專利文獻1之圓柱構造相較於基板而言折射率較高。然而，如下所述，於利用射出成型法等將圓柱狀之光子晶體形成於導光板表面之情形時，圓柱之折射率與波導(或者基板)相等。於此情形時，若圓柱之直徑與高度之比即縱橫比不大至約2以上，則投影像之亮度會不充分。

「專利文獻2」所記載之改善了投影像中央部成為高亮度之光子晶體為了解決藉由直線狀而非圓柱狀之光子晶體所投影之像於視野中央部亮度較高之問題，而包含複數個直線狀之側面。「專利文獻2」之Fig.4示出了光子晶體之形狀。於「專利文獻2」中，如其第1頁第34行、或第2頁第8行中，其係改善中央部之條狀高亮度部分者。於「專利文獻2」中，未明確地於圖等中揭示成為課題之中央部之條狀高亮度部分。

「專利文獻3」之Fig.5C所揭示之入射繞射光柵具有懸突之三角形剖面，能夠使自圖中上方向(空氣側)入射之影像光線高效率地耦合於施加了影線之導光板之內部。

具有影像資訊之光線以具有藉由設置於導光板內之入射繞射光柵而能夠於導光板內全反射導光之波數之方式被耦合，且於導光板內傳播。與出射繞射光柵交叉之光線之一部分經繞射，以與原本之影像光線等效之波數自導光板出射。提供給使用者之影像資訊具有與原本之影像資訊之像素位置相應之行進角資訊、即波數。為了使1個像素之影像資訊自導光板出射後到達使用者之瞳孔，需要自根據行進角、導光板與使用者瞳孔之間之距離、及使用者瞳孔大小所決定之導光板內特定之位置出射。如上所述，於導光板內，光線被複製並於空間上擴散後出射，故被使用者視認之光線係空間性擴展越大則光線越少，被視認之亮度越小。另一方面，由於被使用者視認之出射位置根據原本之影像資訊之像素位置不同而變化，故於使用導光板之圖像顯示裝置中，因像素位置不同而亮度變化之情況不可避免。

於先前技術中，導光板之製作適合利用將玻璃基板直接蝕刻之方法、或者適於高縱橫比之圖案形成之奈米壓印法等。於「專利文獻2」及基於其之「專利文獻3」之光子晶體中，需要將底面直徑等之代表性長度與其高度之比即縱橫比設為約2以上。

由於利用作為光碟媒體之製法具有實績之射出成型技術等所形成之表面凹凸圖案之縱橫比不會超過1，故若為2以上之縱橫比，則圖案轉印之精度降低而難以應用。該問題係因如下本質性製造方法之限制所引起：溶融之聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂等黏性較高，樹脂無法高精度地進入以奈米週期構成之高縱橫比之凹凸中。

又，於利用如「專利文獻3」所記載之懸突之繞射光柵之情形時，由於以射出成型技術等無法將母模(壓模)與導光板剝離，故無法應用。

因此，本發明之目的在於：實現導光板之塑膠化，且實現安全且輕量之導光板。 [解決問題之技術手段]

本發明之較佳之一態樣係一種導光板，其特徵在於：具備基板、使入射光繞射之入射繞射光柵、及使藉由入射繞射光柵而繞射之光自基板出射之出射繞射光柵。出射繞射光柵由形成於基板面之凹凸圖案形成，該凹凸圖案包含第1平行直線群、及與第1平行直線群相交之第2平行直線群，第1平行直線群之間距與第2平行直線群之間距相等。並且，作為第1平行直線群與第2平行直線群之間距P和凹凸圖案之寬度W之關係，W/P為0.15以上0.85以下。

本發明之另一較佳之一態樣係一種導光板模組，其係積層複數個上述導光板而構成。

本發明之另一較佳之一態樣係一種圖像顯示裝置，其係具備上述導光板模組、及對導光板模組照射影像光之投影機者，且使影像光入射至入射繞射光柵。

本發明之另一較佳之一態樣係一種導光板之製造方法，其係上述導光板之製造方法，且具備如下步驟：準備由包含高分子化合物之材料構成之基板；及藉由壓模而於基板形成入射繞射光柵及出射繞射光柵。

本發明之另一較佳之一態樣係一種導光板，其具備基板、使入射光繞射之入射繞射光柵、及使光出射之出射繞射光柵。出射繞射光柵係由形成於基板面之直線狀之凹凸圖案形成，使自入射繞射光柵於基板內傳播來之光以繞射效率η₁ 向與直線狀之凹凸圖案垂直之方向繞射，並且以繞射效率η₁₁ 向與基板垂直之方向繞射，將繞射效率之關係設為η₁₁ ＜η₁ 。 [發明之效果]

根據本發明，可實現導光板之塑膠化，且實現安全且輕量之導光板。

以下，參照圖式對本發明之實施形態進行說明。但，本發明並不限定於以下所示之實施形態之記載內容進行解釋。若為業者，則容易理解於不脫離本發明之思想或主旨之範圍內，可對其具體構成進行變更。

於以下所說明之發明之構成中，有時對同一部分或具有相同功能之部分於不同圖式間共通地使用同一符號，並省略重複說明。

於同一或者具有相同功能之元件有複數個之情形時，有時會對同一符號標註不同之下標而進行說明。但，於無需區分複數個元件之情形時，有時會省略下標進行說明。

本說明書等中之「第1」、「第2」、「第3」等記法係為了識別構成元件而標註者，未必係限定數量、順序、或其內容者。又，用以識別構成元件之編號係針對每個段落使用，於一個段落中使用之編號未必於其他段落中表示同一構成。又，以某一編號被識別之構成元件並不妨礙兼具以其他編號被識別之構成元件之功能。

圖式等中所表示之各構成之位置、大小、形狀、範圍等存在為了使發明容易被理解而不表示實際之位置、大小、形狀、範圍等之情形。因此，本發明並不限定於圖式等所揭示之位置、大小、形狀、範圍等。

本說明書中所引用之出版物、專利及專利申請直接構成本說明書之說明之一部分。

本說明書中以單數形式表示之構成元件只要未於特別段落中明確表示，則包含複數形式。

於以下所說明之實施例中，提供二維網狀圖案作為出射繞射光柵。藉此，藉由將轉印至導光板表面之凹凸圖案之縱橫比設為1以下，可提供使用射出成型法等具有實績之塑膠成型技術之導光板。

光子晶體或繞射光柵係利用表面凹凸對入射光於空間上產生相位調變影響者。相位調變之大小與表面構造與空氣之折射率之差、及表面凹凸之高度成比例地變大。

圖1係模式性地表示出射繞射光柵之波數者。具有相對於Y軸具有±60度方位角之波數K1、K2的繞射光柵之相位函數分別示於(a)、(b)中，分別具有正弦波狀之相位分佈。相位調變量標準化為1。若合成其等則可獲得(c)，光子晶體可謂使其近似於支柱等而以高折射率之材料形成於導光板之表面者。

如圖1(c)所見，K1＋K2之相位調變量之最大值為2，可判明若以孤立之圓柱等逼近該值，則與圖1(a)、圖1(b)之單一正弦波繞射光柵相比，需要2倍之高度(縱橫比)。

圖2係本實施例之網狀出射繞射光柵之模式圖。與圖1(c)相比，並非正弦波構造，故若進行傅立葉變換，則具有高次之波數成分，但於用作導光板之情形時，藉由適當選擇週期，可使2次以上之波數成分無法使入射光繞射(波數為虛數)。而且，網狀繞射光柵係將±60度之矩形繞射光柵重合而成者，與圓柱等相比，不具有除基本波K1、K2之方向以外之波數成分，故可提高繞射效率。

關於本實施例之入射繞射光柵，藉由設為反射型繞射光柵而非如「專利文獻3」揭示之透過型繞射光柵，而利用相對於折射而言偏向作用較大之反射，藉此，可實現低縱橫比化。

藉由該等，可提供使縱橫比變小之二維出射繞射光柵，可利用射出成型法等塑膠成型技術實現，從而可提供安全且輕量之導光板。本發明由於目的在於藉由應用塑膠成型技術而製作導光板，故以考慮了凹凸圖案之樹脂之轉印性者對縱橫比進行說明。於將凹凸圖案之週期設為p，凸部之寬度設為w，高度設為h時，樹脂之轉印性藉由樹脂向凹凸中寬度較窄者之轉印而決定。因此，縱橫比係以h/min(w，p－w)定義。此處，min(w，p－w)係表示選擇w與p－w之較小者。請參照下述圖11C。

於以下之實施例中，利用光軸方向為Z軸、導光板之表面為XY面之座標系統進行說明。又，若將使用者之瞳孔近似於圓形，則根據像素位置被使用者視認之導光板內之出射位置亦成為圓形。以下，將其稱為出射圓。

圖3係用以說明出射圓之模式圖。此處，示出了作為用以形成圖像之光源之投影機300及使用者之瞳孔400相對於導光板10配置於相反側之情形。使入射繞射光柵100之波向量趨向y方向，圖3中之箭頭表示x-z面內之光線。於入射繞射光柵100不具有x方向之波向量成分之情形時，自投影機300照射之直射之光線301於圖中向右側方向行進。另一方面，為了讓使用者將該光線識別為投影像，圖中，需要通過表示為被視認之光線302之路徑，使相同角度之光線到達使用者之瞳孔400。出射圓303位於出射繞射光柵200上，且係於被視認之光線方向上平行移動使用者之瞳孔400而成之假想圓。僅自出射繞射光柵200上之出射圓303出射之光線302被使用者識別為投影像，除此以外之光線未被識別。

圖4A及圖4B係使用下述模擬方法計算之於導光板內部傳播之光線之強度分佈。圖中，入射繞射光柵配置於上側，於其下配置相當於使用者眼睛之光瞳(Pupil)。

圖4A係朝圖像中心之光線之強度分佈，像素位置表示所投影之像之中央之情形。圖中之出射圓(Output circle)表示到達光瞳之光線於出射繞射光柵上最後繞射之區域。自入射繞射光柵朝向y方向之直線上之亮度較高之區域表示藉由入射繞射光柵而繞射且於導光板內部傳播之主要光線群(以下稱為主光線群)。如圖中所見，具有因主光線群之傳播而強度逐漸衰減之特性。向主光線群之周邊擴散之亮度較低之光線群係藉由出射繞射光柵而繞射且於x-y面內行進方向偏向之光線群。於此條件下，由於所投影之光線位於z軸方向，故可知於x-y面內，出射圓與光瞳一致。因此，到達光瞳並作為圖像被識別者係強度較強之主光線群之一部分。

圖4B係朝圖像端部之光線之強度分佈，且係投影像之右上角之像素位置之情形。如圖中所見，主光線群自入射繞射光柵朝向右下方向行進。光瞳之位置固定，但由於出射圓係朝向光瞳向右上行進之光線群之出射位置，故於x-y面內相對於光瞳向左下位移。於此情形時，出射圓位於自主光線群離開之位置，故到達光瞳並被識別為圖像之光線群與上述情形相比亮度變低。以上係使用導光板將像投影之情形時產生亮度不均之理由之主要原因。

圖5係模式性地表示實施例之導光板之構造俯視圖及波數。於導光板10形成有具有單一之光柵間距之入射繞射光柵100及出射繞射光柵200。

若將光柵間距設為P，則繞射光柵之波向量之大小以K=2π/P表示。若以光軸方向為z軸之座標系統表示，則入射繞射光柵100之波向量為K₁ =(0，-K，0)。出射繞射光柵200具有所成角度為120度之2個波向量，其等為K₂ =(﹢K/√3，K/2，0)、K₃ =(-K/√3，K/2，0)。若將入射至導光板10之光線之波向量設為kⁱ ＝(kⁱ _x ，kⁱ _y ，kⁱ _z )，將出射光線之波向量設為k^o ＝(k^o _x ，k^o _y ，k^o _z )，依次使kⁱ 為K₁ 、K₂ 、K₃ ，則如下所述，可知k^o ＝kⁱ ，與入射光線相同波向量之光線、即具有相同影像資訊之光線被出射。

k^o ＝kⁱ k^o _x ＝kⁱ _x ＋0＋(K/√3)－(K/√3)＝kⁱ _x k^o _y ＝kⁱ _y ＋K－(K/2)－(K/2)＝kⁱ _y k^o _z ＝kⁱ _z ····(1) 於考慮藉由繞射對光線之波向量累加繞射光柵之波向量，而光線以N次繞射自導光板出射之情形時，以下關係成立。

[數1] 數1

····(2) m_i 及K_i 係第i次之交叉點處之繞射次數及繞射光柵之波向量。

上式左邊表示繞射所致之波向量之變化，於其並非零之情形時，光線於導光板表面全反射並於空間上一面擴散一面傳播。(式1)及(式2)表示導光板之入射光瞳之放大功能。

出射繞射光柵200由形成於基板表面之二維凹凸圖案構成。利用光線與出射繞射光柵之交叉產生之繞射係K₂ 、K₃ 及K₂ ＋K₃ 之3種。第1種及第2種之繞射K₂ 及K₃ 係藉由通常之繞射光柵之1次繞射，就對稱性而言，繞射效率η₁ 相等。根據(式2)，由於影像光線係以2次繞射自導光板出射，並且伴隨向x方向之出射點之移動，故繞射效率之積η₁ ×η₁ ＝(η₁ )² 主要係決定視野周邊亮度之參數。

另一方面，藉由出射繞射光柵之交叉產生之繞射K₂ ＋K₃ 係二維之1次繞射，影像光線係以1次繞射於導光板出射，故繞射效率η₁₁ 主要係決定視野中央亮度之參數。此處，將投影像之亮度指標、及中央與周邊之亮度不均之指標以如下方式定義。 Brightness factor(亮度指標) B＝(η₁ )² ····(3) Uneven brightness factor(亮度不均指標) U＝η₁₁ /(η₁ )² ····(4)

其次，對用以解析實施例之圖像顯示元件之模擬方法進行簡單闡述。1962年由G. H. Spencer等人所提倡之光線追蹤法[G. H. Spencer and M. B. T. K. Murty, “General Ray-Tracing Procedure”, J. Opt. Soc. Am. 52, p.672 (1962).]係藉由著眼於光之粒子性來追蹤路徑，而計算於某一點被觀測之像等之方法，以電腦圖形領域為中心，集中精力持續改良[16-18]。基於光線追蹤法之蒙特-卡羅光線追蹤法[I. Powell “Ray Tracing through systems containing holographic optical elements”, Appl. Opt. 31, pp.2259-2264 (1992).]係通過利用繞射或反射等概率性地操作路徑分離而防止運算量呈指數函數增大之方法，適用於反覆繞射與全反射傳播之導光板之模擬。利用蒙特-卡羅光線追蹤法可忠實再現反射或折射，但關於繞射，必須開發合適之模型。

於面向頭戴式顯示器之導光板中，與遍及可見光全域之波長範圍(約400-700 nm)、及對應於投影影像之視角40°之入射角範圍相對應之繞射模型成為必須，市售之運算量龐大。此處，鑒於被視認之光線係所有光線之一部分，藉由預先停止向未被視認之區域進行波導之光線之計算的演算法，而使用將運算量削減為1/1000以下之演算法。繞射光柵之繞射效率之角度及波長依存性設為預先利用FDTD(Finite Differential Time Domain，有限差分時域)法將計算結果表格化而參照之方式。 [實施例1]

圖6係表示本實施例之圖像顯示元件之構成之側視圖。於圖中之導光板10形成入射繞射光柵100、出射繞射光柵200。入射繞射光柵100於x方向包含直線狀之光柵，圖案之週期為P。出射繞射光柵200係圖案週期相同之P之直線狀光柵，各光柵與x軸所成之角為θo。作為出射繞射光柵200，形成如圖2所示之直線狀光柵交叉而成之網型繞射光柵。θo例如為60度，但亦可根據導光板之尺寸或大小進行調整。於以下之實施例中，以θo＝60度進行說明。圖案之週期P例如為0.3～0.6 μm，但亦可根據光源之波長或用途加以變更。

將相同縱橫比0.8之情形時之專利文獻1之光子晶體之繞射光柵、與本實施例之網型繞射光柵之投影像進行比較。模擬條件設為：圖案間距P＝420 nm，圖案高度＝80 nm，光線波長＝550 nm，導光板厚度＝1.0 mm，導光板折射率＝1.58。投影像之視角為40度。

於圖6之實施例中，就實現低縱橫比之觀點而言，使用反射型繞射光柵作為入射繞射光柵100。基於製程上之理由，出射繞射光柵200形成於與導光板10之入射繞射光柵100相同側之面。

圖7A係「專利文獻1」所記載之支柱型光子晶體所構成之繞射光柵之概念圖、及其投影像之模擬結果。圖7B係本實施例之網型繞射光柵之概念圖、及其投影像之模擬結果。任一繞射光柵之縱橫比均為1以下。此處，關於支柱型光子晶體之縱橫比，將支柱之高度設為h，將支柱之直徑設為d，規定為h/d。

如圖中所見，可知於縱橫比為1以下之情形時，於圖7A之光子晶體中，投影像之中央部之亮度較高，視認性較差。與此相比，本實施例之網型繞射光柵能以低縱橫比之圖案獲得良好之投影像。其主要原因在於：於圖7A之光子晶體中，決定視野中央部之投影像之亮度的繞射效率η₁₁ 與主要決定周邊之投影像之亮度的繞射效率之積(η₁ )² 相比而言較大。

圖8表示於本實施例之網型出射繞射光柵中，使圖案之寬度(Line width)變化之情形時之投影像(Projected image)之模擬計算結果。圖案之間距(Line pitch)與高度(Line height)相同。一併揭示圖案之影像(Pattern)。

如圖中所示，於圖案寬度40 nm之情形時，η₁₁ /(η₁ )² 小於1，投影像之中央部較暗。另一方面，於圖案寬度200 nm之情形時，η₁₁ /(η₁ )² 大於1，投影像之中央部較亮。進而，於圖案寬度為100 nm之情形時，η₁₁ /(η₁ )² 接近於1，投影像之亮度分佈接近均勻。

由上可知：於本實施例之網型繞射光柵中，藉由適當設定圖案寬度，可控制投影像之亮度分佈。若使用「(η₁₁ /(η₁ )² )－1之絕對值」作為亮度不均指標，則該值越小表示亮度不均越小，故直觀上較為便利。

圖9係表示亮度不均指標亮度｜η₁₁ /(η₁ )² －1｜與圖案縱橫比之關係之模擬結果。計算條件設為與上述相同，使圖案寬度變化而改變縱橫比。如圖中所見，可知：本實施例之網型繞射光柵以縱橫比1以下、較佳為縱橫比0.25以上且1.0以下可使亮度不均最小化。藉此，若將本實施例之網型繞射光柵用作出射繞射光柵，則利用射出成型法等可提供輕量、低價之塑膠製導光板。

根據以上研究，本實施例之出射繞射光柵使自入射繞射光柵全反射傳播而來之影像光線主要以繞射效率η₁ 向與繞射光柵之直線圖案垂直之方向繞射，一部分直接向使用者瞳孔之方向(大致垂直於導光板之方向)以繞射效率η₁₁ 出射繞射。此時，為了減少使用者視野之亮度不均，較理想為使｜η₁₁ /(η₁ )² －1｜變小。即，η₁₁ 與(η₁ )² 大致相等。例如，使η₁₁ 為(η₁ )² 之0.8～1.2倍。又，為了使視野中央不過於明亮，較理想為η₁₁ ＜η₁ ，進而更理想為η₁₁ ＜＜η₁ 。

其次，對入射繞射光柵進行闡述。 圖10A係與「專利文獻3」相同之透過型繞射光柵之模擬結果。透過型繞射光柵使入射光透過繞射，並於導光板(基板)內部傳播。入射繞射光柵之位置形成於導光板之靠近光源之面。

影像光線1000係自左側入射之構成，圖之右半部分表示基板(Sub)。於透過型繞射光柵中，於閃耀面之折射及週期構造之繞射相位調諧之條件下可獲得最大之繞射效率。如圖所示，為了實現獲得最大繞射效率，需要凹凸圖案之高度較大，圖案之角度為70度至80度，圖案之高度除以週期所得之縱橫比為10以上。於射出成型等一般之塑膠成型法中，若縱橫比超過1，則會產生轉印性惡化等問題，從而量產時之良率降低。可知此處示出之透過型繞射光柵不適合作為本實施例之入射繞射光柵。

圖10B係反射型繞射光柵之模擬結果。於反射型繞射光柵中，使入射光反射繞射，即，反射至光源側後於導光板(基板)之內部傳播。入射繞射光柵之位置形成於導光板之遠離光源之面。

影像光線同樣係自左側入射之構成，圖之左半部分表示基板(Sub)。於反射型繞射光柵中，於閃耀面之反射及週期構造之繞射相位調諧之條件下可獲得最大繞射效率。如圖中所見，可知與透過型相比，以較低縱橫比之凹凸圖案可滿足該條件。此時之凹凸圖案之高度約為250 nm，縱橫比約為0.57。於上述試製元件中，可將圖案高度為374 nm之三角形之凹凸圖案良好地轉印。可以說於本實施例之導光板中使用反射型繞射光柵較佳。

圖11A及圖11B係表示圖案之占空與繞射效率及縱橫比之關係之模擬結果。如圖11C所示，若將繞射光柵之圖案間距設為p，將圖案之寬度設為w，則占空以w/p表示。此處，設為圖案間距P＝460 nm，圖案高度＝70 nm，光線之波長＝550 nm，導光板之厚度＝1.0 mm，導光板之折射率＝1.58。投影像之視角為40度。

圖11A係表示1次繞射效率η₁ 與w/p之關係。如圖中所見，可知1次繞射效率η₁ 成為如下特性：於w/p＝0.5時最大值約為4.2%，隨著w/p接近0或1而降低。於獲得0.6%左右之繞射效率之情形時，可以說需要將本實施例之網型繞射光柵之w/p定為0.15以上且0.85以下之範圍。又，w/p為0.3以上0.7以下之範圍時，效率良好，w/p為0.4以上0.6以下之範圍時，效率最佳。

圖11B係表示圖案之縱橫比。由於圖案高度＝70 nm固定，故若w/p接近1或0，則縱橫比增加。若將使圖案之縱橫比為1以下設為射出成型法等之適應之基準，則可以說需要將本實施例之網型繞射光柵之w/p定為0.15至0.85之範圍。又，w/p＝0.5時縱橫比最小且最容易製造。

根據以上，原理上於w/p＝0.5、即w＝p－w時，可以說繞射光柵之繞射效率最大，且圖案之縱橫比最小。

圖12係表示進一步緩解亮度不均之本實施例之導光板之模式圖。圖中，10表示導光板，100表示入射繞射光柵，200表示出射繞射光柵。如圖中所見，使出射繞射光柵之凹凸圖案之占空根據與入射繞射光柵100之距離而變化，藉此可對繞射效率賦予分佈。藉此，能夠進一步改善投影像之亮度不均。作為具體例，如圖11A所示，使出射繞射光柵200之與入射繞射光柵100靠近之部分之繞射效率較低，占空0.2左右。又，使出射繞射光柵200之距入射繞射光柵100較遠之部分之繞射效率較高，占空0.5左右。

以上，若使用本實施例之網型繞射光柵，則可利用射出成型法等塑膠成型技術提供導光板。 [實施例2]

另一方面，與先前之玻璃導光板相比，塑膠導光板由於機械強度(楊氏模數)較小，故因環境溫度或氣壓導致之變形會變大。以下表示針對此課題之本實施例之解決對策。

圖13A及圖13B係表示2片導光板之相對斜率之影響之模式圖。於圖13A及圖13B中，導光板10分別由對應波長不同之導光板11及12構成。又，300表示影像投影用投影機，400表示使用者之瞳孔，500表示所投影之影像光線。

於此例中，基於圖10B之見解，入射繞射光柵採用了反射型繞射光柵。因此，入射繞射光柵100形成於導光板10之遠離投影機300之面(於圖中為右表面)。出於製程之方便，出射繞射光柵200形成於與入射繞射光柵100相同之面可提高精度，故同樣形成於遠離投影機300之面。

圖13A係投影機300及使用者之瞳孔400相對於導光板10配置於相同側之情形。如圖所示，導光板10最終反射影像光線500後到達使用者。因此，若導光板12相較於導光板11傾斜，則根據所投影之光線之波長，被視認之像素位置發生位移，從而畫質降低。由於視力1.0之使用者之光線角度之分解能力為1/60度，故若以此為基準，則2片導光板之相對斜率需要充分小於1/60度，尤其是若為塑膠導光板，則作為頭戴式顯示器之安裝較難。

圖13B係投影機300及使用者之瞳孔400相對於導光板10配置於相反側之情形。如圖所示，導光板10最終使影像光線500透過而到達使用者。由於入射光與出射光之角度基本相同，故即便導光板11與12之相對斜率存在，原理上亦不會產生因波長所導致之投影像之位移。因此，於將本實施例之塑膠製導光板安裝於頭戴式顯示器之情形時，較理想為使投影機光源相對於導光板為使用者之相反側(透過型)。實際上，因於導光板內部全反射導光之光線角度條件受影響，故預先附註：較理想為將導光板11與12之相對斜率抑制為約3度以下。

圖13B與13A相比，投影機與使用者眼睛之位置關係相對於導光板相反。藉由對投影之影像進行反轉處理，能夠應對該影響。 [實施例3]

以下表示考慮了塑膠導光板之變形之另一解決對策之實施例。圖14A及圖14B係表示於將2片導光板保持於保持框架等之情形時因環境溫度或氣壓而導致導光板彎曲之模式圖。

如圖14A所示，示出將2片導光板11及12為了機械強度及定位而保持於框架15之情形。就機械精度之觀點而言，認為2片導光板之間隔為100 μm左右較合適。為了防止污物等侵入或結露於導光板之間，使框架15具有適當之氣密性。

圖14B模式性地示出因氣壓或環境溫度之變化而產生應力，與玻璃相比強度較小之塑膠導光板發生變形之情形。與上述情形同樣地，因波長(顏色)而使用者視認之位置產生偏移，故投影像劣化。

圖15A、圖15B、圖15C係表示改善因環境條件導致之彎曲之本實施例之導光板的模式圖。

圖15A示出1片導光板，於導光板10之表面形成有入射繞射光柵100、出射繞射光柵200，於背面形成有柱狀之間隙保持圖案1501。

圖15B係表示間隙保持圖案1501之xy面內之配置者。例如，於導光板10係將尺寸設為1邊為40 mm之矩形之情形時，間隙保持圖案1501可形成為直徑10 μm、高度10 μm、間隔200 μm。於如射出成型法般之塑膠成型法中，藉由將2片決定表面圖案之壓模組裝至模具中，能夠容易地進行兩面成型。

圖15C係表示組合2片導光板11、12之情形之模式圖。如圖所示，2片導光板介隔間隙保持圖案1501而接近配置。接合部1502可使用超音波、雷射光束、熱處理等塑膠接合法進行接合。亦可使用接著劑。藉由設為此種構成，2片導光板之間隔可以間隙保持圖案1501之高度保持。

由利用週期邊界條件進行變形模擬之結果可知：圖14B所示之導光板之彎曲縮減為1/100以下。為了保持投影像之品質，並且謀求彎曲之縮減，間隙保持圖案1501之佔有面積較理想為相較於導光板之面積為0.1～5.0%左右。

此處對使用之壓模進行附註。入射繞射光柵及出射繞射光柵之壓模，例如可使用對Si母模使用Ni電鑄技術轉印圖案而成之Ni壓模，該Si母模係對Si晶圓使用縮小曝光法或EB(electron beam，電子束)刻寫法等予以圖案化而成。又，間隙保持圖案用之壓模同樣可使用對Si母模使用Ni電鑄技術轉印圖案而成之Ni壓模，該Si母模係對Si晶圓使用i射線等密接曝光法予以圖案化而成。其等壓模亦可在無塵室內改變部位而形成於1個Si晶圓上，藉由機械切削將製成之Ni壓模裁出而使用。藉此，Ni壓模之厚度相同，故易於提高成型精度。此時，進而較佳為將用以決定2片導光板之相對位置之基準標記、或用以裁出Ni壓模之基準標記等標記1503與繞射光柵同時圖案化。 [實施例4]

圖16係表示本實施例之圖像顯示裝置之構成之模式圖。具有自圖中之投影機300出射之圖像資訊之光藉由B、G、R之各導光板11、12、13之作用而到達使用者之瞳孔400，實現擴增實境。B、G、R之各導光板11、12、13係組合圖6所示之本實施例之導光板而成者，所形成之繞射光柵之間距及深度根據各種顏色予以最佳化者。

圖16中，本實施例之圖像顯示裝置包括導光板10、投影機300、及未圖示之顯示圖像控制部。此處，導光板10係對應於彩色顯示，將R、G、B各導光板11、12、13一體化而成者。又，作為圖像形成機構，例如可使用：由反射型或透過型空間光調變器、光源及透鏡構成之圖像形成裝置；由有機及無機EL(Electro Luminescence，電致發光)元件陣列及透鏡構成之圖像形成裝置；由發光二極體陣列及透鏡構成之圖像形成裝置；組合光源、半導體MEMS(Micro-Electro-Mechanical System，微機電系統)鏡面陣列及透鏡而成之圖像形成裝置等廣泛公知之圖像形成裝置。

又，亦可使用藉由MEMS技術或PZT(Piezo-Electric Transducer，壓電換能器)等使LED(Light-Emitting Diode，發光二極體)或雷射光源及光纖之前端進行共振運動者。其等之中，最常見者為由反射型或透過型空間光調變器、光源及透鏡構成之圖像形成裝置。此處，作為空間光調變裝置，可列舉：LCOS(Liquid Crystal On Silicon，液晶覆矽)等透過型或者反射型液晶顯示裝置、數位微鏡裝置(DMD，Digital Micromirror Device)，作為光源，可將白色光源進行RGB分離而使用，亦可使用對應於各色之LED或雷射。

進而，反射型空間光調變裝置可設為包括液晶顯示裝置、及偏振分光鏡之構成，該偏振分光鏡係將來自光源之光之一部分反射並朝液晶顯示裝置引導，且使由液晶顯示裝置反射後之光之一部分通過並朝使用透鏡之準直光學系統引導。作為構成光源之發光元件，可列舉：紅色發光元件、綠色發光元件、藍色發光元件、白色發光元件。像素之數量只要基於圖像顯示裝置所要求之規格決定即可，作為像素數量之具體值，除上述所示之1280x720以外，可例示：320×240、432×240、640×480、1024×768、1920×1080。

本實施例之圖像顯示裝置中，以將包含自投影機300出射之影像資訊之光線照射至導光板11、12、13之各入射繞射光柵之方式進行定位而與導光板10一體化形成。

又，未圖示之顯示圖像控制部發揮控制投影機300之動作而適當地對使用者之瞳孔400提供圖像資訊之功能。

於以上所說明之實施例中，於具有表面凹凸型繞射光柵之導光板(圖像顯示元件)中，至少使用網型繞射光柵作為出射繞射光柵，利用射出成型法等以與波導相同之折射率之材料進行一體成型，藉此可實現導光板之塑膠化，且實現安全且輕量之導光板。即，藉由使用網型繞射光柵，可利用射出成型法製作縱橫比1以下之表面凹凸且具有良好性能之導光板，藉由導光板之塑膠化可實現安全性之提昇及輕量化。

於本實施例中，示出了對使用者提供圖像資訊之情形，但本實施例之圖像顯示裝置除此以外還可具備用以獲取使用者或外界之資訊之觸控感測器、溫度感測器、加速度感測器等各種感測器、或用以計測使用者眼睛之活動之眼睛追蹤機構。

10:導光板 11、12、13:導光板 15:框架 100:入射繞射光柵 200:出射繞射光柵 300:投影機 301:光線 302:光線 303:出射圓 400:使用者之瞳孔 500:影像光線 1000:影像光線 1501:間隙保持圖案 1502:接合部 1503:標記

圖1(a)～(c)係表示出射繞射光柵之相位函數之例之概念圖。 圖2係網型繞射光柵之模式圖。 圖3係表示出射圓之定義之概念圖。 圖4A係於導光板內部傳播之朝圖像中心之光線之強度分佈之概念圖。 圖4B係於導光板內部傳播之朝圖像端部之光線之強度分佈之概念圖。 圖5係表示實施例之導光板之俯視模式圖。 圖6係表示實施例之導光板之側視模式圖。 圖7A係表示光子晶體繞射光柵之投影像之說明圖。 圖7B係表示網型繞射光柵之投影像之說明圖。 圖8係表示於網型出射繞射光柵中，使圖案寬度變化之情形時之投影像之表圖。 圖9係表示亮度不均指標與圖案之縱橫比之關係之摺線圖。 圖10A係表示透過型入射繞射光柵之繞射光線之概念圖。 圖10B係表示反射型入射繞射光柵之繞射光線之概念圖。 圖11A係表示圖案寬度與繞射效率之關係之曲線圖。 圖11B係表示圖案寬度與縱橫比之關係之曲線圖。 圖11C係表示占空之定義之概念圖。 圖12係改善亮度不均之導光板之實施例側視圖。 圖13A係投影機及瞳孔配置於導光板之相同側之例之模式圖。 圖13B係投影機及瞳孔配置於導光板之相反側之例之模式圖。 圖14A係說明實施例之導光板未變形之情形時之投影像之模式圖。 圖14B係表示實施例之導光板發生變形之情形時對投影像產生之影響之模式圖。 圖15A係抑制變形之導光板之實施例側視圖。 圖15B係抑制變形之導光板之實施例俯視圖。 圖15C係抑制變形之導光板模組之實施例側視圖。 圖16係表示實施例之圖像顯示裝置之構成之模式圖。

10:導光板

100:入射繞射光柵

200:出射繞射光柵

Claims (17)

1. 一種導光板，其特徵在於具備：基板；入射繞射光柵，其使入射光繞射；及出射繞射光柵，其使藉由上述入射繞射光柵而繞射之光自上述基板出射；且上述出射繞射光柵由形成於上述基板面之凹凸圖案形成，該凹凸圖案包含第1平行直線群、及與上述第1平行直線群相交之第2平行直線群，上述第1平行直線群之間距與第2平行直線群之間距相等，作為上述第1平行直線群與第2平行直線群之間距P和上述凹凸圖案之寬度W之關係，W/P為0.15以上0.85以下，上述出射繞射光柵之各個圖案具有所成角度為大致120度之2個波向量。
2. 如請求項1之導光板，其中上述基板由包含高分子化合物之材料構成，上述凹凸圖案之縱橫比為1以下。
3. 如請求項1之導光板，其中上述凹凸圖案之縱橫比為0.25以上1.0以下。
4. 如請求項1之導光板，其中 上述第1平行直線群與第2平行直線群之間距P和上述入射繞射光柵之間距相等。
5. 如請求項1之導光板，其中上述入射繞射光柵係使入射光反射繞射並於上述基板之內部傳播之反射型繞射光柵，且形成於上述基板之與上述出射繞射光柵相同之面。
6. 如請求項1之導光板，其中上述W/P為0.3以上0.7以下。
7. 如請求項1之導光板，其中上述出射繞射光柵之上述第1平行直線群與第2平行直線群之間距P、和上述凹凸圖案之寬度W之關係，根據其與上述入射繞射光柵之位置關係而變化。
8. 如請求項1之導光板，其中上述出射繞射光柵包含上述W/P為0.4以上0.6以下之部分。
9. 如請求項1之導光板，其中上述出射繞射光柵係使自上述入射繞射光柵於上述基板內傳播來之光以繞射效率η₁向與上述凹凸圖案垂直之方向繞射，並且以繞射效率η₁₁向與上述基板垂直之方向繞射，將繞射效率之關係設為η₁₁<η₁。
10. 如請求項9之導光板，其中使η₁₁為(η₁)²之0.8~1.2倍。
11. 一種導光板模組，其係積層複數個如請求項1之導光板而構成。
12. 如請求項11之導光板模組，其中於上述導光板之基板之與上述入射繞射光柵及上述出射繞射光柵相同之面具備對位標記。
13. 如請求項11之導光板模組，其中於上述導光板之基板之面上，具有與導光板之面積相比具有0.1~5.0%之佔有面積之間隙保持圖案。
14. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項12之導光板模組、及對上述導光板模組照射影像光之投影機，且上述影像光入射至上述入射繞射光柵。
15. 如請求項14之圖像顯示裝置，其中上述基板由包含高分子化合物之材料構成，上述凹凸圖案之縱橫比為1以下。
16. 如請求項14之圖像顯示裝置，其中上述導光板模組向與配置有上述投影機之側相反之側射出上述影像 光。
17. 一種導光板之製造方法，其係如請求項1之導光板之製造方法，且具備如下步驟：準備由包含高分子化合物之材料構成之上述基板；及藉由壓模而於上述基板形成上述入射繞射光柵及上述出射繞射光柵。

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