TWI762936B - 光瞳補償裝置及光刻機 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種光瞳補償裝置及光刻機，光瞳補償裝置包括支架主體、驅動裝置及補償機構，驅動裝置設置在支架主體上，驅動裝置用於驅動補償機構在光瞳面上移動，補償機構用於補償光瞳均勻度，補償機構包括補償主體，以及設置在補償主體上的補償件，補償主體與支架主體滑動連接，補償件用於補償光瞳均勻度。本發明中的光瞳補償裝置可在光瞳面上對光瞳均勻度進行補償，並且補償機構對光瞳均勻度的補償程度可調，從而可針對不同的光瞳均勻度補償要求調節補償機構的位置，使光瞳補償裝置的耦合效率高。此外，光瞳補償裝置結構簡單，可靠性高。

Description

光瞳補償裝置及光刻機

本發明係關於光刻技術領域，特別關於一種光瞳補償裝置及光刻機。

投影式光刻機中的曝光系統透過照明系統將遮罩面上的圖案轉移到矽片面上，並形成所需要的圖案。照明系統的指標包括投射到遮罩面的光斑能量、光斑均勻度及光瞳均勻度，其中光斑能量決定了光刻機的產率，光瞳均勻度決定了曝光線條方向性寬度的相對差異，即間接的影響光刻機的分辨率。

照明系統多包括汞燈及石英棒勻光單元，尤其當曝光系統的曝光視場為長方形結構時，遮罩面的光瞳均勻度一般為25%~30%，為了提高照明系統的光瞳均勻度，一般都會增加相應的光瞳補償裝置。

現有技術的一種光瞳補償裝置包括兩個安裝基板、複數個馬達、螺桿、導軌、探針以及控制系統，控制系統控制馬達運動，並透過馬達驅動對應的探針在光瞳面的垂向及徑向上以不同的行程運動，從而影響光瞳面的光強分佈，改善光瞳效果。但是，光瞳補償裝置存在如下幾個缺點：首先，光瞳補償裝置包括複數個螺桿、導軌及探針，在光瞳面的垂向及徑向上分別設計有複數個馬達，光瞳補償裝置的結構非常複雜，同時控制系統也較為複雜，必然會增加調試及維護的難度，降低除錯及維護的效率；其次，由於光瞳補償裝置設計有複數個馬達，光瞳補償裝置的可靠性低；另外，光瞳補償裝置結構複雜需要佔用較大的空間，必然會影響曝光系統的空間佈局。

第1圖是現有技術中另一種光瞳補償裝置的結構示意圖，參考第1圖，光瞳補償裝置採用機械擋光的方式進行光瞳補償，光瞳補償裝置包括一正方形光闌100，所述正方形光闌100位於光線進入勻光系統（石英棒）之前的位置處，透過正方形光闌100將石英棒的入射窗口矯正為一種對稱結構。雖然，光瞳補償裝置的結構簡單，將石英棒的入射窗口調整為正方形的對稱結構可大幅度提高曝光系統的光瞳均勻度，但不足之處在於，在其它不需要光瞳補償的曝光模式下會引起光斑能量損失，降低光瞳補償裝置耦合效率。

現有技術中再一種光瞳補償裝置採用複數個拼合的濾波片對光瞳進行補償，光瞳補償裝置的結構與第1圖中的光瞳補償裝置的原理類似，其透過光瞳補償裝置的控制系統即時調整濾波片的位置以對光瞳進行補償。但不足之處在於該光瞳補償裝置的補償精度受能量探測器的檢測精度的影響，且濾波片的透過率受溫度的影響，大角度光線容易被濾除，遮罩面的照度受濾波片濾光的影響而降低，即易引起能量損失，光瞳補償裝置的耦合效率低，且光瞳補償裝置結構複雜，可靠性不高。

因此，急需提出一種結構簡單且耦合效率高的光瞳補償裝置。

本發明的目的在於提供一種光瞳補償裝置及光刻機，以解決現有的光瞳補償裝置及光刻機結構簡單及高耦合效率不能兼具的問題。為解決上述技術問題，本發明提供一種光瞳補償裝置，包括支架主體、驅動裝置及補償機構，驅動裝置設置在支架主體上，驅動裝置用於驅動補償機構在光瞳面上移動，補償機構用於補償光瞳面對應的光瞳均勻度，補償機構包括補償主體，以及設置在補償主體上的補償件，補償主體與支架主體滑動連接，補償件用於補償光瞳均勻度。

較佳地，補償件為開設有複數個通孔的板件，或者補償件為光板。

較佳地，補償件為透明材質或者非透明材質。

較佳地，補償件包括從補償主體上延伸的至少兩個條狀結構，條狀結構為圓柱體或多面體。

較佳地，光瞳補償裝置還包括導向裝置，導向裝置設置在支架主體上，用於引導補償機構移動。

較佳地，導向裝置包括導軌，導軌固定設置在支架主體上，導軌與補償機構滑動連接。

較佳地，導向裝置還包括滑塊，導軌與滑塊滑動連接，補償機構與滑塊固定連接。

較佳地，導軌為直線導軌。

較佳地，導向裝置還包括第一導向件，第一導向件用於阻止補償機構在光瞳面上或者平行於光瞳面的平面上相對於導軌傾斜。

較佳地，第一導向件包括第一導向支架以及與第一導向支架轉動連接的至少一個第一導向輪，第一導向輪的轉軸垂直於光瞳面；驅動裝置包括驅動器、齒輪及與齒輪嚙合的直齒條，驅動器設置在支架主體上，驅動器用於提供驅動力，驅動器的輸出端與齒輪連接，齒輪與支架主體轉動連接，直齒條與補償機構固定連接，直齒條包括第一側面及第二側面，第一側面及第二側面均與光瞳面垂直，第一側面上開設有複數個嚙合齒，複數個嚙合齒沿直齒條的長度方向設置，第一導向輪的外周面與直齒條的第二側面相接觸。

較佳地，第一導向輪的數量為兩個，兩個第一導向輪沿著補償機構的可移動方向依序設置。

較佳地，導向裝置還包括第二導向件，第二導向件用於阻止補償機構在垂直於光瞳面且與補償機構的可移動方向平行的平面上相對於導軌傾斜。

較佳地，第二導向件包括第二導向支架以及與第二導向支架轉動連接的至少一個第二導向輪，第二導向輪的轉軸平行於光瞳面；驅動裝置包括驅動器、齒輪及與齒輪嚙合的直齒條，驅動器設置在支架主體上，驅動器用於提供驅動力，驅動器的輸出端與齒輪連接，齒輪與支架主體轉動連接，直齒條與補償機構固定連接，直齒條包括第三側面及第四側面，第三側面及第四側面均與光瞳面平行，第二導向輪的外周面與直齒條的第三側面及第四側面中的至少一個相互接觸。

較佳地，第二導向輪的數量為兩個，一個第二導向輪的外周面與直齒條的第三側面相互接觸，另一個第二導向輪的外周面與直齒條的第四側面相互接觸。

較佳地，驅動裝置包括驅動器、齒輪及與齒輪嚙合的直齒條，驅動器設置在支架主體上，驅動器用於提供驅動力，驅動器的輸出端與齒輪連接，齒輪與支架主體轉動連接，直齒條與補償機構固定連接。

較佳地，光瞳補償裝置還包括限位裝置及位置感測器，限位裝置用於限制補償機構在預定的行程範圍內移動，位置感測器用於檢測補償機構的位置。

較佳地，光瞳補償裝置還包括罩殼，罩殼與支架主體固定連接並形成一空間，補償機構設置在空間內。

本發明還提供一種光刻機，光刻機包括照明系統，以及固定在照明系統中的至少一個如上的光瞳補償裝置，光瞳補償裝置的補償機構設置在照明系統的光瞳面上，且補償機構的移動方向與照明系統的光瞳面平行。

較佳地，光刻機包括兩個光瞳補償裝置，兩個光瞳補償裝置對稱固定在照明系統中。

本發明提供的一種光瞳補償裝置及光刻機，具有以下有益效果：

由於光瞳補償裝置中的補償機構用於補償光瞳均勻度，且驅動裝置用於驅動補償機構在光瞳面上移動，因此光瞳補償裝置中的補償機構可在光瞳面上對光瞳均勻度進行補償，並且補償機構可在光瞳面上移動，因此補償機構對光瞳均勻度的補償程度可調，從而可針對不同的光瞳均勻度補償要求調節補償機構的位置，使光瞳補償裝置的耦合效率高。此外，光瞳補償裝置僅包括支架主體、驅動裝置及補償機構，結構簡單，可靠性高。

以下結合所附圖式及具體實施例對本發明提出的光瞳補償裝置及光刻機作進一步詳細說明。根據下文的說明，本發明的優點及特徵將更清楚。需說明的是，所附圖式均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。

參考第2圖、第3圖及第4圖，第2圖是本發明一種實施例中的光瞳補償裝置200的結構示意圖，第3圖是第2圖中的光瞳補償裝置200去掉罩殼260後一個內部結構示意圖，第4圖是第2圖中的光瞳補償裝置200去掉罩殼260後又一個內部結構示意圖，本實施例提供一種光瞳補償裝置200，光瞳補償裝置200包括支架主體210、驅動裝置及補償機構230，驅動裝置設置在支架主體210上，驅動裝置用於驅動補償機構230在光瞳面上移動，補償機構230用於補償光瞳均勻度。由於光瞳補償裝置200中的補償機構230用於補償光瞳均勻度，且驅動裝置用於驅動補償機構230在光瞳面上移動，因此光瞳補償裝置200中的補償機構230可在光瞳面上對光瞳均勻度進行補償，並且補償機構230可在光瞳面上移動，因此補償機構230對光瞳均勻度的補償程度可調，從而可針對不同的光瞳均勻度補償要求調節補償機構230的位置，使光瞳補償裝置200的耦合效率高。此外，光瞳補償裝置200僅包括支架主體210、驅動裝置及補償機構230，結構簡單，可靠性高。相比於採用固定的方形光闌進行光瞳均勻度補償的裝置而言，可減少在不需要進行光瞳均勻度補償的照明模式下的能量損失。透過更換不同形狀、不同大小及不同補償比的補償機構230，可以實現對多種照明系統的光瞳均勻度補償。

如第2圖、第3圖及第4圖所示，補償機構230沿X向移動，與光瞳面平行且垂直於X向的方向為Y向，與光瞳面垂直的方向為Z向。

驅動裝置包括驅動器221及傳動裝置，驅動器221及傳動裝置設置在支架主體210上。驅動器221用於提供驅動力，傳動裝置用於將驅動力轉換為線性驅動力，並將線性驅動力傳遞給補償機構230以驅動補償機構230移動。

具體地，驅動器221可為馬達。傳動裝置包括齒輪222及與齒輪222嚙合的直齒條223，齒輪222與支架主體210轉動連接，並與馬達的輸出軸同軸設置，直齒條223設置在支架主體210上，並與支架主體210滑動連接。如第2圖、第3圖及第4圖所示，馬達的輸出軸及齒輪222的轉軸沿垂直於光瞳面的方向設置，即沿Z向設置，直齒條223的設置方向與補償機構230的移動方向相同，即沿X向設置。

如第3圖及第4圖所示，直齒條223包括第一側面224、第二側面225、第三側面226及第四側面。其中，第一側面224與第二側面225與光瞳面垂直，第三側面226及第四側面與光瞳面平行，第一側面224、第三側面226、第二側面225及第四側面沿順時針方向依序連接。第一側面224上開設有複數個嚙合齒228，複數個嚙合齒228沿第一側面224的長度方向設置。直齒條223可沿第一側面224、第二側面225、第三側面226及第四側面的長度方向移動。即，第一側面224及第二側面225與XOY平面垂直，第三側面226及第四側面與XOY平面平行，也即第三側面226及第四側面與XOZ平面、YOZ平面均垂直，直齒條223可沿X向移動。

光瞳補償裝置200還包括導向裝置，導向裝置設置在支架主體210上，用於引導補償機構230移動。導向裝置較佳為直線導向裝置，用於引導補償機構230線性移動。

導向裝置包括導軌241及滑塊242，導軌241固定設置在支架主體210上，導軌241與滑塊242滑動連接，補償機構230與滑塊242固定連接，滑塊242與直齒條223固定連接。本實施例中，補償機構230與滑塊242固定連接，直齒條223設置在補償機構230上，透過補償機構230間接與滑塊242固定連接。在其它的實施例中，導軌241可直接與補償機構230滑動連接。具體地，如第2圖及第3圖所示，導軌241為線性導軌。

導向裝置還包括第一導向件，第一導向件用於阻止補償機構230，在光瞳面上或者平行於光瞳面的平面上相對於導軌241傾斜。具體地，第一導向件包括第一導向支架243，以及與第一導向支架243轉動連接的兩個第一導向輪244。第一導向輪244的轉軸垂直於光瞳面，第一導向輪244的外周面與直齒條223的第二側面225相互接觸，直齒條223的第二側面225垂直於光瞳面且平行於補償機構230的移動方向，兩個第一導向輪244沿著補償機構230的移動方向依序設置，以提高補償機構230的運動穩定性及可靠性。在其它的實施例中，第一導向輪244的數量為一個、三個或者其它，本發明對此不作限制。

如第2圖、第3圖及第4圖所示，補償機構230沿平行於X軸方向的方向移動，第一導向輪244轉軸與Z軸平行，直齒條223的第二側面225與XOZ平面平行，光瞳面與XOY平面平行。

導向裝置還包括第二導向件，第二導向件用於阻止補償機構230，在垂直於光瞳面且與補償機構230的移動方向平行的平面上相對於導軌241傾斜。具體地，第二導向件包括第二導向支架245，以及與第二導向支架245轉動連接的第二導向輪246，第二導向輪246的轉軸平行於光瞳面，第二導向輪246的外周面與直齒條223的第三側面226及第四側面之一相互接觸，直齒條223的第三側面226及第四側面平行於光瞳面。較佳地，第二導向輪246的數量為兩個，一個第二導向輪246的外周面與直齒條223的第三側面226相互接觸，另一個第二導向輪246的外周面與直齒條223的第四側面相互接觸，以阻止補償機構230，在垂直於光瞳面且與補償機構230的移動方向平行的平面上相對於導軌241傾斜，提高補償機構230的運動穩定性及可靠性。進一步地，兩個第二導向輪246沿著垂直於光瞳面的方向依序設置，以進一步提高補償機構230的運動穩定性及可靠性。在其它的實施例中，第二導向輪246的數量為一個、三個或者其它，本發明對此不作限制，

如第2圖、第3圖及第4圖所示，第二導向輪246轉軸與Y軸平行，直齒條223的第三側面226及第四側面與XOY平面平行，光瞳面與XOY平面平行。

光瞳補償裝置200還包括位置檢測裝置，位置檢測裝置用於檢測補償機構230的位置。位置檢測裝置包括限位裝置251及位置感測器252，限位裝置251用於限制補償機構230或者直齒條223在預定的行程範圍內移動，位置感測器252用於檢測補償機構230或者直齒條223的位置。限位裝置251例如為設置在支架主體210上的限位柱。位置檢測裝置可監控及定位補償機構230的初始位置。透過設置位置檢測裝置可提高補償機構230的位置可控性，以及補償機構230運動的穩定性。

支架主體210可呈板狀。

光瞳補償裝置200還包括罩殼260，罩殼260與支架主體210固定連接，上述的傳動裝置、導向裝置、補償機構230及位置檢測裝置可設置於罩殼260及支架主體210圍成的空間內。如第2圖所示，本實施例中，驅動裝置中的驅動器221設置在罩殼260及支架主體210圍成的空間外，並與罩殼260固定連接。在其它的實施例中，驅動器221也可與支架主體210固定連接，本發明對此不作限制。

參考第5A圖，第5A圖是本發明一種實施例中的補償機構230的結構示意圖，補償機構230包括補償主體231，以及設置在補償主體231上的補償件232，補償主體231與滑塊242固定連接，補償件232用於補償光瞳均勻度。

如第5A圖所示，補償機構230呈板狀，補償件232上開設有至少兩個均勻分佈的圓形通孔233，補償件232由不透光材料製成。在其它的實施例中，通孔還可為其它形狀，如第5B圖所示，通孔為方形，如第5C圖所示，通孔為長條形，補償件232上也可為未設置通孔的光板。如第5D圖所示，補償件232可包括從補償主體231上延伸的至少兩個條狀結構，條狀結構可為圓柱體，當然條狀結構還可為其它的多面體。補償件232的材質可為透光材料或者不透光材料。

光瞳補償裝置200工作時，可根據光刻機的照明系統中的光瞳均勻度的補償要求調節補償機構230的位置，以調節補償機構230對光瞳面的光強分佈的影響程度。具體地，可根據位置檢測裝置檢測的直齒條及補償機構230的位置訊息，以及馬達的轉動訊息控制馬達轉動產生驅動力，進而透過齒輪222齒條傳動裝置將驅動力傳遞給補償機構230，驅動補償機構230在一定的行程範圍內沿著X方向往復移動，從而實現與直齒條223固定連接的補償機構230的位置調節，透過補償機構230的位置變化對光瞳面的光強分佈產生不同程度的影響，使光瞳補償裝置200對光瞳均勻度的補償程度可調，提高光瞳補償裝置200的耦合效率。

參考第6圖，第6圖是本發明一種實施例中光刻機的照明系統中設置有兩個光瞳補償裝置200的結構示意圖，本實施例還提供一種光刻機，光刻機包括照明系統，以及固定設置在照明系統中的至少一個上述光瞳補償裝置200。

具體地，光瞳補償裝置200的數量為兩個，光瞳補償裝置200的罩殼260與照明系統固定連接，光瞳補償裝置200中的補償機構230設置在照明系統的光瞳面上，且補償機構230的移動方向與光瞳面平行。如第6圖所示，補償機構230平行於XOY平面，補償機構230沿X向移動。

在具體應用過程中，兩個補償機構230在照明系統的光瞳面上的位置可對稱設置，也可非對稱設置。可控制兩個馬達單獨轉動或者同時轉動使兩個補償機構230相背或者相向運動。當兩個補償機構230非對稱設置時，可實現非對稱式光瞳均勻度補償。

第7圖是本發明一種實施例中光刻機未使用光瞳補償裝置200進行補償以及使用光瞳補償裝置200進行補償的光瞳均勻度的對比圖，如第7圖所示，使用光瞳補償裝置200進行補償可使光瞳均勻度提高20%左右。

第8圖是本發明一種實施例中光刻機使用光瞳補償裝置200進行補償以及使用光闌進行補償的耦合效率的對比圖，如第8圖所示，使用光瞳補償裝置200進行補償可有效提升光刻機在部分照明模式下的耦合效率。

第9圖是本發明一種實施例中光刻機使用光瞳補償裝置200進行補償以及使用光闌進行補償的光瞳均勻度的對比圖，如第9圖所示，使用光瞳補償裝置200進行補償以及使用光闌進行補償，光瞳均勻度的補償效果相近。

由上述實施例可知，本實施例提供的光瞳補償裝置200可透過將補償機構230設置在光瞳面上以影響光瞳面的光強分佈，從而實現光瞳均勻度補償，並透過使補償機構230在光瞳面上的位置可調，從而調節補償機構230影響光瞳面的光強分佈的程度，以避免補償機構230對光瞳面的光強分佈的影響程度過低或者過高，影響光瞳補償裝置200的耦合效率。並且，可簡化光瞳補償裝置200的結構，從而降低光瞳補償裝置200的製造成本，提高光瞳補償裝置200的可靠性，使光瞳補償裝置200兼具結構簡單、耦合效率高的特點。

上述實施例中的光瞳補償裝置200，還可用於對其它設備的照明系統的光瞳均勻度進行補償，本發明對此不做限制。

上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，並非對本發明範圍的任何限定，發明所屬技術領域通常知識者根據上述揭露內容做的任何變更、修飾，均屬申請專利範圍的保護範圍。

100:正方形光闌 200:光瞳補償裝置 210:支架主體 221:驅動器 222:齒輪 223:直齒條 224:第一側面 225:第二側面 226:第三側面 228:嚙合齒 230:補償機構 231:補償主體 232:補償件 233:圓形通孔 241:導軌 242:滑塊 243:第一導向支架 244:第一導向輪 245:第二導向支架 246:第二導向輪 251:限位裝置 252:位置感測器 260:罩殼

第1圖是現有的光瞳補償裝置的結構示意圖； 第2圖是本發明一種實施例中的光瞳補償裝置的結構示意圖； 第3圖是第2圖中的光瞳補償裝置去掉罩殼後一個內部結構示意圖； 第4圖是第2圖中的光瞳補償裝置去掉罩殼後又一個內部結構示意圖； 第5A圖是本發明一種實施例中的補償機構的結構示意圖； 第5B圖是本發明另一種實施例中的補償機構的結構示意圖； 第5C圖是本發明再一種實施例中的補償機構的結構示意圖； 第5D圖是本發明又一種實施例中的補償機構的結構示意圖； 第6圖是本發明一種實施例中光刻機的照明系統中設置有兩個光瞳補償裝置的結構示意圖； 第7圖是本發明一種實施例中光刻機未使用光瞳補償裝置進行補償以及使用光瞳補償裝置進行補償的光瞳均勻度的對比圖； 第8圖是本發明一種實施例中光刻機使用光瞳補償裝置進行補償以及使用光闌進行補償的耦合效率的對比圖； 第9圖是本發明一種實施例中光刻機使用光瞳補償裝置進行補償以及使用光闌進行補償的光瞳均勻度的對比圖。

200:光瞳補償裝置

210:支架主體

221:驅動器

230:補償機構

252:位置感測器

260:罩殼

Claims (19)

1. 一種光瞳補償裝置，其包括一支架主體、一驅動裝置及一補償機構，該驅動裝置設置在該支架主體上，該驅動裝置用於驅動該補償機構在一光瞳面上移動，該補償機構用於補償該光瞳面對應的光瞳均勻度，該補償機構包括一補償主體，以及設置在該補償主體上的一補償件，該補償主體與該支架主體滑動連接，該補償件用於補償光瞳均勻度。
2. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該補償件為開設有複數個通孔的板件，或者該補償件為光板。
3. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該補償件為透明材質或者非透明材質。
4. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該補償件包括從該補償主體上延伸的至少兩個條狀結構，該條狀結構為圓柱體或多面體。
5. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該光瞳補償裝置還包括一導向裝置，該導向裝置設置在該支架主體上，用於引導該補償機構移動。
6. 如請求項5所述之光瞳補償裝置，其中該導向裝置包括一導軌，該導軌固定設置在該支架主體上，該導軌與該補償機構滑動連接。
7. 如請求項6所述之光瞳補償裝置，其中該導向裝置還包括一滑塊，該導軌與該滑塊滑動連接，該補償機構與該滑塊固定連接。
8. 如請求項6所述之光瞳補償裝置，其中該導軌為直線導軌。
9. 如請求項6所述之光瞳補償裝置，其中該導向裝置還包括一第一導向件，該第一導向件用於阻止該補償機構在該光瞳面上或者平行於該光瞳面的平面上相對於該導軌傾斜。
10. 如請求項9所述之光瞳補償裝置，其中該第一導向件包括一第一導向支架以及與該第一導向支架轉動連接的至少一個第一導向輪，該第一導向輪的轉軸垂直於該光瞳面；該驅動裝置包括一驅動器、一齒輪及與該齒輪嚙合的一直齒條，該驅動器設置在該支架主體上，該驅動器用於提供驅動力，該驅動器的輸出端與該齒輪連接，該齒輪與該支架主體轉動連接，該直齒條與該補償機構固定連接，該直齒條包括一第一側面及一第二側面，該第一側面及該第二側面均與該光瞳面垂直，該第一側面上開設有複數個嚙合齒，該複數個嚙合齒沿該直齒條的長度方向設置，該第一導向輪的外周面與該直齒條的該第二側面相接觸。
11. 如請求項10所述之光瞳補償裝置，其中該第一導向輪的數量為兩個，兩個該第一導向輪沿著該補償機構的可移動方向依序設置。
12. 如請求項6所述之光瞳補償裝置，其中該導向裝置還包括一第二導向件，該第二導向件用於阻止該補償機構在垂直於該光瞳面且與該補償機構的可移動方向平行的平面上相對於該導軌傾斜。
13. 如請求項12所述之光瞳補償裝置，其中該第二導向件包括一第二導向支架以及與該第二導向支架轉動連接的至少一個第二導向輪，該第二導向輪的轉軸平行於該光瞳面；該驅動裝置包括一驅動器、一齒輪及與該齒輪嚙合的一直齒條，該驅動器設置在該支架主體上，該驅動器用於提供驅動力，該驅動器的輸出端與該齒輪連接，該齒輪與該支架主體轉動連接，該直齒條與該補償機構固定連接，該直齒條包括一第三側面及一第四側面，該第三側面及該第四側面均與該光瞳面平行，該第二導向輪的外周面與該直齒條的該第三側面及該第四側面中的至少一個相互接觸。
14. 如請求項13所述之光瞳補償裝置，其中該第二導向輪的數量為兩個，一個該第二導向輪的外周面與該直齒條的該第三側面相互接觸，另一個該第二導向輪的外周面與該直齒條的該第四側面相互接觸。
15. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該驅動裝置包括一驅動器、一齒輪及與該齒輪嚙合的一直齒條，該驅動器設置在該支架主體上，該驅動器用於提供驅動力，該驅動器的輸出端與該齒輪連接，該齒輪與該支架主體轉動連接，該直齒條與該補償機構固定連接。
16. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該光瞳補償裝置還包括一限位裝置及一位置感測器，該限位裝置用於限制該補償機構在預定的行程範圍內移動，該位置感測器用於檢測該補償機構的位置。
17. 如請求項1所述之光瞳補償裝置，其中該光瞳補償裝置還包括一罩殼，該罩殼與該支架主體固定連接並形成一空間，該補償機構設置在該空間內。
18. 一種光刻機，其包括一照明系統，以及固定在該照明系統中的至少一個如請求項1至17中任一項所述之光瞳補償裝置，該光瞳補償裝置的一補償機構設置在該照明系統的一光瞳面上，且該補償機構的移動方向與該照明系統的該光瞳面平行。
19. 如請求項18所述之光刻機，其中該光刻機包括兩個該光瞳補償裝置，兩個該光瞳補償裝置對稱固定在該照明系統中。

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