TWI724620B - 資料中心中之冷卻電子裝置 - Google Patents

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TWI724620B
TWI724620B TW108140771A TW108140771A TWI724620B TW I724620 B TWI724620 B TW I724620B TW 108140771 A TW108140771 A TW 108140771A TW 108140771 A TW108140771 A TW 108140771A TW I724620 B TWI724620 B TW I724620B
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馬杜蘇丹 克里斯南 艾揚格
克里斯多福 格雷戈里 馬隆
源 李
喬治 帕迪拉
權雲星
澤圭 姜
諾曼 保羅 約皮
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Abstract

一種伺服器托盤封裝包含：一主機板總成，其包含複數個資料中心電子裝置；及一液體冷板總成。該液體冷板總成包含：一基座部分，其安裝至該主機板總成，該基座部分及主機板總成界定至少部分圍封該複數個資料中心電子裝置之一容積；及一頂部部分，其安裝至該基座部分且包含一熱傳遞部件，該熱傳遞部件包含與透過該熱傳遞部件界定之一冷卻液體流動路徑流體連通之第一數目個入口埠及第二數目個出口埠，入口埠之該第一數目不同於出口埠之該第二數目。

Description

資料中心中之冷卻電子裝置
本文件係關於運用一冷板為電腦資料中心中之電子設備(諸如電腦伺服器機架及相關設備)提供冷卻之系統及方法。
電腦使用者通常關注電腦微處理器之速度(例如，百萬赫及十億赫)。許多人忘記此速度通常伴隨著一代價-更高功率消耗。此功率消耗亦產生熱。此係因為根據簡單物理定律，所有功率必須去往某處，且某處最終轉換成熱。安裝於一單一主機板上之一對微處理器可汲取數百瓦特或更多之功率。將該數字乘以數千(或數萬)來考量一大型資料中心中之許多電腦，且吾人可容易明瞭可產生之熱量。當一個資料中心併有支援臨界負載所需之所有輔助設備時，由資料中心中之臨界負載消耗之功率的效應通常是複雜的。
許多技術可用於冷卻定位於一伺服器或網路機架托盤上之電子裝置(例如，處理器、記憶體、網路連結裝置及其他發熱裝置)。例如，可藉由在裝置上方提供一冷卻氣流而產生強制對流。定位於裝置附近之風扇、定位於電腦伺服器機房中之風扇及/或定位於與電子裝置周圍之空氣流體連通之管道系統(ductwork)中之風扇可迫使冷卻氣流流經容納裝置之托盤。在一些例項中，一伺服器托盤上之一或多個組件或裝置可能定 位於托盤之一難以冷卻之區域中；例如，其中強制對流不是特別有效或不可用之一區域。
不足及/或不充分冷卻之後果可能是托盤上之一或多個電子裝置歸因於裝置之一溫度超過一最大額定溫度而發生故障。雖然可將某些冗餘內建至一電腦資料中心、一伺服器機架及甚至個別托盤，但歸因於過熱之裝置故障可能在速度、效率及費用方面付出巨大代價。
本發明描述一種例如用於一資料中心中之機架式電子裝置(例如，伺服器、處理器、記憶體、網路連結裝置或其他)之冷卻系統。在各項所揭示實施方案中，該冷卻系統可為或包含一液體冷板總成，該液體冷板總成係一伺服器托盤封裝之部分或與該伺服器托盤封裝整合。在一些實施方案中，該液體冷板總成包含：一基座部分及一頂部部分，其等組合地形成一冷卻液體循環通過之一冷卻液體流動路徑；及一熱介面，其在一或多個發熱裝置與該冷卻液體之間。該液體冷板總成之該頂部部分可包含多個入口及/或多個出口以客製化一流動路徑，一液體冷卻劑流動通過該流動路徑以冷卻與該冷板總成導熱接觸之電子裝置。
在一例示性實施方案中，一種伺服器托盤封裝包含：一主機板總成，其包含複數個資料中心電子裝置；及一液體冷板總成。該液體冷板總成包含：一基座部分，其安裝至該主機板總成，該基座部分及主機板總成界定至少部分圍封該複數個資料中心電子裝置之一容積；及一頂部部分，其安裝至該基座部分且包含一熱傳遞部件，該熱傳遞部件包含與透過該熱傳遞部件界定之一冷卻液體流動路徑流體連通之第一數目個入口埠及第二數目個出口埠，入口埠之該第一數目不同於出口埠之該第二數目。
可與例示性實施方案組合之一態樣進一步包含：一第一熱介面材料，其定位於該基座部分之一頂表面與該複數個資料中心電子裝置之至少一部分之間；及一第二熱介面材料，其定位於該基座部分之該頂表面與該頂部部分之一底表面之間。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該液體冷板總成進一步包含圍封於該冷卻液體流動路徑內之複數個熱傳遞表面。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，入口埠之該第一數目大於出口埠之該第二數目。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該第一數目個入口埠包含定位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣上之至少兩個入口埠。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該至少兩個入口埠包含作為成對之入口埠定位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣上之至少四個入口埠。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含由定位於該冷卻液體流動路徑中之熱傳遞表面界定之複數個冷卻液體流動迴路。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該複數個冷卻液體流動迴路在該至少兩個入口埠與該第二數目個出口埠之間延伸。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含跨該複數個冷卻液體流動迴路之一或多者定位之至少一個導流器(flow diverter)。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該等熱傳遞表面包含針鰭(pin fin)。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該複數個資料中心電子裝置包含至少一個硬體處理裝置及複數個記憶體裝置。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該複數個記憶體裝置之各者在該至少一個硬體處理裝置與該至少兩個入口埠之至少一者之間安裝至該主機板。
在另一例示性實施方案中，一種用於冷卻一資料中心中之發熱裝置之方法包含使一冷卻液體之一流循環至一伺服器托盤封裝。該伺服器托盤封裝包含：一主機板總成，其包含複數個資料中心電子裝置；及一液體冷板總成，其包含：一基座部分，其安裝至該主機板總成，該基座部分及主機板總成界定至少部分圍封該複數個資料中心電子裝置之一容積；及一頂部部分，其安裝至該基座部分。該方法包含：使一冷卻液體之一流循環至熱傳遞部件之第一數目個入口埠中；使該冷卻液體之該流自該第一數目個入口埠循環通過透過該熱傳遞部件界定之一冷卻液體流動路徑，以將來自該複數個資料中心電子裝置之熱傳遞至該冷卻液體中；及使該冷卻液體之經加熱流自該冷卻液體流動路徑循環至該熱傳遞部件之第二數目個出口埠，入口埠之該第一數目不同於出口埠之該第二數目。
可與例示性實施方案組合之一態樣進一步包含將來自該複數個資料中心電子裝置之該熱傳遞通過定位於該複數個資料中心電子裝置與該基座部分之一頂表面之間的一第一熱介面材料。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含將該熱自該基座部分之該頂表面傳遞通過定位於該液體冷板總成之該頂部部分之一底表面與該冷卻液體之間的一第二熱介面材料。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，使該冷卻液 體之該流循環通過透過該熱傳遞部件界定之該冷卻液體流動路徑包含：使該冷卻液體循環通過由圍封於該冷卻液體流動路徑內之複數個熱傳遞表面界定之複數個流動通道。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，入口埠之該第一數目大於出口埠之該第二數目。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使該冷卻液體之該流循環至定位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣上之至少兩個入口埠中。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使該冷卻液體之該流循環至作為成對之入口埠定位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣上之至少四個入口埠中。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使該冷卻液體之該流循環通過由定位於該冷卻液體流動路徑中之熱傳遞表面界定之在該至少兩個入口埠與該第二數目個出口埠之間延伸的複數個冷卻液體流動迴路。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使在該複數個冷卻液體流動迴路之一或多者內流動之該冷卻液體之至少一部分轉向。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該等熱傳遞表面包含針鰭。
在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該複數個資料中心電子裝置包含至少一個硬體處理裝置及複數個記憶體裝置。
可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使該冷 卻液體之該流自該第一數目個入口埠循環經過定位於該複數個記憶體裝置之至少一者上方之該冷卻液體流動路徑之一部分；使該冷卻液體之該流自定位於該複數個記憶體裝置之至少一者上方之該冷卻液體流動路徑之該部分循環至定位於該至少一個硬體處理裝置上方之該冷卻液體流動路徑之另一部分；及使該冷卻液體之該流自定位於該至少一個硬體處理裝置上方之該冷卻液體流動路徑之該另一部分循環至該第二數目個出口埠。
根據本發明之一資料中心冷卻系統之各項實施方案可包含一個、一些或所有以下特徵。例如，根據本發明之一伺服器托盤封裝可運用流動通過一液體冷板總成之均勻流量及均勻溫度之一冷卻液體為一資料中心中之高發熱電子裝置提供直接液體冷卻。作為另一實例，根據本發明之一伺服器托盤封裝可提供多重功能性，包含冷卻、機械剛性及液體冷卻劑密封。作為另一實例，根據本發明之一伺服器托盤封裝可提供客製冷卻液體流動路徑及流動幾何形狀以冷卻安裝於一單一基板上之高發熱電子裝置及低發熱電子裝置兩者。作為又一實例，根據本發明之一伺服器托盤封裝可容許熱點擴散以及經由冷板之高效能液體冷卻。作為另一實例，根據本發明之一伺服器托盤封裝可容許較高功率運算組件(例如，處理器)藉由與一液體冷卻之冷板直接導熱接觸而被冷卻以實現較佳效能。
在下文隨附圖式及描述中闡述一或多項實施例之細節。將自描述及圖式以及發明申請專利範圍明白其他特徵、目的及優點。
100:系統
105:伺服器機架
107:槽
110:伺服器機架子總成
112:軌道
200:伺服器托盤封裝
201:液體冷板總成
202:印刷電路板/主機板
203:容積
204:基板
206:基座部分
208:蓋/頂部
210:側
212:中介層
214:記憶體模組/資料中心電子裝置
216:處理裝置/資料中心電子裝置/處理器
218:熱介面材料
220:熱介面材料
222:頂部部分/頂帽
224:帽蓋
226:側
228:底部
230:冷卻液體入口
232:冷卻液體出口
234:容積
236:熱傳遞表面
238:通道
240:冷卻液體供應
242:冷卻液體回流
250:熱傳遞區域
260:導流器
261:穿孔
262:流動迴路
264:脊部
270:脊部
272:流動迴路
280:脊部
282:流動迴路
286:針鰭
圖1繪示在一資料中心環境中使用之一伺服器機架及經組態以安裝於一機架內之伺服器機架子總成之一前視圖。
圖2A繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之一例 示性實施方案之一示意性橫截面側視圖。
圖2B繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖2C繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖3繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖4A繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖4B繪示一液體冷板總成之一例示性導流器。
圖5繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖6繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖7繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖8繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
圖9繪示包含一液體冷板總成之一伺服器托盤封裝之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。
在一些例示性實施方案中，揭示一種例如用於一資料中心中之機架式電子裝置(例如，伺服器、處理器、記憶體、網路連結裝置或 其他)之冷卻系統。在各項所揭示實施方案中，冷卻系統可為或包含一液體冷板總成，該液體冷板總成係一伺服器托盤封裝之部分或與該伺服器托盤封裝整合。在一些實施方案中，液體冷板總成包含：一基座部分及一頂部部分，其等組合地形成一冷卻液體循環通過之一冷卻液體流動路徑；及一熱介面，其在一或多個發熱裝置與冷卻液體之間。液體冷板總成之頂部部分可包含多個入口及/或多個出口以客製化一流動路徑，一液體冷卻劑流動通過該流動路徑以冷卻與冷板總成導熱接觸之電子裝置。
圖1繪示包含一伺服器機架105(例如，一13英寸或19英寸伺服器機架)及安裝於機架105內之多個伺服器機架子總成110的一例示性系統100。儘管繪示一單一伺服器機架105，然伺服器機架105可為系統100內之若干伺服器機架之一者，其可包含含有各種機架式電腦系統之一伺服器場或一主機代管(co-location)設施。再者，儘管多個伺服器機架子總成110被繪示為安裝於機架105內，然可能僅存在一單一伺服器機架子總成。一般而言，伺服器機架105界定以一有序且重複方式配置於伺服器機架105內之多個槽107，且各槽107係一對應伺服器機架子總成110可放置至其中且移除之機架中之一空間。例如，伺服器機架子總成可支撐於軌道112上，軌道112自機架105之相對側突出且可界定槽107之位置。
槽107及伺服器機架子總成110可經定向具有所繪示之水平配置(相對於重力)。替代地，槽107及伺服器機架子總成110可垂直定向(相對於重力)。在槽水平定向之情況下，其等可垂直堆疊於機架105中，且在槽垂直定向之情況下，其等可水平堆疊於機架105中。
作為例如一較大資料中心之部分，伺服器機架105可提供資料處理及儲存能力。在操作中，一資料中心可連接至一網路，且可自網 路接收擷取、處理及/或儲存資料之各種請求及對該等請求作出回應。在操作中，例如，伺服器機架105通常有利於經由一網路與藉由使用者(其等請求由運行於資料中心中之電腦上之應用程式提供的服務)之網頁瀏覽器應用程式產生之使用者介面進行資訊通信。例如，伺服器機架105可提供或幫助提供正使用一網頁瀏覽器之一使用者存取網際網路或全球資訊網上之網站。
伺服器機架子總成110可為可安裝於一伺服器機架中之多種結構之一者。例如，在一些實施方案中，伺服器機架子總成110可為可滑動地***至伺服器機架105中之一「托盤」或托盤總成。術語「托盤」不限於任何特定配置，而是適用於主機板或附屬於一主機板以將主機板支撐於一機架結構中之適當位置中的其他相對平坦結構。在一些實施方案中，伺服器機架子總成110可為一伺服器托盤封裝、伺服器機箱或伺服器容器(例如，伺服器盒)。在一些實施方案中，伺服器機架子總成110可為一硬碟架(hard drive cage)。
圖2A繪示包含一液體冷板總成201之一伺服器托盤封裝200之一例示性實施方案之一示意性橫截面側視圖。在一些實施方案中，伺服器托盤封裝200可用作圖1中展示之伺服器機架子總成110之一或多者。參考圖2A，伺服器托盤封裝200包含一主機板總成，該主機板總成包含支撐一或多個發熱資料中心電子裝置(在此實例中，兩個或更多個記憶體模組214及一或多個處理裝置216(例如，一或多個特定應用積體電路(ASIC)))之一印刷電路板202(例如，主機板202)。在一些態樣中，主機板202可安裝於一框架(未展示)上，該框架可包含或簡單為可由技術人員抓握以將主機板202移動至適當位置中且將主機板202固持於機架105內之適當位置中的一平坦結構。例如，可 諸如藉由將框架滑動至槽107中及在伺服器托盤封裝200之相對側上之機架105中的一對軌道上方(很像將一餐盤滑動至一自助餐架中)而將伺服器托盤封裝200水平地安裝於伺服器機架105中。框架可在主機板202下方延伸或可具有其他形式(例如，藉由將其實施為圍繞主機板202之一周邊框架)或可被除去使得主機板本身定位於機架105中，例如，可滑動地接合機架105。框架可為一平板或包含自平板之邊緣向上突出之一或多個側壁，且平板可為一封頂或敞頂盒或架之底板。
在一些實例中，一個主機板202安裝於一框架上；替代地，多個主機板202可安裝於一框架上，此取決於特定應用之需求。在一些實施方案中，一或多個風扇(未展示)可放置於主機板202或一框架上，使得空氣在伺服器托盤封裝200之前邊緣(其在伺服器托盤封裝200安裝於機架105中時較靠近機架105之前部)處進入，在主機板202上方、在主機板202上之一些資料中心電子組件上方流動，且在後邊緣(其在伺服器托盤封裝200安裝於機架105中時較靠近機架105之後部)處自伺服器托盤封裝200排出。一或多個風扇可藉由支架固定至主機板202或一框架。
如所繪示，一基板204及一中介層212(例如，矽中介層)定位於資料中心電子裝置214及216與主機板202之間。例如，基板204諸如透過提供電及通信介面之接針提供資料中心電子裝置之一或多者(例如，處理裝置216)與主機板202之間之一介面。在此實例中，基板204亦可提供用於液體冷板總成201之一或多個組件之一安裝位置。例如，中介層212提供資料中心電子裝置之間(諸如記憶體模組214與處理裝置216之間)之一高頻寬連接。
例如，如圖2B中所展示，在一些實例中，存在安裝於中介 層212上且在中介層212之一中心處或附近之一單一處理裝置216(例如，使得處理裝置216及中介層212之中心對準)。在此實例中，記憶體模組214(成對地)定位於處理裝置216之僅兩個相對側上。因此，相對於中介層212之一周邊區域(例如，其中安裝記憶體模組214)，可在中介層212之一中心部分處或附近產生更多熱(例如，藉由處理裝置216)。
作為另一實例，如圖2C中展示，在一些實例中，存在安裝於中介層212上且在中介層212之一中心處或附近之一單一處理裝置216(例如，使得處理裝置216及中介層212之中心對準)。在此實例中，記憶體模組214(成對地)定位於處理裝置216之全部四個相對側上。因此，相對於中介層212之一周邊區域(例如，其中安裝記憶體模組214)，可在中介層212之一中心部分處或附近產生更多熱(例如，藉由處理裝置216)。
如圖2A中展示，液體冷板總成201包含一頂部部分222(亦被稱為一頂帽222)及一基座部分206。基座部分206包含界定基座部分206之一頂表面之一蓋208及將蓋208耦合至基板204之側210。蓋208及側210組合地界定或圍封其中中介層212及資料中心電子裝置214及216(安裝於其上)定位於伺服器托盤封裝200中之一容積203。如在此實例中展示，一熱介面材料218(例如，一相變材料或其他導熱材料)接觸式地定位於蓋208之一底側與資料中心電子裝置214及216之間以提供此等組件之間之一傳導熱傳遞介面。
在此例示性實施方案中，頂帽222透過提供頂帽222之一底部228與基座部分206之蓋208之間之一傳導熱傳遞介面的另一熱介面材料220(例如，一相變材料或其他導熱材料)安裝至蓋208之一頂表面。如所展示，頂帽222包含透過側226連接至底部228之一帽蓋224。帽蓋224、側 226及底部228組合地(亦即，一熱傳遞部件)界定一冷卻液體之一流可循環通過之一容積234。
如此實例中所展示，帽蓋224包含一冷卻液體供應240可透過其進入之至少兩個冷卻液體入口230。帽蓋224亦包含(在此實例中)一冷卻液體回流242可透過其離開之一單一冷卻液體出口232。因此，在此實施方案中，入口230(亦稱「入口埠」)對出口232(亦稱「出口埠」)之比率為二比一。在一些態樣中，可實施此一比率但具有不同數量之入口230及出口232。例如，可存在四個入口230及兩個出口232。入口230對出口232之其他數量及比率亦為可行的(例如，四個入口230對一個出口232)。
在圖2A中，如此實例中進一步展示，入口230各自放置於頂帽222之一周邊邊緣處或附近，而單一出口232定位於頂帽222之一中心處或附近。本發明亦預期入口230及出口232之其他位置，諸如(舉例而言)兩個入口230定位於頂帽222之中心附近且一或多個出口232定位於頂帽222之周邊邊緣處或附近。
容積234界定或包含入口230與出口232之間之一冷卻液體流動路徑。如在此實例中展示，一或多個熱傳遞表面236(例如，鰭片、起伏、脊部或增大一熱傳遞面積之其他延伸表面)定位於容積234中。熱傳遞表面236界定通道238，例如，冷卻液體可循環通過通道238以增加自資料中心電子裝置214及216傳遞至冷卻液體之一熱量(例如，相對於在不包含熱傳遞表面236之伺服器托盤封裝200之一實施方案中傳遞之一量)。
簡要參考圖3，圖2A及圖2C中展示之伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之此俯視圖進一步展示兩個冷卻液體入口230及單一冷卻液體出口232。在此實例中，各入口230塑形為具有與中介層212之一尺寸大體相當之一長度及遠小於該長度之一寬度的一矩形開口。此處，兩個 入口230之各者定位於頂帽222之周邊之一特定邊緣上(且在中介層212之一對應邊緣之垂直上方)。自頂帽222之一個邊緣至頂帽222之一相對邊緣定位之單一出口232亦具有類似於入口230之一開口形狀。此處，熱傳遞區域250表示透過基座部分206之頂部208與發熱裝置(處理器216、記憶體模組214及其他)導熱接觸之底部228的部分。
在伺服器托盤封裝200冷卻資料中心電子裝置214及216之一例示性操作中，伺服器托盤封裝200可部署於例如一資料中心中之一資料中心伺服器機架105中。在伺服器托盤封裝200之操作期間，處理裝置216及記憶體模組214產生可需要自伺服器托盤封裝200消散或移除(例如，針對伺服器托盤封裝200之正確操作)之熱。由處理裝置216及記憶體模組214產生之熱傳遞通過熱介面材料218且至液體冷板總成201之基座部分206之蓋208。經傳遞熱進一步自蓋208傳遞通過熱介面材料220且至頂帽222之底部228。在一些實例中，液體冷板總成201之一或多個組件可由一導熱材料(諸如銅、鋁、銅及鋁之一組合或其他導熱材料)形成或製成。
接著，傳遞至頂帽222之底部228之熱傳遞至循環通過入口230且至頂帽222之容積234中的冷卻液體供應240。在一些實例中，冷卻液體可為諸如來自流體耦合至伺服器托盤封裝200之一或多個冷凍機之冷凍水或乙二醇。在替代實例中，冷卻液體可為冷凝水或其他蒸發冷卻液體(例如，無機械製冷)。在其他實例中，冷卻液體可為介電單相或二相流體。在任何事件中，冷卻液體供應240可處於一適當溫度及流速以自資料中心電子裝置214及216移除一所要熱量。
在一些實例中，熱自底部228直接傳遞至冷卻液體供應240。熱亦可自底部228傳遞通過一或多個熱傳遞表面236且接著至流動通 過通道238之冷卻液體供應240。如圖3中展示，冷卻液體供應240首先流動通過在記憶體模組214之垂直上方(在兩側上)之容積234之一部分。一些冷卻液體供應240在接收由記憶體模組214產生之熱之後流動通過在處理裝置216之垂直上方之容積234之另一部分，且接著至出口232(現在被(若干)記憶體模組214及處理裝置216加熱)。假定記憶體模組214通常在低於處理裝置216之溫度下運行，則本文中描述之液體冷板總成201導致冷卻液體之一更有效率使用，此係因為冷卻液體可首先自記憶體模組接收一些熱且隨後自處理裝置接收進一步熱。一些冷卻液體供應240在接收由記憶體模組214產生之熱之後流動至出口232且作為冷卻液體回流242通過出口232(現在被記憶體模組214加熱)。
經加熱之冷卻液體供應240循環至出口232且作為冷卻液體回流242(例如，其處於高於冷卻液體供應240之一溫度)離開頂帽222。冷卻液體回流242循環回至例如冷卻液體之一來源以自回流242排出熱(例如，在一冷凍機、冷卻塔或其他熱交換器中)。
圖4A繪示包含一液體冷板總成201之一伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。在此實例中，一或多個導流器260安裝於頂帽222之底部228之一頂表面上之容積234內。如在此實例中展示，四個導流器260安裝於容積234內以在冷卻液體供應240自入口230流向出口232時阻礙冷卻液體供應240。在此實例中，導流器260經定位以阻礙僅在一或多個記憶體模組214上方流動之冷卻液體供應240在入口230之一特定者至出口232之間流動。在一些態樣中，導流器260可促進出口232處之冷卻液體供應240之溫度均勻性。
在一些例示性實施方案中，導流器260塑形為例如自頂帽 222之底部228完全或部分延伸朝向帽蓋224的一實體壁。圖4B繪示其中一或多個穿孔261形成於導流器260中之一例示性導流器260。在一些態樣中，穿孔261可經設計以促進出口232處之冷卻液體供應240之流量及溫度均勻性。
圖5繪示包含液體冷板總成201之伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。在此例示性實施方案中，流動迴路262形成於頂帽222之底部228之一表面中。在此實例中，流動迴路262係藉由形成於底部228之表面中之脊部264形成。替代地，迴路262可形成為嵌入於底部228之表面中之流槽。在此實例中，流動迴路262以冷卻液體供應240自入口230至出口232之流動之一平行或實質上平行方向定向。在此實例中，流動迴路262形成為自正交於流動方向之底部228之一個邊緣至底部228之一相對邊緣(在此圖式中，自熱傳遞區域250之頂邊緣至熱傳遞區域250之底邊緣)。在操作中，流動迴路262可在冷卻液體供應240自入口230循環朝向出口時引導冷卻液體供應240之流動，藉此例如促進熱自底部228至冷卻液體供應240中之熱傳遞。
圖6繪示包含液體冷板總成201之伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。在此例示性實施方案中，流動迴路272及282形成於頂帽222之底部228之一表面中。在此實例中，流動迴路272係藉由形成於底部228之表面中之脊部270形成，且流動迴路282係藉由形成於底部228之表面中之脊部280形成。替代地，迴路272及282可形成為嵌入於底部228之表面中之流槽。如在此實例中展示，流動迴路272相對於流動迴路282更緊密地間隔(例如，一較高間距)。再者，如所展示，流動迴路272在僅在中介層212上之記憶體模組 214之垂直上方之底部228的部分上方形成於熱傳遞區域250中。流動迴路282在中介層212上之記憶體模組214及處理裝置216之垂直上方之底部228的部分上方形成於熱傳遞區域250中。
在此實例中，流動迴路272及282以冷卻液體供應240自入口230至出口232之流動之一平行或實質上平行方向定向。在此實例中，流動迴路272及282形成為自正交於流動方向之底部228之一個邊緣至底部228之一相對邊緣(在此圖式中，自熱傳遞區域250之頂邊緣至熱傳遞區域250之底邊緣)。在操作中，流動迴路272及282可在冷卻液體供應240自入口230循環朝向出口時引導冷卻液體供應240之流動，藉此例如促進熱自底部228至冷卻液體供應240中之熱傳遞。
參考圖7，此圖繪示包含液體冷板總成201之伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。如在此實例中展示，存在四個入口230，其等之各者定位於頂帽222之一周邊邊緣處。存在定位於頂帽222之熱傳遞區域250之中心中之一單一出口232(在此實例中展示為一圓形橫截面出口)。因此，在圖7中之液體冷板總成201之操作期間，供應240在容積234中在自入口230且朝向頂帽222之一中心(出口232定位於其中)之一方向上流動。在此實例中，全部或大部分冷卻液體供應240首先在一或多個記憶體模組214之垂直上方之容積234之一部分內流動且接著在處理裝置216之垂直上方之容積234之另一部分內流動，以自該等裝置接收熱，使熱通過底部228且至冷卻液體中。
參考圖8，其展示其中多個針鰭286安裝至頂帽222之底部228上之容積234內的液體冷板總成201之實施方案(例如，具有四個入口230及一單一中心出口232)。如所展示，針鰭286界定供冷卻液體供應240 自入口230流動通過而至出口232之多個彎曲流動路徑。在此實例中，針鰭286可覆蓋全部或大部分熱傳遞區域250，且例如自底部228延伸至帽蓋224。在替代實施方案中，可存在不包含針鰭286之熱傳遞區域250之一些部分。在替代實施方案中，針鰭286可僅自底部228部分延伸至容積234中且朝向帽蓋224。
圖9繪示包含液體冷板總成201之伺服器托盤封裝200之例示性實施方案之一部分之另一實例的一示意性橫截面俯視圖。在此例示性實施方案中，入口230對出口232之數目及比率相較於與圖7中展示之實施方案相反。例如，圖9展示其中存在定位於熱傳遞區域250(及帽蓋224)之一中心處或附近之一單一冷卻液體入口230，而存在各自定位於頂帽222之一周邊邊緣處之四個冷卻液體出口232的液體冷板總成201及明確言之頂帽222之一實施方案。因此，在圖9中之液體冷板總成201之操作期間，供應240在容積234中在自入口230且朝向頂帽222之一周邊(出口232定位於該處)之一方向上流動。在此實例中，全部或大部分冷卻液體供應240首先在處理裝置216之垂直上方之容積234之一部分內流動且接著在記憶體模組214之垂直上方之容積234之另一部分內流動，以自該等裝置接收熱，使熱通過底部228且至冷卻液體中。
已描述若干實施例。但是，將瞭解，可在不脫離所描述內容之精神及範疇之情況下進行各種修改。例如，可以其他順序執行本文中描述之例示性方法及程序之例示性操作的步驟，可移除一些步驟且可添加其他步驟。因此，其他實施例在下文發明申請專利範圍之範疇內。
100:系統
105:伺服器機架
107:槽
110:伺服器機架子總成
112:軌道

Claims (20)

  1. 一種伺服器托盤(tray)封裝，其包括：一主機板總成，其包括複數個資料中心電子裝置；一液體冷板總成，其包括：一基座部分，其安裝至該主機板總成，該基座部分及主機板總成界定至少部分圍封該複數個資料中心電子裝置之一容積；該複數個資料中心電子裝置包括具有一第一熱輸出之一第一資料中心電子裝置及具有一第二熱輸出的一第二資料中心電子裝置，該第二熱輸出大於該第一熱輸出；及一頂部部分，其安裝至該基座部分且包括一熱傳遞部件，該熱傳遞部件包括至少兩個入口埠及至少一個出口埠，該至少兩個入口埠位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣(opposed edges)上，該至少兩個入口埠之各者沿著該頂部部分之一個別相對邊緣之一長度延伸，其中該至少兩個入口埠及該至少一個出口埠經由該熱傳遞部件所界定之一冷卻液體流動路徑流體連通(fluid communication)；複數個冷卻液體流動迴路(flow circuits)，其由定位於該冷卻液體流動路徑中之複數個熱傳遞表面所界定，該複數個冷卻液體流動迴路延伸於該至少兩個入口埠與該至少一個出口埠之間，且定向在橫向於(transverse to)該等相對邊緣之該長度之一方向上；及至少一個導流器(flow diverter)，其經定位為鄰近該複數個冷卻液體流動迴路之至少之一者，以阻礙(impede)來自為該第一資料中心電子裝置之上游之該等冷卻液體流動迴路之至少一者之一冷卻液體 之一流之至少一部分，且該至少一個導流器將該冷卻液體之該流之至少該部分導流向為該第二資料中心電子裝置之上游之該等冷卻液體流動迴路之另一者。
  2. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其進一步包括：一第一熱介面材料，其定位於該基座部分之一頂表面與該複數個資料中心電子裝置之至少一部分之間；及一第二熱介面材料，其定位於該基座部分之該頂表面與該頂部部分之一底表面之間。
  3. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該複數個熱傳遞表面包括多個脊部(ridges)。
  4. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該至少兩個入口埠之一數目係該至少一個出口埠之一數目之至少兩倍。
  5. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該至少兩個入口埠包括作為成對之入口埠定位於該液體冷板總成之該頂部部分之相對邊緣上之至少四個入口埠。
  6. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該複數個熱傳遞表面包括針鰭。
  7. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該第二資料中心電子裝置包括一 硬體處理裝置，且該第一資料中心電子裝置包括一記憶體裝置。
  8. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該至少一個出口埠經定位於該頂部部分之一中線且平行於該至少兩個入口埠而延伸。
  9. 如請求項1之伺服器托盤封裝，其中該至少一個導流器包括通過其中而形成之一孔隙(aperture)。
  10. 如請求項9之伺服器托盤封裝，其中該冷卻液體之該流之另一部分循環(circulated)通過該孔隙且進入該第一資料中心電子裝置之上游之該至少一冷卻液體流動迴路。
  11. 如請求項9之伺服器托盤封裝，其中該至少一個導流器包括一壁(wall)結構。
  12. 一種用於冷卻一資料中心中之複數個資料中心電子裝置之方法，其包括：使一冷卻液體之一流循環至一伺服器托盤封裝，該伺服器托盤封裝包括：一主機板總成，其包括該複數個資料中心電子裝置，該複數個資料中心電子裝置包括至少一硬體處理裝置及至少一記憶體裝置，及一液體冷板總成，其包括：一基座部分，其安裝至該主機板總成，該基座部分及主機板總成界定至少部分圍封該複數個資料中心 電子裝置之一容積；及一頂部部分，其安裝至該基座部分，該頂部部分包括一熱傳遞部件；使該冷卻液體之該流循環至該熱傳遞部件之至少兩個入口埠中，該至少兩個入口埠位於該液體冷板總成之該頂部部分之多個相對邊緣上，該至少兩個入口埠之各者沿著該頂部部分之一個別一者之一長度延伸；使該冷卻液體之該流自該至少兩個入口埠循環通過透過該熱傳遞部件界定之一冷卻液體流動路徑，以將來自該複數個資料中心電子裝置之熱傳遞至該冷卻液體中，該冷卻液體流動路徑包括複數個流動通道，該複數個流動通道由位於該冷卻液體流動路徑中延伸於該至少兩個入口埠及至少一個出口埠之間的熱傳遞表面所界定，且定向在橫向於該等相對邊緣之該長度之一方向上，該循環包括：將該冷卻液體之該流之一部份自該至少兩個入口埠循環朝向為該至少一記憶體裝置之上游之該複數個流動通道之一第一流動通道；將流向該第一流動通道之該冷卻液體之該部分之至少一部分導流向為該至少一硬體處理裝置之上游之該複數個流動通道之一第二流動通道；及使該冷卻液體之經加熱流自該冷卻液體流動路徑之該第一及第二流動通道循環至該熱傳遞部件之該至少一個出口埠。
  13. 如請求項12之方法，其進一步包括：將來自該複數個資料中心電子裝置之該熱傳遞通過一第一熱介面材料且傳遞至該基座部分之一頂表面，該第一熱介面材料定位於該複數個資料中心電子裝置與該基座部分之該頂表面之間的一第一熱介面材料；及 將該熱自該基座部分之該頂表面通過一第二熱介面材料傳遞至該液體冷板總成之該頂部部分之一底表面，且接著傳遞至該冷卻液體，該第二熱介面材料定位於該基座部分之該頂表面與該液體冷板總成之該頂部部分之該底表面之間。
  14. 如請求項12之方法，其中該至少兩個入口埠之一數目係該至少一個出口埠之一數目之至少兩倍。
  15. 如請求項12之方法，其中該至少兩個入口埠包括至少四個入口埠，且循環該冷卻液體之該流包括使該冷卻液體之該流循環進入該至少四個入口埠，該至少四個入口埠係在該液體冷板總成之該頂部部分之成對的相對邊緣上以成對的入口埠定位。
  16. 如請求項12之方法，其中該等熱傳遞表面包括針鰭。
  17. 如請求項12之方法，其進一步包括：使該冷卻液體之該經導流之流循環通過該第二流動通道；使該冷卻液體之該流之另一部分自該至少兩個入口埠循環至且通過該第二流動通道；使該冷卻液體之該經導流之流及該流之該另一部分自該第二流動通道循環至該至少一個出口埠。
  18. 如請求項12之方法，其中將流向該第一流動通道之該冷卻液體之該 部分之該至少一部分導流向該第二流動通道包括利用定位於該第一流動通道之上游之至少一個導流器導流該冷卻液體之該部分之至少一部分。
  19. 如請求項18之方法，其進一步包括將流向該第一流動通道之該冷卻液體之該部分之另一部分循環通過該至少一個導流器之至少一孔隙且通過該第一流動通道。
  20. 如請求項12之方法，其中該至少一記憶體裝置包括一第一熱輸出，且該至少一硬體處理裝置包括高於該第一熱輸出之一第二熱輸出。
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