TWI722706B - 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種柔版印刷原版，其係至少依序積層支持體、感光性樹脂組合物層、中間層及紅外線剝蝕層而成者， 上述中間層包含親水性樹脂(A)與無機層狀化合物(B)， 上述中間層之膜厚為2 μm以上30 μm以下。

Description

柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法
本發明係關於一種柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法。
柔版印刷為凸版印刷之一種，由於柔版印刷版使用橡膠或合成樹脂等柔軟材質，故而具有可應用於各種被印體之優點。 作為用於柔版印刷之柔版印刷版之製造方法，先前有如下方法：使用底片進行製版之方法；及使用將於電腦上處理過之資訊直接繪圖於印刷版上而製作凸紋之電腦製版技術(以下，CTP技術)之方法。 上述使用CTP技術之方法中，由於無需底片之製造步驟，可削減成本及底片製造所需之時間，故而近年來使用CTP技術之方法逐漸成為主流。
於使用CTP技術之情形時，作為柔版印刷版之原版(以下，有記載為柔版印刷原版之情形)，通常使用於PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)樹脂等基板上依序積層感光性樹脂組合物層、保護層(阻障層)、紅外線剝蝕層而成者。 柔版印刷版之製作例如以如下方式進行。
首先，藉由進行讓紫外線經由包含PET樹脂等膜之基板對感光性樹脂組合物層之整個面照射之背曝光，而設置均勻之硬化層。 其次，藉由對感光性樹脂組合物層上之紅外線剝蝕層照射雷射進行繪圖，而去除上述紅外線剝蝕層之一部分，製作圖像遮罩。 進而，藉由進行隔著上述圖像遮罩對感光性樹脂組合物層照射紫外線之凸紋曝光，而使去除紅外線剝蝕層後之部位光硬化。 然後，將感光性樹脂組合物層中之未經曝光之部分(即，未經光硬化之部分)去除，形成作為所需圖像之凸紋圖像，而獲得柔版印刷版。
凸紋圖像包含複數之印刷點，印刷點之形狀及凸紋之深度會對印刷物之圖像之品質產生影響。近年來，印刷物之高精細化之要求較高，且追求具有圖像明亮之區域(通常稱為高亮)之印刷物，為適當地呈現高亮區域，需要印刷非常小尺寸之印刷點。 就如上述之背景而言，追求可形成微小尺寸之點且形成凸紋深度較深之凸紋圖像之柔版印刷版。
然而，於對柔版印刷原版照射紫外線進行凸紋曝光時，若存在氧，則自氧產生之氧自由基會阻礙感光性樹脂組合物之光硬化反應，感光性樹脂組合物層之光硬化便不充分。 因此，先前揭示有如下技術：調整印刷點之形狀之技術；為設具有平坦頂部與陡峭肩部者作為印刷點之結構，而於感光性樹脂組合物層上積層可雷射融除之遮罩層之技術(例如參照專利文獻1、2)。 又，揭示有如下技術：以覆蓋具有黏著性之感光性樹脂組合物層之表面且阻隔大氣中之氧為目的，於柔版印刷原版設置1層以上之阻障層(例如參照專利文獻3)。
進而，為形成微小尺寸之點且形成凸紋深度較深之凸紋圖像，重要的是上述紅外線剝蝕層無缺陷(針孔)。 於紅外線剝蝕層存在針孔之情形時，進行凸紋曝光時，與針孔相接之感光性樹脂組合物層會被曝光，因此產生如下問題：引起非意欲之圖像之形成，無法形成微小之點，或者非意欲地形成凸紋深度較淺之凸紋。
作為紅外線剝蝕層之形成方法，除於感光性樹脂組合物層直接塗佈之方法以外，存在如下方法：藉由在覆蓋片上塗佈紅外線剝蝕層，將該紅外線剝蝕層側與感光性樹脂組合物層貼合，進行轉印且積層而形成。 於藉由將塗佈於覆蓋片上之紅外線剝蝕層與感光性樹脂組合物層貼合之方法而形成紅外線剝蝕層之情形時，不僅有因於覆蓋片上塗佈紅外線剝蝕層時之塗佈不均、收縮而產生針孔之可能性，且存在如下擔憂：因塗佈有紅外線剝蝕層之覆蓋片之保管、運輸時之衝擊，或者因與感光性樹脂組合物層貼合時之層壓之溫度、壓力或因混練擠出之感光性樹脂組合物而產生針孔。
鑒於上述情況，提出有如下技術：設置具有氧阻隔性及保護紅外線剝蝕層之功能之保護層(阻障層)。 作為具有氧阻隔性之阻障層，通常已知有聚乙烯醇樹脂層。 然而，包含聚乙烯醇樹脂之膜有不耐彎曲且膜易存在皸裂、皺褶之問題點。柔版印刷版於其特性上要求柔軟，從而使用如上述之聚乙烯醇樹脂存在課題。 針對此，提出有調整阻障層之樹脂之膜厚與楊氏模數之技術(例如參照專利文獻4、5)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特表2014-512576號公報 [專利文獻2]日本專利特表2014-507677號公報 [專利文獻3]日本專利特表平7-506201號公報 [專利文獻4]日本專利第4332865號公報 [專利文獻5]日本專利第5573675號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，專利文獻4、5中提出之聚乙烯醇樹脂雖可形成氧阻隔性優異之保護層，但本質上易產生皸裂、皺褶，尤其於藉由將塗佈於覆蓋片上之紅外線剝蝕層與保護層一併與感光性樹脂組合物層貼合之方法而形成紅外線剝蝕層之情形時，有如下問題點：保護層容易被破壞，於紅外線剝蝕層產生針孔，而未如意欲般顯現氧阻隔性，從而無法獲得足以形成微小尺寸之點且形成凸紋深度較深之凸紋圖像之柔版印刷版。
因此，本發明係鑒於該先前技術之問題點，目的在於提供一種耐針孔性優異且洗淨性較高之柔版印刷原版及使用該柔版印刷原版製造印刷特性優異之柔版印刷版之方法。 [解決問題之技術手段]
本發明者等為解決上述課題而進行努力研究，結果發現，利用將含有親水性樹脂與無機層狀化合物之中間層設於感光性樹脂組合物層與紅外線剝蝕層之間的柔版印刷原版，可獲得能形成微小尺寸之點且形成凸紋深度較深之凸紋圖像，實現高精細且高亮區域之印刷之柔版印刷版，從而完成本發明。 即，本發明如下所述。
[1] 一種柔版印刷原版，其係至少依序積層支持體、感光性樹脂組合物層、中間層及紅外線剝蝕層而成者， 上述中間層包含親水性樹脂(A)與無機層狀化合物(B)， 上述中間層之膜厚為2 μm以上30 μm以下。 [2] 如上述[1]之柔版印刷原版，其中上述中間層中，包含相對於上述親水性樹脂(A)100質量份而為0.1～20質量份之上述無機層狀化合物(B)。 [3] 如上述[1]或[2]之柔版印刷原版，其中上述無機層狀化合物(B)為水膨潤性合成雲母。 [4] 如上述[1]至[3]中任一項之柔版印刷原版，其中上述中間層進而包含水分散性乳膠(C)。 [5] 如上述[4]之柔版印刷原版，其中上述中間層包含相對於上述親水性樹脂(A)100質量份而為5～45質量份之水分散性乳膠(C)。 [6] 如上述[1]至[5]中任一項之柔版印刷原版，其中由下述式算出之上述中間層之凝膠分率為10～90%以下， 凝膠分率(%)＝(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100。 [7] 一種柔版印刷版之製造方法，其具有以下步驟： 對如上述[1]至[6]中任一項之柔版印刷原版之上述紅外線剝蝕層進行雷射剝蝕，而製作底片圖之步驟； 經由上述底片圖對上述感光性樹脂組合物層選擇性地曝光之步驟；及 去除上述感光性樹脂組合物層之未曝光部分之步驟。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種耐針孔性優異且洗淨性較高之柔版印刷原版及使用該柔版印刷原版製造印刷特性優異之柔版印刷版之方法。
以下，對用於實施本發明之形態(以下稱為「本實施形態」)進行詳細說明，但本發明並不限定於此，可於不脫離其主旨之範圍內進行各種變化。
[柔版印刷原版] 本實施形態之柔版印刷原版係至少依序積層有支持體、感光性樹脂組合物層、中間層及紅外線剝蝕層， 上述中間層包含親水性樹脂(A)與無機層狀化合物(B)， 上述中間層之膜厚為2 μm以上30 μm以下。 本實施形態之柔版印刷原版只要為以支持體、感光性樹脂組合物層、中間層及紅外線剝蝕層為必需構成，且至少將該等層按上述順序積層之構成即可，亦可設為於該等層間適當設有接著層等功能層之構成。
(支持體) 作為用於本實施形態之柔版印刷原版之支持體，並無特別限定，例如可列舉聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯膜以及聚醯胺膜等。 作為支持體，較佳為厚度為75 μm～300 μm之尺寸穩定之聚酯膜。 又，較佳為於支持體上具有接著劑層。 作為接著劑層之材料，例如可列舉具有如下者之組合物：聚胺基甲酸酯、聚醯胺、熱塑性彈性體等黏合劑聚合物；及異氰酸酯化合物、乙烯性不飽和化合物等接著有效成分。 進而，接著劑層中，可添加各種輔助添加成分，例如塑化劑、防熱聚合劑、紫外線吸收劑、防光暈劑、光穩定劑、光聚合起始劑、光聚合性單體、染料等。 又，為使接著劑層與作為支持體之聚酯膜之間獲得更高之接著力，更佳為設置至少一層以上之底塗層。
(感光性樹脂組合物層) 作為構成本實施形態之柔版印刷原版之感光性樹脂組合物層之材料，例如可較佳地列舉包含(a)熱塑性彈性體、(b)親水性共聚物、(c)光聚合性單體、(d)光聚合起始劑之感光性樹脂組合物。 上述(a)～(d)之化合物例如可使用「日本專利特開2018-120131號公報」中記載者。
＜(a)熱塑性彈性體＞ 作為(a)熱塑性彈性體，較佳為含有如下者之熱塑性彈性體：以共軛二烯為主體之至少一個聚合物嵌段；及以乙烯基芳香族烴為主體之至少一個聚合物嵌段。
本說明書中使用之「為主體」之用語係指為聚合物嵌段中之60質量%以上。 以共軛二烯為主體之聚合物嵌段中，共軛二烯較佳為該聚合物嵌段中之80質量%以上，更佳為90質量%以上。
作為共軛二烯，並不限定於以下，例如可列舉1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、1,3-己二烯、4,5-二乙基-1,3-辛二烯、3-丁基-1,3-辛二烯、氯丁二烯之單體，就耐磨耗性之觀點而言尤佳為1,3-丁二烯。該等單體可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。 關於以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之共軛二烯總量中之乙烯基含量，例如1,2-丁二烯、3,4-異戊二烯之含量並無特別限定。就印刷版形成性之觀點而言，乙烯基含量較佳為5 mol%～50 mol%，更佳為8 mol%～50 mol%，進而較佳為10 mol%～40 mol%。
就耐印性之觀點而言，以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量較佳為20,000～250,000，更佳為30,000～200,000，進而較佳為40,000～150,000。
以共軛二烯為主體之聚合物嵌段亦可含有伸烷基單元。該伸烷基單元之導入方法並無特別限定，可列舉如下方法：使用乙烯、丁烯等單烯烴作為以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之原料單體而進行聚合之方法；將共軛二烯聚合物嵌段氫化之方法等。尤其就獲取容易度之觀點而言，較佳為將以共軛二烯為主體之聚合物嵌段氫化之方法。 關於以共軛二烯為主體之聚合物嵌段中之伸烷基單元之含量，就耐溶劑性之觀點而言較佳為5 mol%以上，就確保樹脂組合物之透明性之觀點而言較佳為50 mol%以下。更佳為10 mol%～35 mol%之範圍，進而較佳為10 mol%～25 mol%之範圍。
上述伸烷基單元較佳為含有於以丁二烯為主體之聚合物嵌段中。又，更佳為將以丁二烯為主體之聚合物嵌段部氫化而含有1,4-丁二烯單元、1,2-丁二烯(乙烯基)單元及丁烯(伸烷基)單元之所有。又，進而較佳為於以丁二烯為主體之聚合物嵌段中，至少以25 mol%～70 mol%之範圍含有1,4-丁二烯單元、以0 mol%～50 mol%之範圍含有1,2-丁二烯(乙烯基)單元、以10 mol%～50 mol%之範圍含有丁烯單元。
再者，共軛二烯、共軛二烯之乙烯基含量及乙烯基芳香族烴之含量或比率可使用核磁共振裝置(1 H-NMR)而測定。
作為乙烯基芳香族烴，例如可列舉：苯乙烯、第三丁基苯乙烯、二乙烯基苯、1,1-二苯基苯乙烯、N,N-二甲基對胺基乙基苯乙烯、N,N-二乙基對胺基乙基苯乙烯、乙烯基吡啶、對甲基苯乙烯、第三丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、1,1-二苯基乙烯等單體。尤其就可於相對低溫使柔版印刷原版平滑地成型而言(以下記作高成型性)，較佳為苯乙烯。該等單體可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
關於以乙烯基芳香族烴為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量，就使印刷版不顯現配向性之觀點而言較佳為100,000以下，就製版時或印刷時之耐缺失性之觀點而言較佳為3,000以上。以乙烯基芳香族烴為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量更佳為5,000～80,000之範圍，進而較佳為5,000～60,000之範圍。
關於嵌段共聚物中之乙烯基芳香族烴之含量，就感光性樹脂組合物之高成型性、印刷版之凸部之較高耐缺失性及附著油墨成分時維持較高印刷版硬度之觀點而言，較佳為設為25質量%以下。另一方面，就提高柔版印刷原版之耐冷流性之觀點而言，較佳為13質量%以上。更佳為15質量%～24質量%之範圍，進而較佳為16質量%～23質量%之範圍。
關於感光性樹脂組合物層中之(a)熱塑性彈性體之含量，就印刷時之耐印性之觀點而言，於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時，較佳為15質量%～90質量%。(a)熱塑性彈性體之含量更佳為15質量%～80質量%，進而較佳為20質量%～75質量%。
＜(b)親水性共聚物＞ 所謂(b)親水性共聚物係包含源自親水性之不飽和單體之單元且內部交聯之聚合物粒子。作為該聚合物粒子，例如可列舉如下者：使用親水性之不飽和單體及視需要之可與其共聚之其他單體進行乳化聚合，將所得之聚合物粒子作為分散質分散於水中，自所得之水分散乳膠去除水而獲得。源自親水性之不飽和單體之單元於所有單體中例如可設為0.1～20質量%，亦可設為0.5～15質量%，亦可設為1～10質量%。
作為親水性之不飽和單體，較佳為包含至少一個親水性基及不飽和雙鍵之單體。作為親水性之不飽和單體，例如可列舉：包含羧酸基、磺酸基、磷酸基等、及該等之鹽以及酸酐基等之含不飽和雙鍵之單體；包含羥基及不飽和雙鍵之單體；包含丙烯醯胺基及不飽和雙鍵之單體；包含反應性之不飽和雙鍵之界面活性劑(單體)。該等親水性之不飽和單體可僅單獨使用1種，亦可使用2種以上。
作為水分散乳膠，例如可列舉：丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、聚氯丁二烯乳膠、聚異戊二烯乳膠、聚胺基甲酸酯乳膠、(甲基)丙烯酸酯-丁二烯乳膠、乙烯基吡啶聚合物乳膠、丁基聚合物乳膠、聚硫橡膠聚合物乳膠、丙烯酸酯聚合物乳膠等水分散乳膠聚合物等。 又，較佳為於該等水分散乳膠共聚1種以上之含酸性官能基之不飽和單體而成之水分散乳膠聚合物，該含酸性官能基之不飽和單體即：(甲基)丙烯酸酯，丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、乙烯基苯甲酸、桂皮酸等羧酸，苯乙烯磺酸等磺酸等一元酸；伊康酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、檸康酸、黏康酸等二元酸等。 再者，上述水分散乳膠中，亦可除使用親水性之不飽和單體及視需要之可與其共聚之其他單體進行乳化聚合所得之聚合物粒子以外，進而包含其他聚合物粒子作為分散質。作為此種其他聚合物粒子，例如可列舉聚丁二烯、天然橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物之粒子。
該等水分散乳膠中，就耐印性之觀點而言，較佳為聚合物之分子鏈中含有丁二烯骨架或異戊二烯骨架之水分散乳膠。例如較佳為聚丁二烯乳膠、苯乙烯-丁二烯共聚物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、及於該等水分散乳膠共聚(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸等而成者。作為水分散乳膠，更佳為於苯乙烯-丁二烯共聚物共聚1種以上之(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸等含酸性官能基之不飽和單體而成之共聚物之水分散乳膠。
含酸性官能基之不飽和單體之使用量較佳為在用於(b)親水性共聚物之合成之不飽和單體總量中為1～30質量%。藉由將使用量設為1質量%以上，存在易於水系顯影之傾向，藉由設為30質量%以下，可防止感光性樹脂組合物之吸濕量增加或油墨之膨潤量增加，且可防止感光性樹脂組合物之混合時之加工性變差。
作為可用於(b)親水性共聚物之合成之除含酸性官能基之不飽和單體以外之不飽和單體，並不限定於以下，例如可列舉：共軛二烯、芳香族乙烯基化合物、(甲基)丙烯酸酯、具有羥基之乙烯系單羧酸烷基酯單體、不飽和二元酸烷基酯、順丁烯二酸酐、丙烯腈化合物、(甲基)丙烯醯胺及其衍生物、乙烯酯類、乙烯醚類、鹵化乙烯類、具有胺基之鹼性單體、乙烯基吡啶、烯烴、含矽之α,β-乙烯性不飽和單體、烯丙基化合物等。
作為共軛二烯，並不限定於以下，例如可列舉：1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、2-乙基-1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、氯丁二烯、2-氯-1,3-丁二烯、環戊二烯等。 作為芳香族乙烯基化合物，並不限定於以下，例如可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基二甲苯、溴苯乙烯、乙烯基苄基氯、對第三丁基苯乙烯、氯苯乙烯、烷基苯乙烯、二乙烯基苯、三乙烯基苯等。
作為(甲基)丙烯酸酯，並不限定於以下，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥基環己酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、雙(4-丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、氫化鄰苯二甲酸β-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、氫化丁二酸β-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基二乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基]丙烷、(甲基)丙烯酸異𦯉酯等。
作為具有羥基之乙烯系單羧酸烷基酯單體，並不限定於以下，例如可列舉：丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯、丙烯酸1-羥丙酯、甲基丙烯酸1-羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥基環己酯等。
作為不飽和二元酸烷基酯，並不限定於以下，例如可列舉：丁烯酸烷基酯、伊康酸烷基酯、反丁烯二酸烷基酯、順丁烯二酸烷基酯等。
作為丙烯腈化合物，並不限定於以下，例如可列舉：丙烯腈、甲基丙烯腈等。
作為(甲基)丙烯醯胺及其衍生物，並不限定於以下，例如可列舉：(甲基)丙烯醯胺，N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺，N-烷氧基(甲基)丙烯醯胺等。
作為乙烯酯類，並不限定於以下，例如可列舉：乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、肉豆蔻酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、柯赫酸乙烯酯等。
作為乙烯醚類，並不限定於以下，例如可列舉：甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、丙基乙烯醚、丁基乙烯醚、戊基乙烯醚、己基乙烯醚等。
作為鹵化乙烯類，並不限定於以下，例如可列舉：氯乙烯、溴乙烯、氟乙烯、偏二氯乙烯、偏二氟乙烯等。
作為具有胺基之鹼性單體，並不限定於以下，例如可列舉：(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯等。
作為烯烴，並不限定於以下，例如可列舉乙烯等。
作為含矽之α,β-乙烯性不飽和單體，並不限定於以下，例如可列舉：乙烯基三氯矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷等。
作為烯丙基化合物，並不限定於以下，例如可列舉：烯丙酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯等。 此外，亦可使用異氰尿酸三烯丙酯等具有3個以上之雙鍵之單體。
該等單體可僅單獨使用1種，亦可混合2種以上而使用。含酸性官能基之不飽和單體與其他單體之質量比(含酸性官能基之不飽和單體/其他單體)較佳為5/95至95/5，更佳為50/50至90/10。 藉由為5/95～95/5，可使感光樹脂組合物之橡膠彈性成為實用上良好者。
(b)親水性共聚物較佳為藉由乳化聚合而合成之聚合物，於該情形時，作為聚合時使用之乳化劑(界面活性劑)，較佳為反應性乳化劑。
作為反應性乳化劑，較佳為分子結構中包含自由基聚合性之雙鍵、親水性官能基及疏水性基且與一般乳化劑同樣地具有乳化、分散及濕潤功能之反應性乳化劑。又，於將(b)親水性共聚物乳化聚合時，在使用相對於除反應性乳化劑以外之含酸性官能基之不飽和單體及其他單體100質量份而為0.1質量份以上之該反應性乳化劑之情形時，較佳為使用可合成平均粒徑為5～500 nm之聚合物之乳化劑(界面活性劑)。
作為反應性乳化劑之分子結構中之自由基聚合性之雙鍵的結構，例如可列舉：乙烯基、丙烯醯基或甲基丙烯醯基等。 作為反應性乳化劑之分子結構中之親水性官能基，例如可列舉：硫酸基、硝酸基、磷酸基、硼酸基、羧基等陰離子性基；胺基等陽離子性基；聚氧乙烯、聚甲醛、聚氧丙烯等聚氧伸烷基鏈結構等；或羥基等。 作為反應性乳化劑之分子結構中之疏水性基，例如可列舉烷基、苯基等。
反應性乳化劑根據其結構中所包含之親水性官能基之種類之不同，包括陰離子性乳化劑、非離子性乳化劑、陽離子性乳化劑、兩性乳化劑等。又，分子結構中之自由基聚合性之雙鍵、親水性官能基及疏水性基亦可分別包含複數種。
反應性乳化劑可使用市售之界面活性劑，作為市售之陰離子界面活性劑，並無特別限制，例如可列舉ADEKA REASOAP SE(旭電化工業公司製造)、AQUALON HS、BC或KH(第一工業製藥公司製造)、Latemul S(花王公司製造)、Antox MS(日本乳化劑公司製造)、ADEKA REASOAP SDX或PP(旭電化工業公司製造)、Hytenol A(第一工業製藥公司製造)、Eleminol RS(三洋化成工業公司製造)、Spinomar(東洋曹達工業公司製造)等，作為市售之非離子界面活性劑，並無特別限定，例如可列舉AQUALON RN或Noigen N(第一工業製藥公司製造)、ADEKA REASOAP NE(旭電化工業公司製造)等。 該等可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
反應性乳化劑之使用量較佳為相對於根據原料之添加量算出之(b)親水性共聚物100質量份而為1～20質量份之範圍。若反應性乳化劑之量為1質量份以上，則存在所得之印刷版之圖像再現性提高之傾向，若為20質量份以下，則存在所得之印刷版之耐印刷性提高之傾向。
於將(b)親水性共聚物藉由乳化聚合而合成之情形時，亦可視需要使用非反應性乳化劑。 作為上述非反應性乳化劑，並不限定於以下，例如可列舉：脂肪酸皂、松脂酸皂、磺酸鹽、硫酸酯、磷酸酯、聚磷酸酯、醯基肌胺酸鹽等陰離子界面活性劑；氰化油脂衍生物、油脂衍生物、脂肪酸衍生物、α-烯烴衍生物等陽離子界面活性劑；醇乙氧化物、烷基苯酚乙氧化物、丙氧化物、脂肪族烷醇醯胺、烷基聚糖苷、聚氧乙烯山梨醇酐脂肪酸酯、氧化乙烯氧化丙烯嵌段共聚物等非離子界面活性劑。該等可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
作為磺酸鹽，並不限定於以下，例如可列舉：烷基磺酸鹽、烷基硫酸鹽、烷基磺基丁二酸鹽、聚氧乙烯烷基硫酸鹽、磺化油脂、烷基二苯醚二磺酸鹽、α-烯烴磺酸鹽、烷基甘油醚磺酸鹽、N-醯甲基牛磺酸鹽等。
作為非反應性乳化劑之其他例，可列舉「界面活性劑手冊(高橋，難波，小池，小林：工學圖書，1972)」中記載者。
非反應性乳化劑之使用量較佳為相對於根據原料之添加量算出之(b)親水性共聚物100質量份而未達1質量份。藉由非反應性乳化劑之使用量未達1質量份，所得之印刷版具有適當之水膨潤率，可防止油墨附著時之耐摩耗性之下降及吸濕後之圖像再現性之下降。
作為(b)親水性共聚物之乳化聚合方法，通常於調整為可聚合之溫度之反應系預先添加特定量之水、乳化劑、其他添加劑，且對於該系，以分批操作或連續操作將聚合起始劑及不飽和單體、乳化劑、調整劑等添加於反應系內。又，視需要於反應系中預先添加特定量之種子乳膠、聚合起始劑、不飽和單體、其他調整劑亦為通常常用之方法。 又，藉由設計將不飽和單體、乳化劑、其他添加劑、調整劑向反應系添加之方法，亦可分層地改變要合成之親水性共聚物粒子之層結構。 於此情形時，作為代表各層之結構之物性，可列舉親水性、玻璃轉移點、分子量、交聯密度等。又，該層結構之層數並無特別限制。
(b)親水性共聚物之聚合步驟中，可使用公知之鏈轉移劑。 作為鏈轉移劑，可較佳地使用含硫元素之鏈轉移劑。作為含硫元素之鏈轉移劑，並不限定於以下，例如可列舉：第三-十二烷硫醇、正十二烷硫醇等烷硫醇；巰基乙醇、巰基丙醇等硫代烷基醇；硫代乙醇酸、硫代丙酸等硫代烷基羧酸；硫代乙醇酸辛酯、硫代丙酸辛酯等硫代羧酸烷基酯；二甲基硫醚、二乙基硫醚等硫醚。 作為其他鏈轉移劑，並不限定於以下，例如可列舉：異松油烯、雙戊烯、t-萜品烯及四氯化碳等鹵代烴。 該等鏈轉移劑中，就鏈轉移速度較大且所得之聚合物之物性平衡良好而言，較佳為烷硫醇。
該等鏈轉移劑可僅單獨使用1種，亦可混合2種以上而使用。 該等鏈轉移劑係混合於單體而供給至反應系，或單獨於特定時間添加特定量。該等鏈轉移劑之使用量相對於用於(b)親水性共聚物之聚合之不飽和單體總量而較佳為0.1～10質量%。 藉由設為0.1質量%以上，進行感光性樹脂組合物之混合時之加工性變得良好，藉由設為10質量%以下，可使(b)親水性共聚物之分子量成為實用上充分者。
(b)親水性共聚物之聚合中，可視需要使用聚合反應抑制劑。 所謂聚合反應抑制劑係藉由添加至乳化聚合系而使自由基聚合速度下降之化合物。所謂聚合反應抑制劑，更具體而言為聚合速度延遲劑、聚合抑制劑、自由基再開始反應性較低之鏈轉移劑、及自由基再開始反應性較低之單體。聚合反應抑制劑通常用於聚合反應速度之調整及乳膠物性之調整。該等聚合反應抑制劑係以分批操作或連續操作添加至反應系。於使用聚合反應抑制劑之情形時，乳膠覆膜之強度提高，耐印性提高。反應機制之詳細情況雖不明確，但一般認為聚合反應抑制劑與聚合物之立體結構密切相關，藉此推定對乳膠覆膜之物性之調整有效果。
作為聚合反應抑制劑，並不限定於以下，例如可列舉：鄰苯醌、間苯醌或對苯醌等醌類；硝基苯、鄰二硝基苯、間二硝基苯或對二硝基苯等硝基化合物；二苯基胺之類的胺類；第三丁基鄰苯二酚之類的鄰苯二酚衍生物；1,1-二苯基乙烯或α-甲基苯乙烯、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯等1,1-雙取代乙烯基化合物；2,4-二苯基-4-甲基-2-戊烯、環己烯等1,2-雙取代乙烯基化合物等。此外，亦可列舉「POLYMER HANDBOOK 3rd Ed.(J. Brandup，E. H. Immergut：John Wiley & Sons，1989)」、「修訂版高分子合成之化學(大津：化學同人，1979.)」中作為聚合抑制劑或聚合抑制劑所記載之化合物。 該等中，就反應性之觀點而言，亦尤佳為2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯(α-甲基苯乙烯二聚物)。該等聚合反應抑制劑可僅單獨使用1種，亦可混合2種以上而使用。 該等聚合反應抑制劑之使用量相對於用於(b)親水性共聚物之聚合之不飽和單體總量而較佳為10質量%以下。藉由設為10質量%以下，存在獲得實用上充分之聚合速度之傾向。
作為上述聚合起始劑之較佳例之自由基聚合起始劑係於熱或還原性物質之存在下進行自由基分解，使單體之加成聚合開始者，可使用無機系起始劑及有機系起始劑之任一種。 作為上述自由基聚合起始劑，並不限定於以下，例如可列舉水溶性或油溶性之過氧二硫酸鹽、過氧化物、偶氮雙基化合物等，具體而言，可列舉過氧二硫酸鉀、過氧二硫酸鈉、過氧二硫酸銨、過氧化氫、第三丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、2,2-偶氮雙丁腈、過氧化氫異丙苯等。 作為上述自由基聚合起始劑，亦可使用POLYMER HANDBOOK (3rd edition)，J. Brandrup及E. H. Immergut著，John Willy & Sons出版(1989)中所記載之化合物。 又，亦可採用將酸性亞硫酸鈉、抗壞血酸或其鹽、異抗壞血酸或其鹽、雕白粉等還原劑與聚合起始劑組合而使用之所謂氧化還原聚合法。 該等中，過氧二硫酸鹽適宜作為聚合起始劑。 聚合起始劑之使用量相對於用於(b)親水性共聚物之聚合之不飽和單體總量而通常為0.1～5.0質量%之範圍，較佳為選自0.2～3.0質量%之範圍。 若聚合起始劑之使用量為0.1質量%以上，則於(b)親水性共聚物之合成時獲得較高穩定性，若聚合起始劑之使用量為5.0質量%以下，則可將感光性樹脂組合物之吸濕量抑制於實用上良好之範圍。
於(b)親水性共聚物之合成時，可視需要添加各種聚合調整劑。 作為pH值調整劑，並不限定於以下，例如可添加氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨、碳酸氫鈉、碳酸鈉、磷酸氫二鈉等pH值調整劑作為聚合調整劑。 又，亦可添加乙二胺四乙酸鈉等各種螯合劑等作為聚合調整劑。 進而，作為其他添加劑，亦可添加鹼溶脹性乳膠；六偏磷酸等降黏劑；聚乙烯醇、羧甲基纖維素等水溶性高分子；增黏劑；各種防老化劑；紫外線吸收劑；防腐劑；殺菌劑；消泡劑；聚丙烯酸鈉等分散劑；耐水化劑；鋅白等金屬氧化物；異氰酸酯系化合物、環氧化合物等交聯劑；潤滑劑；保濕劑等各種添加劑。 該等添加劑之添加方法並無特別限制，不論(b)親水性共聚物之合成時、合成後均可添加。
將(b)親水性共聚物乳化聚合之情形時之聚合溫度通常於60～120℃之範圍選擇。 又，亦可藉由上述氧化還原聚合法等，於更低溫度進行聚合。進而，亦可共存金屬觸媒作為氧化還原觸媒，該金屬觸媒例如為二價鐵離子、三價鐵離子、銅離子等。
(b)親水性共聚物較佳為粒子狀，其平均粒徑較佳為500 nm以下，更佳為100 nm以下。藉由平均粒徑為500 nm以下，所得之印刷原版獲得良好之水系顯影性。
又，(b)親水性共聚物之甲苯凝膠分率較佳為60%～99%。若凝膠分率為60%以上，則存在所得之印刷版獲得實用上充分之強度之傾向。 若凝膠分率為99%以下，則存在(b)親水性共聚物與(a)熱塑性彈性體之混合性變得良好之傾向。 此處，所謂甲苯凝膠分率係指以如下方式獲得之質量分率(%)：將(b)親水性共聚物之約30質量%之分散液以適當量流淌於鐵氟龍(註冊商標)片上，於130℃乾燥30分鐘，取0.5 g之(b)親水性共聚物，將其浸漬於25℃之甲苯30 mL，使用振盪器振盪3小時之後利用320SUS篩網過濾，將於130℃使未通過部分乾燥1小時後之質量除以0.5(g)而獲得。
關於感光性樹脂組合物層中之(b)親水性共聚物之含量，於在水系顯影液中進行顯影之情形時，就印刷版製作時之顯影性之觀點而言，在將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時，較佳為10質量%～70質量%。(b)親水性共聚物之含量更佳為15質量%～60質量%，進而較佳為20質量%～50質量%。
＜(c)光聚合性單體＞ 作為光聚合性單體(c)，並不限定於以下，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸等酸之酯類；丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺之衍生物；烯丙酯、苯乙烯及其衍生物；N-取代順丁烯二醯亞胺化合物等。
作為光聚合性單體(c)，並不限定於以下，例如可列舉：1,6-己二醇、1,9-壬二醇等烷二醇之二丙烯酸酯及二甲基丙烯酸酯；或乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇、丁二醇、二環戊二烯基之二丙烯酸酯及二甲基丙烯酸酯；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、N,N'-六亞甲基雙丙烯醯胺及甲基丙烯醯胺、苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、二丙烯醯基鄰苯二甲酸酯、氰尿酸三烯丙酯、反丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二丁酯、反丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸二硬脂酯、反丁烯二酸丁基辛酯、反丁烯二酸二苯酯、反丁烯二酸二苄酯、順丁烯二酸二丁酯、順丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸雙(3-苯基丙基)酯、反丁烯二酸二月桂酯、反丁烯二酸二山萮酯、N-月桂基順丁烯二醯亞胺等。 該等可單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
就印刷版之凸部之更高耐缺失性之觀點而言，較佳為於感光性樹脂組合物中含有2.0質量%以上之具有2 mol甲基丙烯酸酯基之單體作為(c)光聚合性單體。
關於感光性樹脂組合物層中之(c)光聚合性單體之含量，就獲得明亮之印刷之觀點而言，於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時，較佳為1質量%～25質量%。(c)光聚合性單體之含量更佳為5質量%～20質量%，進而較佳為8質量%～15質量%。
((d)光聚合起始劑) 所謂(d)光聚合起始劑係吸收光能而產生自由基之化合物，可使用公知之各種，適宜為各種有機羰基化合物，尤其適宜為芳香族羰基化合物。
作為(d)光聚合起始劑，並不限定於以下，例如可列舉：二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基9-氧硫𠮿
Figure 108145023-A0304-12-01
、異丙基9-氧硫𠮿
Figure 108145023-A0304-12-01
、2,4-二氯9-氧硫𠮿
Figure 108145023-A0304-12-01
等9-氧硫𠮿
Figure 108145023-A0304-12-01
類；二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2-𠰌啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)丁酮等苯乙酮類；安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚等安息香醚類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等醯基氧化膦類；苯甲醯甲酸甲酯；1,7-雙吖啶基庚烷；9-苯基吖啶；2,6-二-第三丁基對甲酚等。 該等可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
關於感光性樹脂組合物層中之(d)光聚合起始劑之含量，就提高製版時之版形成性及獲得明亮之印刷之觀點而言，於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時，較佳為0.1質量%～10.0質量%。(d)光聚合起始劑之含量更佳為1.0質量%～8.0質量%，進而較佳為1.5質量%～5.0質量%。
又，作為(d)光聚合起始劑，亦可併用崩解型光聚合起始劑及奪氫型光聚合起始劑。就印刷版之圖像再現性、耐磨耗性較高而言，感光性樹脂組合物中之奪氫型光聚合起始劑之量較佳為1.0質量%以下，更佳為0.5質量%以下。
(中間層) 本實施形態之柔版印刷原版係於上述感光性樹脂組合物層與後述紅外線剝蝕層之間具有中間層。 為製作高精細且具有高亮區域之印刷物，需要形成點頂端部之平坦部之直徑為10～20 μm、凸紋深度為100 μm以上之微小點。為實現此種微小點，中間層較佳為具有阻氧能力。 於藉由紫外線之照射使感光性樹脂組合物層硬化時，硬化藉由自由基聚合而進行。若聚合時共存氧，則自由基生成化合物與氧進行反應而抑制聚合反應。若聚合反應被抑制，於感光性樹脂組合物層殘留未反應部分，則最終形成之圖案成為頂端具有曲線部之形狀。相對於此，若於紫外線硬化時減少氧之共存量，則難以抑制聚合反應，最終形成之圖案成為頂端具有平面部之形狀。因此，於欲製作頂端具有平坦部之圖案之情形時，有效的是藉由中間層具有阻氧能力，而減少與感光性樹脂組合物層接觸之氧。
又，中間層亦具有保護後述紅外線剝蝕層之功能。 先前之柔版印刷原版之製造步驟中，存在如下擔憂：因以膜之形式輸送紅外線剝蝕層時與輥接觸或膜卷運輸中發生卷緊而與保護膜摩擦，造成物理上缺損而產生針孔。 又，於藉由一面將感光性樹脂組合物層擠出成型一面塗設於紅外線剝蝕層上之方法而使感光性樹脂組合物層與紅外線剝蝕層積層之情形時，存在如下擔憂：因加熱熔融之感光性樹脂組合物於紅外線剝蝕層上流動時產生之摩擦而產生針孔。 為防止此種紅外線剝蝕層之針孔之產生，構成本實施形態之柔版印刷原版之中間層需要具有物理強度、耐熱性。 如上所述，為製作高精細且具有高亮區域之印刷物，需要形成點頂端部之平坦部之直徑為10～20 μm之微小點，假設於紅外線剝蝕層存在20 μm以上之針孔，其周邊重疊有用於形成微小點之遮罩圖像之情形時，存在如下擔憂：引起點形成不良，無法製作高精細且具有高亮區域之柔版印刷版。
進而，就柔版印刷版之製造步驟之簡便度之觀點而言，中間層較佳為可利用與紅外線剝蝕層及/或感光性樹脂組合物層相同之洗淨液洗淨。 就此種觀點而言，中間層較佳為水溶性或鹼溶性。 若中間層之洗淨性較高，則可縮短洗淨步驟所耗費之時間，從而作業性提高，且可容易地進行位於中間層之下層之感光性樹脂組合物層之顯影。
本實施形態之柔版印刷原版中，上述中間層含有親水性樹脂(A)、無機層狀化合物(B)。藉此，成為具有氧阻隔性且物理強度、耐熱性亦優異者，從而耐針孔性提高。進而，中間層之洗淨性亦提高。 其詳細情況雖不明確，但本發明者等推測為如下。 無機層狀化合物(B)係層狀剝離後之黏土礦物分散於水溶液中而成者，或結晶性無機微粒子分散於水中而成者。黏土礦物於其表面存在矽烷醇基(SiOH)，可與羥基等鍵結。進而，由於層狀剝離後之黏土礦物於表面具有負電荷，故而亦可與四級銨離子等陽離子形成離子鍵。藉由在該無機層狀化合物(B)與親水性樹脂(A)之間形成交聯結構，作為中間層之強度提高，物理強度、耐熱性提高。同樣地，於無機層狀化合物(B)中包含氫氧化鋁或硫酸鋇、鈦酸鉀等無機化合物之情形時，該等之表面之官能基亦可與羥基等鍵結。又，由於水分散粒子於表面具有負電荷，故而可與四級銨離子等陽離子形成離子鍵。 進而，洗淨步驟中，藉由無機層狀化合物(B)與親水性樹脂(A)形成交聯結構，中間層會被脫膜地去除而非溶解，藉此較親水性樹脂(B)溶解於洗淨液之速度更快，洗淨性提高。
中間層之無機層狀化合物(B)之含量越多，氧阻隔性、耐針孔性、洗淨性越高。另一方面，存在皮膜性變差，難以獲得膜厚均勻之膜之傾向。考慮該等之平衡，中間層中之無機層狀化合物(B)之含量相對於親水性樹脂(A)100質量份而較佳為0.1質量份以上20質量份以下，更佳為1質量份以上，進而較佳為1.5質量份以上。又，更佳為10質量份以下，進而較佳為8質量份以下。
中間層之厚度越厚，阻氧效果越高，越具有物理強度、耐熱性。另一方面，洗淨性會降低。 考慮該等之平衡，中間層之厚度較佳為2 μm以上30 μm以下，且較佳為2.5 μm以上，更佳為3 μm以上。又，較佳為15 μm以下，更佳為8 μm以下。中間層之膜厚可利用後述實施例中記載之方法進行測定。
以下，對中間層中含有之各成分進行詳細敍述。
＜親水性樹脂(A)＞ 所謂親水性樹脂通常係指具有水溶性極性基且會溶解於水之高分子。 作為水溶性極性基，可列舉：胺基、亞胺基、三級胺基、四級銨鹽基、醯肼基、羧基、磺醯基、硫酸酯基、磷酸酯基、醚基、羥基、醯胺基等。尤其是本實施形態之柔版印刷原版之中間層中之親水性樹脂(A)較佳為含有可與黏土礦物形成共價鍵及/或離子鍵之官能基者。作為此種官能基，具體而言，可列舉：可與黏土礦物形成矽氧烷鍵之羥基或可與黏土礦物進行離子性鍵結之胺基、亞胺基、三級胺基、四級銨鹽基。 於後述無機層狀化合物(B)為層狀剝離後之黏土礦物時，該官能基可選擇性地反應。即，由於在層狀剝離後之黏土礦物之表面存在矽烷醇基(SiOH)，故而有效且容易的是形成矽氧烷鍵(Si-O-Si)而鍵結。進而，由於層狀剝離後之黏土礦物於表面具有負電荷，故而容易與四級銨離子(陽離子)形成離子鍵。 作為親水性樹脂(A)，具體而言，可列舉：水溶性之聚(乙烯-乙烯醇)共聚物、聚乙烯醇、部分皂化聚乙酸乙烯酯、部分皂化聚(環氧乙烷-乙酸乙烯酯)接枝共聚物、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯吡咯啶酮、聚胺基甲酸酯、聚酯、聚醚、纖維素、聚醯胺、水溶性苯酚等。 該等可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
＜無機層狀化合物(B)＞ 所謂「無機層狀化合物」係指單元結晶層重疊而形成1個層狀粒子之無機化合物。 作為無機層狀化合物(B)，較佳為於水中會膨潤及/或劈開之化合物，例如可列舉具有於水中之膨潤性之黏土化合物。又，可列舉含有分散於水中之氫氧化鋁或硫酸鋇、鈦酸鉀者。該等化合物中，亦尤佳為具有於水中之膨潤性之黏土化合物、含有分散於水中之氫氧化鋁者。 此種黏土化合物通常為如下化合物：Si4+ 對O2- 配位而構成四面體結構之層與Al3+ 、Mg2+ 、Fe2+ 、Fe3+ 等對O2- 及OH- 配位而構成八面體結構之層以1比1或2比1進行鍵結而堆疊形成層狀結構。該黏土化合物可為天然之化合物，亦可為合成之化合物。 分散於水中之氫氧化鋁係以微粒子之形態分散於溶液中而成者。其可為以如下溶膠狀態使用之化合物，該溶膠狀態係將水合形態之各種氫氧化鋁(無定形氫氧化鋁、γ-三水鋁石、α-三水鋁石、軟水鋁石、一水硬鋁石)於溶液中進行水解及脫水縮聚而分散有金屬氧化物或金屬氫氧化物而成，上述分散於水中之氫氧化鋁亦可為如下者：將藉由在高溫、高壓條件下使氫氧化鋁與水作用之水熱合成法而製造者分散於水中而成。
就與親水性樹脂(A)之相溶性、上述洗淨性之觀點而言，無機層狀化合物(B)較佳為於水中會膨潤或層狀解離之水膨潤性黏土礦物，更佳為會以單層或複數層分散於水中者。 作為較佳之黏土礦物，例如可列舉：高嶺土、狄克石、多水高嶺土、滑石、葉蠟石、皂石、鋰膨潤石、蒙脫石、鋁膨潤石、蛭石、雲母(mica)、橙玄玻璃等層狀矽酸鹽礦物。 尤其是雲母與其他無機層狀化合物相比，具有較高縱橫比，故而迷宮效果更有效地發揮作用，從而與親水性樹脂(A)組合而形成之中間層之氧阻隔性變得尤其高，因此較佳地作為無機層狀化合物(B)，水膨潤性合成雲母由於平均粒徑之方差小，從而均勻地分散有無機層狀化合物之中間膜之洗淨性變高，故而更佳。
無機層狀化合物(B)之大小較佳為如下大小：於與併用之親水性樹脂(A)形成之中間層中無機層狀化合物(B)均勻地排列，迷宮效果更有效地發揮作用，顯現尤其高之中間層之氧阻隔性。就該觀點而言，無機層狀化合物(B)較佳為平均粒徑為10 μm以下、厚度為500 nm以下，更佳為平均粒徑為10 μm以下、厚度為100 nm以下。 若平均粒徑為1 μm以上，則中間層可發揮充分之氧阻隔性。又，藉由使平均粒徑為10 μm以下，可防止外觀不均之發生。 若厚度為10 nm以上，則可保持粒子之形狀，適宜實用上之使用。藉由使厚度為500 nm以下，可均勻塗佈，可發揮充分之氧阻隔性。
無機層狀化合物(B)中，作為市售品，例如可列舉：Micro Mica(合成雲母)及Somashif(Katakura & Co-op Agri股份有限公司註冊商標，合成雲母)、Kunimine Industries股份有限公司製造之Kunipia(Kunimine Industries股份有限公司註冊商標，蒙脫石)、Sumecton(Kunimine Industries股份有限公司註冊商標)SA(合成皂石)；Ho Jun股份有限公司製造之Bengel(Ho Jun股份有限公司註冊商標，天然膨潤土精製品)，Kawaken Fine Chemicals股份有限公司製造之氧化鋁溶膠F-1000、F-3000、5N，Kinsei Matec公司製造之板狀氧化鋁粉體Serath 00610、02025、02050、05025、05070、07070、10030，大塚化學公司製造之TISMO D、TISMO N等。
＜水分散性乳膠(C)＞ 本實施形態之柔版印刷原版中，就使中間層之水顯影性提高之觀點而言，中間層較佳為進而包含水分散性乳膠(C)。
作為水分散性乳膠(C)，只要為會與上述親水性樹脂(A)均勻混合者便可任意使用。並不限定於以下，例如可列舉：聚丁二烯乳膠、天然橡膠乳膠、苯乙烯-丁二烯共聚物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、聚氯丁二烯乳膠、聚異戊二烯乳膠、聚胺基甲酸酯乳膠、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物乳膠、乙烯基吡啶聚合物乳膠、丁基聚合物乳膠、聚硫橡膠聚合物乳膠、丙烯酸酯聚合物乳膠等水分散性乳膠聚合物或於該等聚合物共聚丙烯酸或甲基丙烯酸等其他成分所得之乳膠共聚物。 尤佳為具有羧基、胺基、羥基、磷酸基、磺酸基等親水性基，該等之鹽等極性基之水溶性或水分散性乳膠共聚物。
使用本實施形態之柔版印刷原版之柔版印刷版之製造步驟中，就獲得較高洗淨性之觀點而言，作為上述具有極性基之乳膠聚合物，較佳為含羧基或羥基之丁二烯乳膠。 該等具有極性基之乳膠聚合物可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上。
關於本實施形態之柔版印刷原版之中間層中之水分散性乳膠(C)的含有比率，就印刷版之製造步驟中之洗淨性之觀點而言，相對於中間層總量而較佳為10質量%以上，更佳為20質量%以上，進而較佳為25質量%以上。 又，較佳為80質量%以下，更佳為60質量%以下，進而較佳為50質量%以下。 藉由使中間層中之水分散性乳膠(C)之含有比率為10質量%以上，可獲得充分之洗淨性，又，藉由使含有比率為80質量%以下，可獲得充分之膜強度，而可獲得黏性較小之柔版印刷版。
又，相對於中間層中之親水性樹脂(A)100質量份，水分散性乳膠(C)之含量較佳為5質量份以上45質量份以下。就獲得充分之洗淨性之觀點而言，較佳為5質量份以上，更佳為10質量份以上。 又，就發揮充分之氧阻障性，使小點之印刷物再現性提高之觀點而言，較佳為45質量份以下，更佳為20質量份以下。
中間層之凝膠分率較佳為10%以上90%以下。凝膠分率可藉由下述式而算出。 凝膠分率(%)＝(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100 就中間層之耐水性之觀點而言，凝膠分率較佳為10%以上，更佳為30%以上，且更佳為60%以上，進而較佳為70%以上。又，就洗淨性之觀點而言，較佳為90%以下，更佳為80%以下，進而較佳為70%以下。 凝膠分率可藉由後述實施例中記載之方法進行測定。 凝膠分率係中間層成分之交聯度之指標，若值變大，則存在耐水性變高，高濕度保管時之針孔評價中缺陷數變少之傾向。若凝膠分率之值變小，則存在耐水性變低，高濕度保管時之針孔評價中缺陷數變多之傾向。又，凝膠分率可藉由調整無機層狀化合物(B)之縱橫比、親水性樹脂(A)之官能基數、水分散乳膠(C)之玻璃轉移溫度(Tg)而控制。存在如下傾向：上述縱橫比、親水性樹脂(A)之官能基數、水分散乳膠(C)之玻璃轉移溫度之值越高，凝膠分率之值越增加。
又，就使中間層之塗佈時之膜厚均勻性提高之觀點而言，中間層中亦可含有矽酮化合物或界面活性劑。 ＜矽酮化合物＞ 中間層例如可藉由在紅外線剝蝕層上塗佈中間層形成用材料而形成。以將中間層均勻塗佈於上述紅外線剝蝕層為目的，就控制表面能之觀點而言，中間層較佳為含有矽酮化合物或界面活性劑。
作為矽酮化合物，尤其不對分子結構進行限定，可列舉主鏈具有聚二甲基矽氧烷、聚二乙基矽氧烷等聚烷基矽氧烷之化合物作為較佳化合物。又，亦可為分子中之一部分具有聚矽氧烷結構之化合物。進而，亦可使用聚矽氧烷結構中導入有特定有機基之化合物。具體而言，可使用聚矽氧烷之側鏈導入有機基之化合物、聚矽氧烷之兩末端導入有機基之化合物、聚矽氧烷之單末端導入有機基之化合物、聚矽氧烷之側鏈與末端均導入有機基之化合物等。 就保證中間層與感光性樹脂組合物層之接著性之觀點而言，較佳為使用導入有機基之矽酮化合物。
作為導入至聚矽氧烷結構之有機基，並不限定於以下，例如可列舉：胺基、羧基、甲醇基、芳基、烷基、烷氧基羰基、烷氧基、經至少一個芳基取代之直鏈狀或支鏈狀烷基、聚氧伸烷基(以下亦稱為聚醚基)等。
作為矽酮化合物，並不限定於以下，例如可使用信越化學工業股份有限公司製造、旭化成瓦克矽酮股份有限公司製造、GE Toshiba Silicone股份有限公司製造、Dow Corning Silicone股份有限公司製造之經各種有機基取代之矽酮油。
關於矽酮化合物，於將形成中間層之材料總量設為100質量%時，較佳為含有0.01質量%以上1.0質量%以下，更佳為含有0.05質量%以上0.5質量%以下，進而較佳為含有0.05質量%以上0.3質量%以下。
＜界面活性劑＞ 作為界面活性劑，例如可列舉：陰離子系界面活性劑、離子性界面活性劑、非離子性界面活性劑、陰離子系反應性界面活性劑、非離子性反應性界面活性劑等。 作為界面活性劑，並不限定於以下，例如可列舉：聚氧乙烯苯乙烯化苯醚硫酸鈉、聚氧伸烷基支鏈癸醚硫酸鈉、聚氧乙烯異癸醚硫酸銨、聚氧乙烯十三癸醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基(C8～C20)醚硫酸鈉、聚氧乙烯油烯基鯨蠟醚硫酸銨、聚氧乙烯油烯基鯨蠟醚硫酸鈉、聚氧乙烯十三癸醚磷酸酯、聚氧乙烯烷基(C2～C16)醚磷酸酯、聚氧乙烯烷基(C2～C16)醚磷酸酯-單乙醇胺鹽、烷基(C2～C16)磷酸酯鈉鹽、烷基(C2～C16)磷酸酯-單乙醇胺鹽、月桂基磺基丁二酸二鈉、聚氧乙烯磺基丁二酸月桂酯二鈉鹽、聚氧乙烯烷基(C2～C20)磺基丁二酸二鈉、直鏈烷基苯磺酸鈉、直鏈烷基苯磺酸、α-烯烴磺酸鈉、苯酚磺酸、二辛基磺基丁二酸鈉、月桂基硫酸鈉、高級脂肪酸鉀鹽等陰離子系界面活性劑；烷基(C8～C20)三甲基氯化銨、烷基(C8～C20)二甲基乙基氯化銨、二癸基二甲基氯化銨、月桂基二甲基苄基氯化銨、硬脂基二甲基羥乙基對甲苯磺酸銨、硬脂基二甲胺基丙基醯胺、三丁基苄基氯化銨、月桂基二甲胺基乙酸甜菜鹼、月桂醯胺基丙基甜菜鹼、椰子油脂肪醯胺基丙基甜菜鹼、辛醯胺基丙基甜菜鹼、月桂基二甲基氧化胺等離子性界面活性劑；聚氧伸烷基十三癸醚、聚氧乙烯異癸醚、聚氧伸烷基月桂醚、聚氧伸烷基烷基醚、聚氧伸烷基醚與聚醚多元醇之混合物、聚醚多元醇、聚氧乙烯磺化苯醚、聚氧乙烯萘醚、苯氧基乙醇、聚氧乙烯苯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯二醇、聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯油烯基鯨蠟醚、聚氧乙烯油酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯、聚氧乙烯甘油異硬脂酸酯、聚氧乙烯氫化蓖麻油、椰子油脂肪酸二乙醇醯胺、聚氧乙烯烷基胺、山梨醇酐三油酸酯、山梨醇酐倍半油酸酯、山梨醇酐單油酸酯、山梨醇酐單椰油酸酯、山梨醇酐單癸酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐單椰油酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐單硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐單油酸酯、辛基聚糖苷、丁基聚糖苷、蔗糖苯甲酸酯、蔗糖乙酸酯、蔗糖脂肪酸酯之非離子性界面活性劑；聚氧乙烯-1-(烯丙氧基甲基)烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯壬基丙烯基苯醚硫酸銨等陰離子系反應性界面活性劑；聚氧乙烯壬基丙烯基苯醚等非離子性反應性界面活性劑等。 上述界面活性劑可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上。
界面活性劑除中間層以外，亦可添加於其他層，例如感光性樹脂組合物層，於將添加對象之層之材料之總量設為100質量%時，較佳為含有0.1質量%以上5.0質量%以下，更佳為含有0.5質量%以上3.0質量%以下，進而較佳為含有0.5質量%以上2.0質量%以下。 藉由含有0.1質量%以上之界面活性劑，可使曝光後之顯影時之洗淨速度提高。又，藉由含有5.0質量%以下之界面活性劑，存在可抑制柔版印刷原版之膨潤之傾向。
(紅外線剝蝕層) 本實施形態之柔版印刷原版於感光性樹脂組合物層上隔著中間層而具有紅外線剝蝕層。 紅外線剝蝕層可藉由紅外線進行繪圖加工，於使感光性樹脂組合物層曝光硬化時發揮遮罩圖像之作用。於上述曝光結束後將感光性樹脂組合物層之未曝光部洗出時，該紅外線剝蝕層亦同時被去除。 紅外線剝蝕層較佳為包含黏合劑聚合物、紅外線敏感性物質。 作為黏合劑聚合物，例如可列舉聚醯胺、聚酯及包含經單乙烯基取代之芳香族烴與共軛二烯之共聚物等。 尤佳為包含經苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等單乙烯基取代之芳香族烴與1,3-丁二烯、異戊二烯等共軛二烯之共聚物。 於使用上述黏合劑聚合物構成紅外線剝蝕層之情形時，與感光性組合物樹脂層之親和性較高，密接性變得良好。
又，於使用聚酯作為黏合劑聚合物之情形時，數量平均分子量較佳為300以上10,000以下。 進而，作為聚酯，並不限定於以下，例如可較佳地列舉由烷二醇與己二酸合成者、由烷二醇與鄰苯二甲酸合成者、聚己內酯、及該等聚酯之2個以上之組合等。 又，聚酯亦可於無損與其他黏合劑聚合物、紅外線敏感性物質或非紅外放射線之遮蔽物質之相溶性之範圍含有胺基、硝基、磺酸基、鹵素等各種官能基。
作為紅外線敏感性物質，並不限定於以下，例如較佳地使用通常於750～2000 nm之範圍具有較強吸收之單體或化合物。 作為紅外線敏感性物質，並不限定於以下，可列舉：碳黑、石墨、亞鉻酸銅、及氧化鉻等無機顏料；聚酞菁化合物、花青色素、及金屬硫醇鹽色素等色素類等。 該等紅外線敏感性物質係於賦予可利用所使用之雷射光線切除之感度之範圍添加。通常有效的是添加10～80質量%。 紅外線敏感性物質中，可使用反射或吸收紫外線等放射線之物質。紫外線等放射線吸收劑或碳黑、石墨等為其較佳例，且以可實現所需光學濃度之方式設定添加量。通常較佳為以成為2以上、較佳為3以上之光學濃度之方式添加。
[柔版印刷原版之製造方法] 柔版印刷原版可藉由在支持體上積層感光性樹脂組合物層、中間層、紅外線剝蝕層而製造。
本實施形態之柔版印刷原版之製造方法並無特別限制，可利用各種方法實施。具體而言，可列舉以下方法。 首先，藉由利用如下方法獲得感光性樹脂組合物層，且對其貼合支持體，而獲得支持體與感光性樹脂組合物層之積層體，上述方法即：使作為感光性樹脂組合物層之材料之感光性樹脂組合物之原料溶解於適當溶劑，例如氯仿、四氯乙烯、甲基乙基酮、甲苯等溶劑進行混合，流延至模框中且使溶劑蒸發，藉此製成板狀之方法；或不使用溶劑，利用捏合機、輥磨機或螺桿擠出機進行混練後，利用軋光輥或壓製機等成型為所需厚度之方法。
其次，於感光性樹脂組合物層上形成中間層、紅外線剝蝕層。 在將中間層、紅外線剝蝕層設於感光性樹脂組合物層之表面時，例如將構成中間層之成分、構成紅外線剝蝕層之成分分別利用攪拌翼以強制攪拌或超音波攪拌分散或溶解於適當溶劑，或者使用擠出機或捏合機進行預混練後分散或溶解於適當溶劑，藉此獲得特定分散液或溶液之後，將該分散液或溶液直接塗佈於感光性樹脂組合物層，藉此可形成中間層、紅外線剝蝕層。 又，於紅外線剝蝕層上，亦可設置例如包含聚酯、聚丙烯等之覆蓋片。 作為其他方法，於特定覆蓋片塗佈構成紅外線剝蝕層之材料而獲得具有紅外線剝蝕層之膜後，於紅外線剝蝕層上塗佈構成中間層之材料，而獲得於覆蓋片上積層有紅外線剝蝕層與中間層之覆蓋膜，其後，將該覆蓋膜層壓或加壓壓接於支持體與感光性樹脂組合物層之積層體之感光性樹脂組合物層形成面側，藉此可於感光性樹脂組合物層上形成中間層、紅外線剝蝕層。 覆蓋膜或支持體通常於感光性樹脂組合物層之片成形後，利用輥層壓而密接於感光性樹脂組合物層，於層壓後進行加熱加壓，若如此可獲得厚度精度更良好之柔版印刷原版。
[柔版印刷版之製造方法] 作為自柔版印刷原版製造柔版印刷版之方法，例如可列舉下述方法。 首先，經由柔版印刷原版之支持體對整個面實施紫外線曝光(背曝光)，使感光性樹脂組合物層硬化而成為薄且均勻之硬化層。 其次，對感光性樹脂組合物層上之紅外線剝蝕層進行雷射繪圖即雷射剝蝕而製作底片圖之後，自形成有底片圖之紅外線剝蝕層上直接對感光性樹脂組合物層之面進行圖像曝光(凸紋曝光)。 其後，將未曝光部分利用溶劑系顯影液或水系顯影液洗去，或接觸於加熱至40℃～200℃之可吸收未曝光部分之吸收層，藉由去除吸收層而將未曝光部分去除。 進而，藉由進行後處理曝光而獲得柔版印刷版。
自紅外線剝蝕層側之曝光(凸紋曝光)與自支持膜側之曝光(背曝光)可先進行任一者，且亦可同時進行兩者。作為曝光光源，例如可列舉：高壓水銀燈、紫外線螢光燈、碳弧燈、氙氣燈等。
雷射繪圖可使用紅外線雷射，作為該紅外線雷射，較佳為波長為750～2000 nm者。作為該波長之紅外雷射，通常為750～880 nm之半導體雷射或1060 nm之Nd-YAG(Neodymium-doped Yttrium Aluminium Garnet，摻釹釔鋁石榴石)雷射。
於將感光性樹脂組合物層之未曝光部利用溶劑系顯影液進行顯影之情形時，作為該顯影液，例如可較佳地列舉：乙酸庚酯、乙酸3-甲氧基丁酯等酯類；石油餾分、甲苯、十氫萘等烴類；於四氯乙烯等氯系有機溶劑中混合有丙醇、丁醇、戊醇等醇類者；水；聚氧伸烷基烷基醚等醚類等。 未曝光部之洗出可藉由自噴嘴之噴射及/或利用毛刷之刷洗而進行。
於將感光性樹脂組合物層之未曝光部利用水系顯影液進行顯影之情形時，水系顯影液係以水為主成分之顯影液，可為水本身，亦可為例如於水中調配有非離子性、陰離子性等界面活性劑，pH值調整劑，及洗淨促進劑等者。
作為非離子性界面活性劑，並不限定於以下，例如可列舉：聚氧伸烷基烷基或烯基醚、聚氧伸烷基烷基或烯基苯醚、聚氧伸烷基烷基或烯基胺、聚氧伸烷基烷基或烯基醯胺、環氧乙烷/環氧丙烷嵌段加成物等。
作為陰離子性界面活性劑，並不限定於以下，例如可列舉：具有平均碳數8～16之烷基之直鏈烷基苯磺酸鹽、平均碳數10～20之α-烯烴磺酸鹽、烷基或烯基之碳數為4～10之二烷基磺基丁二酸鹽、脂肪酸低級烷基酯之磺酸鹽、平均碳數10～20之烷基硫酸鹽、具有平均碳數10～20之直鏈或支鏈之烷基或烯基且加成有平均0.5～8莫耳之環氧乙烷之烷基醚硫酸鹽、平均碳數10～22之飽和或不飽和脂肪酸鹽等。
又，作為pH值調整劑，並不限定於以下，例如可列舉：硼酸鈉、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、丁二酸鈉、乙酸鈉等。上述中，矽酸鈉由於易溶於水，故而較佳。
所謂上述洗淨促進劑係藉由併用上述界面活性劑與pH值調整劑而使用，提高顯影液之洗淨(顯影)能力者。 作為洗淨促進劑，並不限定於以下，例如可列舉：單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等胺類；四甲基氫氧化銨等銨鹽類；石蠟系烴等。
選自由非離子性、陰離子性等界面活性劑，pH值調整劑，洗淨促進劑所組成之群中之1種以上可於顯影液中分別以較佳為0.1～50質量%、更佳為1～10質量%之範圍添加混合而使用。
顯影時，亦可輔助地利用超音波等對柔版印刷原版施加振動，或使用毛刷等機械部件對印刷原版之表面進行摩擦。
又，就獲得可進行明亮之印刷且油墨糊版、油墨轉移性優異之柔版印刷版之觀點而言，溶劑系及水系顯影液中較佳為調配0.01質量%以上～5質量%之矽酮化合物。 即，本實施形態之柔版印刷版較佳為於將柔版印刷原版進行圖案形成及曝光後之顯影時，可於含有0.01質量%以上～5質量%之矽酮化合物之顯影液中進行顯影之柔版印刷版。
作為矽酮化合物，並不限定於以下，例如可列舉：包含矽氧烷單元之矽酮油(以下簡記作矽酮油)或矽烷偶合劑、矽烷化合物、矽酮橡膠、矽酮樹脂等。 上述矽酮化合物中，作為顯影液中包含之矽酮化合物，較佳為經胺基、聚醚基、甲醇基等改性之矽酮油。
作為後處理曝光，可列舉對表面照射波長300 nm以下之光之方法。視需要亦可併用波長較300 nm長之光。
再者，本實施形態之柔版印刷原版之感光性樹脂組合物層雖於溶劑顯影與熱顯影之兩者有用，但尤其於印刷版之高圖像再現性之方面可較佳地用於溶劑顯影用。
又，關於本實施形態之柔版印刷版之製造方法，就獲得可實現明亮之印刷且油墨糊版、油墨轉移性優異之柔版印刷版之觀點而言，較佳為於進行後處理曝光前，在顯影後之柔版印刷版塗佈矽酮成分及/或氟系化合物。 即，本實施形態之柔版印刷版較佳為於對柔版印刷原版進行圖案形成、曝光、顯影後塗佈矽酮成分及/或氟系化合物而獲得之柔版印刷版。
作為顯影後塗佈於版之矽酮成分，可為反應性矽酮，亦可為非反應性矽酮，例如可較佳地列舉(甲基)丙烯醯基改性矽酮。 又，作為顯影後塗佈之氟系化合物，例如可列舉：聚氟乙烯化合物、聚(乙烯-氟乙烯)化合物、於側鏈具有全氟烷基之丙烯酸系共聚物、具有全氟烷基之胺基甲酸酯系聚合物、具有全氟烷基之酯系聚合物或氟系單體等。 矽酮成分或氟系化合物可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
上述矽酮成分及/或氟系化合物較佳為溶解於溶劑而作為溶液使用。 作為溶劑，較佳為會附著於印刷版之表面且滲透至表面附近者。藉由在選擇會滲透至印刷版之表面之溶劑後進行後曝光步驟之處理，可使矽酮成分及/或氟系化合物更牢固地固著於版表面(附近)。 含有矽酮成分及/或氟系化合物之溶液中之矽酮成分及/或氟系化合物之濃度較佳為0.05～50質量%。
作為上述溶劑，並不限定於以下，可使用烴、乙酸酯、醇、酮或二醇醚等溶劑。該等可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。 為滲透至印刷版之表面，亦可併用水與上述溶劑之石蠟或二醇醚，或者添加滲透力較高之非離子系界面活性劑。 視需要亦可於含有矽酮成分及/或氟系化合物之溶液中添加消泡劑、抗氧化劑或防腐劑等添加劑。
作為向顯影後之柔版印刷版之版面之塗佈方法，可列舉利用噴霧之溶液塗佈、刷塗、浸漬、利用布或海綿塗佈溶液之方法、添加於顯影後沖洗液並滴加至版面等，該等中亦較佳為利用噴霧之溶液塗佈。 塗佈只要於後曝光前即可，可於顯影後立即實施，亦可於顯影且乾燥後實施。 [實施例]
以下，列舉具體實施例及比較例對本發明進行詳細說明，但本發明並不受以下實施例任何限定。
[製造例1] (親水性共聚物之合成) 向安裝有攪拌裝置與溫度調節用套管之耐壓反應容器中，初期添加水125質量份及作為反應性乳化劑之α-磺基(1-壬基苯氧基)甲基-2-(2-丙烯氧基)乙氧基-聚(氧基-1,2-乙烷二基)之銨鹽「ADEKA REASOAP」(旭電化工業製造)2質量份，將內溫升溫至80℃，分別花費5小時及6小時以固定流速添加如下油性混合液及如下水溶液，上述油性混合液係包含苯乙烯10質量份、丁二烯60質量份、丙烯酸丁酯23質量份、甲基丙烯酸5質量份及丙烯酸2質量份之單體混合物與第三-十二烷硫醇2質量份之油性混合液，上述水溶液包含水28質量份、過氧二硫酸鈉1.2質量份、氫氧化鈉0.2質量份及α-磺基(1-壬基苯氧基)甲基-2-(2-丙烯氧基)乙氧基-聚(氧基-1,2-乙烷二基)之銨鹽2質量份。 繼而，將80℃之溫度保持1小時，結束聚合反應，而獲得共聚物乳膠之後進行冷卻。 進而，將生成之共聚物乳膠利用氫氧化鈉調整pH值為7之後，利用蒸汽汽提法去除未反應之單體，且利用200目之金屬絲網進行過濾，以最終濾液之固形物成分濃度成為40質量%之方式進行調整而獲得親水性共聚物之水分散液。 藉由利用50℃之真空乾燥機將所得之親水性共聚物之水分散液乾燥，而去除水，獲得親水性共聚物。
[製造例2] (基底膜(支持體)之製作) 作為塗佈於支持體(基底膜)之接著劑層用溶液，將作為苯乙烯與1,3-丁二烯之嵌段共聚物之Tufprene 912(旭化成股份有限公司製造，商品名)以55質量份之比率、石蠟油(平均碳數為33，平均分子量為470，15℃下之密度為0.868)以38質量份之比率、1,9-壬二醇二丙烯酸酯以2.5質量份之比率、2,2-二甲氧基-苯基苯乙酮以1.5質量份之比率、Epoxy Ester 3000M(共榮社化學股份有限公司製造，商品名)以3質量份之比率及Valifast Yellow 3150(Orient Chemical Industries製造，商品名)以1.5質量份之比率溶解於甲苯而獲得固形物成分為25%之溶液。 其後，使用刮刀塗佈機以紫外線透過率成為10%之方式塗佈於厚度100 μm之聚酯膜之單側，於80℃乾燥1分鐘，而獲得具有接著劑層之支持體(基底膜)。 支持體之UV透過率係使用紫外線曝光機AFP-1500(旭化成股份有限公司製造，商品名)，利用UV照度計MO-2型機(Orc Manufacturing製造，商品名，UV-35濾波器)測定透過強度而計算。
[製造例3] (具有紅外線剝蝕層之膜之製作) 將作為苯乙烯與1,3-丁二烯之嵌段共聚物之Asaflex 810(旭化成股份有限公司製造，商品名)65質量%與作為紅外線敏感性物質之碳黑35質量%利用捏合機混練，切斷成顆粒狀後，利用超音波將該顆粒以90質量份之比率、1,6-己二醇己二酸酯以10質量份之比率溶解於以乙酸乙酯/乙酸丁酯/丙二醇單甲醚乙酸酯＝50/30/20之質量比製備之混合溶劑中，而製備固形物成分為12質量%之均勻之溶液。 其次，使用刮刀塗佈機將該溶液以乾燥後之塗佈量成為4～5 g/m2 之方式塗佈於厚度100 μm之成為覆蓋片之聚酯膜上，於80℃乾燥1分鐘，而獲得具有可利用紅外線切除之紫外線遮蔽層(紅外線剝蝕層)之膜。 利用DM-500(Dainippon Screen Mfg股份有限公司製造，商品名)對該具有紅外線剝蝕層之膜之光學濃度進行測定，結果為3～4。
[製造例4] (覆蓋膜(具有中間層與紅外線剝蝕層之膜)之製作) 於以乙醇/蒸餾水＝10/90之質量比製備之溶液中，添加水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)5質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%進行攪拌，而製作中間層塗佈液。 其次，使用棒式塗佈機將上述中間層塗佈液以乾燥後之膜厚成為3 μm之方式塗佈於上述[製造例3]中製作之具有紅外線剝蝕層之膜上且為紅外線剝蝕層形成面側。 繼而，於100℃乾燥4分鐘，而獲得具有中間層與紅外線剝蝕層之覆蓋膜。
[實施例1] (柔版印刷原版之製作) 使用加壓捏合機將上述[製造例1]中所得之親水性共聚物32質量份與苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物[D-KX405：Kraton製造]28質量份於140℃混合後，花費15分鐘逐步少量添加液狀聚丁二烯[LBR-352：可樂麗製造]32質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯8質量份、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯5質量份、2,2-二甲氧基-苯基苯乙酮2質量份、2,6-二-第三丁基對甲酚1質量份、甲醇改性矽酮油[KF-6000：信越化學製]1質量份之液狀混合物，添加結束後進而混練20分鐘，而獲得感光性樹脂組合物。 其次，投入至擠出成型機，於自T型模嘴擠出成型之感光性樹脂組合物層之單側面貼合上述[製造例2]中所得之基底膜(支持體)，進而於感光性樹脂組合物層之與支持體積層側相反之面貼合脫模膜(三菱化學公司製造，DIAFOIL MRV100)，而獲得支持體與感光性樹脂組合物層之積層體。 繼而，剝離上述脫模膜，將上述[製造例4]中所得之具有中間層與紅外線剝蝕層之覆蓋膜以中間層與感光性樹脂組合物層相接之方式進行層壓而獲得柔版印刷原版。
(柔版印刷版之製造) 自上述柔版印刷原版之支持體(塗佈有接著劑之PET)之側，使用紫外線曝光機(日本電子精機製造之JE-A2-SS)以硬化後之圖案高度(RD)成為0.6 mm左右之方式進行曝光。 其次，剝離紅外線剝蝕層之覆蓋片，使用ESKO製造之雷射繪圖機(CDI)，將網點圖像(AM150線，資料之1%網點)繪圖於紅外線剝蝕層後，自紅外線剝蝕層之側使用上述曝光機於大氣氛圍下以8000 mJ進行曝光。 曝光後，製備聚氧伸烷基烷基醚(Newcol 2308：日本乳化劑製造)1%、碳酸鉀1%之水溶液(水系顯影液)，使用日本電子精機製洗淨機(JOW-A3-P)於40℃進行洗淨(顯影)，而去除未曝光部。 於50℃乾燥10分鐘後，利用紫外線殺菌燈、紫外線化學燈進行後曝光以去除表面之黏性，而獲得柔版印刷版。
[實施例2] 柔版印刷版之製造中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水溶性聚醯胺(PA)而使用羧甲基纖維素鈉(CMC，和光純藥公司製造)。其他條件與[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例3] 柔版印刷版之製造中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水溶性聚醯胺(PA)而使用聚乙烯醇(PVA，可樂麗公司製造，Poval PVA-205)。其他條件與[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例4] 柔版印刷版之製造中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水溶性聚醯胺(PA)而使用水溶性聚胺基甲酸酯(PU，DIC公司製造，Hydran WLS-202)。其他條件與[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例5] 柔版印刷版之製造中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)55質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)10質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例6] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)70質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)10質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例7] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)79質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)1質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例8] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)而使用水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif ME-100)。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例9] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)而使用蒙脫石(Kunimine Industries公司製造，Kunipia)。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例10] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)而使用蒙脫石(Kunimine Industries公司製造，Sumecton)。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例11] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，以中間層之膜厚成為2.0 μm之方式進行調整而塗佈。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例12] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，以中間層之膜厚成為10 μm之方式進行調整而塗佈。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例13] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，以中間層之膜厚成為30 μm之方式進行調整而塗佈。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例14] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)60質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)25質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例15] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)80質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)5質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例16] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，XL-006)10質量%。其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例17] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)85質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)5質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 再者，不使用水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例18] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)5質量%、水分散乳膠(日本瑞翁公司製造，Nipol SX1503A)8質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例19] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、軟水鋁石(Kawaken Fine Chemicals公司製造，氧化鋁溶膠F-3000)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例20] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用聚乙烯吡咯啶酮(PVP，Aldrich公司製造，K60)75質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例21] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用聚2-乙基㗁唑啉(POx，Aldrich公司製造，Mw為50,000以下)75質量%、水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例22] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%，氫氧化鋁粒子(Kinsei Matec公司製造，Serath 05070)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例23] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、鈦酸鋇粒子(大塚化學公司製造，TISMO N)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[實施例24] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)75質量%、軟水鋁石(Kawaken Fine Chemicals公司製造，氧化鋁溶膠5N)5質量%、水分散乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例1] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用水溶性聚醯胺(PA，東麗公司製造，AQ尼龍T-70)80質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 再者，不使用無機層狀化合物。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例2] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，代替水膨潤性合成雲母(Katakura & Co-op Agri公司製造，Somashif MEB-3水溶液)而使用氧化矽粒子(日產化學公司製造，Snowtex ST-30L水分散液)。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例3] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，以中間層之膜厚成為1.5 μm之方式進行調整而塗佈。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例4] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，以中間層之膜厚成為40 μm之方式進行調整而塗佈。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例5] 柔版印刷版之製作中，製備上述[製造例4]中記載之中間層塗佈液時，使用聚乙烯醇(PVA 可樂麗公司製造，Poval PVA-205)80質量%、水分散性乳膠(旭化成公司製造，L7430)10質量%及改性矽酮油(信越化學公司製造，KF-351A)10質量%。 再者，不使用無機層狀化合物。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
[比較例6] 柔版印刷版之製作中，代替上述[製造例4]中記載之覆蓋膜而使用上述[製造例3]中記載之具有紅外線剝蝕層之膜。 其他條件與上述[實施例1]同樣地獲得柔版印刷原版及柔版印刷版。
再者，上述中示出進行使用水系顯影液去除未曝光部之顯影處理之例，但本實施形態之柔版印刷版之製造方法並不限定於該等例，亦可使用溶劑系顯影液進行顯影處理。
[特性評價] (柔版印刷原版之評價) ＜針孔評價＞ 將實施例及比較例中所得之柔版印刷原版切成10 cm×10 cm之尺寸之5片而設為樣品。 於該等樣品中，去除紅外線剝蝕層之覆蓋片後置於透光桌上進行顯微鏡檢查。 對於紅外線剝蝕層，計數長徑為20 μm以上之尺寸之針孔之個數，取平均值而算出(個/m2 )之值，利用下述1～5進行評價。下述評價中，只要為3以上，便可於實用上無問題地使用。 5：針孔數平均少於2(個/m2 )。 4：針孔數平均為2(個/m2 )以上且少於5個(個/m2 )。 3：針孔數平均為5(個/m2 )以上且少於10(個/m2 )。 2：針孔數平均為10(個/m2 )以上且少於20(個/m2 )。 1：針孔數平均為20(個/m2 )以上。
＜高濕度保管時之針孔評價＞ 將上述[製造例4]中所得之具有中間層與紅外線剝蝕層之覆蓋膜於40℃且相對濕度10%之環境下保管1周。 其後，將以與[實施例1]同樣之方式製作之柔版印刷原版切成10 cm×10 cm之尺寸之5片而設為樣品。 於該等樣品中，去除紅外線剝蝕層之覆蓋片後置於透光桌上進行顯微鏡檢查。 對於紅外線剝蝕層，計數長徑為20 μm以上之尺寸之針孔之個數，取平均值而算出(個/m2 )之值，利用下述1～5進行評價。下述評價中，只要為3以上，便可於實用上無問題地使用。 5：針孔數平均少於2(個/m2 )。 4：針孔數平均為2(個/m2 )以上且少於5個(個/m2 )。 3：針孔數平均為5(個/m2 )以上且少於10(個/m2 )。 2：針孔數平均為10(個/m2 )以上且少於20(個/m2 )。 1：針孔數平均為20(個/m2 )以上。
＜洗淨性評價＞ 使用紫外線曝光機「JE-A2-SS」(日本電子精機公司製造，商品名)對柔版印刷原版自支持體側進行60秒曝光。 其後，剝離作為紅外線剝蝕層之上層之覆蓋片，使支持體側接觸安裝於CDI Spark4260(ESKO GRAPHIC公司製造，商品名)之轉筒，以18.2 W之輸出、200 rpm之轉速使用光纖雷射(波長1070 nm)將1%網點(AM150線/英吋)向紅外線剝蝕層進行繪圖(解像度2540 dpi)。其次，利用上述曝光機(照度10 mW)進行12分鐘曝光。 繼而，使用含有作為界面活性劑之碳數12～14之二級醇之環氧乙烷5莫耳加成物即「LEOCOL SC-80」(Lion股份有限公司，商品名，HLB為12.7)5質量份、作為滲透劑之二丁基二乙二醇1質量份及碳酸鈉0.4質量份之水系顯影劑，於40℃利用平型洗淨機(Robo Electronics製造)進行洗淨。於洗淨時間為1分鐘後、2分鐘後、3分鐘後，確認非圖像部部分之紅外線剝蝕層之去除狀況。其後，進而進行17分鐘洗淨，合計設為20分鐘。 然後，於60℃進行15分鐘乾燥，使用化學燈及殺菌燈進行後曝光處理。 利用以下基準對紅外線剝蝕層之去除狀況之觀察結果進行評價。 下述評價基準中，只要為3以上，便可於實用上無問題地使用。 5.於洗淨時間為1分鐘時，可均勻地去除紅外線剝蝕層。 4.於洗淨時間為1分鐘時無法均勻地去除紅外線剝蝕層，但於洗淨時間為2分鐘時可均勻地去除。 3.於洗淨時間為2分鐘時無法均勻地去除紅外線剝蝕層，但於洗淨時間為3分鐘時可均勻地去除。 2.以通常洗淨時間(20分鐘)可去除紅外線剝蝕層。 1.殘留斑點，無法均勻地去除紅外線剝蝕層。
(柔版印刷版之評價) 使用實施例及比較例中所得之柔版印刷版，進行實際印刷評價。 使用AI-3型柔版印刷機(伊予機械製造)，溶劑油墨使用Process X Cyan(東洋油墨製造股份有限公司製造，商品名)，被印刷體使用延伸聚丙烯(oriented polypropylene，OPP)膜。 又，網紋輥使用800 lpi(單元容積為3.8 cm3 /m2 )，緩衝膠帶使用3M 1020(Sumitomo 3M股份有限公司製造，商品名)，以印刷速度100 m/min進行3000 m之印刷。 ＜小點之印刷物再現性＞ 所謂印刷物再現性係評價形成於柔版印刷版上之網點頂部之形狀、尺寸與印刷物上之網點之形狀、尺寸是否相同者。 本評價中，利用FLEX 3PRO(Avid Flex公司製造)觀察柔版印刷版上之網點圖像部之小點之點(AM150線，1%網點部位)，利用150倍之顯微鏡(KEYENCE製造，VHX-1000)觀察印刷物上之網點。 將觀察結果之評價基準示於以下。 下述評價基準中，只要為3以上，便可於實用上無問題地使用。 4：柔版印刷版上之網點之點之頂部、印刷物上之網點均為圓形，形狀、尺寸之再現性均較高。 3：柔版印刷版上之網點之點之頂部、印刷物上之網點均為圓形，但網點尺寸之再現性較低。 2：柔版印刷版上之網點之點之頂部為圓形，但印刷物上之網點為橢圓形而觀察到蠕印，再現性較低。 1：柔版印刷版上之網點之點之頂部帶有弧度，形成不良。印刷物上亦未印刷出點。
＜油墨糊版＞ 關於上述3000 m印刷後所得之柔版印刷版，利用放大鏡對位於柔版印刷版之網點部之3%網點與30%網點之點及點間(凹部)進行觀察。 將觀察結果之評價基準示於以下。 下述評價基準中，只要為2以上，可於實用上無問題地使用。 3：僅於點之肩部之上層附著有油墨。 2：油墨流動至點之中間部。 1：油墨流動至點間之底部。
(中間層之膜厚) 使用紫外線曝光機，對柔版印刷原版自支持體側進行600秒曝光。使版光硬化之後，利用FIB(Focused Ion Beam：聚焦離子束)裝置進行經試樣之加工而露出之剖面之SEM(scanning electron microscope；掃描式電子顯微鏡)觀察，對中間層之膜厚進行評價。
(中間層之凝膠分率) 使上述「製造例4」中所得之中間層塗佈液乾燥，而獲得固形物。對於所得之固形物測定質量。其後，測定於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量，將利用下述式算出之值設為凝膠分率。 凝膠分率(%)＝(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100
將用於實施例1～24及比較例1～6之柔版印刷原版及柔版印刷版之中間層之組成、中間層之膜厚、凝膠分率及上述評價結果示於下述表1及表2。
[表1]
   中間層                                    
(A)親水性樹脂 (B)無機層狀化合物 種類    (B)/(A)×100 (C)水分散性乳膠 種類    (C)/(A)×100 矽酮 (質量%) 膜厚 凝膠分率
實施例1 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例2 CMC 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 0%
實施例3 PVA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 0%
實施例4 PU 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 80%
實施例5 PA 55質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 10質量% 18 L7430 SBR-Lx 10質量% 18 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例6 PA 70質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 10質量% 14 L7430 SBR-Lx 10質量% 14 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例7 PA 79質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 1質量% 1 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 30%
實施例8 PA 75質量% Somashif ME-100 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例9 PA 75質量% Kunipia-F 天然蒙脫石 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例10 PA 75質量% Sumecton-ST 合成膨潤石 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例11 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 2.0 μm -
實施例12 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 10 μm -
實施例13 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 30 μm -
實施例14 PA 60質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 8 L7430 SBR-Lx 25質量% 42 KF-351 10質量% 3 μm 80%
實施例15 PA 80質量% Somashif MEB-3 水膨潠性合成雲母 5質量% 6 L7430 SBR-Lx 5質量% 6 KF-351 10質量% 3 μm 60%
實施例16 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 XL-006 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例17 PA 85質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 6 無 SBR-Lx 0質量% 0 KF-351 10質量% 3 μm 0%
實施例18 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 SX1503A NBR-Lx 8質量% 11 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例19 PA 75質量% 氧化鋁溶膠F-3000 氫氧化鋁 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 50%
實施例20 PVP 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 90%
實施例21 POx 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 10%
實施例22 PA 75質量% Serath 05070 氫氧化鋁 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例23 PA 75質量% TISMO N 鈦酸鉀 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 70%
實施例24 PA 75質量% 氧化鋁溶膠5N 氫氧化鋁 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 50%
比較例1 PA 80質量% 無 - 0質量% 0 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 0%
比較例2 PA 75質量% Snowtex ST-30L 氧化矽粒子 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 0%
比較例3 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 1.5 μm -
比較例4 PA 75質量% Somashif MEB-3 水膨潤性合成雲母 5質量% 7 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 40 μm -
比較例5 PVA 80質量% 無 - 0質量% 0 L7430 SBR-Lx 10質量% 13 KF-351 10質量% 3 μm 0%
比較例6 無 0質量% 無 - 0質量% 0 -    0質量% 0 無 0質量% 無 -
[表2]
   評價
針孔評價 針孔評價 [高濕度保管] 洗淨性評價 小點之印刷物再現性 油墨糊版
實施例1 5 5 5 4 3
實施例2 5 3 5 4 3
實施例3 5 3 5 4 3
實施例4 5 5 4 4 3
實施例5 5 5 5 4 1
實施例6 5 5 5 4 2
實施例7 3 4 5 3 3
實施例8 5 5 5 4 3
實施例9 5 5 5 4 3
實施例10 5 5 5 4 3
實施例11 3 4 5 3 3
實施例12 5 4 4 4 3
實施例13 5 4 3 4 2
實施例14 5 5 5 3 3
實施例15 5 4 3 4 2
實施例16 5 5 5 4 3
實施例17 5 3 3 4 3
實施例18 5 5 5 4 3
實施例19 5 4 5 3 3
實施例20 5 5 3 4 3
實施例21 5 3 5 4 3
實施例22 5 5 5 4 3
實施例23 5 5 5 4 3
實施例24 5 4 5 3 3
比較例1 1 1 2 1 3
比較例2 2 2 3 1 3
比較例3 1 1 5 2 3
比較例4 5 5 1 4 1
比較例5 1 1 2 2 3
比較例6 1 1 1 1 3
本申請係基於2018年12月10日在日本專利廳申請之日本專利申請(日本專利特願2018-230516)者，且將其內容以參照之形式併入本文。 [產業上之可利用性]
本發明之柔版印刷原版及柔版印刷版於防止版面污垢及要求亮度之印刷之領域中具有產業上之可利用性。

Claims (10)

  1. 一種柔版印刷原版，其係至少依序積層支持體、感光性樹脂組合物層、中間層及紅外線剝蝕層而成者，且上述中間層包含親水性樹脂(A)與無機層狀化合物(B)，上述中間層之膜厚為2μm以上30μm以下。
  2. 如請求項1之柔版印刷原版，其中上述中間層中，包含相對於上述親水性樹脂(A)100質量份而為0.1~20質量份之上述無機層狀化合物(B)。
  3. 如請求項1之柔版印刷原版，其中上述無機層狀化合物(B)為水膨潤性合成雲母。
  4. 如請求項2之柔版印刷原版，其中上述無機層狀化合物(B)為水膨潤性合成雲母。
  5. 如請求項1至4中任一項之柔版印刷原版，其中上述中間層進而包含水分散性乳膠(C)。
  6. 如請求項5之柔版印刷原版，其中上述中間層包含相對於上述親水性樹脂(A)100質量份而為5~45質量份之水分散性乳膠(C)。
  7. 如請求項1至4中任一項之柔版印刷原版，其中由下述式算出之上述中間層之凝膠分率為10~90%以下，凝膠分率(%)=(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100。
  8. 如請求項5之柔版印刷原版，其中由下述式算出之上述中間層之凝膠分率為10~90%以下，凝膠分率(%)=(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100。
  9. 如請求項6之柔版印刷原版，其中由下述式算出之上述中間層之凝膠分率為10~90%以下，凝膠分率(%)=(於室溫浸漬在純水中72小時之後於50℃乾燥3小時後之中間層之質量/純水浸漬前之中間層之質量)×100。
  10. 一種柔版印刷版之製造方法，其具有以下步驟：對如請求項1至9中任一項之柔版印刷原版之上述紅外線剝蝕層進行雷射剝蝕，而製作底片圖之步驟；經由上述底片圖對上述感光性樹脂組合物層選擇性地曝光之步驟；及去除上述感光性樹脂組合物層之未曝光部分之步驟。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7474875B2 (ja) 2021-01-20 2024-04-25 旭化成株式会社 フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法
WO2022181659A1 (ja) * 2021-02-25 2022-09-01 富士フイルム株式会社 フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版の製造方法
US20240152051A1 (en) * 2021-03-30 2024-05-09 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Flexographic printing raw plate and manufacturing method of flexographic printing plate
WO2023277053A1 (ja) * 2021-06-30 2023-01-05 富士フイルム株式会社 フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI297809B (zh) * 2001-10-24 2008-06-11 Toyo Boseki
US20100075260A1 (en) * 2008-09-22 2010-03-25 Tomoya Sasaki Plate making method of lithographic printing plate precursor
EP3086177A1 (en) * 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Method for preparing a lithographic printing place precursor

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5262275A (en) 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
US7736836B2 (en) * 2004-09-22 2010-06-15 Jonghan Choi Slip film compositions containing layered silicates
WO2009141930A1 (ja) * 2008-05-23 2009-11-26 東洋紡績株式会社 フレキソ印刷原版
JP4332865B1 (ja) 2008-05-23 2009-09-16 東洋紡績株式会社 フレキソ印刷原版
ES2644548T3 (es) 2009-07-30 2017-11-29 Toyobo Co., Ltd Una placa original de impresión flexográfica
US8492074B2 (en) * 2011-01-05 2013-07-23 Laurie A. Bryant Method of improving print performance in flexographic printing plates
EP3001249B1 (en) * 2011-02-28 2019-12-25 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursors and processes for preparing lithographic printing plates
JP7028560B2 (ja) 2017-01-26 2022-03-02 旭化成株式会社 フレキソ印刷版
JP7124512B2 (ja) * 2018-07-20 2022-08-24 東洋紡株式会社 感光性ｃｔｐフレキソ印刷原版

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI297809B (zh) * 2001-10-24 2008-06-11 Toyo Boseki
EP3086177A1 (en) * 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Method for preparing a lithographic printing place precursor
US20100075260A1 (en) * 2008-09-22 2010-03-25 Tomoya Sasaki Plate making method of lithographic printing plate precursor

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