TWI721880B - 雙縮距場天線量測室及其天線量測裝置 - Google Patents

Abstract

一種雙縮距場天線量測裝置包含一中繼反射鏡、一第一凹面反射鏡、一第二凹面反射鏡射鏡及一標準天線。該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的一反射點，且該標準天線所發射出的一測試電磁波是依序透過該第一凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第二凹面反射鏡傳播到達一待側天線裝置被接收。藉此，本發明透過該第一凹面反射鏡將該標準天線的測試電磁波聚焦成一點，解決了傳統縮距場技術該標準天線不是點波源的問題。

Description

雙縮距場天線量測室及其天線量測裝置

本發明是關於一種量測室及其裝置，特別是一種用於天線的量測室及其裝置。

參閱圖1，是傳統的天線縮距場量測室，其包括一金屬隔離箱11、一標準天線12及一凹面反射鏡13。

該標準天線12固定在該金屬隔離箱11內，且該標準天線12的相位中心設置在該凹面反射鏡13的光學聚焦點，一網路分析儀14輸出一電磁信號，該標準天線12接收該電磁信號並將該電磁信號轉換成一測試電磁波，該凹面反射鏡13將該測試電磁波反射到一待側通訊裝置15，以量取該待側通訊裝置14的天線相關參數。

這種傳統的天線縮距場量測室的缺點就是該標準天線12必須精準地設置在該凹面反射鏡13的焦點上，如此透過該凹面反射鏡13反射出去的才會是越趨近理想的均勻平面波，天線縮距場量測室的靜區(quiet zone)品質才能夠好而符合法規的標準。

然而，實務上任何天線都存在一個不小的體積，而不是一個點波源，因此我們必須先經過量側找到該標準天線12的一相位中心，然 後假設這個相位中心就是類似這個標準天線12的點波源，並將該標準天線12的相位中心對準該凹面反射鏡13的焦點設置，但是天線的相位中心卻不是一個固定的幾何位置點，而是會隨著天線的工作頻率、輻射切面、極化等參數而改變，特別是在寬頻範圍量側時就算設計出一支超寬頻的標準天線12以為可以不用在量側的過程中更換數支不同頻段的標準天線12，但是隨著量側頻率變化相位中心的位置也會一同變化，且相位中心偏離該凹面反射鏡13的焦點越多縮距場量側就越無法達到近似遠場量測的均勻平面波效果，因此這種傳統的天線縮距場量測並無法真正提供等同遠場量測的靜區品質。

為了解決前述的缺點，本發明提出了一種不需要將該標準天線12設置在該凹面反射鏡13的焦點的技術，從而解決傳統縮距場的該標準天線12不是一個點波源而導致靜區範圍縮小或靜區品質下降的問題。

本發明雙縮距場天線量測室包含一電波屏蔽箱、一中繼反射鏡、一第一凹面反射鏡及一第二凹面反射鏡。

該電波屏蔽箱包括一第一屏蔽板、一第二屏蔽板，及環繞連接該第一屏蔽板及該第二屏蔽板的一第三屏蔽板。

該中繼反射鏡設置在該電波屏蔽箱內的該第一屏蔽板，且該中繼反射鏡的一反射面是面向該第二屏蔽板。

該第一凹面反射鏡及一第二凹面反射鏡彼此相間隔地設置在鄰近該第二屏蔽板的位置，且該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的同一點。

該標準天線設置於在該電波屏蔽箱內，當該標準天線作為發射天線時，該標準天線所發射出的一測試電磁波是依序透過該第一凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第二凹面反射鏡到達該待側天線裝置被接收，而當該待側天線裝置作為發射天線時，該待側天線裝置所發射出的一測試電磁波是依序透過該第二凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第一凹面反射鏡到達該標準天線裝置被接收。

較佳地，該中繼反射鏡是平面鏡。

較佳地，該中繼反射鏡是凹面鏡。

較佳地，該中繼反射鏡是凸面鏡。

較佳地，該標準天線是平面陣列天線，且平貼該第一屏蔽板設置。

較佳地，該第一屏蔽板包括一用以將該待測裝置放入該電波屏蔽箱內的一蓋子或一窗戶。

較佳地，該中繼反射鏡是平面鏡，且該中繼反射鏡、該第一屏蔽板及該第二屏蔽板三者相平行。

本發明一種雙縮距場天線量測裝置，用以量測一待側天線裝置，包含一中繼反射鏡、一第一凹面反射鏡、一第二凹面反射鏡及一標準天線。該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的一反射點。該標準天線及該待側天線裝置分別位於該中繼反射鏡的兩側，且該標準天線所發射出的一測試電磁波是依序透過該第一凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第二凹面反射鏡到達該待側天線裝置被接收。

本發明一種雙縮距場天線量測裝置，用以量測一待側天線裝置，包含一中繼反射鏡、一第一凹面反射鏡、一第二凹面反射鏡及一標準天線。該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的一反射點。該標準天線及該待側天線裝置分別位於該中繼反射鏡的兩側，且該待側天線裝置所發射出的一測試電磁波是依序透過該第二凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第一凹面反射鏡到達該標準天線被接收。

本發明不是直接將該標準天線當作一個理想的點波源使用，而是將該標準天線、該第一凹面反射鏡及該中繼反射鏡三者組合取代傳統的單支標準天線，而該中繼反射鏡的反射點位置就近似一個理想的點波源位置，從而避免傳統縮距場技術該標準天線的場源不是單一點波源的問題。

11:金屬隔離箱

12:標準天線

13:凹面反射鏡

14:網路分析儀

2:待側天線裝置

3:電波屏蔽箱

31:第一屏蔽板

311:蓋子、窗戶

32:第二屏蔽板

33:第三屏蔽板

4:雙縮距場天線量測裝置

41:中繼反射鏡

42:第一凹面反射鏡

43:第二凹面反射鏡

44:標準天線

F:焦點、反射點

5:網路分析儀

圖1是一種傳統縮距場天線量測室的示意圖。

圖2是本發明雙縮距場天線量測室第一較佳實施例第一種實施態樣的示意圖。

圖3是本發明第一較佳實施例第二種實施態樣的示意圖。

圖4是本發明第一較佳實施例第三種實施態樣的示意圖。

圖5是本發明雙縮距場天線量測室第二較佳實施例的示意圖。

圖6是本發明雙縮距場天線量測室第三較佳實施例的示意 圖。

參閱圖2，本發明雙縮距場天線量測室用以量測一待側天線裝置2，本發明的第一較佳實施例包括一電波屏蔽箱3，及一設置於電波屏蔽箱3內的雙縮距場天線量測裝置4。

該電波屏蔽箱3包括一第一屏蔽板31、一第二屏蔽板32，及一環繞連接該第一屏蔽板31及該第二屏蔽板32的第三屏蔽板33。在本較佳實施例，該第二屏蔽板32平放設置於地面(圖未示出)，該第三屏蔽板33呈矩形環狀並垂直地面，但實際應用時不以此為限，該第一屏蔽板31及該第二屏蔽板32也可以垂直地面設置，並將環狀的該第三屏蔽板33的其中一面平行地面設置。

該雙縮距場天線量測裝置4包括一中繼反射鏡41、一第一凹面反射鏡42、一第二凹面反射鏡43及一標準天線44。

該中繼反射鏡41鄰近該第一屏蔽板31設置或是平貼在該第一屏蔽板31上，且該中繼反射鏡41的一反射面是面向該第二屏蔽板32。

該第一凹面反射鏡42及該第二凹面反射鏡43彼此相間隔地設置在鄰近該第二屏蔽板32的位置，且該第一凹面反射鏡42的焦點F及該第二凹面反射鏡43的焦點F共同位於該中繼反射鏡41上的一反射點F。在本較佳實施例，該中繼反射鏡41是平面鏡，但也可以是如圖3及圖4所示的凹面鏡或凸面鏡。

該標準天線44設置於在該電波屏蔽箱3內，當該標準天線44作為發射天線時，該標準天線44所發射出的一測試電磁波是依序透過該第 一凹面反射鏡42、該中繼反射鏡41、該第二凹面反射鏡43到達該待側天線裝置2被接收；而當該待側天線裝置2作為發射天線時，該待側天線裝置2所發射出的一測試電磁波是依序透過該第二凹面反射鏡43、該中繼反射鏡41、該第一凹面反射鏡42到達該標準天線44被接收。因此，只要用一台網路分析儀5的發射埠及接收埠分別電連接該標準天線44及該待側天線裝置2，就可以量得該待側天線裝置2中的天線輻射相關特性參數。

參閱圖5，是本發明第二較佳實施例的示意，第二較佳實施例與第一較佳實施例近似，差異在於：第一屏蔽板31包括一用以將該待側天線裝置2放入該電波屏蔽箱3內的一蓋子311或一窗戶311。

參閱圖6，是本發明第三較佳實施例的示意，第三較佳實施例與第一較佳實施例近似，差異在於：該中繼反射鏡41、該第一屏蔽板31及該第二屏蔽板32三者相間隔且平行。

本發明之效果在於：由於本發明中的該標準天線44不是像傳統縮距場天線量測直接當作該第二凹面反射鏡43的點波源，而是先透過該第一凹面反射鏡42將該標準天線44進行聚焦形成趨近點波源的效果，所以該中繼反射鏡41的反射點位置就近似一個理想的點波源的位置，且該中繼反射鏡41的反射點也是該第二凹面反射鏡43的第二焦點，因此該第二凹面反射鏡43到該待側天線裝置2之間的測試電磁波就能保持均勻平面波的特性，從而改善傳統縮距場技術的缺點。

惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單地等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

2:待側天線裝置

3:電波屏蔽箱

31:第一屏蔽板

32:第二屏蔽板

33:第三屏蔽板

4:雙縮距場天線量測裝置

41:中繼反射鏡

42:第一凹面反射鏡

43:第二凹面反射鏡

44:標準天線

F:焦點、反射點

5:網路分析儀

Claims (9)

1. 一種雙縮距場天線量測室，用以量測一待側天線裝置，包含：一電波屏蔽箱，包括一第一屏蔽板、一第二屏蔽板，及環繞連接該第一屏蔽板及該第二屏蔽板的一第三屏蔽板；一中繼反射鏡，設置在該電波屏蔽箱內的該第一屏蔽板，且該中繼反射鏡的一反射面是面向該第二屏蔽板；一第一凹面反射鏡及一第二凹面反射鏡，彼此相間隔地設置在鄰近該第二屏蔽板的位置，且該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的同一點；及一標準天線，設置於在該電波屏蔽箱內，當該標準天線作為發射天線時，該標準天線所發射出的一測試電磁波是依序透過該第一凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第二凹面反射鏡到達該待側天線裝置被接收，而當該待側天線裝置作為發射天線時，該待側天線裝置所發射出的一測試電磁波是依序透過該第二凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第一凹面反射鏡到達該標準天線裝置被接收。
2. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該中繼反射鏡是平面鏡。
3. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該中繼反射鏡是凹面鏡。
4. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該中繼反射鏡是凸面鏡
5. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該標準天線是平面陣列天線，且平貼該第一屏蔽板設置。
6. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該第一屏蔽板包括一用以將該待測裝置放入該電波屏蔽箱內的一蓋子或一窗戶。
7. 根據申請專利範圍第1項之雙縮距場天線量測室，其中該中繼反射鏡是平面鏡，且該中繼反射鏡、該第一屏蔽板及該第二屏蔽板三者相間隔平行。
8. 一種雙縮距場天線量測裝置，用以量測一待側天線裝置，包含：一中繼反射鏡；一第一凹面反射鏡及一第二凹面反射鏡，該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的一反射點；及一標準天線，該標準天線及該待側天線裝置分別位於該中繼反射鏡的兩側，且該標準天線所發射出的一測試電磁波是依序透過該第一凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第二凹面反射鏡到達該待側天線裝置被接收。
9. 一種雙縮距場天線量測裝置，用以量測一待側天線裝置，包含：一中繼反射鏡；一第一凹面反射鏡及一第二凹面反射鏡，該第一凹面反射鏡的焦點及該第二凹面反射鏡的焦點共同位於該中繼反射鏡上的一反射點；及一標準天線，該標準天線及該待側天線裝置分別位於該中繼反射鏡的兩側，且該待側天線裝置所發射出的一測試電磁波是依序透過該第二凹面反射鏡、該中繼反射鏡、該第一凹面反射鏡到達該標準天線被接收。

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