TWI707180B - 對向基板 - Google Patents

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TWI707180B
TWI707180B TW108140714A TW108140714A TWI707180B TW I707180 B TWI707180 B TW I707180B TW 108140714 A TW108140714 A TW 108140714A TW 108140714 A TW108140714 A TW 108140714A TW I707180 B TWI707180 B TW I707180B
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Abstract

一種對向基板，其包括基板、多個第一遮光圖案、多個第二遮光圖案、平坦層以及多個支撐件。多個支撐件位於對向基板的多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中。多個第一遮光圖案分別沿第一方向延伸，其中多個第一遮光圖案的材料包括有機材料。多個第二遮光圖案分別沿第二方向延伸，其中多個第二遮光圖案的材料包括金屬。多個第一遮光圖案與多個第二遮光圖案分別位於平坦層的相對側。或者，多個第一遮光圖案與多個第二遮光圖案位於平坦層的同一側，且平坦層具有分別與位於多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊的多個開口。

Description

對向基板
本發明是有關於一種對向基板，且特別是有關於一種適用於顯示器的對向基板。
隨著科技的進步，具有高解析度之顯示器的需求越來越高。以頭戴式顯示器(Head Mounted Display,HMD)為例，其利用透鏡組將顯示畫面投射至人眼中，讓使用者看到放大的虛像。為了達到虛擬實境(Virtual Reality,VR)的沉浸感並提升影像的細緻度，頭戴式顯示器的解析度需要達到1000 PPI(Pixel Per Inch)以上。然而，受限於目前的製程技術、製程極限及材料本身特性，顯示器中對向基板的遮光圖案可能隨著解析度的增加而製作不良，並產生遮光能力不足、混光及開口率不足等問題。
本發明提供一種對向基板，其可改善遮光能力不足、混光及開口率不足等問題。
本發明的一種對向基板，其適用於顯示器。對向基板包 括基板、多個第一遮光圖案、多個第二遮光圖案、平坦層以及多個支撐件。多個第一遮光圖案位於基板上且分別沿第一方向延伸，其中多個第一遮光圖案的材料包括有機材料。多個第二遮光圖案位於基板上且與多個第一遮光圖案交錯。多個第二遮光圖案分別沿第二方向延伸，且多個第二遮光圖案的材料包括金屬。平坦層與多個第一遮光圖案以及多個第二遮光圖案重疊。多個第一遮光圖案與多個第二遮光圖案分別位於平坦層的相對側或位於平坦層的同一側。多個支撐件位於對向基板的多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中。當多個第一遮光圖案與多個第二遮光圖案位於平坦層的同一側時，平坦層具有分別與位於多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊的多個開口。
在本發明的一實施例中，多個支撐件具有相同的厚度。
在本發明的一實施例中，金屬為低反射金屬。
在本發明的一實施例中，多個第一遮光圖案對應顯示器的主動元件陣列基板中的多條掃描線設置，且多個第二遮光圖案對應主動元件陣列基板中的多條資料線設置。
在本發明的一實施例中，多個第一遮光圖案位於平坦層與基板之間。平坦層位於多個支撐件與多個第一遮光圖案之間。多個支撐件位於多個第二遮光圖案與平坦層之間。
在本發明的一實施例中，多個第一遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。多個第二遮光圖案與位於多個主要支撐區域中的多個支撐件重疊，且 多個第二遮光圖案位於多個次要支撐區域中的多個支撐件之外。
在本發明的一實施例中，多個第二遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。多個第一遮光圖案與位於多個主要支撐區域中的多個支撐件重疊，且多個第一遮光圖案位於多個次要支撐區域中的多個支撐件之外。
在本發明的一實施例中，多個第一遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。平坦層具有分別與位於多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊的多個開口。多個第二遮光圖案位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件之外。
在本發明的一實施例中，多個第二遮光圖案位於多個第一遮光圖案與基板之間。多個第一遮光圖案位於平坦層與多個第二遮光圖案之間。平坦層位於多個支撐件與多個第一遮光圖案之間。
在本發明的一實施例中，多個第二遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。多個第一遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。
在本發明的一實施例中，多個第二遮光圖案位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件之外。多個第一遮光圖案與位於多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊。
在本發明的一實施例中，對向基板更包括彩色濾光圖案層。彩色濾光圖案層位於第一遮光圖案與平坦層之間。當平坦層具有分別與位於多個次要支撐區域中的多個支撐件重疊的多個開口，位於多個次要支撐區域中的多個支撐件設置在與多個開口重疊的彩色濾光圖案層上。
在本發明的一實施例中，對向基板更包括多個觸控電極。多個觸控電極設置於多個第一遮光圖案上，其中多個觸控電極與多個第二遮光圖案交錯。
在本發明的一實施例中，上述的多個第一遮光圖案設置於多個觸控電極多個第二遮光圖案之間。
在本發明的一實施例中，上述的平坦層設置於多個觸控電極與多個第二遮光圖案之間。
基於上述，在本發明的實施例中，對向基板利用多個第二遮光圖案來遮蔽顯示器中不欲被使用者看到的元件(例如顯示器中主動元件陣列基板的多條資料線)，且沿不同方向延伸的多個第一遮光圖案以及多個第二遮光圖案分次製作於基板上而彼此交錯。因此，相較於僅利用色阻的堆疊來遮光，本發明實施例的對向基板可具有較佳的遮光能力，且可改善混光的問題。此外，本發明實施例的對向基板可避免發生因光罩之邊緣轉角的曝光問題所造成的開口率不足的問題。另外，當多個第一遮光圖案以及多個第二遮光圖案位於平坦層的相對側時，可利用平坦層在多個次要支撐區域中的多個開口來形成多個主要支撐區域與多個次要支 撐區域之間的高低斷差。如此，位於多個主要支撐區域與多個次要支撐區域上的多個支撐件可選用具有相同厚度的支撐件。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
10、10A、10B、10C、10D、10E、10F、10G:對向基板
100:基板
110、110A:第一遮光圖案
120:彩色濾光圖案層
121:第一濾光圖案
122:第二濾光圖案
123:第三濾光圖案
130、130B:平坦層
140:支撐件
140A、140A1:主要支撐件
140A2:次要支撐件
150、150A、150B、150D:第二遮光圖案
161、162:觸控電極
D1:第一方向
D2:第二方向
IF:交界處
O:開口
R1:主要支撐區域
R2:次要支撐區域
S1、S2:距離
T140、T140A:厚度
W140、W140A:寬度
X:高低斷差
I-I’、II-II’、III-III’、IV-IV’、V-V’、VI-VI’:剖線
圖1A至圖1E是依照本發明的第一實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。
圖2是圖1E中剖線I-I’的剖面示意圖。
圖3A及圖3B是依照本發明的第二實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。
圖4是圖3B中剖線II-II’的剖面示意圖。
圖5A至圖5C是依照本發明的第三實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。
圖6是圖4C中剖線III-III’的剖面示意圖。
圖7A至圖7E是依照本發明的第四實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。
圖8是圖7E中剖線IV-IV’的剖面示意圖。
圖9是依照本發明的第五實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。
圖10是第五實施例的對向基板的局部剖面示意圖。
圖11A至圖11F是依照本發明的第六實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。
圖12是圖11F中剖線V-V’的剖面示意圖。
圖13A至圖13F是依照本發明的第七實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。
圖14是圖13F中剖線VI-VI’的剖面示意圖。
圖15是依照本發明的第八實施例的一種對向基板的剖面示意圖。
現將詳細地參考本發明的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。
實施方式中所提到的方向用語，例如：「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明，而並非用來限制本發明。在附圖中，各圖式繪示的是特定實施例中所使用的方法、結構及/或材料的通常性特徵。然而，這些圖式不應被解釋為界定或限制由這些實施例所涵蓋的範圍或性質。舉例來說，為了清楚起見，各膜層、區域及/或結構的相對尺寸、厚度及位置可能縮小或放大。應當理解，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件「上」或「連接到」另一元件時，其可以直接在另一元件上或與另一元件連接， 或者中間元件可以也存在。相反，當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到」另一元件時，不存在中間元件。如本文所使用的，「連接」可以指物理及/或電性連接。再者，「電性連接」或「耦合」係可為二元件間存在其它元件。
在實施方式所列舉的多個實施例中，相同或相似的元件將採用相同或相似的標號，且將省略其贅述。此外，不同實施例中的特徵在沒有衝突的情況下可相互組合，且依本說明書或申請專利範圍所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本專利涵蓋之範圍內。另外，本說明書或申請專利範圍中提及的「第一」、「第二」等用語僅用以命名分立(discrete)的元件或區別不同實施例或範圍，而並非用來限制元件數量上的上限或下限，也並非用以限定元件的製造順序或設置順序。
本文使用的「約」、「近似」、或「實質上」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值，考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即，測量系統的限制)。例如，「約」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內，或±30%、±20%、±10%、±5%內。再者，本文使用的「約」、「近似」或「實質上」可依光學性質、蝕刻性質或其它性質，來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差，而可不用一個標準偏差適用全部性質。
在下述實施例中，對向基板適用於顯示器。以液晶顯示器為例，對向基板可與一主動元件陣列基板結合，且對向基板與 主動元件陣列基板之間可形成液晶層，以提供顯示畫面。主動元件陣列基板及液晶層的相關說明可參照已知技術，於此不多加限制。
圖1A至圖1E是依照本發明的第一實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。圖2是圖1E中剖線I-I’的剖面示意圖。
請參照圖1A及圖2，於基板100上形成多個第一遮光圖案110。多個第一遮光圖案110分別沿第一方向D1延伸，且多個第一遮光圖案110沿第二方向D2間隔排列。第一方向D1與第二方向D2相交。舉例來說，第一方向D1與第二方向D2彼此垂直，但不以此為限。
多個第一遮光圖案110可用於遮蔽顯示器中不欲被使用者看到的元件及/或膜層。舉例來說，多個第一遮光圖案110可設計成遮蔽顯示器(未繪示)的主動元件陣列基板(未繪示)中的多條掃描線及多個主動元件等元件。由於多條掃描線及多個主動元件占據的面積相對大，因此多個第一遮光圖案110可採用有機材料製作。所述有機材料可包括黑色樹脂，但不以此為限。
在本實施例中，多個第一遮光圖案110也可用於遮蔽漏光。詳細來說，在傳統的液晶顯示器中，對向基板通常會設置有厚度較大的多個主要支撐件來維持對向基板與主動元件陣列基板之間的液晶盒間隙(cell gap)，且對向基板會設置有厚度較小的多個次要支撐件，這些次要支撐件在液晶顯示器未被按壓時不會接 觸主動元件陣列基板，但在液晶顯示器被按壓時接觸主動元件陣列基板，以提供適當的支撐性。在液晶顯示器被按壓時，所述多個主要支撐件以及所述多個次要支撐件可能會位移而導致所述多個主要支撐件的所在區域(以下稱作主要支撐區域)以及所述多個次要支撐件的所在區域(以下稱作次要支撐區域)產生漏光。此外，所述多個主要支撐件以及所述多個次要支撐件可能影響其附近的液晶分子的排列(傾倒的方向及角度)而造成漏光。在本實施例中，可藉由多個第一遮光圖案110覆蓋多個主要支撐區域R1(圖1A僅示意性繪示出一個主要支撐區域)以及多個次要支撐區域R2，例如完全覆蓋多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2，以較佳地遮蔽因支撐件移位以及液晶分子的傾倒方向及/或角度不佳等因素所產生的漏光。
請先參見圖1D，主要支撐區域R1的面積可設計成大於位於主要支撐區域R1中的支撐件140的面積，且主要支撐區域R1的邊緣與所述支撐件140的邊緣保持距離S1。距離S1的大小可取決於漏光的範圍及/或程度。另一方面，次要支撐區域R2的面積可設計成大於位於次要支撐區域R2中的支撐件140的面積，且次要支撐區域R2的邊緣與所述支撐件140的邊緣保持距離S2。距離S2的大小可取決於漏光的範圍及/或程度。
請參照圖1B及圖2，於基板100及多個第一遮光圖案110上形成彩色濾光圖案層120。彩色濾光圖案層120讓特定波長光束通過且濾除所述特定波長以外的光束，使顯示器能夠提供彩色的 影像畫面。
在本實施例中，彩色濾光圖案層120包括多個第一濾光圖案121、多個第二濾光圖案122以及多個第三濾光圖案123。這些濾光圖案沿第一方向D1交替地排列，且這些濾光圖案分別沿第二方向D2延伸。任兩相鄰的濾光圖案在兩者的交界處IF可不重疊(圖2繪示出不重疊的情況)或重疊。第一濾光圖案121例如是讓紅色光束通過且過濾(吸收)其他顏色光束的紅色濾光圖案。第二濾光圖案122例如是讓綠色光束通過且過濾其他顏色光束的綠色濾光圖案。第三濾光圖案123例如是讓藍色光束通過且過濾其他顏色光束的藍色濾光圖案。然而，彩色濾光圖案層120中的濾光圖案的顏色種類、顏色數量以及這些濾光圖案之間的相對設置關係不限於圖1B所顯示的。
另外，當顯示器的主動元件陣列基板形成有彩色濾光圖案層時，對向基板的製造流程可省略圖1B的步驟。也就是說，對向基板可不包括彩色濾光圖案層120。
請參照圖1C及圖2，於彩色濾光圖案層120上形成平坦層130。在本實施例中，平坦層130是一連續膜層，且平坦層130全面地覆蓋彩色濾光圖案層120。平坦層130除了可保護彩色濾光圖案層120(例如防止彩色濾光圖案層120受溼氣而變質)之外，還可提供相對平坦的表面，以便於其後膜層及/或元件(如圖1D所示的多個支撐件140)的設置。然而，平坦層130並不限於提供一全平面，且平坦層130通常可具有粗糙及/或非線性特徵。
請參照圖1D及圖2，於平坦層130上形成多個支撐件140。多個支撐件140位於對向基板的多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中。在本實施例中，每一個主要支撐區域R1中設置有一個支撐件140，且每一個次要支撐區域R2中設置有一個支撐件140。此外，如圖1D所示，多個支撐件140可具有相同的寬度W140。換句話說，位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140可具有相同的寬度W140。另外，如圖2所示，多個支撐件140可具有相同的厚度T140。換句話說，位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140可具有相同的厚度T140。
請參照圖1E及圖2，於平坦層130上形成多個第二遮光圖案150。多個第二遮光圖案150分別沿第二方向D2延伸，且多個第二遮光圖案150沿第一方向D1間隔排列。
多個第二遮光圖案150可用於遮蔽顯示器中不欲被使用者看到的元件及/或膜層。舉例來說，多個第二遮光圖案150可設計成遮蔽顯示器的主動元件陣列基板中的多條資料線(對應任兩相鄰的濾光圖案在兩者的交界處IF)。由於多條資料線占據的面積相對小，因此多個第二遮光圖案150可採用金屬製作，以具有較佳的製程精度。所述金屬例如為低反射金屬。所述低反射金屬可包括金屬、金屬氧化物以及上述兩者的疊層。換句話說，第二遮光圖案150可以是單層或是相互堆疊的多層。舉例來說，低反射金屬可包括鉻金屬、鉻金屬氧化物以及上述兩者的疊層，但不以 此為限。
在本實施例中，多個第二遮光圖案150也可用於提供多個主要支撐區域R1與多個次要支撐區域R2之間的高低斷差X。詳細來說，如圖2所示，在主要支撐區域R1與次要支撐區域R2皆設置有第一遮光圖案110、彩色濾光圖案層120、平坦層130以及支撐件140，且位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140具有相同的厚度T140的架構下，可藉由在主要支撐區域R1中形成第二遮光圖案150且不在次要支撐區域R2中形成第二遮光圖案150，來形成主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X。在此設計下，多個第二遮光圖案150與位於多個主要支撐區域R1中的多個支撐件140重疊，多個第二遮光圖案150位於多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140之外，且高低斷差X約為位於主要支撐區域R1中的支撐件140上的第二遮光圖案150的厚度。
所述第二遮光圖案150與位於主要支撐區域R1中的支撐件140重疊的設計例如可以包括：第二遮光圖案150覆蓋位於主要支撐區域R1中的支撐件140的頂面(未標示；指支撐件140背對平坦層130的表面)並包覆支撐件140的側壁面(未標示)，且第二遮光圖案150覆蓋(例如完全覆蓋)主要支撐區域R1，但不以此為限。此外，所述第二遮光圖案150位於次要支撐區域R2中的支撐件140之外的設計例如可以包括：第二遮光圖案150不覆蓋位於次要支撐區域R2中的支撐件140的頂面且不包覆支撐件 140的側壁面，且第二遮光圖案150不覆蓋次要支撐區域R2，但不以此為限。
在上述架構下，位於主要支撐區域R1中的支撐件140及其上的第二遮光圖案150可作為用於維持液晶盒間隙的主要支撐件140A，而位於次要支撐區域R2中的支撐件140作為用於在按壓時提供適當支撐性的次要支撐件。在本實施例中，如圖1E及圖2所示，由於主要支撐件140A由支撐件140及其上的第二遮光圖案150共同構成，而次要支撐件僅由支撐件140構成，因此主要支撐件140A的寬度W140A大於次要支撐件的寬度(即支撐件140的寬度W140)，且主要支撐件140A的厚度T140A大於次要支撐件的厚度(即支撐件140的厚度T140)。
在圖1E的步驟後，即初步完成圖2所示的對向基板10。對向基板10包括基板100、多個第一遮光圖案110、多個第二遮光圖案150、平坦層130以及多個支撐件140。多個第一遮光圖案110位於基板100上且分別沿第一方向D1(參照圖1E)延伸，其中多個第一遮光圖案110的材料包括有機材料。多個第二遮光圖案150位於基板100上且與多個第一遮光圖案110交錯。多個第二遮光圖案150分別沿第二方向D2延伸(參照圖1E)，且多個第二遮光圖案150的材料包括金屬。平坦層130與多個第一遮光圖案110以及多個第二遮光圖案150重疊。多個第一遮光圖案110與多個第二遮光圖案150分別位於平坦層130的相對側。多個支撐件140位於對向基板10的多個主要支撐區域R1以及多個次要 支撐區域R2上。此外，如同前述，對向基板10可選擇性包括彩色濾光圖案層120。彩色濾光圖案層120位於第一遮光圖案110與平坦層130之間。
在本實施例中，多個第一遮光圖案110位於平坦層130與基板100之間。平坦層130位於多個支撐件140與多個第一遮光圖案110之間。多個支撐件140位於多個第二遮光圖案150與平坦層130之間。此外，多個第一遮光圖案110與位於多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140重疊。另外，多個第二遮光圖案150與位於多個主要支撐區域R1中的多個支撐件140重疊，且多個第二遮光圖案150位於多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140之外。
在對向基板10中，多個第二遮光圖案150可用於遮蔽顯示器中不欲被使用者看到的元件(例如顯示器中主動元件陣列基板的多條資料線)。因此，相較於僅利用色阻的堆疊來遮光，對向基板10可具有較佳的遮光能力，且可改善混光的問題。此外，以網格狀光罩製作網格狀遮光圖案容易因光罩之邊緣轉角的曝光問題(光的繞射及干涉)而造成開口率不足。例如，在高解析度下，由網格狀光罩製作形成的遮光圖案的邊緣轉角容易有嚴重的圓角(rounding)問題。相較之下，在對向基板10中，沿不同方向延伸的多個第一遮光圖案110以及多個第二遮光圖案150是分次製作於基板110上而彼此交錯。因此，可避免因前述圓角問題造成的開口率不足。另外，在對向基板10中，可藉由第二遮光圖案150 來提供主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X。因此，位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140可具有相同的厚度T140。相較於選用具有不同厚度的支撐件作為主要支撐件及次要支撐件，選用具有相同厚度的支撐件有助於降低挑選支撐件的難度。
圖3A及圖3B是依照本發明的第二實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。圖4是圖3B中剖線II-II’的剖面示意圖。
第二實施例的對向基板10A的製造流程與第一實施例的對向基板10的製造流程的主要差異在於：以圖3A所示的步驟取代圖1A所示的步驟，且以圖3B所示的步驟取代圖1E所示的步驟。也就是說，對向基板10A的製造流程依序為：形成多個第一遮光圖案110A(圖3A)、形成彩色濾光圖案層120(圖1B)、形成平坦層130(圖1C)、形成多個支撐件140(圖1D)以及形成多個第二遮光圖案150A(圖3B)。應說明的是，為清楚顯示出多個第一遮光圖案110A與多個支撐件140之間的相對設置關係，因此圖3A以細虛線標示出多個支撐件140的設置位置，但多個支撐件140在圖3A的步驟中尚未形成於基板100上。
請參照圖3A及圖4，多個第一遮光圖案110A與圖1A及圖2中的多個第一遮光圖案110的主要差異在於：多個第一遮光圖案110A與位於多個主要支撐區域R1中的多個支撐件140重疊，且多個第一遮光圖案110A位於多個次要支撐區域R2中的多 個支撐件140之外。
所述第一遮光圖案110A與位於主要支撐區域R1中的支撐件140重疊的設計例如可以包括：第一遮光圖案110A覆蓋主要支撐區域R1，例如完全覆蓋主要支撐區域R1。如此，位於主要支撐區域R1處的第一遮光圖案110A可較佳地遮蔽因支撐件移位以及液晶分子的傾倒方向及/或角度不佳等因素所產生的漏光。此外，所述第一遮光圖案110A位於次要支撐區域R2中的支撐件140之外的設計例如可以包括：第一遮光圖案110A不與次要支撐區域R2中的支撐件140重疊，或是不與次要支撐區域R2中的任何元件重疊(即不與次要支撐區域R2重疊)，但不以此為限。
請參照圖3B及圖4，多個第二遮光圖案150A與圖1E及圖2中的多個第二遮光圖案150的主要差異在於：多個第二遮光圖案150A與位於多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140重疊。
所述第二遮光圖案150A與位於主要支撐區域R1中的支撐件140重疊的設計例如可以包括：第二遮光圖案150A覆蓋位於主要支撐區域R1中的支撐件140的頂面並包覆支撐件140的側壁面，且第二遮光圖案150A覆蓋(例如完全覆蓋)主要支撐區域R1，但不以此為限。此外，所述第二遮光圖案150A與位於次要支撐區域R2中的支撐件140重疊的設計例如可以包括：第二遮光圖案150A覆蓋位於次要支撐區域R2中的支撐件140的頂面並包覆支撐件140的側壁面，且第二遮光圖案150A覆蓋(例如完全覆蓋) 次要支撐區域R2，但不以此為限。
在第一實施例中，如圖2所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由第二遮光圖案150提供。在本實施例中，如圖4所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由第一遮光圖案110A提供。詳細來說，在主要支撐區域R1與次要支撐區域R2皆設置有彩色濾光圖案層120、平坦層130、支撐件140以及第二遮光圖案150A，且位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140具有相同的厚度T140(參照圖2)的架構下，可藉由在主要支撐區域R1中形成第一遮光圖案110A且不在次要支撐區域R2中形成第一遮光圖案110A，來形成主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X，且高低斷差X約為位於主要支撐區域R1中的第一遮光圖案110A的厚度。
在上述架構下，位於主要支撐區域R1中的支撐件140及其上的第二遮光圖案150A可作為用於維持液晶盒間隙的主要支撐件140A1，且位於次要支撐區域R2中的支撐件140及其上的第二遮光圖案150A可作為用於在按壓時提供適當支撐性的次要支撐件140A2。在本實施例中，如圖3B及圖4所示，由於主要支撐件140A1以及次要支撐件140A2個自皆由支撐件140及其上的第二遮光圖案150共同構成，因此主要支撐件140A1及次要支撐件140A2具有大致相同的寬度(未標示)及大致相同的厚度(未標示)。
圖5A至圖5C是依照本發明的第三實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。圖6是圖4C中剖線III-III’的剖面示意圖。
第三實施例的對向基板10B的製造流程與第一實施例的對向基板10的製造流程的主要差異在於：以圖5A至圖5C所示的步驟取代圖1C至圖1E所示的步驟。也就是說，對向基板10B的製造流程依序為：形成多個第一遮光圖案110(圖1A)、形成彩色濾光圖案層120(圖1B)、形成平坦層130B(圖5A)、形成多個支撐件140(圖5B)以及形成多個第二遮光圖案150B(圖5C)。
請參照圖5A及圖6，平坦層130B與圖1C及圖2中的平坦層130的主要差異在於：平坦層130B具有分別與位於多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140重疊的多個開口O。這些開口O暴露出位於平坦層130B下的彩色濾光圖案層120。在本實施例中，每一個開口O的面積大致相同於次要支撐區域R2的面積，但不以此為限。
請參照圖5B及圖6，在多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中設置多個支撐件140。在主要支撐區域R1處，支撐件140設置在平坦層130B上。另一方面，在次要支撐區域R2處，支撐件140位於被開口O暴露出來的彩色濾光圖案層120上。
請參照圖5C及圖6，多個第二遮光圖案150B與圖1E及圖2中的多個第二遮光圖案150的主要差異在於：多個第二遮光 圖案150B位於多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140之外。所述第二遮光圖案150B位於主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2中的支撐件140之外的設計例如可以包括：第二遮光圖案150B不與主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2中的支撐件140重疊，或是完全不與主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2重疊，但不以此為限。
在第一實施例中，如圖2所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由第二遮光圖案150提供。在本實施例中，如圖6所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由平坦層130B提供。詳細來說，在主要支撐區域R1與次要支撐區域R2皆設置有第一遮光圖案110、彩色濾光圖案層120以及支撐件140，且位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140具有相同的厚度T140(參照圖2)的架構下，可藉由在次要支撐區域R2中形成平坦層130B的開口O(即移除位於次要支撐區域R2中的平坦層130B)，來形成主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X，且高低斷差X約為平坦層130B在主要支撐區域R1中的厚度。
在上述架構下，位於主要支撐區域R1中的支撐件140作為用於維持液晶盒間隙的主要支撐件，且位於次要支撐區域R2中的支撐件140作為用於在按壓時提供適當支撐性的次要支撐件。在本實施例中，如圖5C及圖6所示，由於主要支撐件及次要支撐 件各自皆由支撐件140構成，因此主要支撐件及次要支撐件具有相同的寬度(未標示)及相同的厚度(未標示)。
圖7A至圖7E是依照本發明的第四實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。圖8是圖7E中剖線IV-IV’的剖面示意圖。
第四實施例的對向基板10C的製造流程與第一實施例的對向基板10的製造流程的主要差異在於多個膜層的製造順序。具體地，對向基板10C的製造流程依序為：形成多個第二遮光圖案150A(圖7A)、形成多個第一遮光圖案110(圖7B)、形成彩色濾光圖案層120(圖7C)、形成平坦層130B(圖7D)以及形成多個支撐件140(圖7E)。根據上述製造流程，多個第二遮光圖案150A位於多個第一遮光圖案110與基板100之間。多個第一遮光圖案110位於平坦層130B與多個第二遮光圖案150A之間。平坦層130B位於多個支撐件140與多個第一遮光圖案110之間。在本實施例中，對向基板10C也可選擇性包括彩色濾光圖案層120，且彩色濾光圖案層120位於多個第一遮光圖案110與平坦層130B之間。
多個第二遮光圖案150A的相關描述請參照圖3B的說明，於此不再重述。多個第一遮光圖案110的相關描述請參照圖1A的說明，於此不再重述。彩色濾光圖案層120的相關描述請參照圖1B的說明，於此不再重述。平坦層130B的相關描述請參照圖5A的說明，於此不再重述。多個支撐件140的相關描述請參照圖5B的說明，於此不再重述。
在本實施例中，如圖8所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由平坦層130B提供。詳細來說，在主要支撐區域R1與次要支撐區域R2皆設置有第二遮光圖案150A、第一遮光圖案110、彩色濾光圖案層120以及支撐件140，且位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140具有相同的厚度T140(參照圖2)的架構下，可藉由在次要支撐區域R2中形成平坦層130B的開口O(即移除位於次要支撐區域R2中的平坦層130B)，來形成主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X，且高低斷差X約為平坦層130B在主要支撐區域R1中的厚度。
在上述架構下，位於主要支撐區域R1中的支撐件140作為用於維持液晶盒間隙的主要支撐件，且位於次要支撐區域R2中的支撐件140作為用於在按壓時提供適當支撐性的次要支撐件。在本實施例中，如圖7E及圖8所示，由於主要支撐件及次要支撐件各自皆由支撐件140構成，因此主要支撐件及次要支撐件具有相同的寬度(未標示)及相同的厚度(未標示)。
圖9是依照本發明的第五實施例的一種對向基板的部分製造流程的局部上視示意圖。圖10是第五實施例的對向基板的局部剖面示意圖。
第五實施例的對向基板10D的製造流程與第四實施例的對向基板10C的製造流程的主要差異在於：以圖9所示的步驟取代圖7A所示的步驟。也就是說，對向基板10D的製造流程依序 為：形成多個第二遮光圖案150D(圖9)、形成多個第一遮光圖案110(圖7B)、形成彩色濾光圖案層120(圖7C)、形成平坦層130B(圖7D)以及形成多個支撐件140(圖7E)。應說明的是，為清楚顯示出多個第二遮光圖案150D與多個支撐件140之間的相對設置關係，因此圖9以細虛線標示出多個支撐件140的設置位置，但多個支撐件140在圖9的步驟中尚未形成於基板100上。
請參照圖9及圖10，多個第二遮光圖案150D與圖7A及圖8中的多個第二遮光圖案150A的主要差異在於：多個第二遮光圖案150A位於多個主要支撐區域R1以及多個次要支撐區域R2中的多個支撐件140之外。所述第二遮光圖案150D位於主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2中的支撐件140之外的設計例如可以包括：第二遮光圖案150D不與主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2中的支撐件140重疊，或是完全不與主要支撐區域R1以及次要支撐區域R2重疊，但不以此為限。
在本實施例中，如圖10所示，主要支撐區域R1與次要支撐區域R2之間的高低斷差X主要由平坦層130B提供。詳細來說，在主要支撐區域R1與次要支撐區域R2皆設置有第一遮光圖案110、彩色濾光圖案層120以及支撐件140，且位於主要支撐區域R1中的支撐件140與位於次要支撐區域R2中的支撐件140具有相同的厚度T140(參照圖2)的架構下，可藉由在次要支撐區域R2中形成平坦層130B的開口O(即移除位於次要支撐區域R2中的平坦層130B)，來形成主要支撐區域R1與次要支撐區域R2 之間的高低斷差X，且高低斷差X約為平坦層130B在主要支撐區域R1中的厚度。
在上述架構下，位於主要支撐區域R1中的支撐件140作為用於維持液晶盒間隙的主要支撐件，且位於次要支撐區域R2中的支撐件140作為用於在按壓時提供適當支撐性的次要支撐件。在本實施例中，如圖10所示，由於主要支撐件及次要支撐件各自皆由支撐件140構成，因此主要支撐件及次要支撐件具有相同的寬度(未標示)及相同的厚度(未標示)。
圖11A至圖11F是依照本發明的第六實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。圖12是圖11F中剖線V-V’的剖面示意圖。
應說明的是，為清楚顯示出多個第二遮光圖案150A與多個支撐件140之間的相對設置關係，因此圖11A以細虛線標示出多個支撐件140的設置位置，但多個支撐件140在圖11A的步驟中尚未形成於基板100上。
第六實施例的對向基板10E的製造流程與第四實施例的對向基板10C的製造流程類似，兩者的主要差異是，對向基板10E的製造流程更包括：於多個第一遮光圖案110上形成多個第二觸控電極162，以下配合圖11A至圖11F及圖12具體說明之。
請參照圖11A至圖11F及圖12，對向基板10E的製造流程依序為：形成多個第二遮光圖案150A(圖11A)、形成多個第一遮光圖案110(圖11B)、形成多個第二觸控電極162(圖11C)、 形成彩色濾光圖案層120(圖11D)、形成平坦層130B(圖11E)以及形成多個支撐件140(圖11F)。
根據上述製造流程，如圖12所示，多個第二遮光圖案150A位於多個第一遮光圖案110與基板100之間。多個觸控電極162設置於多個第一遮光圖案110上。多個第一遮光圖案110位於多個觸控電極162與多個第二遮光圖案150A之間。多個觸控電極162位於平坦層130B與多個第一遮光圖案110之間。平坦層130B位於多個支撐件140與多個觸控電極162之間。
在本實施例中，觸控電極162例如是透明導電層，其包括金屬氧化物，例如：銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。然而，本發明不限於此，根據其它實施例，觸控電極162也可使用其它導電材料製作。
在本實施例中，對向基板10E也可選擇性包括彩色濾光圖案層120，且彩色濾光圖案層120可選擇性地位於多個觸控電極162與平坦層130B之間。然而，本發明不限於此，根據其它實施例，彩色濾光圖案層120也可設置於其它適當位置；舉例而言，於另一實施例中，觸控電極162也可形成在彩色濾光圖案層120上，而彩色濾光圖案層120也可位於多個觸控電極162與多個第一遮光圖案110之間。
請參照圖11C、圖11F及圖12，值得一提的是，在本實施例中，包括金屬的多個第二遮光圖案150A的至少一部分可做為 多個觸控電極161使用，其中多個觸控電極161與多個觸控電極162交錯。多個觸控電極161與多個觸控電極162可組成觸控感測元件。舉例而言，觸控電極161與觸控電極162的一者可做為傳輸圖案(Tx)使用，而觸控電極161與觸控電極162的另一者可做為接收圖案(Rx)使用。藉此，對向基板10E除了具有前述對向基板10C的優點外，還具有觸控功能。
包括對向基板10E的顯示器除了具有顯示功能之外，還具有觸控功能。請參照圖11C及圖12，舉例而言，在本實施例中，所述顯示器的觸控解析度可小於所述顯示器的顯示解析度，一些第一遮光圖案110上設有觸控電極162，且另外的一些第一遮光圖案110上無設置觸控電極162。然而，本發明不以此為限，在其它實施例中，若觸控解析度提高，也可能於每一第一遮光圖案110上均設置對應的觸控電極162。
請參照圖11A、圖11B及圖12，在本實施例中，第二遮光圖案150A之與支撐件140重疊且近似於圓形的區域和第二遮光圖案150A之與第一遮光圖案110交錯的條狀區域可以選擇性地不斷開而彼此連接。但本發明不限於此，在其它實施例中，第二遮光圖案150A之與支撐件140重疊且近似於圓形的區域和第二遮光圖案150A之與第一遮光圖案110交錯的條狀區域也可以斷開，與近似圓形區域斷開的第二遮光圖案150A的條狀區域可不做為觸控電極161使用，此外，上述斷開處可以不規則地排列，以避免人眼察覺之，減少採用對向基板10E的顯示器產生顯示不良 (Mura)。
請參照圖11A、圖11C及圖12，在本實施例中，第一遮光圖案110位於互相交錯的多個觸控電極161與多個觸控電極162之間，而第一遮光圖案110可做為多個觸控電極161與多個觸控電極162之間的絕緣層使用。然而，本發明不限於此，根據其它實施例，也可利用其它膜層做為兩種觸控電極161、162之間的絕緣層，以下配合圖13A至圖13F及圖14舉例說明之。
圖13A至圖13F是依照本發明的第七實施例的一種對向基板的製造流程的局部上視示意圖。圖14是圖13F中剖線VI-VI’的剖面示意圖。
應說明的是，為清楚顯示出多個第一遮光圖案110A與多個支撐件140之間的相對設置關係，因此圖13A以細虛線標示出多個支撐件140的設置位置，但多個支撐件140在圖13A的步驟中尚未形成於基板100上。
第七實施例的對向基板10F的製造流程與第二實施例的對向基板10A的製造流程類似，兩者的主要差異是，對向基板10F的製造流程更包括：於多個第一遮光圖案110A上形成多個觸控電極162，以下配合圖13A至圖13F及圖14具體說明之。
請參照圖13A至圖13F及圖14，對向基板10F的製造流程依序為：形成多個第一遮光圖案110A(圖13A)、形成多個觸控電極162(圖13B)、形成彩色濾光圖案層120(圖13C)、形成平坦層130(圖13D)、形成多個支撐件140(圖13E)以及形成多 個第二遮光圖案150A(圖13F)。
根據上述製造流程，如圖14所示，多個第一遮光圖案110A位於觸控電極162與基板100之間。觸控電極162位於平坦層130與第一遮光圖案110A之間。平坦層130位於多個支撐件140與多個觸控電極162之間。多個支撐件140位於多個第二遮光圖案150A與平坦層130之間。
在本實施例中，對向基板10F也可選擇性包括彩色濾光圖案層120，且彩色濾光圖案層120可選擇性地位於多個觸控電極162與平坦層130之間。然而，本發明不限於此，根據其它實施例，彩色濾光圖案層120也可設置於其它適當位置；舉例而言，於另一實施例中，觸控電極162也可形成在彩色濾光圖案層120上，而彩色濾光圖案層120也可位於多個觸控電極162與多個第一遮光圖案110A之間。
請參照圖13B、圖13F及圖14，值得一提的是，在本實施例中，包括金屬的多個第二遮光圖案150A的至少一部分可做為多個觸控電極161使用，其中多個觸控電極161與多個觸控電極162交錯。多個觸控電極161與多個觸控電極162可組成觸控感測元件。舉例而言，觸控電極161與觸控電極162的一者可做為傳輸圖案(Tx)使用，而觸控電極161與觸控電極162的另一者可做為接收圖案(Rx)使用。藉此，對向基板10F除了具有前述對向基板10A的優點外，還具有觸控功能。
在本實施例中，平坦層130及/或彩色濾光圖案層120位 於相交錯的多個觸控電極161與多個觸控電極162之間，而平坦層130及/或彩色濾光圖案層120可做為多個觸控電極161與多個觸控電極162之間的絕緣層使用。
上述觸控電極162也可設置於其它實施例(例如：第一實施例之對向基板10、第三實施例之對向基板10B或第五實施例對向基板10D)的基板100上，以使其更具有觸控功能。本領域具有通常知識者根據前述的說明應能實現之，此方式形成的各式對向基板也在本發明所欲保護的範疇內。
圖15是依照本發明的第八實施例的一種對向基板的剖面示意圖。圖15的對向基板10G與圖14的對向基板10F類似，兩者的差異在於：於圖15之對向基板10G的製造流程中，係先形成觸控電極162，之後，再形成第一遮光圖案110A；根據上述製造流程，觸控電極162設置基板100上，而第一遮光圖案110A設置於觸控電極162上。
綜上所述，在本發明的實施例中，對向基板利用多個第二遮光圖案來遮蔽顯示器中不欲被使用者看到的元件(例如顯示器中主動元件陣列基板的多條資料線)，且沿不同方向延伸的多個第一遮光圖案以及多個第二遮光圖案分次製作於基板上而彼此交錯。因此，相較於僅利用色阻的堆疊來遮光，本發明實施例的對向基板可具有較佳的遮光能力，且可改善混光的問題。此外，本發明實施例的對向基板可避免發生因光罩之邊緣轉角的曝光問題所造成的開口率不足的問題。另外，當多個第一遮光圖案以及多 個第二遮光圖案位於平坦層的同一側時，可利用第一遮光圖案、第二遮光圖案以及平坦層的其中一者來提供多個主要支撐區域與多個次要支撐區域之間的高低斷差。如此，位於多個主要支撐區域與多個次要支撐區域上的多個支撐件可選用具有相同厚度的支撐件。再者，當多個第一遮光圖案以及多個第二遮光圖案位於平坦層的相對側時，可利用平坦層在多個次要支撐區域中的多個開口來形成多個主要支撐區域與多個次要支撐區域之間的高低斷差。如此，位於多個主要支撐區域與多個次要支撐區域上的多個支撐件也可選用具有相同厚度的支撐件。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:對向基板
100:基板
110:第一遮光圖案
120:彩色濾光圖案層
130:平坦層
140:支撐件
140A:主要支撐件
150:第二遮光圖案
R1:主要支撐區域
R2:次要支撐區域
T140、T140A:厚度
X:高低斷差

Claims (14)

  1. 一種對向基板，適用於一顯示器，該對向基板包括：一基板；多個第一遮光圖案，位於該基板上，其中該些第一遮光圖案分別沿第一方向延伸，且該些第一遮光圖案的材料包括有機材料；多個第二遮光圖案，位於該基板上且與該些第一遮光圖案交錯，其中該些第二遮光圖案分別沿第二方向延伸，且該些第二遮光圖案的材料包括金屬；一平坦層，與該些第一遮光圖案以及該些第二遮光圖案重疊，其中該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案分別位於該平坦層的相對側或位於該平坦層的同一側；以及多個支撐件，位於該對向基板的多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中，其中當該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案位於該平坦層的同一側時，該平坦層具有分別與位於該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊的多個開口，該些第一遮光圖案位於該平坦層與該基板之間，該平坦層位於該些支撐件與該些第一遮光圖案之間，且該些支撐件位於該些第二遮光圖案與該平坦層之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該些支撐件具有相同的厚度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該金屬為低反射金屬。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該些第一遮光圖案對應該顯示器的一主動元件陣列基板中的多條掃描線設置，且該些第二遮光圖案對應該主動元件陣列基板中的多條資料線設置。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該些第一遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊，該些第二遮光圖案與位於該些主要支撐區域中的該些支撐件重疊，且該些第二遮光圖案位於該些次要支撐區域中的該些支撐件之外。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該些第二遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊，該些第一遮光圖案與位於該些主要支撐區域中的該些支撐件重疊，且該些第一遮光圖案位於該些次要支撐區域中的該些支撐件之外。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的對向基板，其中該些第一遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊，該平坦層具有分別與位於該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊的該些開口，該些第二遮光圖案位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件之外。
  8. 一種對向基板，適用於一顯示器，該對向基板包括：一基板； 多個第一遮光圖案，位於該基板上，其中該些第一遮光圖案分別沿第一方向延伸，且該些第一遮光圖案的材料包括有機材料；多個第二遮光圖案，位於該基板上且與該些第一遮光圖案交錯，其中該些第二遮光圖案分別沿第二方向延伸，且該些第二遮光圖案的材料包括金屬；一平坦層，與該些第一遮光圖案以及該些第二遮光圖案重疊，其中該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案分別位於該平坦層的相對側或位於該平坦層的同一側；以及多個支撐件，位於該對向基板的多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中，其中當該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案位於該平坦層的同一側時，該平坦層具有分別與位於該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊的多個開口，該些第二遮光圖案位於該些第一遮光圖案與該基板之間，該些第一遮光圖案位於該平坦層與該些第二遮光圖案之間，且該平坦層位於該些支撐件與該些第一遮光圖案之間。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的對向基板，其中該些第二遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊，且該些第一遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的對向基板，其中該些第二遮光圖案位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些 支撐件之外，且該些第一遮光圖案與位於該些主要支撐區域以及該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊。
  11. 一種對向基板，適用於一顯示器，該對向基板包括：一基板；多個第一遮光圖案，位於該基板上，其中該些第一遮光圖案分別沿第一方向延伸，且該些第一遮光圖案的材料包括有機材料；多個第二遮光圖案，位於該基板上且與該些第一遮光圖案交錯，其中該些第二遮光圖案分別沿第二方向延伸，且該些第二遮光圖案的材料包括金屬；一平坦層，與該些第一遮光圖案以及該些第二遮光圖案重疊，其中該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案分別位於該平坦層的相對側或位於該平坦層的同一側；多個支撐件，位於該對向基板的多個主要支撐區域以及多個次要支撐區域中，其中當該些第一遮光圖案與該些第二遮光圖案位於該平坦層的同一側時，該平坦層具有分別與位於該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊的多個開口；以及一彩色濾光圖案層，位於該些第一遮光圖案與該平坦層之間，其中當該平坦層具有分別與位於該些次要支撐區域中的該些支撐件重疊的該些開口，位於該些次要支撐區域中的該些支撐件設置在與該些開口重疊的該彩色濾光圖案層上。
  12. 如申請專利範圍第1項或第8項所述的對向基板，更包括： 多個觸控電極，設置於該些第一遮光圖案上，其中該些觸控電極與該些第二遮光圖案交錯。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的對向基板，其中該些第一遮光圖案設置於該些觸控電極與該些第二遮光圖案之間。
  14. 如申請專利範圍第12項所述的對向基板，其中該平坦層設置於該些觸控電極與該些第二遮光圖案之間。
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