TWI704484B - 觸控顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種觸控顯示裝置包括顯示面板以及觸控裝置。顯示面板包括多個子畫素。各子畫素包括畫素電極以及開關元件。觸控裝置位於顯示面板上，且包括觸控電極區以及虛設電極區。觸控裝置包括電極結構以及導電網。導電網包括多個網狀重複單元。各網狀重複單元重疊於對應的至少一個子畫素，且包括第一與第二X形導電結構。第一X形導電結構的兩個端點連接於第二X形導電結構的兩個端點。在觸控電極區中的第一與第二X形導電結構為連續圖案。在虛設電極區中的第一及第二X形導電結構為不連續圖案。

Description

觸控顯示裝置
本發明是有關於一種觸控顯示裝置，且特別是有關於一種包括觸控電極區以及虛設電極區的觸控顯示裝置。
隨著科技的進展，觸控裝置在市面上的出現率逐漸增加，且各種有關的技術也層出不窮。在一些個人用電器（如手機、平板電腦、智慧型手錶等）中，會將觸控電極與顯示面板結合，以形成同時具有觸控功能與顯示功能的觸控顯示裝置。
為了利用觸控顯示裝置的觸控功能來執行精細的工作（例如繪畫或書寫），常會以主動式觸控筆來作為工作的輔助工具。主動式觸控筆具有較佳的筆觸感應功能，搭配觸控顯示裝置使用能感測筆觸的深淺。舉例來說，在主動式觸控筆的輔助下，當使用者以較大的力量書寫時，觸控顯示裝置能顯示出較粗的筆跡，而當使用者以較小的力量書寫時，觸控顯示裝置能顯示出較細的筆跡。為了使觸控顯示裝置能更佳的配合主動式觸控筆，如何改善觸控顯示裝置的效能為目前亟欲解決的問題。
本發明提供一種觸控顯示裝置，其觸控裝置具有低電阻的優點，因此觸控顯示裝置具有較佳的效能。
本發明的一實施例提供一種觸控顯示裝置包括顯示面板以及觸控裝置。顯示面板包括多個子畫素。各子畫素包括畫素電極以及電性連接畫素電極的開關元件。觸控裝置位於顯示面板上，且包括觸控電極區以及虛設電極區。觸控裝置包括電極結構以及導電網。導電網包括位於觸控電極區以及虛設電極區中的多個網狀重複單元。各網狀重複單元重疊於對應的至少一個子畫素，且包括第一X形導電結構與第二X形導電結構。第一X形導電結構的兩個端點連接於第二X形導電結構的兩個端點。在觸控電極區中的第一X形導電結構與第二X形導電結構為連續圖案。在虛設電極區中的第一X形導電結構及第二X形導電結構為不連續圖案。
基於上述，由於在觸控電極區中的第一X形導電結構與第二X形導電結構為連續圖案，且在虛設電極區中的第一X形導電結構及/或第二X形導電結構為不連續圖案，因此，除了能降低觸控裝置的電阻之外，還能降低觸控電極區與虛設電極區的反射率差異，藉此提升觸控顯示裝置的效能。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的剖面示意圖。圖1B是依照本發明的一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。其中圖1B省略繪示了顯示面板中的部分構件。
觸控顯示裝置10包括顯示面板100以及觸控裝置200。在本實施例中，觸控顯示裝置10更包括偏光片P1以及偏光片P2。
顯示面板100包括多個子畫素P。在本實施例中，顯示面板100包括第一基板SB1、第二基板SB2、顯示介質層L、色彩轉換元件C以及主動元件層AL。顯示介質層L、色彩轉換元件C以及主動元件層AL位於第一基板SB1與第二基板SB2之間。
主動元件層AL位於第一基板SB1上，且包括多條掃描線SL1～SLn、多條資料線DL1～DLm以及多個子畫素P。掃描線SL1～SLn與資料線DL1～DLm彼此交錯設置。子畫素P包括主動元件T以及畫素電極PE。主動元件T可以是底部閘極型薄膜電晶體或是頂部閘極型薄膜電晶體，其包括閘極、通道、源極以及汲極。主動元件T與對應的一條掃描線SL1～SLn及對應的一條資料線DL1～DLm電性連接。另外，主動元件T與畫素電極PE電性連接。
在本實施例中，第一基板SB1上還具有驅動電路GD以及驅動電路DD。驅動電路GD電性連接至掃描線SL1～SLn。驅動電路DD電性連接至資料線DL1～DLm。
顯示介質層L位於第一基板SB1與第二基板SB2之間。顯示介質層L例如是液晶或其他顯示介質。
色彩轉換元件C位於第二基板SB2上。色彩轉換元件C例如包括紅色濾光圖案、綠色濾光圖案以及藍色濾光圖案。在一些實施例中，色彩轉換元件C還可以包括其他顏色的濾光圖案。在一些實施例中，黑色矩陣（繪於圖2B）位於不同顏色的濾光圖案之間。雖然在本實施例中是以色彩轉換元件C位於第二基板SB2上為例，但本發明不以此為限。在其他實施例中，色彩轉換元件C位於第一基板SB1上，並構成彩色濾光層於畫素陣列上（color filter on array, COA）之結構。在本實施例中，黑色矩陣用以界定子畫素P的面積。舉例來說，黑色矩陣包括多個開口，而每個開口對應一個子畫素P。
偏光片P1以及偏光片P2分別設置於第一基板SB1與第二基板SB2上。
觸控裝置200位於顯示面板100上。在本實施例中，觸控裝置200設置於偏光片P2與第二基板SB2之間，但本發明不以此為限。在一些實施例中，偏光片P1以及偏光片P2設置於第一基板SB1與第二基板SB2之間。
在本實施例中，顯示面板100包括液晶顯示面板(如TN顯示面板、MVA顯示面板、AHVA顯示面板…等)，但本發明不以此為限。在其他實施例中，顯示面板100可以為微型發光二極體顯示面板、有機發光二極體顯示面板或其他類型的顯示面板。
圖2A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的上視示意圖。圖2B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。圖2C是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。為了方便說明，圖2A繪示出電極結構並省略繪示其他構件。圖2B繪示了觸控電極區中對應於一個子畫素之電極結構、導電網以及黑色矩陣，並省略繪示其他構件。圖2C繪示了虛設電極區中對應於一個子畫素之電極結構、導電網以及黑色矩陣，並省略繪示其他構件。
請先參考圖2A、圖2B與圖2C，觸控裝置200具有虛設電極區DR以及觸控電極區TR。觸控裝置200包括電極結構210以及導電網220。
觸控電極區TR中的電極結構210以及觸控電極區TR中的導電網220構成驅動電極TX與感應電極RX。驅動電極TX的延伸方向E1交錯於感應電極RX的延伸方向E2。驅動電極TX與感應電極RX分離。在本實施例中，在延伸方向E1上的驅動電極TX藉由其他層別（未繪出）而連接在一起。驅動電極TX與感應電極RX也可以包括其他幾何形狀。
虛設電極區中DR的電極結構210以及虛設電極區DR中的導電網220構成虛設電極DE，且虛設電極DE分離於驅動電極TX與感應電極RX。於此實施例中，虛設電極DE為浮動電極。
電極結構210包括多個重複電極單元210U以及多個連接結構CS。重複電極單元210U位於虛設電極區DR以及觸控電極區TR中。也可以說，虛設電極DE、驅動電極TX與感應電極RX皆包括多個重複電極單元210U。在本實施例中，黑色矩陣BM具有多個開口O，每個開口O對應一個子畫素P。每個重複電極單元210U重疊於對應的至少一個子畫素P。在本實施例中，每個重複電極單元210U的垂直投影與對應的子畫素P之的垂直投影略為錯開，舉例來說，每個重複電極單元210U重疊於兩個相鄰的子畫素P，但本發明不以此為限。在其他實施例中，每個重複電極單元210U重疊於一個子畫素P。在一些實施例中，子畫素P的寬度比長度約為1：3，但本發明不以此為限。在一些實施例中，各子畫素P的長度為120微米至270微米，且寬度為40微米至90微米。
每個重複電極單元210U包括多個狹縫S。每個重複電極單元210U的狹縫S為兩個相連的X形，且狹縫S是由直線狹縫S1以及與直線狹縫S1相連的彎折狹縫S2所構成。彎折狹縫S2為折線狹縫或弧線狹縫。在本實施例中，兩個直線狹縫S1交叉以構成X形，兩個彎折狹縫S2交叉以構成另個X形。連接結構CS位於觸控電極區TR之重複電極單元210U的狹縫S中。也可以說，驅動電極TX與感應電極RX皆包括連接結構CS，而虛設電極DE不包括連接結構CS。因此，虛設電極DE包括多個被狹縫S分開的島狀結構。在一些實施例中，連接結構CS的寬度W2為6微米至25微米，但本發明不以此為限。
在一些實施例中，狹縫S的寬度W1為3微米至10微米。虛設電極DE上之狹縫S的設置可以使觸控裝置200有較低的電容負載以達到高信噪比的功效。
虛設電極DE與驅動電極TX之間、虛設電極DE與感應電極RX之間以及驅動電極TX與感應電極RX之間藉由相連的狹縫SS分離。在一些實施例中，狹縫SS例如是由多個狹縫S相連而成，但本發明不以此為限。
在本實施例中，電極結構210為單層或多層結構，且其材料包括透明導電材料。在本實施例中，觸控裝置200之虛設電極區DR以及觸控電極區TR具有類似的狹縫設置，也可以說有類似的狹縫切割規則，差異僅在於觸控電極區TR中具有連接結構CS，藉此能改善虛設電極區DR以及觸控電極區TR穿透率不均而影響顯示品質的問題。在一些實施例中，電極結構210於虛設電極區DR以及觸控電極區TR的穿透率差異約0.22~0.39%，但本發明不以此為限。
導電網220包括多個網狀重複單元220U。網狀重複單元220U位於虛設電極區DR以及觸控電極區TR中。也可以說，虛設電極DE、驅動電極TX與感應電極RX皆包括多個網狀重複單元220U。各網狀重複單元220U重疊於對應的至少一個子畫素P。各重複電極單元210U重疊於對應的至少一個子畫素P以及對應的至少一個網狀重複單元220U。
各網狀重複單元220U包括第一X形導電結構X1以及第二X形導電結構X2。第一X形導電結構X1的兩個端點連接於第二X形導電結構X2的兩個端點。在本實施例中，第一X形導電結構X1相鄰於直線狹縫S1，而第二X形導電結構X2相鄰於彎折狹縫S2。第一X形導電結構X1以及第二X形導電結構X2例如由直線、折線以及弧線中的至少一種所組成。
在觸控電極區TR中的第一X形導電結構X1與第二X形導電結構X2為連續圖案。在虛設電極區DR中的第一X形導電結構X1及第二X形導電結構X2為不連續圖案。也可以說虛設電極區DR中的第一X形導電結構X1及/或第二X形導電結構X2斷開。因此，虛設電極區DR中的虛設電極DE不會透過導電網220而連接至驅動電極TX與感應電極R。在本實施例中，導電網220位於重複電極單元210U以及連接結構CS上，虛設電極DE的導電網220於狹縫S處斷開。
在本實施例中，導電網220為單層或多層結構，且其材料包括金屬、金屬氧化物、金屬氮化物或其他導電材料。導電網220的線寬W3為3微米至12微米。
在本實施例中，觸控電極區TR中的導電網220以及虛設電極區DR中的導電網220有類似的形狀設計，差異僅在於觸控電極區TR中的導電網220為連續圖案而虛設電極區DR中的導電網220為不連續圖案，藉此能改善虛設電極區DR以及觸控電極區TR因為反射率不均而影響顯示品質的問題。在一些實施例中，導電網220於虛設電極區DR以及觸控電極區TR的反射率差異約3.4~4.4%，但本發明不以此為限。
在本實施例中，各重複電極單元210U沿著第一偏移方向D1偏離於對應的至少一個子畫素P，且對應的至少一個網狀重複單元220U沿著第二偏移方向D2偏離於對應的至少一個子畫素P。在本實施例中，第一偏移方向D1相反於第二偏移方向D2，藉此，導電網220較不容易形成於狹縫S中，使導電網220有較佳的製程裕度。
基於上述，由於在觸控電極區TR中的第一X形導電結構X1與第二X形導電結構X2為連續圖案，且在虛設電極區DR中的第一X形導電結構X1及/或第二X形導電結構X2為不連續圖案，因此，除了能降低觸控裝置200的電阻之外，還能降低觸控電極區TR與虛設電極區DR的反射率差異，藉此提升觸控顯示裝置的效能。此外，虛設電極DE上之狹縫S的設置可以使觸控裝置200有較低的電容負載以達到高信噪比的功效。
圖3A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。圖3B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。圖3A與圖3B繪出了電極結構210、導電網220、子畫素P以及黑色矩陣BM，並省略繪示了其他構件。在此必須說明的是，圖3A和圖3B的實施例沿用圖2A至圖2C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖3A與圖3B，電極結構210的重複電極單元包括第一重複電極單元210Ua以及第二重複電極單元210Ub。第一重複電極單元210Ua與第二重複電極單元210Ub的狹縫S皆為兩個相連的X形。然而，第一重複電極單元210Ua的狹縫S的X形與第二重複電極單元210Ub的狹縫S的X形略為不同。
導電網220的網狀重複單元包括第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub。第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub的差異在於第二X形導電結構X2的形狀略為不同。
第一重複電極單元210Ua重疊於第一網狀重複單元220Ua，且第二重複電極單元210Ub重疊於第二網狀重複單元220Ub。兩個第一重複電極單元210Ua與兩個第二重複電極單元210Ub交錯排列。兩個第一網狀重複單元220Ua與兩個第二網狀重複單元220Ub交錯排列。
藉由第一重複電極單元210Ua、第二重複電極單元210Ub、第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub的設置，可以改善因為規則性排列而造成的亮度不均勻（Mura）。
圖4A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。圖4B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。圖4A與圖4B繪出了電極結構210、導電網220、子畫素P以及黑色矩陣BM，並省略繪示了其他構件。在此必須說明的是，圖4A和圖4B的實施例沿用圖2A至圖2C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
圖4A與圖4B的實施例與圖2A至圖2C的實施例的主要差異在於：在圖4A與圖4B的實施例中，各重複電極單元210U的狹縫S為V形，且狹縫S是由直線狹縫S1以及與直線狹縫S1相連的彎折狹縫S2所構成。
請參考圖4A與圖4B，彎折狹縫S2為折線狹縫或弧線狹縫。連接結構CS位於觸控電極區TR之重複電極單元210U的狹縫S中。
在本實施例中，由於狹縫S為V形，因此，相較於圖2A至圖2C的實施例，本實施例中觸控電極區TR中之單個重複電極單元210U中的連接結構CS的數量更少。在本實施例中，連接結構CS以及重疊於連接結構CS之導電網220所造成之觸控電極區TR與虛設電極區DR之間的光學差異可以進一步減少。在一些實施例中，電極結構210於虛設電極區DR以及觸控電極區TR的穿透率差異小於0.1%，但本發明不以此為限。在一些實施例中，導電網220於虛設電極區DR以及觸控電極區TR的反射率差異小於1%，但本發明不以此為限。
圖5A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。圖5B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。圖5A與圖5B繪出了電極結構210、導電網220、子畫素P以及黑色矩陣BM，並省略繪示了其他構件。在此必須說明的是，圖5A和圖5B的實施例沿用圖4A與圖4B的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖5A與圖5B，電極結構210的重複電極單元包括第一重複電極單元210Ua、第二重複電極單元210Ub、第三重複電極單元210Uc以及第四重複電極單元210Ud。第一重複電極單元210Ua、第二重複電極單元210Ub、第三重複電極單元210Uc以及第四重複電極單元210Ud的狹縫S皆為V形。然而，第一重複電極單元210Ua、第二重複電極單元210Ub、第三重複電極單元210Uc以及第四重複電極單元210Ud的狹縫S的V形略為不同。
導電網220的網狀重複單元包括第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub。第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub的差異在於第二X形導電結構X2的形狀略為不同。
兩個第一網狀重複單元220Ua分別重疊於第一重複電極單元210Ua以及第二重複電極單元210Ub。兩個第二網狀重複單元220Ub分別重疊於第三重複電極單元210Uc以及第四重複電極單元210Ud。兩個第一網狀重複單元220Ua與兩個第二網狀重複單元220Ub交錯排列。第一重複電極單元210Ua與第二重複電極單元210Ub相連。第三重複電極單元210Uc與第四重複電極單元210Ud相連。相連的第一重複電極單元210Ua與第二重複電極單元210Ub交錯排列於相連的第三重複電極單元210Uc與第四重複電極單元210Ud。
藉由第一重複電極單元210Ua、第二重複電極單元210Ub、三重複電極單元210Uc、第四重複電極單元210Ud、第一網狀重複單元220Ua以及第二網狀重複單元220Ub的設置，可以改善因為規則性排列而造成的亮度不均勻（Mura）。
圖6A至圖9A是依照本發明的一實施例的一種觸控裝置的製作方式的上視示意圖。圖6B至圖9B分別是圖6A至圖9A的剖線aa’的剖面示意圖。為了方便說明，6A至圖9A以及圖6B至圖9B中觸控裝置的各膜層的圖形僅以簡單的幾何圖案繪出，但本發明之觸控裝置的各膜層並不限於6A至圖9A以及圖6B至圖9B中的圖形。
請參考圖6A與圖6B，形成第一導電層212於第二基板SB2上。第一導電層212包括位於觸控電極區TR中的第一觸控電極層212a以及位於虛設電極區DR中的第一虛設電極層212b。第一觸控電極層212a分離於第一虛設電極層212b。第一觸控電極層212a包括沿著第一方向E1延伸的第一部分212a-1以及沿著第二方向E2延伸的第二部分212a-2。第一部分212a-1分離於第二部分212a-2。在本實施例中，第一部分212a-1將多個第二部分212a-2分隔開來。在本實施例中，第一導電層212的材料為透明導電氧化物，例如為銦錫氧化物，但本發明不以此為限。
請參考7A與圖7B，形成導電網220於第一導電層212上。在本實施例中，導電網220形成於觸控電極區TR與虛設電極區DR中。在本實施例中，導電網220重疊於第一部分212a-1、第二部分212a-2以及第一虛設電極層212b。導電網220例如為單層或多層結構，且導電網220的材料為金屬、金屬氧化物、金屬氮化物或其他導電材料。舉例來說，導電網220為氮化鉬/鋁/氮化鉬層(MoN/Al/MoN)。
請參考8A與圖8B，形成絕緣層230於導電網220上。在本實施例中，絕緣層230重疊於相鄰之兩個第二部分212a-2之間的第一部分212a-1（繪於圖6A）。
請參考9A與圖9B，形成第二導電層214於絕緣層230及導電網220上。電極結構210包括第一導電層212以及第二導電層214。導電網220位於第一導電層212與第二導電層214之間
第二導電層214包括位於觸控電極區TR中的第二觸控電極層214a以及位於虛設電極區DR中的第二虛設電極層214b。第二觸控電極層214a分離於第二虛設電極層214b。第二觸控電極層214a包括沿著第一方向E1延伸的第一部分214a-1以及沿著第二方向E2延伸的第二部分214b-2。第一部分214a-1分離於第二部分214a-2。在本實施例中，第二部分214a-2將多個第一部分214a-1分隔開來，且第一導電層212中多個分離的第二部分212a-2透過第二導電層214之第二部分214a-2而彼此電性連接。在本實施例中，第二導電層214的材料為透明導電氧化物，例如為銦錫氧化物，但本發明不以此為限。
在本實施例中，觸控電極區TR中的電極結構210以及觸控電極區TR中的導電網220構成驅動電極TX與感應電極RX。驅動電極TX的延伸方向E1交錯於感應電極RX的延伸方向E2，且驅動電極TX與感應電極RX分離。
在本實施例中，第一導電層212的第一部分212a-1、第二導電層214的第一部分214a-1以及重疊於第一部分212a-1與第一部分214a-1的部分導電網220構成驅動電極TX；第一導電層212的第二部分212a-2、第二導電層214的第二部分214a-2以及重疊於第二部分212a-2與第二部分214a-2的部分導電網220構成感應電極RX。
在本實施例中，第一虛設電極層212b、第二虛設電極層214b以及重疊於第一虛設電極層212b與第二虛設電極層214b的部分導電網220構成虛設電極DE，換句話說，虛設電極區DR中包括虛設電極DE，且虛設電極DE分離於驅動電極TX與感應電極RX。
至此，觸控裝置200大致完成。在一些實施例中，觸控裝置200選擇性地還包括覆蓋於第二導電層214的保護層（未繪出）。
綜上所述，由於在觸控電極區中的第一X形導電結構與第二X形導電結構為連續圖案，且在虛設電極區中的第一X形導電結構及/或第二X形導電結構為不連續圖案，因此，除了能降低觸控裝置的電阻之外，還能降低觸控電極區與虛設電極區的反射率差異，藉此提升觸控顯示裝置的效能。此外，虛設電極上之狹縫的設置可以使觸控裝置有較低的電容負載以達到高信噪比的功效。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:觸控顯示裝置 100:顯示面板 200:觸控裝置 210:電極結構 210U:重複電極單元 210Ua:第一重複電極單元 210Ub:第二重複電極單元 210Uc:第三重複電極單元 210Ud:第四重複電極單元 212:第一導電層 212a:第一觸控電極層 212b:第一虛設電極層 212a-1、214a-1:第一部分 212a-2、214a-2:第二部分 214:第二導電層 214a:第二觸控電極層 214b:第二虛設電極層 220:導電網 220U:網狀重複單元 220Ua:第一網狀重複單元 220Ub:第二網狀重複單元 230:絕緣層 AL:主動元件層 BM:黑色矩陣 C:色彩轉換元件 CS:連接結構 D1:第一偏移方向 D2:第二偏移方向 DD、GD:驅動電路 DE:虛設電極 DR:虛設電極區 DL1～DLm:資料線 E1、E2:延伸方向 L:顯示介質層 O:開口 P:子畫素 PE:畫素電極 P1、P2:偏光片 S、SS:狹縫 S1:直線狹縫 S2:彎折狹縫 SB1:第一基板 SB2:第二基板 SL1～SLn:掃描線 T:開關元件 TR:觸控電極區 TX:驅動電極 W1、W2:寬度 W3:線寬 X1:第一X形導電結構 X2:第二X形導電結構
圖1A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的剖面示意圖。 圖1B是依照本發明的一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。 圖2A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的上視示意圖。 圖2B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。 圖2C是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。 圖3A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。 圖3B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。 圖4A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。 圖4B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。 圖5A是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的觸控電極區的上視示意圖。 圖5B是依照本發明的一實施例的一種觸控顯示裝置的虛設電極區的上視示意圖。 圖6A至圖9A是依照本發明的一實施例的一種觸控裝置的製作方式的上視示意圖。 圖6B至圖9B分別是圖6A至圖9A的剖線aa’的剖面示意圖。
200:觸控裝置
210:電極結構
210U:重複電極單元
220:導電網
220U:網狀重複單元
BM:黑色矩陣
CS:連接結構
D1:第一偏移方向
D2:第二偏移方向
O:開口
P:子畫素
S:狹縫
S1:直線狹縫
S2:彎折狹縫
TR:觸控電極區
W1、W2:寬度
W3:線寬
X1:第一X形導電結構
X2:第二X形導電結構

Claims (17)

  1. 一種觸控顯示裝置，包括： 一顯示面板，包括多個子畫素，各該子畫素包括一畫素電極以及電性連接該畫素電極的一開關元件；以及 一觸控裝置，位於該顯示面板上，且包括一觸控電極區以及一虛設電極區，其中該觸控裝置包括一電極結構以及一導電網，其中該導電網包括位於該觸控電極區以及該虛設電極區中的多個網狀重複單元，各該網狀重複單元重疊於對應的至少一個該子畫素，且各該網狀重複單元包括： 一第一X形導電結構；以及 一第二X形導電結構，其中該第一X形導電結構的兩個端點連接於該第二X形導電結構的兩個端點，其中 在該觸控電極區中的該第一X形導電結構與該第二X形導電結構為連續圖案，且 在該虛設電極區中的該第一X形導電結構及該第二X形導電結構為不連續圖案。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該電極結構包括： 多個重複電極單元，位於該虛設電極區以及該觸控電極區中，各該重複電極單元重疊於對應的至少一個該子畫素以及對應的至少一個該網狀重複單元，其中每個該些重複電極單元包括一狹縫；以及 多個連接結構，位於該觸控電極區之該些重複電極單元的該些狹縫中。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中各該重複電極單元的該狹縫為兩個相連的X形。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中各該重複電極單元的該狹縫為一個V形。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中各該重複電極單元的該狹縫是由直線狹縫以及與該直線狹縫相連的彎折狹縫所構成，且該彎折狹縫為折線狹縫或弧線狹縫。
  6. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中該些狹縫的寬度為3微米至10微米。
  7. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中該些連接結構的寬度為6微米至25微米。
  8. 如申請專利範圍第2項所述的觸控顯示裝置，其中各該重複電極單元沿著一第一偏移方向偏離於該對應的至少一個該子畫素，且該對應的至少一個該網狀重複單元沿著一第二偏移方向偏離於該對應的至少一個該子畫素。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的觸控顯示裝置，其中該第一偏移方向相反於該第二偏移方向。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該導電網的材料包括金屬、金屬氧化物或金屬氮化物。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該電極結構的材料包括透明導電材料。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中各該子畫素的寬度比長度約為1：3。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中各該子畫素的長度為120微米至270微米，且寬度為40微米至90微米。
  14. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該電極結構包括一第一導電層以及一第二導電層，其中該導電網位於該第一導電層與該第二導電層之間。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該觸控電極區中的該電極結構以及該觸控電極區中的該導電網構成一驅動電極與一感應電極，該驅動電極的延伸方向交錯於該感應電極的延伸方向，且該驅動電極與該感應電極分離。
  16. 如申請專利範圍第11項所述的觸控顯示裝置，其中該虛設電極區中的該電極結構以及該虛設電極區中的該導電網構成一虛設電極，且該虛設電極分離於該驅動電極與該感應電極。
  17. 如申請專利範圍第1項所述的觸控顯示裝置，其中該導電網的線寬為3微米至12微米。
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