TWI694289B - 顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種顯示裝置,包括光調控面板及顯示面板。光調控面板包括遮光結構。顯示面板配置於光調控面板上且包括具有第一、第二及第三畫素單元的重複單元,第一、第二及第三畫素單元各自包括第一、第二及第三色子畫素,第一畫素單元中的第一、第二及第三色子畫素的排列方式,第二畫素單元中的第一、第二及第三色子畫素的排列方式與第三畫素單元中的第一、第二及第三色子畫素的排列方式不相同,且重複單元中的第一色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積,第二色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積相等。

Description

顯示裝置
本發明是有關於一種顯示裝置,且特別是有關於一種非自發光顯示裝置。
近年來,由於顯示技術不斷地蓬勃發展,舉凡如車用儀表板、手錶以及遊戲機台等許多電子裝置已從早期的機械式實體結構轉換為平面化數位式顯示裝置,以提供使用者可以從顯示裝置中獲取經個人化設定的資訊。一般而言,車用儀表板需要有高對比度的特性,以使在不同行駛環境下,使用者皆可明確地自車用儀表板獲取資訊。目前通常透過背光模組應用區域背光調控的方式以提升液晶顯示裝置的對比度,但此技術存在製造成本、耗電量及/或重量增加等的許多問題。因此,開發高對比度的顯示裝置仍是目前此領域技術人員的目標之一。
本發明的至少一實施方式提供一種顯示裝置,其具有高對比度、良好的穿透率且能夠避免或降低產生彩色疊紋現象(Color Moiré effect)。
本發明的至少一實施方式的顯示裝置包括背光模組、光調控面板以及顯示面板。光調控面板配置於背光模組上且包括遮光結構、多個第一主動元件以及多個調控電極。多個調控電極分別與多個第一主動元件中的一者電性連接。顯示面板配置於光調控面板上且包括第一重複單元,第一重複單元包括至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元,至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元的每一者包括第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素,其中第一畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式、第二畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式與第三畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式彼此不相同,其中第一重複單元中的第一色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
基於上述,在本發明之至少一實施方式的顯示裝置中,透過位於背光模組上的光調控面板包括遮光結構、多個第一主動元件及與第一主動元件中的一者電性連接的多個調控電極,且位於光調控面板上的顯示面板包括具有至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元的重複單元,至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元的每一者包括第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素,其中第一畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式,第二畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式與第三畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式彼此不相同,且重複單元中的第一色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,使得顯示裝置能夠具有高對比度、良好的穿透率且避免或降低產生彩色疊紋現象。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施方式,並配合所附圖式作詳細說明如下。
在本文中,由「一數值至另一數值」表示的範圍,是一種避免在說明書中一一列舉該範圍中的所有數值的概要性表示方式。因此,某一特定數值範圍的記載,涵蓋該數值範圍內的任意數值以及由該數值範圍內的任意數值界定出的較小數值範圍,如同在說明書中明文寫出該任意數值和該較小數值範圍一樣。
本文使用的「約」、「近似」、「本質上」、或「實質上」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,「約」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或例如±30%、±20%、±15%、±10%、±5%內。再者,本文使用的「約」、「近似」、「本質上」、或「實質上」可依量測性質、切割性質或其它性質,來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差,而可不用一個標準偏差適用全部性質。
應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件「上」或「連接到」另一元件時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到」另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,「連接」可以指物理及/或電性連接。再者,「電性連接」可為二元件間存在其它元件。
除非另有定義,本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與任何所屬技術領域中具有通常知識者通常理解的相同的含義。將進一步理解的是,諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義,除非本文中明確地這樣定義。
圖1是依照本發明的一實施方式的顯示裝置的剖面示意圖。圖2是依照本發明的一實施方式的顯示面板的畫素陣列層與光調控面板的元件層的重疊關係示意圖。圖3是依照本發明的一實施方式的顯示面板的局部上視示意圖。圖4是依照本發明的一實施方式的光調控面板的局部上視示意圖。為求清楚表示,圖2、圖3及圖4分別省略繪示了部分的膜層與構件。另外,圖4繪示對應於圖2的區域K的局部光調控面板300。
請參照圖1,顯示裝置10可包括背光模組BL、顯示面板200及光調控面板300。在本實施方式中,光調控面板300配置於背光模組BL上,且顯示面板200配置於光調控面板300上。從另一觀點而言,光調控面板300配置於背光模組BL與顯示面板200之間。另外,在本實施方式中,顯示裝置10可更包括偏光結構P1、偏光結構P2以及偏光結構P3。在本實施方式中,偏光結構P1位於背光模組BL與光調控面板300之間,偏光結構P2位於光調控面板300與顯示面板200之間,且偏光結構P3位於顯示面板200之遠離光調控面板300的一側上。在本實施方式中,偏光結構P1、偏光結構P2以及偏光結構P3例如是:偏光片或者適於使特定偏振狀態的光通過的任何所屬技術領域中具有通常知識者所週知的偏光結構,本發明並不加以限制。
在本實施方式中,背光模組BL適於提供一面光源,而面光源所發出的光線會依序穿過光調控面板300及顯示面板200以提供顯示畫面。在本實施方式中,背光模組BL所使用的光源種類可包括:螢光燈管(例如:冷陰極螢光燈管、熱陰極螢光燈管、外部電極螢光燈管、平面螢光燈管、其它適當的燈管、或上述之組合)、點光源(例如:無機發光二極體、有機小分子磷光/螢光發光二極體、有機高分子磷光/螢光發光二極體、其它適當的二極體、或上述之組合)、電漿型面板光源、奈米碳管光源、適用的其它類型光源、或上述之組合。另一方面,在本實施方式中,背光模組BL可以是側入式背光模組、直下式背光模組或其他適當形式的背光模組。
請同時參照圖1至圖3,在本實施方式中,顯示面板200可包括基板202、畫素陣列層204、液晶層206、共用電極層208、彩色濾光層210、黑矩陣212、以及基板214。為求清楚表示,圖3省略繪示了液晶層206、共用電極層208、黑矩陣212以及基板214。
基板202的材質可為玻璃、石英或有機聚合物。基板214位於基板202的對向。基板214的材質可為玻璃、石英或有機聚合物。在本實施方式中,液晶層206係作為顯示介質,其設置於基板202與基板214之間。換言之,在本實施方式中,顯示面板200為液晶顯示面板。然而,本發明不以此為限。在其他實施方式中,顯示面板200也可以是其他適當的非自發光顯示面板,例如電泳顯示面板、電濕潤顯示面板、電粉塵顯示面板、電致變色顯示面板等,不使用液晶層206,而使用其他的顯示介質。另外,在本實施方式中,液晶層206例如包括可被水平電場轉動或切換(in-plane-switching)的液晶分子或者是可被垂直電場轉動或切換(vertical switching)的液晶分子,但本發明不以此為限。
畫素陣列層204配置於基板202上。在本實施方式中,畫素陣列層204可包括多條掃描線SL2、多條資料線DL2以及多個重複單元U1。為求清楚表示,圖3僅繪示出對應一個重複單元U1的局部顯示面板200。在本實施方式中,液晶層206係重疊於多個重複單元U1。在本實施方式中,掃描線SL2的延伸方向與資料線DL2的延伸方向不相同。另外,在本實施方式中,掃描線SL2與資料線DL2是位於不相同的膜層,且掃描線SL2與資料線DL2之間夾有絕緣層(未繪示)。基於導電性的考量,掃描線SL2以及資料線DL2一般是使用金屬材料來製作。然而,本發明並不限於此,根據其他實施方式,掃描線SL2以及資料線DL2也可以使用例如合金、金屬材料之氮化物、金屬材料之氧化物、金屬材料之氮氧化物、非金屬但具導電特性的材料、或是其它合適的材料。另外,在本實施方式中,掃描線SL2及資料線DL2分別可為單層或多層結構。
在本實施方式中,每一重複單元U1可包括第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc。如圖2及圖3所示,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。在本實施方式中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的每一者可包括第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3。在本實施方式中,每一第一色子畫素S1、每一第二色子畫素S2及每一第三色子畫素S3分別與多條掃描線SL2中的一者及多條資料線DL2中的一者電性連接。在本實施方式中,每一第一色子畫素S1、每一第二色子畫素S2及每一第三色子畫素S3分別包括主動元件T2和與主動元件T2電性連接的畫素電極PE。主動元件T2可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的任一薄膜電晶體,其例如包括閘極、通道層、源極以及汲極(未標示)。在本實施方式中,畫素電極PE為塊狀畫素電極,然而本發明並不限於此。在其他實施方式中,畫素電極PE可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的任一畫素電極,例如具有狹縫圖案之畫素電極。在本實施方式中,畫素電極PE的材質可包括透明金屬氧化物導電材料,其例如是(但不限於):銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鎵鋅氧化物、或是上述至少二者之堆疊層。如前文所述,液晶層206係重疊於多個重複單元U1,因此液晶層206中的液晶分子是由畫素電極PE與共用電極層208(於後文進行詳細描述)之間的電位差而驅動。
在本實施方式中,第一畫素單元Ua中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式,第二畫素單元Ub中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式,與第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同。詳細而言,如圖2及圖3所示,在第一畫素單元Ua中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在第二畫素單元Ub中,第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第一色子畫素S1沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在第三畫素單元Uc中,第三色子畫素S3、第一色子畫素S1及第二色子畫素S2沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
黑矩陣212配置於基板214上。在本實施方式中,黑矩陣212用以遮蔽顯示面板200中不欲被使用者觀看到的元件及走線,例如掃描線SL2、資料線DL2及主動元件T2。雖然本實施方式是以黑矩陣212位於基板214上為例,但本發明不以此為限。在其他實施方式中,黑矩陣212位於基板202上,並構成黑矩陣於畫素陣列上(black matrix on array,BOA)的結構。此外,黑矩陣212的材質例如是黑色樹脂或是遮光金屬(例如:鉻)等反射性較低的材料。
彩色濾光層210配置於基板214上。在本實施方式中,彩色濾光層210可包括分別對應多個第一色子畫素S1、多個第二色子畫素S2及多個第三色子畫素S3設置的多個第一色濾光圖案CF1、多個第二色濾光圖案CF2及多個第三色濾光圖案CF3。如前文所述,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,因此對應於第一畫素單元Ua的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第三色濾光圖案CF3的排列方式,對應於第二畫素單元Ub的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第三色濾光圖案CF3的排列方式,與對應於第三畫素單元Uc的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第三色濾光圖案CF3的排列方式同樣彼此不相同。如圖3所示,對應於第一畫素單元Ua,第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第三色濾光圖案CF3係以沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;對應於第二畫素單元Ub,第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3及第一色濾光圖案CF1係沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;對應於第三畫素單元Uc,第三色濾光圖案CF3、第一色濾光圖案CF1及第二色濾光圖案CF2係沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
另外,在本實施方式中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3分別為紅色子畫素、綠色子畫素以及藍色子畫素,亦即第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第三色濾光圖案CF3分別為紅色、綠色及藍色,但本發明並不限於此。詳細而言,當液晶層206中的液晶分子受到第一色子畫素S1的畫素電極PE、第二色子畫素S2的畫素電極PE及第三色子畫素S3的畫素電極PE與共用電極層208(於後文進行詳細描述)之間的電位差驅動而使來自背光模組BL的光線穿透時,會分別顯示出紅色、綠色及藍色。雖然本實施方式是以彩色濾光層210位於基板214上為例,但本發明不以此為限。在其他實施方式中,彩色濾光層210位於基板202上,並構成彩色濾光層於畫素陣列上(color filter on array,COA)的結構。
共用電極層208配置於基板214上。在本實施方式中,共用電極層208的材質可包括透明金屬氧化物導電材料,其例如是(但不限於):銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鎵鋅氧化物、或是上述至少二者之堆疊層。在本實施方式中,共用電極層208可電性連接至共用電壓,例如約0伏特。
值得一提的是,根據上文,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示面板200也包括其他構件,例如配向膜、周邊驅動電路等。另外,本發明並不限制顯示面板200的類型,因此顯示面板200例如是扭轉向列(Twisted Nematic,TN)型顯示面板、垂直排列(Vertical Alignment,VA)型顯示面板、邊緣電場切換(Fringe Field Switching,FFS)型顯示面板、共面轉換(In-Plane Switching,IPS)型顯示面板或視角高清晰技術(Advanced Hyper-Viewing Angle,AHVA)型顯示面板。而任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示面板200的架構會隨著類型不同而不同,舉例而言:當顯示面板200為邊緣電場切換型顯示面板、共面轉換型顯示面板或視角高清晰技術型顯示面板時,共用電極層208係設置於基板202上且可屬於畫素陣列層204的一部分,畫素電極PE係具有狹縫圖案。
請同時參照圖1、圖2及圖4,在本實施方式中,光調控面板300可包括基板302、元件層304、液晶層306、共用電極層308以及基板310。為求清楚表示,圖4省略繪示了液晶層306、共用電極層308以及基板310。
基板302、308的材質可為玻璃、石英或有機聚合物。基板310位於基板302的對向。在本實施方式中,液晶層306設置於基板302與基板310之間。換言之,光調控面板300為一液晶型光調控面板。在本實施方式中,液晶層306例如包括可被水平電場轉動或切換(in-plane-switching)的液晶分子或者是可被垂直電場轉動或切換(vertical switching)的液晶分子,但本發明不以此為限。
元件層304配置於基板302上。在本實施方式中,元件層304可包括多條掃描線SL1、多條資料線DL1、多個主動元件T1以及多個調控電極DE。在本實施方式中,液晶層306係重疊於多個主動元件T1以及多個調控電極DE。在本實施方式中,掃描線SL1的延伸方向與資料線DL1的延伸方向不相同。另外,在本實施方式中,掃描線SL1與資料線DL1是位於不相同的膜層,且掃描線SL1與資料線DL1之間夾有絕緣層(未繪示)。
在本實施方式中,掃描線SL1與資料線DL1的材質為遮光材料,因此掃描線SL1與資料線DL1一起可構成遮光結構SS。掃描線SL1與資料線DL1之材料可參考前述掃描線SL2以及資料線DL2之材料,在此不贅述。另外,在本實施方式中,掃描線SL1的延伸方向與掃描線SL2的延伸方向實質上平行,且資料線DL1的延伸方向與資料線DL2的延伸方向實質上平行。
在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1的總面積、第二色子畫素S2的總面積及第三色子畫素S3的總面積實質上相等。另外,在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。換言之,在本實施方式中,每一重複單元U1所包括的第一色子畫素S1於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,每一重複單元U1所包括的第二色子畫素S2於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,和每一重複單元U1所包括的第三色子畫素S3於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積彼此實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置10中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等。
詳細而言,如圖2所示,每一重複單元U1重疊於三條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3皆與掃描線SL1重疊,而第一畫素單元Ua僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊,第二畫素單元Ub僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,且第三畫素單元Uc僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊。也就是說,在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中之分別與資料線DL1重疊的子畫素彼此不相同。
另外,在顯示裝置10中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3中的任一者的面積為A,且所述任一者被遮光結構SS遮蔽的遮蔽面積為B,A與B滿足以下關係式:0%<B/A<約65%。
在本實施方式中,每一主動元件T1分別與多條掃描線SL1中的一者及多條資料線DL1中的一者電性連接。主動元件T1可以是任何所屬技術領域中具有通常知識者所周知的任一薄膜電晶體,其例如包括閘極、通道層、源極以及汲極(未標示)。
在本實施方式中,每一調控電極DE分別與多個主動元件T1中的一者電性連接。在本實施方式中,每一調控電極DE具有多個條狀電極SE。換言之,在本實施方式中,每一調控電極DE係具有狹縫圖案之電極。然而,本發明並不限於此。在其他實施方式中,調控電極DE也可以為塊狀電極。
詳細而言,如圖4所示,在每一調控電極DE中,每一條狀電極SE具有彎折部C1,其中彎折部C1可重疊於對應的掃描線SL1。值得一提的是,雖然在條狀電極SE的彎折部C1處容易產生黑紋現象,但是彎折部C1係重疊於對應的掃描線SL1,藉此可防止黑紋現象對光調控面板300的穿透率造成影響。另外,在本實施方式中,每一調控電極DE具有呈直線的多個條狀電極SE,故可使液晶層306中的液晶分子在被驅動時呈現單域配向排列。然而,本發明並不限於此。在其他實施方式中,每一調控電極DE可具有呈”ㄑ”字形的多個條狀電極SE,故可使液晶層306中的液晶分子在被驅動時呈現多域配向排列(multi-domain arrangement)。
請同時參照圖2及圖4,在顯示裝置10中,每一調控電極DE可重疊於八個子畫素,例如兩個第一色子畫素S1、四個第二色子畫素S2及兩個第三色子畫素S3。另外,在顯示裝置10中,光調控面板300之相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於一個畫素單元(例如:一個第一畫素單元Ua、一個第二畫素單元Ub或一個第三畫素單元Uc)的寬度,且相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於一個畫素單元的長度。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板200的解析度,以避免降低開口率。
如前文所述,液晶層306係重疊於多個主動元件T1以及多個調控電極DE,因此液晶層306中的液晶分子可經由主動元件T1的調控而決定是否使來自背光模組BL的光線穿透過。詳細而言,液晶層306中的液晶分子可透過致能主動元件T1以使調控電極DE與共用電極層308之間存在電位差而驅動,藉此來自背光模組BL的光線可穿透過光調控面板300。舉例而言,透過致能多個主動元件T1中的一部分主動元件T1,可使對應於經致能的主動元件T1的液晶分子被驅動而使來自背光模組BL的光線穿透過光調控面板300,而對應於未經致能的主動元件T1的液晶分子則不會讓來自背光模組BL的光線穿透過光調控面板300。
共用電極層308配置於基板310上。然而,本發明並不限於此。在其他實施方式中,共用電極層308也可以設置於基板302上且屬於元件層304的一部分。在本實施方式中,共用電極層308的材質可包括透明金屬氧化物導電材料,其例如是(但不限於):銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鎵鋅氧化物、或是上述至少二者之堆疊層。在本實施方式中,共用電極層308可電性連接至共用電壓,例如約0伏特。
值得說明的是,由於光調控面板300可分區控制來自背光模組BL的光線穿透過光調控面板300,藉此透過包括依序堆疊的背光模組BL、光調控面板300及顯示面板200,顯示裝置10得以達成高對比度的效果。
另外,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板200的解析度時,若顯示裝置10中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。另外,在其它實施方式中,顯示裝置10可更包含具有較低霧度的擴散片重疊於光調控面板300來進一步模糊疊紋現象,以減輕疊紋問題並維持顯示裝置10具有良好的穿透率。擴散片的霧度值(haze value)舉例為20%至60%。較低霧度的擴散片舉例係位於光調控面板300和顯示面板200之間,或者是顯示面板200位於光調控面板300和較低霧度的擴散片之間。
另外,在顯示裝置10中,雖然來自背光模組BL的光線會依序穿透過光調控面板300及顯示面板200,但由於光調控面板300的開口率高於顯示面板200的開口率,光調控面板300影響光線的穿透率的程度可降低,藉以改善顯示裝置10的穿透率。
另外,在光調控面板300中,掃描線SL1與資料線DL1一起構成遮光結構SS,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,遮光結構SS可更包括黑矩陣。以下,將參照圖5針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖5是依照本發明的另一實施方式的光調控面板的局部上視示意圖。請同時參照圖5及圖4,圖5的光調控面板400與圖4的光調控面板300相似,差異主要在於:光調控面板400包括黑矩陣BM,而光調控面板300不包括黑矩陣,因此以下將針對圖5的光調控面板400與圖4的光調控面板300之間的差異處進行說明,相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。
請參照圖5,在本實施方式中,遮光結構SS包括掃描線SL1、資料線DL1及黑矩陣BM,其中黑矩陣BM重疊於掃描線SL1、資料線DL1及主動元件T1。如此一來,黑矩陣BM可用以遮蔽光調控面板400中不欲被使用者觀看到的元件及走線。在本實施方式中,黑矩陣BM的材質例如是黑色樹脂或是遮光金屬(例如:鉻)等反射性較低的材料。另外,根據前文關於黑矩陣212的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,黑矩陣BM可配置於基板302上或者基板310上,其中當黑矩陣BM配置於基板302上,則構成黑矩陣於畫素陣列上(BOA)的結構。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,如圖2所示,在顯示裝置10中,畫素陣列層204僅包括一種重複單元U1,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,畫素陣列層204可包括至少一重複單元U1以及不同於重複單元U1的其他的重複單元。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,顯示面板200的架構係可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖6針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖6是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖6及圖2,圖6的顯示裝置20與圖2的顯示裝置10相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖6的顯示裝置20與圖2的顯示裝置10間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖6中未繪示出許多膜層及構件,例如基板302、黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置20的整體結構或佈局。
請參照圖6,在本實施方式中,畫素陣列層204包括重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3。為了清楚說明,圖6中僅繪示出一個重複單元U1、一個重複單元U2及一個重複單元U3和其周圍對應的結構,然發明所屬領域中具有通常知識者應理解畫素陣列層204實際上可包括多個重複單元U1、多個重複單元U2及多個重複單元U3。另外,在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3沿資料線DL2中之一者的延伸方向依序排列,但本發明並不限於此。
在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者可包括第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc。詳細而言,在本實施方式中,重複單元U1中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式,重複單元U2中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式,與重複單元U3中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式彼此不相同。也就是說,在顯示裝置20中,重複單元U1、重複單元U2與重複單元U3彼此之間的差異僅在於第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式。如圖6所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
在本實施方式中,在重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。換言之,重複單元U2所包括的第一色子畫素S1於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,重複單元U2所包括的第二色子畫素S2於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,和重複單元U2所包括的第三色子畫素S3於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積彼此實質上相等。同理,重複單元U3可依此加以類推之。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置20中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等。
在本實施方式中,在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中之分別與資料線DL1重疊的子畫素彼此不相同。詳細而言,如圖6所示,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者重疊於三條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中不論在重複單元U1中、重複單元U2中或重複單元U3中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3皆與掃描線SL1重疊,而第一畫素單元Ua僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊、第二畫素單元Ub僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,且第三畫素單元Uc僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊。
在顯示裝置20中,每一調控電極DE可重疊於八個子畫素,例如兩個第一色子畫素S1、三個第二色子畫素S2及三個第三色子畫素S3。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板200的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板200的解析度時,若顯示裝置20中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,如圖2所示,在顯示裝置10中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的每一者包括第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的每一者可更包括不同於第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的子畫素。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,顯示面板的架構係可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖7針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖7是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。圖8是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部上視示意圖。請同時參照圖7及圖2,圖7的顯示裝置30與圖2的顯示裝置10相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖7的顯示裝置30與圖2的顯示裝置10間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖7及圖8中未繪示出許多膜層及構件,例如液晶層206、共用電極層208、基板302、黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置30的整體結構或佈局。
請參照圖7及圖8,在顯示面板500中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的每一者可包括第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4。在本實施方式中,每一第四子色子畫素S4與多條掃描線SL2中的一者及多條資料線DL2中的一者電性連接。在本實施方式中,每一第四子色子畫素S4包括主動元件T2和與主動元件T2電性連接的畫素電極PE。
在本實施方式中,第一畫素單元Ua中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式,第二畫素單元Ub中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式,與第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式彼此不相同。詳細而言,如圖7及圖8所示,在第一畫素單元Ua中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在第二畫素單元Ub中,第二色子畫素S2、第三色子畫素S3、第一色子畫素S1及第四子色子畫素S4沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在第三畫素單元Uc中,第三色子畫素S3、第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第四子色子畫素S4沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。從另一觀點而言,在本實施方式中,第四子色子畫素S4配置在第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的位置皆相同。
在本實施方式中,彩色濾光層210可包括分別對應多個第一色子畫素S1、多個第二色子畫素S2、多個第三色子畫素S3及多個第四子色子畫素S4設置的多個第一色濾光圖案CF1、多個第二色濾光圖案CF2、多個第三色濾光圖案CF3及多個第四色濾光圖案CF4。
如前文所述,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式彼此不相同,因此對應於第一畫素單元Ua的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3及第四色濾光圖案CF4的排列方式,對應於第二畫素單元Ub的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3及第四色濾光圖案CF4的排列方式,與對應於第三畫素單元Uc的第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3及第四色濾光圖案CF4的排列方式同樣彼此不相同。如圖8所示,對應於第一畫素單元Ua,第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3及第四色濾光圖案CF4係以沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;對應於第二畫素單元Ub,第二色濾光圖案CF2、第三色濾光圖案CF3、第一色濾光圖案CF1及第四色濾光圖案CF4係沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;對應於第三畫素單元Uc,第三色濾光圖案CF3、第一色濾光圖案CF1、第二色濾光圖案CF2及第四色濾光圖案CF4係沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
另外,在本實施方式中,第四子色子畫素S4為白色子畫素,亦即第四色濾光圖案CF4為白色,但本發明並不限於此。詳細而言,當液晶層206中的液晶分子受到第一色子畫素S1的畫素電極PE、第二色子畫素S2的畫素電極PE、第三色子畫素S3的畫素電極PE及第四子色子畫素S4的畫素電極PE與共用電極層208之間的電位差驅動而使來自背光模組BL的光線穿透時,會分別顯示出紅色、綠色、藍色及白光。
在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1的總面積、第二色子畫素S2的總面積、第三色子畫素S3的總面積及第四子色子畫素S4的總面積實質上相等。如圖7所示,每一重複單元U1重疊於三條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4皆與掃描線SL1重疊,而第一畫素單元Ua僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,第二畫素單元Ub僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊,且第三畫素單元Uc僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊。也就是說,在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,但不同於第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置30中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,但不同於第四色子畫素S4的總開口率。
在顯示裝置30中,每一調控電極DE可重疊於十個子畫素,例如四個第二色子畫素S2、四個第三色子畫素S3及兩個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板500的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板500的解析度時,若顯示裝置30中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。
另外,在顯示裝置30中,雖然第四色子畫素S4的總開口率不同於第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率,但第四子色子畫素S4可為白色子畫素,藉此不會導致產生彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,如圖7所示,在顯示裝置30中,畫素陣列層204僅包括一種重複單元U1,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,畫素陣列層204可包括至少一重複單元U1以及不同於重複單元U1的其他的重複單元。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,顯示面板500的架構係可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖9針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖9是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖9及圖7,圖9的顯示裝置40與圖7的顯示裝置30相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖9的顯示裝置40與圖7的顯示裝置30間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖9中未繪示出許多膜層及構件,例如基板302、黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置40的整體結構或佈局。
請參照圖9,在本實施方式中,畫素陣列層204包括重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3。為了清楚說明,圖9中僅繪示出一個重複單元U1、一個重複單元U2及一個重複單元U3和其周圍對應的結構,然發明所屬領域中具有通常知識者應理解畫素陣列層204實際上可包括多個重複單元U1、多個重複單元U2及多個重複單元U3。另外,在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3沿資料線DL2中之一者的延伸方向依序排列,但本發明並不限於此。
在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者可包括第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc。詳細而言,在本實施方式中,重複單元U1中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式,重複單元U2中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式,與重複單元U3中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式彼此不相同。也就是說,在顯示裝置40中,重複單元U1、重複單元U2與重複單元U3彼此之間的差異僅在於第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc的排列方式。如圖9所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖9所示,在顯示裝置40中,重複單元U2重疊於三條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第一畫素單元Ua中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4皆與掃描線SL1重疊,而第二畫素單元Ub僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊,第三畫素單元Uc僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊,且第一畫素單元Ua僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊。也就是說,在本實施方式中,在重複單元U2中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,但不同於第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積。
類似的,如圖9所示,重複單元U3重疊於三條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua及第二畫素單元Ub中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4皆與掃描線SL1重疊,而第三畫素單元Uc僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊,第一畫素單元Ua僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,且第二畫素單元Ub僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊。也就是說,在本實施方式中,在重複單元U3中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,但不同於第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置40中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,但不同於第四色子畫素S4的總開口率。
在顯示裝置40中,每一調控電極DE可重疊於十個子畫素,例如一個第一色子畫素S1、兩個第二色子畫素S2、三個第三色子畫素S3及兩個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板500的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板500的解析度時,若顯示裝置40中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,如圖7所示,在顯示裝置30中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,每一重複單元U1包括三個畫素單元,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,每一重複單元U1可包括四個畫素單元。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,顯示面板的架構係可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖10針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖10是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖10及圖7,圖10的顯示裝置50與圖7的顯示裝置30相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖10的顯示裝置50與圖7的顯示裝置30間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖10中未繪示出許多膜層及構件,例如基板302、黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置50的整體結構或佈局。
請參照圖10,在顯示面板600中,每一重複單元U1可包括第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud。在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列,如圖10所示。在本實施方式中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的每一者可包括第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4。
在本實施方式中,第一畫素單元Ua中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式,第二畫素單元Ub中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式,第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式,與第四畫素單元Ud中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4的排列方式彼此不相同。詳細而言,如圖10所示,在第一畫素單元Ua中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子色子畫素S4沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在第二畫素單元Ub中,第二色子畫素S2、第三色子畫素S3、第四子色子畫素S4及第一色子畫素S1沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在第三畫素單元Uc中,第三色子畫素S3、第四子色子畫素S4、第一色子畫素S1及第二色子畫素S2沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在第四畫素單元Ud中,第四子色子畫素S4、第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。換言之,每一重複單元U1所包括的第一色子畫素S1於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,每一重複單元U1所包括的第二色子畫素S2於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,每一重複單元U1所包括的第三色子畫素S3於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,和每一重複單元U1所包括的第四色子畫素S4於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積彼此實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置50中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率、第三色子畫素S3的總開口率及第四色子畫素S4的總開口率可彼此實質上相等。
詳細而言,如圖10所示,每一重複單元U1重疊於四條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四色子畫素S4皆與掃描線SL1重疊,而第一畫素單元Ua僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,第二畫素單元Ub僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊,第三畫素單元Uc僅第四色子畫素S4與資料線DL1重疊,且第四畫素單元Ud僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊。也就是說,在本實施方式中,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中之分別與資料線DL1重疊的子畫素彼此不相同。
另外,在顯示裝置50中,第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四色子畫素S4中的任一者的面積為A,且所述任一者被遮光結構SS遮蔽的遮蔽面積為B,A與B滿足以下關係式:0%<B/A<約65%。
在顯示裝置50中,每一調控電極DE可重疊於十個子畫素,例如四個第二色子畫素S2、四個第三色子畫素S3及兩個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板600的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板600的解析度時,若顯示裝置50中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,如圖10所示,在顯示裝置50中,畫素陣列層204僅包括一種重複單元U1,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,畫素陣列層204可包括至少一重複單元U1以及不同於重複單元U1的其他的重複單元。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,顯示面板600的架構係可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖11針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖11是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖11及圖10,圖11的顯示裝置60與圖10的顯示裝置50相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖11的顯示裝置60與圖10的顯示裝置50間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖11中未繪示出許多膜層及構件,例如基板302、黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置60的整體結構或佈局。
請參照圖11,在本實施方式中,畫素陣列層204包括重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4。為了清楚說明,圖11中僅繪示出一個重複單元U1、一個重複單元U2、一個重複單元U3及一個重複單元U4和其周圍對應的結構,然發明所屬領域中具有通常知識者應理解畫素陣列層204實際上可包括多個重複單元U1、多個重複單元U2、多個重複單元U3及多個重複單元U4。另外,在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4沿資料線DL2中之一者的延伸方向依序排列,但本發明並不限於此。
在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者可包括第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud。詳細而言,在本實施方式中,重複單元U1中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的排列方式,重複單元U2中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的排列方式,重複單元U3中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的排列方式,與重複單元U4中的第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的排列方式彼此不相同。也就是說,在顯示裝置60中,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3與重複單元U4彼此之間的差異僅在於第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud的排列方式。如圖11所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud、第一畫素單元Ua及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U4中,第四畫素單元Ud、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
在本實施方式中,在重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。換言之,重複單元U2所包括的第一色子畫素S1於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,重複單元U2所包括的第二色子畫素S2於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,重複單元U2所包括的第三色子畫素S3於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積,和重複單元U2所包括的第四色子畫素S4於基板302上的垂直投影與遮光結構SS於基板302上的垂直投影相重疊的面積彼此實質上相等。同理,重複單元U3與重複單元U4可依此加以類推之。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置60中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率、第三色子畫素S3的總開口率及第四色子畫素S4的總開口率可彼此實質上相等。
在本實施方式中,在重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中之分別與資料線DL1重疊的子畫素彼此不相同。詳細而言,如圖11所示,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者重疊於四條資料線DL1及一條掃描線SL1,其中不論在重複單元U1中、重複單元U2中、重複單元U3中或重複單元U4中,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中的所有第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四子畫素SP4皆與掃描線SL1重疊,而第一畫素單元Ua僅第二色子畫素S2與資料線DL1重疊,第二畫素單元Ub僅第三色子畫素S3與資料線DL1重疊,第三畫素單元Uc僅第四色子畫素S4與資料線DL1重疊,且第四畫素單元Ud僅第一色子畫素S1與資料線DL1重疊。
在顯示裝置60中,每一調控電極DE可重疊於八個子畫素,例如一個第一色子畫素S1、兩個第二色子畫素S2、四個第三色子畫素S3及三個第四子畫素SP4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板300的解析度低於顯示面板600的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,當光調控面板300的解析度不同於顯示面板600的解析度時,若顯示裝置60中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此不等時,易產生彩色疊紋現象。有鑑於此,在本實施方式中,透過在重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,在顯示裝置10~60中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於一個畫素單元的寬度,且相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於一個畫素單元的長度,但本發明並不限於此。在其他實施方式中,在每一重複單元U1中的第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等的情況下,相鄰資料線DL1的水平最短距離可大於一個畫素單元的寬度,且相鄰掃描線SL1的水平最短距離可大於一個畫素單元的長度。也就是說,在能達成顯示裝置中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率彼此實質上相等的情況下,光調控面板的架構可根據實際上顯示裝置的架構、需求等進行調整。以下,將參照圖12至圖19針對其他的實施型態進行說明。在此必須說明的是,下述實施方式沿用了前述實施方式的元件符號與部分內容,其中採用相同或相似的符號來表示相同或相似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式,下述實施方式不再重複贅述。
圖12是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖12及圖2,圖12的顯示裝置70與圖2的顯示裝置10相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖12的顯示裝置70與圖2的顯示裝置10間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖9中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置70的整體結構或佈局。
請參照圖12,在顯示面板700中,每一重複單元U1可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub及兩個第三畫素單元Uc,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖12所示,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖12所示,在光調控面板800中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub或兩個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub或兩個第三畫素單元Uc)的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖12所示,在光調控面板800中,每一調控電極DE可重疊於二十一個子畫素,例如六個第一色子畫素S1、九個第二色子畫素S2及六個第三色子畫素S3。如此一來,在本實施方式中,光調控面板800的解析度低於顯示面板700的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由每一重複單元U1包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置70而言,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置70中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖13是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖13及圖6,圖13的顯示裝置80與圖6的顯示裝置20相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖13的顯示裝置80與圖6的顯示裝置20間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖13中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置80的整體結構或佈局。
請參照圖13,在顯示面板900中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub及兩個第三畫素單元Uc,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖13所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖13所示,在光調控面板1000中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub或兩個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖13所示,在光調控面板1000中,每一調控電極DE可重疊於二十一個子畫素,例如七個第一色子畫素S1、七個第二色子畫素S2及七個第三色子畫素S3。如此一來,在本實施方式中,光調控面板1000的解析度低於顯示面板900的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置80而言,在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置80中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖14是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖14及圖2,圖14的顯示裝置90與圖2的顯示裝置10相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖14的顯示裝置90與圖2的顯示裝置10間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖14中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置90的整體結構或佈局。
請參照圖14,在顯示面板1100中,每一重複單元U1可包括三個第一畫素單元Ua、三個第二畫素單元Ub及三個第三畫素單元Uc,其中三個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,三個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且三個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖14所示,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖14所示,在光調控面板1200中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於三個畫素單元(例如:三個第一畫素單元Ua、三個第二畫素單元Ub或三個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於三個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於九個畫素單元的面積。另一方面,如圖14所示,在光調控面板1200中,每一調控電極DE可重疊於四十個子畫素,例如十二個第一色子畫素S1、十六個第二色子畫素S2及十二個第三色子畫素S3。如此一來,在本實施方式中,光調控面板1200的解析度低於顯示面板1100的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由每一重複單元U1包括彼此相鄰設置的三個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的三個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的三個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於三個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置90而言,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置90中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖15是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖15及圖6,圖15的顯示裝置100與圖6的顯示裝置20相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖15的顯示裝置100與圖6的顯示裝置20間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖15中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置100的整體結構或佈局。
請參照圖15,在顯示面板1300中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者可包括三個第一畫素單元Ua、三個第二畫素單元Ub及三個第三畫素單元Uc,其中三個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,三個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且三個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖15所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
另外,圖15中僅繪示出兩個重複單元U1、一個重複單元U2及一個重複單元U3和其周圍對應的結構,然發明所屬領域中具有通常知識者應理解畫素陣列層204實際上可包括多個重複單元U1、多個重複單元U2及多個重複單元U3。另外,在本實施方式中,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U1沿資料線DL2中之一者的延伸方向依序排列,但本發明並不限於此。
如圖15所示,在光調控面板1400中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於三個畫素單元(例如:三個第一畫素單元Ua、三個第二畫素單元Ub或三個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於三個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於九個畫素單元的面積。另一方面,如圖15所示,在光調控面板1400中,每一調控電極DE可重疊於四十個子畫素,例如十三個第一色子畫素S1、十四個第二色子畫素S2及十三個第三色子畫素S3。如此一來,在本實施方式中,光調控面板1400的解析度低於顯示面板1300的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者包括彼此相鄰設置的三個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的三個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的三個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於三個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置100而言,在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置100中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖16是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖16及圖7,圖16的顯示裝置110與圖7的顯示裝置30相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖16的顯示裝置110與圖7的顯示裝置30間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖16中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置110的整體結構或佈局。
請參照圖16,在顯示面板1500中,每一重複單元U1可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub及兩個第三畫素單元Uc,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖16所示,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖16所示,在光調控面板1600中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub或兩個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖16所示,在光調控面板1600中,每一調控電極DE可重疊於二十七個子畫素,例如三個第一色子畫素S1、九個第二色子畫素S2、九個第三色子畫素S3及六個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板1600的解析度低於顯示面板1500的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由每一重複單元U1包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置110而言,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置110中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖17是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖17及圖9,圖17的顯示裝置120與圖9的顯示裝置40相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖17的顯示裝置120與圖9的顯示裝置40間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖17中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置120的整體結構或佈局。
請參照圖17,在顯示面板1700中,重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub及兩個第三畫素單元Uc,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,且兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置。詳細而言,如圖17所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖17所示,在光調控面板1800中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub或兩個第三畫素單元Uc)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖17所示,在光調控面板1800中,每一調控電極DE可重疊於二十七個子畫素,例如七個第一色子畫素S1、七個第二色子畫素S2、七個第三色子畫素S3及六個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板1800的解析度低於顯示面板1700的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub及彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置120而言,在重複單元U1、重複單元U2及重複單元U3的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置120中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率及第三色子畫素S3的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖18是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖18及圖10,圖18的顯示裝置130與圖10的顯示裝置50相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖18的顯示裝置130與圖10的顯示裝置50間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖18中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置130的整體結構或佈局。
請參照圖18,在顯示面板1900中,每一重複單元U1可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub、兩個第三畫素單元Uc及兩個第四畫素單元Ud,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置,且兩個第四畫素單元Ud彼此相鄰設置。詳細而言,如圖18所示,在每一重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud及第四畫素單元Ud沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖18所示,在光調控面板2000中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub、兩個第三畫素單元Uc或兩個第四畫素單元Ud)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖18所示,在光調控面板2000中,每一調控電極DE可重疊於二十七個子畫素,例如三個第一色子畫素S1、九個第二色子畫素S2、九個第三色子畫素S3及六個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板2000的解析度低於顯示面板1900的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由每一重複單元U1包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub、彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc及彼此相鄰設置的兩個第四畫素單元Ud,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四色子畫素S4的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置130而言,在每一重複單元U1中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置130中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率、第三色子畫素S3的總開口率及第四色子畫素S4的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
圖19是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。請同時參照圖19及圖11,圖19的顯示裝置140與圖11的顯示裝置60相似,因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施方式。以下,將就圖19的顯示裝置140與圖11的顯示裝置600間的差異處進行說明。值得注意的是,雖然圖19中未繪示出許多膜層及構件,例如黑矩陣212、調控電極DE等,但根據前文依據圖1至圖4針對顯示裝置10的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,顯示裝置140的整體結構或佈局。
請參照圖19,在顯示面板2100中,重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者可包括兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub、兩個第三畫素單元Uc及兩個第四畫素單元Ud,其中兩個第一畫素單元Ua彼此相鄰設置,兩個第二畫素單元Ub彼此相鄰設置,兩個第三畫素單元Uc彼此相鄰設置,且兩個第四畫素單元Ud彼此相鄰設置。詳細而言,如圖19所示,在重複單元U1中,第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud及第四畫素單元Ud沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U2中,第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud、第四畫素單元Ud、第一畫素單元Ua及第一畫素單元Ua沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;在重複單元U3中,第三畫素單元Uc、第三畫素單元Uc、第四畫素單元Ud、第四畫素單元Ud、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第二畫素單元Ub沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列;且在重複單元U4中,第四畫素單元Ud、第四畫素單元Ud、第一畫素單元Ua、第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第三畫素單元Uc沿掃描線SL2中之一者的延伸方向依序排列。
如圖19所示,在光調控面板2200中,相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元(例如:兩個第一畫素單元Ua、兩個第二畫素單元Ub、兩個第三畫素單元Uc或兩個第四畫素單元Ud)的寬度,相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的長度,且每一調控電極DE對應於四個畫素單元的面積。另一方面,如圖19所示,在光調控面板2200中,每一調控電極DE可重疊於二十七個子畫素,例如六個第一色子畫素S1、六個第二色子畫素S2、七個第三色子畫素S3及八個第四色子畫素S4。如此一來,在本實施方式中,光調控面板2200的解析度低於顯示面板2100的解析度,以避免降低開口率。
值得說明的是,在本實施方式中,藉由重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者包括彼此相鄰設置的兩個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的兩個第二畫素單元Ub、彼此相鄰設置的兩個第三畫素單元Uc及彼此相鄰設置的兩個第四畫素單元Ud,第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub、第三畫素單元Uc及第四畫素單元Ud中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2、第三色子畫素S3及第四色子畫素S4的排列方式彼此不相同,且相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個畫素單元的寬度,就整個顯示裝置140而言,在重複單元U1、重複單元U2、重複單元U3及重複單元U4的每一者中,第一色子畫素S1之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素S2之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、第三色子畫素S3之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積、與第四色子畫素S4之被遮光結構SS遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。如此一來,在黑矩陣212及遮光結構SS一起的遮蔽作用下,顯示裝置140中的第一色子畫素S1的總開口率、第二色子畫素S2的總開口率、第三色子畫素S3的總開口率及第四色子畫素S4的總開口率可彼此實質上相等,藉此避免或降低彩色疊紋現象。其餘部分請參考前述實施方式,在此不贅述。
另外,雖然前文圖12至圖19僅揭示了相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於兩個或三個畫素單元的寬度且相鄰掃描線SL1的水平最短距離約等於兩個或三個畫素單元的長度的實施方式,但根據前文針對顯示裝置10~140的描述,任何所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,在相鄰資料線DL1的水平最短距離約等於N個畫素單元的寬度,其中N為2以上的整數的情況下,透過顯示裝置中的每一重複單元至少包括彼此相鄰設置的N個第一畫素單元Ua、彼此相鄰設置的N個第二畫素單元Ub、及彼此相鄰設置的N個第三畫素單元Uc,且第一畫素單元Ua、第二畫素單元Ub及第三畫素單元Uc中的第一色子畫素S1、第二色子畫素S2及第三色子畫素S3的排列方式彼此不相同,可使得顯示裝置能夠避免或降低產生彩色疊紋現象。
綜上所述,在本發明之至少一實施方式的顯示裝置中,透過位於背光模組上的光調控面板包括遮光結構及多個調控電極,且位於光調控面板上的顯示面板包括具有至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元的重複單元,至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元的每一者包括第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素,其中第一畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式,第二畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式與第三畫素單元中的第一色子畫素、第二色子畫素及第三色子畫素的排列方式彼此不相同,且重複單元中的第一色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、第二色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與第三色子畫素之被遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等,使得顯示裝置能夠具有高對比度、良好的穿透率且避免或降低產生彩色疊紋現象。
雖然本發明已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、110、120、130、140:顯示裝置 200、500、600、700、900、1100、1300、1500、1700、1900、2100:顯示面板 202、214、302、310:基板 204:畫素陣列層 206、306:液晶層 208、308:共用電極層 210:彩色濾光層 212、BM:黑矩陣 300、400、800、1000、1200、1400、1600、1800、2000、2200:光調控面板 304:元件層 BL:背光模組 C1:彎折部 CF1:第一色濾光圖案 CF2:第二色濾光圖案 CF3:第三色濾光圖案 CF4:第四色濾光圖案 DE:調控電極 DL1、DL2:資料線 K:區域 P1、P2、P3:偏光結構 PE:畫素電極 SE:條狀電極 SL1、SL2:掃描線 S1:第一色子畫素 S2:第二色子畫素 S3:第三色子畫素 S4:第四色子畫素 SS:遮光結構 T1、T2:主動元件 U1、U2、U3、U4:重複單元 Ua:第一畫素單元 Ub:第二畫素單元 Uc:第三畫素單元 Ud:第四畫素單元
圖1是依照本發明的一實施方式的顯示裝置的剖面示意圖。 圖2是依照本發明的一實施方式的顯示面板的畫素陣列層與光調控面板的元件層的重疊關係示意圖。 圖3是依照本發明的一實施方式的顯示面板的局部上視示意圖。 圖4是依照本發明的一實施方式的光調控面板的局部上視示意圖。 圖5是依照本發明的另一實施方式的光調控面板的局部上視示意圖。 圖6是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖7是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖8是依照本發明的另一實施方式的顯示面板的局部上視示意圖。 圖9是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖10是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖11是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖12是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖13是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖14是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖15是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖16是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖17是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖18是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。 圖19是依照本發明的另一實施方式的顯示裝置的局部上視示意圖。
204:畫素陣列層
304:元件層
DL1、DL2:資料線
K:區域
SL1、SL2:掃描線
S1:第一色子畫素
S2:第二色子畫素
S3:第三色子畫素
U1:重複單元
Ua:第一畫素單元
Ub:第二畫素單元
Uc:第三畫素單元

Claims (20)

  1. 一種顯示裝置,包括:一背光模組;一光調控面板,配置於該背光模組上且包括:一遮光結構;多個第一主動元件;以及多個調控電極,分別與該些第一主動元件中的一者電性連接;以及一顯示面板,配置於該光調控面板上且包括一第一重複單元,該第一重複單元包括至少一第一畫素單元、至少一第二畫素單元及至少一第三畫素單元,該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元的每一者包括一第一色子畫素、一第二色子畫素及一第三色子畫素,其中該第一畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素及該第三色子畫素的排列方式,該第二畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素及該第三色子畫素的排列方式與該第三畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素及該第三色子畫素的排列方式彼此不相同,其中該第一重複單元中的該些第一色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第二色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與該些第三色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該些第一色子畫素、該些第二色子畫素及該些第三色子畫素中的一者的面積為A,且該者被該遮光結構遮蔽的遮蔽面積為B,0%<B/A<65%。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該顯示面板更包括一第二重複單元,該第二重複單元包括該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元,其中該第一重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元的排列方式與該第二重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元的排列方式彼此不相同。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的顯示裝置,其中該第二重複單元中的該些第一色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第二色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積與該些第三色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該第一重複單元包括多個第一畫素單元、多個第二畫素單元及多個第三畫素單元,所述多個第一畫素單元彼此相鄰設置,所述多個第二畫素單元彼此相鄰設置,及所述多個第三畫素單元彼此相鄰設置。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元分別更包括一第四色子畫素,其中該第一畫素單元中的該第一色 子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式、該第二畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式、以及該第三畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式彼此不相同。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中該顯示面板更包括一第二重複單元,該第二重複單元包括該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元,其中該第一重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元的排列方式與該第二重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元及該至少一第三畫素單元的排列方式彼此不相同。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的顯示裝置,其中該第二重複單元中的該些第一色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第二色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積與該些第三色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
  9. 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中該第一重複單元包括多個第一畫素單元、多個第二畫素單元及多個第三畫素單元,所述多個第一畫素單元彼此相鄰設置,所述多個第二畫素單元彼此相鄰設置,及所述多個第三畫素單元彼此相鄰設置。
  10. 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中該第一重複單元更包括至少一第四畫素單元,該至少一第四畫素單元包 括該第一色子畫素、該第二色子畫素、第三色子畫素及該第四色子畫素,其中該第一畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式、該第二畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式、該第三畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式以及該第四畫素單元中的該第一色子畫素、該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第四色子畫素的排列方式彼此不相同。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置,其中該第一重複單元中的該些第一色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第二色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第三色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與該些第四色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
  12. 如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置,其中該顯示面板更包括一第二重複單元,該第二重複單元包括該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元、該至少一第三畫素單元及該至少一第四畫素單元,其中該第一重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元、該至少一第三畫素單元及該至少一第四畫素單元的排列方式與該第二重複單元中的該至少一第一畫素單元、該至少一第二畫素單元、該至少一第三畫素單元及該至少一第四畫素單元的排列方式彼此不相同。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的顯示裝置,其中該第二重複單元中的該些第一色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第二色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、該些第三色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積、與該些第四色子畫素之被該遮光結構遮蔽的總遮蔽面積實質上相等。
  14. 如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置,其中該第一重複單元包括多個第一畫素單元、多個第二畫素單元、多個第三畫素單元以及多個第四畫素單元,所述多個第一畫素單元彼此相鄰設置,所述多個第二畫素單元彼此相鄰設置,所述多個第三畫素單元彼此相鄰設置,及所述多個第四畫素單元彼此相鄰設置。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中該遮光結構包括多條第一掃描線以及多條第一資料線,該些第一主動元件分別與該些第一掃描線中的一者及該些第一資料線中的一者電性連接。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的顯示裝置,其中該遮光結構更包括一黑矩陣,重疊於該些第一掃描線以及該些第一資料線。
  17. 如申請專利範圍第15項所述的顯示裝置,其中該顯示面板更包括:多條第二掃描線以及多條第二資料線,其中該些第一色子畫素、該些第二色子畫素及該些第三色子畫素分別與該些第二掃描線中的一者及該些第二資料線中的一者電性連接,且該些第一掃 描線的延伸方向與該些第二掃描線的延伸方向平行,該些第一資料線的延伸方向與該些第二資料線的延伸方向平行;以及多個第一色濾光圖案、多個第二色濾光圖案及多個第三色濾光圖案,分別對應該些第一色子畫素、該些第二色子畫素及該些第三色子畫素設置。
  18. 如申請專利範圍第17項所述的顯示裝置,其中在該至少一第一畫素單元中,該第一色子畫素、該第二色子畫素及該第三色子畫素沿該些第二掃描線中之一者的延伸方向依序排列;在該至少一第二畫素單元中,該第二色子畫素、該第三色子畫素及該第一色子畫素沿該些第二掃描線中之一者的延伸方向依序排列;在該至少一第三畫素單元中,該第三色子畫素、該第一色子畫素及該第二色子畫素沿該些第二掃描線中之一者的延伸方向依序排列,以及其中該些第一色濾光圖案為紅色、該些第二色濾光圖案為綠色及該些第三色濾光圖案為藍色。
  19. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置,其中各該調控電極對應該些第一色子畫素中的至少一者、該些第二色子畫素中的至少一者及該些第三色子畫素中的至少一者設置。
  20. 如申請專利範圍第19項所述的顯示裝置,其中該光調控面板更包括一第一液晶層,重疊於該些調控電極;以及 該顯示面板更包括一第二液晶層,重疊於該第一重複單元,其中每一第一色子畫素、每一第二色子畫素及每一第三色子畫素分別包括:一第二主動元件;以及一畫素電極,與該第二主動元件電性連接。
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