TWI664500B

TWI664500B - 黑色感光性樹脂組成物及其應用

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Publication number: TWI664500B
Application number: TW105120837A
Authority: TW
Inventors: 周泓佳; 廖豪偉
Original assignee: 奇美實業股份有限公司
Priority date: 2016-06-30
Filing date: 2016-06-30
Publication date: 2019-07-01
Also published as: TW201800857A; CN107561859A

Abstract

本發明係有關一種黑色感光性樹脂組成物，及使用該黑色感光性樹脂組成物所形成之黑色矩陣及/或黑色間隙體以製造彩色濾光片及液晶顯示元件。上述感光性樹脂組成物包含鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、溶劑(D)及黑色顏料(E)。根據本發明之黑色感光性樹脂組成物所形成之黑色矩陣及/或黑色間隙體具有無顯影殘渣之優點。

Description

黑色感光性樹脂組成物及其應用

本發明係有關一種黑色感光性樹脂組成物，及使用該黑色感光性樹脂組成物所形成之黑色矩陣及/或黑色間隙體以製造彩色濾光片及液晶顯示元件；特別是提供一種黑色感光性樹脂組成物及其應用，該黑色感光性樹脂組成物所形成之黑色矩陣及/或黑色間隙體具有無顯影殘渣之優點。

近年來，隨著液晶顯示器之各種技術的蓬勃發展，且為了提高液晶顯示器的對比度及顯示品質，通常會設置黑色矩陣(black matrix)於液晶顯示器中之彩色濾光片的條紋(stripe)及點(dot)間之間隙中。該黑色矩陣可防止畫素間之漏光(light leakage)所引起的對比度(contrast ratio)下降及色純度(color purity)下降等之缺陷。此外，為確保兩基板(例如彩色濾光片和TFT基板)間保有一定的間隔(晶胞間隙；cell gap)，在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等顯示裝置中會使用間隙體(spacer)。

一般而言，黑色矩陣可為具有鉻或氧化鉻等之蒸鍍膜。然而，以前述之蒸鍍膜製作黑色矩陣時，其具有製程複雜且材料昂貴等之缺點。而一般間隙體的形成方法為將顆粒狀的間隙體散佈於基板的整個表面。然而，利用上述方法所形成的間隙體無法達到良好的位置精準度。此外，由於畫素顯示的部分也會有粒狀的間隙體附著，而造成圖案對比度和畫質下降。

以下列舉習知前案為解決黑色矩陣與黑色間隙體所提出的方法，以及其未能克服的問題。

首先，在黑色矩陣方面，為了解決黑色矩陣所遭遇的問題，發展出藉由光平版印刷(photo lithographic)技術形成黑色矩陣的技術。日本專利特開第2006-259716號公報揭示一種黑色矩陣用之感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物包含高使用量的黑色顏料、鹼可溶性樹脂、光聚合起始劑、具有二官能基的反應性單體及有機溶劑。該具有二官能基的反應性單體可改善化合物之間的反應，而可形成精細的圖案(fine pattern)。因此，所製得之感光性樹脂組成物具有良好之遮光性及感度。

其次，日本專利特開第2008-268854號公報揭示一種黑色矩陣用的感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物包含具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂、具有乙烯性不飽和基之光聚合單體、光聚合起始劑及高使用量的黑色顏料。上述具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂可改善感光性樹脂組成物之解析度。

另一方面，為解決上述黑色間隙體所遭遇的問題，提出各種以感光性樹脂組成物形成間隙體的方法。該方法係將感光性樹脂組成物塗佈於基板上，以具有預定圖案之光罩進行曝光及顯影後，形成條狀的間隙體。除了畫素顯示的部分外，還可在其他預定區域形成間隙體。此外，在日本特開2011-170075號申請案中，提出可將碳黑(Carbon Black)等遮光劑加入間隙體中，以製得具有遮光性之黑色間隙體。

將元件形成於基板上之TFT基板等各種基板，常應用於液晶顯示裝置等顯示裝置。在使用TFT基板時，必須將黑色條狀間隙體形成於其所對應之基板的元件上，或者是相對上述基板的另一基板之元件上。在這樣的情況中，為考慮元件的高度，在元件所形成的部分或是其他部分，需改變黑色條狀間隙體的高度。

在上述的情況中，改變形成黑色條狀間隙體之曝光量可一次形成不同高度的黑色條狀間隙體。較佳地，上述方法係以半色調光罩(half-tone mask)進行。

然而，現今業界對黑色矩陣及黑色間隙體的顯影殘渣要求提高，使得前述感光性樹脂組成物所製得之黑色間隙體及黑色矩陣在不同顯影條件下易有殘渣產生之問題的發生，而無法為業界所接受。

因此，如何使黑色感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣及黑色間隙體無顯影殘渣，以達到目前業界的要求，為本發明所屬技術領域中努力研究之目標。

本發明利用提供含有特殊鹼可溶性樹脂及黑色顏料之黑色感光性樹脂組成物，而得到由此黑色感光性樹脂組成物所形成之無顯影殘渣之黑色矩陣及黑色間隙體。

因此，本發明提供一種黑色感光性樹脂，其包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；及黑色顏料(E)，其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一第一鹼可溶性樹脂(A-1)，其中該第一第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有如式(I)所示之結構：

於式(I)中，A₁及A₂分別獨立地表示氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基；及該黑色顏料(E)包含一第一黑色顏料(E-1)，其中該第一黑色顏料(E-1)包含一具有式(E-I)所示之化合物、其幾何異構物、其鹽、或其幾何異構物之鹽：

於式(E-I)中，R^1e及R^6e相互獨立為氫原子、CH₃、CF₃、氟原子或氯原子；R^2e、R^3e、R^4e、R^5e、R^7e、R^8e、R^9e及R^10e係和其他全部相互獨立為氫原子、鹵素原子、R^11e、COOH、COOR^11e、COO-、CONH₂、CONHR^11e、CONR^11eR^12e、CN、OH、OR^11e、COCR^11e、OOCNH₂、OOCNHR^11e、OOCNR^11eR^12e、NO₂、NH₂、NHR^11e、NR^11eR^12e、NHCOR^12e、NR^11eCOR^12e、N=CH₂、N=CHR^11e、N=CR^11eR^12e、SH、SR^11e、SOR^11e、SO₂R^11e、SO₃R^11e、SO₃H、SO₃-、SO₂NH₂、SO₂NHR^11e或SO₂NR^11eR^12e；且選自由R^2e與R^3e、R^3e與R^4e、R^4e與R^5e、R^7e與R^8e、R^8e與R^9e、及R^9e與R^10e所組成之群組中之至少1個組合，係為相互直接鍵結，或者藉由氧原子、硫原子、NH或NR^11e橋接而相互鍵結；R^11e及R^12e相互獨立為碳數1至12之烷基、碳數3至12之環烷基、碳數2至12之烯基、碳數3至12之環烯基或碳數2至12之炔基。

本發明亦提供一種黑色矩陣及黑色間隙體，其係藉由前述之黑色感光性樹脂組成物經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理所形成。

本發明又提供一種彩色濾光片，係包含前述之黑色矩陣及/或黑色間隙體。

本發明再提供一種液晶顯示元件，係包含前述之彩色濾光片。

本發明提供一種黑色感光性樹脂，其包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；及黑色顏料(E)，其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一第一鹼可溶性樹脂(A-1)，其中該第一第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有如式(I)所示之結構：

根據本發明之鹼可溶性樹脂(A)可包含第一鹼可溶性樹脂(A-1)。其次，該鹼可溶性樹脂(A)可選擇性地包含第二鹼可溶性樹脂(A-2)，另可選擇性地包含其他鹼可溶性樹脂(A-3)。

該第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有如下式(I)所示之結構：

於式(I)中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基。

在一實施例中，第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有至少一個乙烯性不飽和基。

當本發明之黑色感光性樹脂組成物含有第一鹼可溶性樹脂(A-1)，且該第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有至少一個乙烯性不飽和基時，則由此黑色感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣及黑色間隙體，可進一步改善無顯影殘渣。

該第一鹼可溶性樹脂(A-1)可由第一混合物反應所製得，且該第一混合物係由具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)所共聚合而成之一共聚合物。

該乙烯性不飽和單體具有如下式(I-1)所示之結構：

於式(I-1)中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基。

該乙烯性不飽和單體可具有如下式(I-2-1)及式(I-2-2)所示之結構：

於式(I-2-1)及式(I-2-2)中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基。該乙烯性不飽和單體可為具有α-羥甲基丙烯酸或其酯化物經醚二聚化所形成之醚二聚體，亦即該乙烯性不飽和單體具有至少一個醚基。

前述之醚二聚體藉由環化之聚合反應可形成具有如下式(I-3-1)或式(I-3-2)所示之結構的聚合物：

於式(I-3-1)或式(I-3-2)中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基。

該具有如式(I-3-1)或式(I-3-2)所示之結構的聚合物具有由醚二聚體所衍生之四氫吡喃環結構。

於式(I-1)所示之結構中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基，該A₁及A₂並沒有特別之限制，該A₁及A₂可例如為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基或2-乙基己基等直鏈烷基或支鏈烷基；苯基等之芳香基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基或2-甲基-2-金剛烷基等之脂環基；1-甲氧基乙基或1-乙氧基乙基等具有烷氧基取代之烷基；芐基等具有芳香基取代之烷基。該A₁及A₂較佳可為甲基、乙基、環己基或芐基等。該A₁及A₂更佳可為甲基或乙基。

前述之A₁及A₂可為相同之取代基或不同之取代基。基於提升聚合物之透明度及耐熱性的觀點，A₁及A₂較佳為相同之取代基，以形成對稱之醚二聚體。基於儲存安定性之觀點，A₁及A₂較佳為不同之取代基，以形成不對稱之醚二聚體。醚二聚體較佳可為例如：2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-丙烯酸或二烷基-2,2’[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯。

前述對稱之醚二聚體的具體例可為2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-丙烯酸、二甲基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丙基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(十二烷基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸、二(2-乙基己基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基-乙基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二芐基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(二環戊二烯基)2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(三環癸基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異冰片基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯或二(2-甲基-2-金剛烷基)-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。

較佳地，對稱之醚二聚體可為二甲基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二芐基-2,2’-[氧雙(亞甲基)] 雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯或二(二環戊二烯基)2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。

更佳地，對稱之醚二聚體可為二甲基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯或二芐基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。

上述具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)可單獨一種使用或混合複數種使用。

基於具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)，以及後述具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)與其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)之總使用量為100重量份，該具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)之使用量為5重量份至50重量份，較佳為10重量份至45重量份，且更佳為15重量份至40重量份。

該具有至少一個羧酸之乙烯性不飽和單體(a-1-2)可包含但不限於不飽和單羧酸化合物、不飽和多羧酸化合物、具有不飽和基及一個羧酸基之多環化合物或具有不飽和基及多個羧酸基之多環化合物。

前述之不飽和單羧酸化合物可包含但不限於(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯醯乙氧基丁二酸酯(2-methacryloyloxyethyl succinate monoester)、2-(甲基)丙烯醯乙氧基六氫化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯乙氧基苯二甲酸酯或omega-羧酸基聚己內酯多元醇單丙烯酸酯等。該omega-羧酸基聚己內酯多元醇單丙烯酸酯可為東亞合成製造且型號為ARONIX M-5300之商品。

前述不飽和多羧酸化合物可包含但不限於馬來酸、富馬酸、甲基富馬酸、衣康酸或檸康酸等。

前述具有不飽和基及一個羧酸基之多環化合物可包含但不限於5-羧酸基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯或5-羧酸基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯等。

前述具有不飽和基及多個羧酸基的多環化合物可例如5,6-二羧酸基二環[2.2.1]庚-2-烯等。

較佳地，該具有至少一個羧酸之乙烯性不飽和單體是選自於丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯乙氧基丁二酸酯、2-甲基丙烯醯基乙氧基六氫化苯二甲酸酯或上述化合物之任意組合。

該具有至少一個羧酸酐之乙烯性不飽和單體可包含但不限於不飽和羧酸酐化合物或具有不飽和基與羧酸酐的多環化合物。

前述不飽和羧酸酐化合物可包含但不限於馬來酸酐、富馬酸酐、甲基富馬酸酐、衣康酸酐或檸康酸酐等，且前述具有不飽和基及羧酸酐的多環化合物可包含但不限於5,6-二羧酸酐二環[2.2.1]庚-2-烯等。

較佳地，該具有至少一個羧酸酐之乙烯性不飽和單體可為馬來酸酐或甲基富馬酸酐。

上述具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)可單獨一種使用或混合複數種使用。

基於具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)與具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)，以及後述其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)之總使用量為100重量份，該具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)之使用量為5重量份至40重量份，較佳為10重量份至35重量份，且更佳為15重量份至30重量份。

該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)可包含但不限於(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂環族酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸酯、(甲基)丙烯酸烴烷酯、具有(甲基)丙烯酸酯基的聚醚、苯乙烯化合物或上述化合物以外之不飽和化合物。

前述之(甲基)丙烯酸烷基酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁基酯或(甲基)丙烯酸第三丁基酯等。

前述之(甲基)丙烯酸脂環族酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基環己酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯{或稱三環[5.2.1.02,6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯}、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯或(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯等。

前述之(甲基)丙烯酸芳基酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸苯基酯或甲基丙烯酸苯甲酯等。

前述之不飽和二羧酸酯可包含但不限於馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯或衣康酸二乙酯等。

前述之(甲基)丙烯酸羥烷酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯或(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯等。

前述具有(甲基)丙烯酸酯基的聚醚可包含但不限於聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯或聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。

前述之苯乙烯系化合物可包含但不限於苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯，對-甲基苯乙烯或對-甲氧基苯乙烯等。

前述化合物以外之不飽和化合物可包含但不限於丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙烯乙酯、1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基1,3-丁二烯、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺苯甲酸酯、N-丁二醯亞胺基-4-馬來醯亞胺丁酸酯、N-丁二醯亞胺基-6-馬來醯亞胺己酸酯、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)馬來醯亞胺、N-辛基馬來醯亞胺(N-octylmaleimide)、N-環己基馬來醯亞胺(N-cyclohexylmaleimide)或N-苯基馬來醯亞胺(N-phenylmaleimide)等。

該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)可單獨一種使用或混合複數種使用。

較佳地，該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)是選自於(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯、甲基丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、苯乙烯、對-甲氧基苯乙烯或上述化合物之任意組合。

基於具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)之總使用量為100重量份，該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)之使用量為10重量份至90重量份，較佳為20重量份至80重量份，且更佳為30重量份至70重量份。

於本發明之另一實施例中，該第一鹼可溶性樹脂(A-1)係先將具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)與其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)進行雙鍵共聚合反應，以形成一聚合物，其中此聚合物之側鏈具有羧酸基。然後，此聚合物之側鏈中的羧酸基與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)進行加成反應，而製得該第一鹼可溶性樹脂(A-1)，則該第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有至少一個乙烯性不飽和基。

該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)可包含但不限於具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有環氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物或環氧丙醚化合物等。

前述具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物可包含但不限於(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基環氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯或(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等。

前述具有環氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物可包含但不限於α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丁基丙烯酸環氧丙酯或α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯等。

前述之環氧丙醚化合物可包含但不限於鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚(o-vinylbenzylglycidyl ether)、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚(m-vinylbenzyl glycidylether)或對-乙烯基苯甲基環氧丙醚(p-vinyl benzylglycidylether)等。

該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)可單獨一種使用或混合複數種使用。

較佳地，該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)是選自於甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸2-甲基環氧丙酯、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸6,7-環氧庚酯、鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚、對-乙烯基苯甲基環氧丙醚或上述化合物之任意組合。

基於具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)之總使用量為100重量份，該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)之使用量為1重量份至35重量份，較佳為3重量份至30重量份，且更佳為5重量份至25重量份。

在另一實施例中，該第一鹼可溶性樹脂(A-1)係先將具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)進行雙鍵共聚合反應，以形成一聚合物，其中此聚合物之側鏈具有環氧基。然後，此聚合物之側鏈中的環氧基與具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)進行加成反應，而製得該第一鹼可溶性樹脂(A-1)。

在又一實施例中，該第一鹼可溶性樹脂(A-1)係先將具有如式(I-1)所示之結構之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)進行雙鍵共聚合反應，以形成一聚合物，其中此聚合物之側鏈具有環氧基。然後，此聚合物之側鏈中的環氧基與具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)進行加成反應後，進一步與酸酐類化合物進行半酯化反應，而製得該第一鹼可溶性樹脂(A-1)。

所製得之第一鹼可溶性樹脂(A-1)藉由膠體滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography；GPC)測定之聚苯乙烯換算的重量平均分子量一般為1,000至35,000，較佳為3,000至30,000，且更佳為5,000至25,000。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該第一鹼可溶性樹脂(A-1)之使用量為45重量份至100重量份，較佳為50重量份至90重量份，且更佳為55重量份至80重量份。

根據本發明之鹼可溶性樹脂(A)可選擇性地包含第二鹼可溶性樹脂(A-2)。該第二鹼可溶性樹脂(A-2)可由第二混合物進行聚合反應所製得，且第二混合物包含具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-2-1)及具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-2-2)。此外，該第二混合物可選擇性地包含羧酸酐化合物(a-2-3)及/或具有環氧基的化合物(a-2-4)。

該具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-2-1)可具有如下式(III)或式(IV)所示之結構。其中，「環氧化合物(a-2-1)可具有如下式 (III)或式(IV)所示之結構」的敘述亦涵蓋了具有如下式(III)所示之結構的化合物及具有如下式(IV)所示之結構的化合物同時存在而作為環氧化合物(a-2-1)的情形。具體而言，前述具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)，例如是具有如下式(III)所示之結構：

於式(III)中，B₁、B₂、B₃及B₄分別為相同或不同，且B₁、B₂、B₃及B₄分別表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至5之烷基、碳數為1至5之烷氧基、碳數為6至12之芳香基或碳數為6至12之芳烷基。

如式(III)所示之結構之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)可包含由雙酚芴型化合物(bisphenol fluorene)與鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)反應而得之含環氧基之雙酚芴型化合物，但並不限於此。

前述雙酚芴型化合物之具體例可包含但不限於9,9-雙(4-羥基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-氯苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-chlorophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-bromophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-氟苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-fluorophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-甲氧基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methoxyphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二氯苯基) 芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl)fluorene]或9,9-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)fluorene]等化合物。

前述鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)之具體例可包含但不限於3-氯-1,2-環氧丙烷(epichlorohydrin)或3-溴-1,2-環氧丙烷(epibromohydrin)等。

該由雙酚芴型化合物與鹵化環氧丙烷反應所製得之具有環氧基之雙酚芴型化合物可包含但不限於：(1)新日鐵化學(Nippon Steel Chemical Co.,Ltd)所製造之商品，且其型號為ESF-300等；(2)大阪瓦斯(Osaka Gas Co.,Ltd)所製造之商品，且其型號為PG-100或EG-210等；(3)短信科技(S.M.S Technology Co.,Ltd)所製造之商品，且其型號為SMS-F9PhPG、SMS-F9CrG或SMS-F914PG等。

於式(IV)中，B₅至B₁₈分別為相同或不同，B₅至B₁₈分別氫原子、鹵素原子、碳數為1至8之烷基或碳數為6至15之芳香基，且a代表0至10之整數。

如式(IV)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)可例如是藉由在鹼金屬氫氧化物存在下，使具有如下式(IV-1)所示之結構之化合物與鹵化環氧丙烷進行反應而得：

於式(IV-1)中，B₅至B₁₈之定義如前所述，在此不另贅述。

再者，前述如式(IV)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)可例如是在酸觸媒存在下，使用具有如下式(IV-2)所示之結構之化合物與酚(phenol)類進行縮合反應，以形成具有如式(IV-1)所示之結構之化合物。接著，藉由加入過量的鹵化環氧丙烷進行脫鹵化氫反應(dehydrohalogenation)，而獲得如式(IV)所示之結構之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)：

於式(IV-2)中，B₇至B₁₀之定義如前所述，在此不另贅述。B₁₉及B₂₀分別獨立地代表鹵原子、碳數為1至6的烷基或碳數為1至6的烷氧基。

較佳地，該鹵素原子可例如為氯原子或溴原子；該烷基可例如為甲基、乙基或第三丁基；且該烷氧基可例如為甲氧基或乙氧基。

前述酚類之具體例可包含但不限於酚(phenol)、甲酚(cresol)、乙酚(ethylphenol)、n-丙酚(n-propylphenol)、異丁酚(isobutylphenol)、t-丁酚(t-butylphenol)、辛酚(octylphenol)、壬基苯酚(nonylphenol)、茬酚(xylenol)、甲基丁基苯酚(methyl butylphenol)、二第三丁基酚(di-t-butylphenol)、乙烯苯酚(vinylphenol)、丙烯苯酚(propenylphenol)、乙炔苯酚(ethinylphenol)、環戊苯酚(cyclopentylphenol)、環己基酚(cyclohexylphenol)或環己基甲酚(cyclohexyl cresol)等。上述酚類可單獨一種使用或混合複數種使用。

基於前述具有如式(IV-2)所示之結構的化合物之使用量為1莫耳，酚類之使用量為0.5莫耳至20莫耳，且較佳為2莫耳至15莫耳。

該酸觸媒之具體例可包含鹽酸、硫酸、對甲苯磺酸(p-toluenesulfonic acid)、草酸(oxalic acid)、三氟化硼(boron trifluoride)、無水氯化鋁(aluminium chloride anhydrous)或氯化鋅(zinc chloride)等。該酸觸媒較佳可為對甲苯磺酸、硫酸、鹽酸或上述化合物之任意組合。該酸觸媒可單獨一種使用或混合複數種使用。

該酸觸媒之使用量雖無特別之限制，惟基於前述具有如式(IV-2)所示之結構的化合物之使用量為100重量百分比，酸觸媒之使用量較佳可為0.1重量百分比至30重量百分比。

前述之縮合反應可在無溶劑或在有機溶劑之存在下進行。該有機溶劑之具體例可包含但不限於甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)或甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等。上述的有機溶劑可單獨一種使用或混合複數種使用。

基於前述具有如式(IV-2)所示之結構的化合物及酚類之總使用量為100重量百分比，該有機溶劑之使用量為50重量百分比至300重量百分比，且較佳為100重量百分比至250重量百分比。前述縮合反應之操作溫度可為40℃至180℃，且操作時間可為1小時至8小時。

進行前述之縮合反應後，可進一步進行中和處理或水洗處理。

該中和處理係將反應後之溶液的pH值調整為3至7，且較佳為5至7。

該水洗處理可使用中和劑進行，且此中和劑為鹼性物質。該中和劑之具體例可包含但不限於氫氧化鈉(sodium hydroxide)或氫氧化鉀(potassium hydroxide)等之鹼金屬氫氧化物；氫氧化鈣(calcium hydroxide)或氫氧化鎂(magnesium hydroxide)等之鹼土類金屬氫氧化物；二伸乙三胺(diethylene triamine)、三伸乙四胺(triethylenetetramine)、苯胺(aniline)或苯二胺(phenylene diamine)等之有機胺；氨(ammonia)、磷酸二氫鈉(sodium dihydrogen phosphate)或上述化合物之任意組合。該中和劑可單獨一種使用或混合複數種使用。

該水洗處理可採用習知方法進行。例如：在反應後的溶液中加入具有中和劑的水溶液，並且反覆進行萃取。經中和處理或水洗處理後，可藉由減壓加熱處理去除未反應的酚類及溶劑，並進行濃縮，而可獲得具有如式(IV-1)所示之結構的化合物。

前述鹵化環氧丙烷的具體例可包含但不限於3-氯-1,2-環氧丙烷(3-chloro-1,2-epoxypropane)、3-溴-1,2-環氧丙烷(3-bromo-1,2-epoxypropane)或上述化合物之任意組合。

進行上述的脫鹵化氫反應前，可預先添加或於反應過程中添加氫氧化鈉或氫氧化鉀等之鹼金屬氫氧化物。

上述脫鹵化氫反應的操作溫度可為20℃至120℃，且其操作時間可為1小時至10小時。

前述脫鹵化氫反應所添加之鹼金屬氫氧化物可為鹼金屬氫氧化物水溶液。在此實施例中，將該鹼金屬氫氧化物水溶液連續地添加至脫鹵化氫反應系統內，並於減壓或常壓下，連續蒸餾出水及鹵化環氧丙烷，以分離並除去水。鹵化環氧丙烷係連續地回流至反應系統內。

進行上述的脫鹵化氫反應前，反應系統可添加氯化四甲銨(tetramethyl ammonium chloride)、溴化四甲銨(tetramethyl ammonium bromide)或三甲基苄基氯化銨(trimethyl benzyl ammonium chloride)等之四級銨鹽作為觸媒。在50℃至150℃下，反應1小時至5小時後，加入鹼金屬氫氧化物或其水溶液。接著，於20℃至120℃的溫度下，進行脫鹵化氫反應1小時至10小時。

基於前述具有如式(IV-1)所示之結構的化合物中之羥基總當量為1當量，該鹵化環氧丙烷的使用量可為1當量至20當量，且較佳可為2當量至10當量。

基於前述具有如式(IV-1)所示之結構的化合物中之羥基總當量為1當量，脫鹵化氫反應中所添加的鹼金屬氫氧化物的使用量可為0.8當量至15當量，且較佳可為0.9當量至11當量。

此外，為了使脫鹵化氫反應順利進行，反應系統可添加甲醇或乙醇等之醇類。其次，反應系統亦可添加二甲碸(dimethyl sulfone)或二甲亞碸(dimethyl sulfoxide)等之非質子性(aprotic)極性溶媒進行反應。

在使用醇類的情況下，基於前述鹵化環氧丙烷之總使用量為100重量百分比，該醇類的使用量可為2重量百分比至20重量百分比，且較佳可為4重量百分比至15重量百分比。

在使用非質子性極性溶媒的情況下，基於鹵化環氧丙烷的總使用量為100重量百分比，非質子性極性溶媒的使用量為5重量百分比至100重量百分比，且較佳為10重量百分比至90重量百分比。

進行脫鹵化氫反應後，產物可選擇性地進行水洗處理，並利用減壓蒸餾的方式除去鹵化環氧丙烷、醇類及非質子性極性溶媒。該減壓蒸餾可於溫度為110℃至250℃且壓力為1.3kPa[10毫米汞柱(mmHg)]以下進行。

為了避免所製得之環氧樹脂具有加水分解性的鹵素，進行脫鹵化氫反應後之溶液可加至甲苯或甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等之溶劑以及氫氧化鈉或氫氧化鉀等之鹼金屬氫氧化物水溶液中，並再次進行脫鹵化氫反應。

於該脫鹵化氫反應中，基於前述具有如式(IV-1)所示之結構的化合物中之羥基總當量為1當量，鹼金屬氫氧化物之使用量可為0.01莫耳至0.3莫耳，且較佳可為0.05莫耳至0.2莫耳。其次，前述脫鹵化氫反應之操作溫度可為50℃至120℃，且其操作時間可為0.5小時至2小時。

完成脫鹵化氫反應後，鹽類可藉由過濾及水洗等步驟去除，並利用減壓蒸餾的方式除去甲苯或甲基異丁基酮等之溶劑，即可製得具有如式(IV)所示之結構的化合物。

前述如式(IV)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)可包含但不限於日本化藥(Nippon Kayaku Co.Ltd.)所製造之商品，且其型號為NC-3000、NC-3000H、NC-3000S或NC-3000P等。

前述具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)可選自於由以下(1)至(3)所組成之群組：(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯氧乙基丁二酸(2-methacryloyloxyethylbutanedioic acid)、2-甲基丙烯醯氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丁基己二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基六氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧乙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丁基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基四氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丁基鄰苯二甲酸、或2-甲基丙烯醯氧丁基氫鄰苯二甲酸；(2)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與二元羧酸化合物反應而製得之化合物，其中二元羧酸化合物可包含但不限於己二酸、丁二酸、馬來酸或鄰苯二甲酸；(3)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與羧酸酐化合物反應而製得之半酯化合物，其中具有羥基之(甲基)丙烯酸酯可包含但不限於2-羥基乙基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)acrylate]、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)methacrylate]、2-羥基丙基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl) acrylate]、2-羥基丙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)methacrylate]、4-羥基丁基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)acrylate]、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)methacrylate]或季戊四醇三甲基丙烯酸酯等。其中，該羧酸酐化合物可與後述第二混合物所含之羧酸酐化合物(a-2-3)相同，故在此不再贅述。

前述第二之混合物可選擇性地包含羧酸酐化合物(a-2-3)及/或具有環氧基的化合物(a-2-4)。

上述羧酸酐化合物(a-2-3)可選自由以下(1)至(2)所組成之群組：(1)丁二酸酐(butanedioic anhydride)、順丁烯二酸酐(maleic anhydride)、衣康酸酐(Itaconic anhydride)、鄰苯二甲酸酐(phthalic anhydride)、四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、六氫鄰苯二甲酸酐(hexahydrophthalic anhydride)、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲基橋亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐(methyl endo-methylene tetrahydro phthalic anhydride)、氯茵酸酐(chlorendic anhydride)、戊二酸酐或偏三苯甲酸酐(1,3-dioxoisobenzofuran-5-carboxylic anhydride)等二元羧酸酐化合物；以及(2)二苯甲酮四甲酸二酐(benzophenone tetracarboxylic dianhydride，簡稱BTDA)、雙苯四甲酸二酐或雙苯醚四甲酸二酐等四元羧酸酐化合物。

上述具有環氧基的化合物(a-2-4)可例如是選自於甲基丙烯酸環氧丙酯、3,4-環氧基環己基甲基丙烯酸酯、具有不飽和基的縮水甘油醚化合物、具有環氧基的不飽和化合物或上述化合物之任意組合所組成的群組。

前述具有不飽和基的縮水甘油醚化合物可包含但不限於長瀨化成工業株式會社製造之商品，且其型號為Denacol EX-111、EX-121 Denacol、Denacol EX-141、Denacol EX-145、Denacol EX-146、Denacol EX-171或Denacol EX-192等。

在一實施例中，該第二鹼可溶性樹脂(A-2)可由如式(III)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)進行聚合反應，以形成具有羥基的反應產物。接著，添加羧酸酐化合物(a-2-3)進行反應。基於該具有羥基的反應產物之羥基總當量為1當量，羧酸酐化合物(a-2-3)所含有之酸酐基的當量較佳為0.4當量至1當量，且更佳為0.75當量至1當量。當使用多個羧酸酐化合物(a-2-3)時，可於反應中依序添加或同時添加。當使用二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物作為羧酸酐化合物(a-2-3)時，二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物的莫耳比例較佳為1/99至90/10，且更佳為5/95至80/20。其次，上述反應之操作溫度可例如為50℃至130℃。

在另一實施例中，該第二鹼可溶性樹脂(A-2)可由如式(IV)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)進行反應，以形成含羥基的反應產物。接著，藉由添加羧酸酐化合物(a-2-3)及/或具有環氧基的化合物(a-2-4)進行聚合反應。基於如式(IV)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)的環氧基總當量為1當量，該具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)的酸價當量較佳為0.8當量至1.5當量，且更佳為0.9當量至1.1當量。基於上述具有羥基的反應產物的羥基總量為100莫耳百分比(莫耳%)，羧酸酐化合物(a-2-3)的使用量為10莫耳%至100莫耳%，較佳為20莫耳%至100莫耳%，且更佳為30莫耳%至100莫耳%。

在製備前述之第二鹼可溶性樹脂(A-2)時，為了加速反應，於反應溶液中通常會添加鹼性化合物作為反應觸媒。該反應觸媒可單獨一種使用或混合複數種使用，且該反應觸媒可包含但不限於三苯基膦(triphenyl phosphine)、三苯基銻(triphenyl stibine)、三乙胺 (triethylamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、氯化四甲基銨(tetramethylammonium chloride)或氯化苄基三乙基銨(benzyltriethylammonium chloride)等。基於該具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)之總使用量為100重量份，反應觸媒的使用量較佳為0.01重量份至10重量份，且更佳為0.3重量份至5重量份。

此外，為了控制聚合度，於反應溶液中通常還會添加聚合抑制劑(polymerization inhibitor)。該聚合抑制劑可包含但不限於甲氧基酚(methoxyphenol)、甲基氫醌(methylhydroquinone)、氫醌(hydroquinone)、2,6-二第三丁基對甲酚(2,6-di-t-butyl-p-cresol)或吩噻嗪(phenothiazine)等。一般而言，上述聚合抑制劑可單獨一種使用或混合複數種使用。基於上述具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(a-2-2)之總使用量為100重量份，聚合抑制劑的使用量較佳為0.01重量份至10重量份，且更佳為0.1重量份至5重量份。

當製備該第二鹼可溶性樹脂(A-2)時，必要時可添加聚合反應溶劑。該聚合反應溶劑之具體例可包含但不限於乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、2-丁醇、己醇或乙二醇等醇類化合物；甲乙酮或環己酮等酮類化合物；甲苯或二甲苯等芳香族烴類化合物；賽珞素(cellosolve)或丁基賽珞素(butyl cellosolve)等賽珞素類化合物；卡必妥(carbitol)或丁基卡必妥(butyl carbitol)等卡必妥類化合物；丙二醇單甲醚(propylene glycol monomethyl ether)等丙二醇烷基醚類化合物；二丙二醇單甲醚[di(propylene glycol)methyl ether]等多丙二醇烷基醚[poly(propylene glycol)alkyl ether]類化合物；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇***醋酸酯(ethylene glycol monoethyl ether acetate)或丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)等醋酸酯類化合物；乳酸乙酯(ethyl lactate)或乳酸丁酯(butyl lactate)等乳酸烷酯(alkyl lactate)類化合物；或二烷基二醇醚類。該聚合反應溶劑可單獨一種使用或混合複數種使用。另外，該第二鹼可溶性樹脂(A-2)的酸價較佳為50mgKOH/g至200mgKOH/g，且更佳為60mgKOH/g至150mgKOH/g。

前述之第二鹼可溶性樹脂(A-2)藉由膠體滲透層析儀測定之聚苯乙烯換算的數目平均分子量一般為500至10000，較佳為800至8000，且更佳為1000至6000。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該第二鹼可溶性樹脂(A-2)之使用量為0重量份至55重量份，較佳為10重量份至50重量份，且更佳為20重量份至45重量份。

當本發明之鹼可溶性樹脂(A)包含該第二鹼可溶性樹脂(A-2)時，則由此黑色感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣及黑色間隙體可進一步改善無顯影殘渣。

本發明之黑色感光性樹脂組成物另可選擇性添加其他鹼可溶性樹脂(A-3)。

前述之其他鹼可溶性樹脂(A-3)可包含但不限於具有羧酸基或羥基之樹脂。該其他鹼可溶性樹脂(A-3)之具體例可為前述具有不飽和基之樹脂(A-1)以外的丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯(urethane)樹脂、酚醛清漆樹脂等之鹼可溶性樹脂。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該其他鹼可溶性樹脂(A-3)之使用量為0重量份至55重量份，較佳為10重量份至50重量份，且更佳為20重量份至45重量份。

根據本發明之具有乙烯性不飽和基之化合物(B)可包含具有至少一個乙烯性不飽和基之不飽和化合物及具有至少二個乙烯性不飽和基之不飽和化合物。

該具有至少一個乙烯性不飽和基之不飽和化合物的具體例可包含但不限於丙烯醯胺、丙烯醯嗎啉、甲基丙烯醯嗎啉、丙烯酸-7-胺基-3,7-二甲基辛酯、甲基丙烯酸-7-胺基-3,7-二甲基辛酯、異丁氧基甲基丙烯醯胺、異丁氧基甲基甲基丙烯醯胺、丙烯酸異冰片基氧乙酯、甲基丙烯酸異冰片基氧乙酯、丙烯酸異冰片酯、甲基丙烯酸異冰片酯、丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、乙基二甘醇丙烯酸酯、乙基二甘醇甲基丙烯酸酯、第三辛基丙烯醯胺、第三辛基甲基丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺、二丙酮甲基丙烯醯胺、丙烯酸二甲胺基酯、甲基丙烯酸二甲胺基酯、丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸二環戊烯氧乙酯、甲基丙烯酸二環戊烯氧乙酯、丙烯酸二環戊烯酯、甲基丙烯酸二環戊烯酯、氮,氮-二甲基丙烯醯胺、氮,氮-二甲基甲基丙烯醯胺、丙烯酸四氯苯酯、甲基丙烯酸四氯苯酯、丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、甲基丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸四溴苯酯、甲基丙烯酸四溴苯酯、丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、甲基丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、丙烯酸-2-三氯苯氧基乙酯、甲基丙烯酸-2-三氯苯氧基乙酯、丙烯酸三溴苯酯、甲基丙烯酸三溴苯酯、丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、甲基丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、丙烯酸-2-羥乙酯、甲基丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、甲基丙烯酸-2-羥丙酯、乙烯基己內醯胺、氮-乙烯基皮酪烷酮、丙烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、丙烯酸五溴苯酯、甲基丙烯酸五溴苯酯、聚單丙烯酸乙二醇酯、聚單甲基丙烯酸乙二醇酯、聚單丙烯酸丙二醇酯、聚單甲基丙烯酸丙二醇酯、丙烯酸冰片酯，或甲基丙烯酸冰片酯等。其中，該具有至少一個乙烯性不飽和基之不飽和化合物可單獨一種使用或混合複數種使用。

該具有至少二個乙烯性不飽和基之不飽和化合物的具體例可包含但不限於乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二丙烯酸二環戊烯酯、二甲基丙烯酸二環戊烯酯、三甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯二丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯二甲基丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯三丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯三甲基丙烯酸酯、己內酯改質之三(2-羥乙基)異氰酸酯三丙烯酸酯、己內酯改質之三(2-羥乙基)異氰酸酯三甲基丙烯酸酯、三丙烯酸三羥甲基丙酯、三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧乙烷(以下簡稱EO)改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、EO改質之三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧丙烷(以下簡稱PO)改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、PO改質之三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、三甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、聚酯二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate；DPHA)、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇五丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、四丙烯酸二三羥甲基丙酯、四甲基丙烯酸二三羥甲基丙酯、EO改質之雙酚A二丙烯酸酯、EO改質之雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之雙酚A二丙烯酸酯、PO改質之雙酚A二甲基丙烯酸酯、EO改質之氫化雙酚A二丙烯酸酯、EO改質之氫化雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之氫化雙酚A二丙烯酸酯、PO改質之氫化雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之甘油三丙酸酯、EO改質之雙酚F二丙烯酸酯、EO改質之雙酚F二甲基丙烯酸酯、酚醛聚縮水甘油醚丙烯酸酯、酚醛聚縮水甘油醚甲基丙烯酸酯、日本東亞合成株式會社製造且型號為TO-1382之商品，或者由日本化藥股份有限公司製造且其型號為KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60或KAYARAD DPCA-120之商品等。其中，該具有至少二個乙烯性不飽和基之不飽和化合物可單獨一種使用或混合複數種使用。

較佳地，該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)是選自於三丙烯酸三羥甲基丙酯、EO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、PO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六丙烯酸酯、四丙烯酸二三羥甲基丙酯、PO改質之甘油三丙酸酯，KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60或KAYARAD DPCA-120或上述化合物之任意組合。

該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)可單獨一種使用或混合複數種使用。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之總使用量為100重量份，該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)的使用量為40重量份至200重量份，較佳為50重量份至180重量份，且更佳為60重量份至160重量份。

本發明之光起始劑(C)可為藉由照光產生自由基的物質，且前述具有自由基之物質可引發聚合物與聚合物之間、聚合物與寡聚合物之間或聚合物與單體之間的交聯反應，而可形成具有良好機械強度之圖案(例如：黑色矩陣或黑色間隙體)。

根據本發明之光起始劑(C)包含一具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)，其次，該光起始劑(C)可選擇性地包含其他光起始劑(C-2)，以下分述之。

根據本發明之光起始劑(C)包含一具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)：

其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、、COR₁₆、OR₁₇、鹵素、NO₂ 或，或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、 R₆及R₇或R₇及R₈彼此獨立地為經取代之C₂-C₁₀烯基或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈彼此獨立地共同為-(CH₂)_P-Y-(CH₂)_q-；或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈ 彼此獨立地共同為；但條件為R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或 R₇及R₈中至少一對係；R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C₁-C₄-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、CN、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、CN、OR₁₇、SR₁₈、SOR₁₈、SO₂R₁₈或NR₁₉R₂₀，其中該等取代基OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀視情況經由基團R₁₇、R₁₈、R₁₉及/或R₂₀與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為、COR₁₆或NO₂；Y係O、S、NR₂₆或直接鍵；p係整數0、1、2或3；q係整數1、2或3；X係CO或直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、COOR₁₇、OR₁₇、SR₁₈、CONR₁₉R₂₀、 NR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂或；或R₁₃係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO₂、NR₂₆或CO，或係C₂-C₁₂烯基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR₂₆，其中經間雜之C₂-C₂₀烷基及未經間雜或經間雜之C₂-C₁₂烯基未經取代或經一或多個鹵素取代；或R₁₃係C₄-C₈環烯基、C₂-C₁₂炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₁₀環烷基；或R₁₃係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、、COR₁₆、CN、NO₂、鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基；或其各經C₃-C₁₀環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₁₀環烷基取代；k係整數1至10；R₁₄係氫、C₃-C₈環烷基、C₂-C₅烯基、C₁-C₂₀烷氧基或C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個鹵素、苯基、C₁-C₂₀烷基苯基或CN取代；或R₁₄係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、C₁-C₄鹵代烷基、鹵素、CN、OR₁₇、SR₁₈及/或NR₁₉R₂₀；或R₁₄係C₃-C₂₀雜芳基、C₁-C₈烷氧基、苄氧基或苯氧基，該苄氧基及苯氧基未經取代或經一或多個C₁-C₆烷基、C₁-C₄鹵代烷基及/或鹵素取代；R₁₅係C₆-C₂₀芳基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂、SO-C₁-C₁₀烷基、SO₂-C₁-C₁₀烷基、間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基；或其各經C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係氫、C₂-C₁₂烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR₂₆之C₃-C₈環烷基；或R₁₅係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、SR₁₈、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、NR₁₉R₂₀、 COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂、、、苯基；或該C₁-C₂₀烷基經苯基取代，該苯基經鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀取代；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO₂，且該經間雜之C₂-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基或經OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀取代之苯基；或R₁₅係C₂-C₂₀烷醯基或苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、苯基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係未經取代或經一或多個OR₁₇取代之萘甲醯基或係C₃-C₁₄雜芳基羰基；或R₁₅係C₂-C₁₂烷氧基羰基，其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C₂-C₁₂烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代；或R₁₅係苯氧基羰基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、苯基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係CN、CONR₁₉R₂₀、NO₂、C₁-C₄鹵代烷基、S(O)_m-C₁-C₆烷基、未經取代或經C₁-C₁₂烷基或SO₂-C₁-C₆烷基取代之S(O)_m-苯基；或R₁₅係SO₂O-苯基，其未經取代或經C₁-C₁₂烷基取代；或係二苯基膦醯基或二(C₁-C₄烷氧基)-膦醯基；m係1或2； R'₁₄具有針對R₁₄所給出含義中之一者；R'₁₅具有針對R₁₅所給出含義中之一者；X₁係O、S、SO或SO₂；X₂係O、CO、S或直接鍵；R₁₆係C₆-C₂₀芳基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₁-C₂₀烷基；或其各經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₆係氫、C₁-C₂₀烷基，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₁₆係C₂-C₁₂烷基，其間雜有一或多個O、S或NR₂₆；或R₁₆係(CH₂CH₂O)_n+1H、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₈環烷基；或R₁₆係經SR₁₈取代之苯基，其中基團R₁₈表示鍵結至其中附接有COR₁₆之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵；n係1至20；R₁₇係氫、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、 O(CO)-(C₁-C₄烷基)、OCO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C₁-C₄烷基)、C₃-C₂₀環烷基、SO₂-(C₁-C₄鹵代烷基)、O(C₁-C₄鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S或NR₂₆；或R₁₇係(CH₂CH₂O)_n+1H、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₁-C₈烷醯基、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₆烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₂₀環烷基；或R₁₇係C₁-C₈烷基-C₃-C₁₀環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R₁₇係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C₁-C₆烷基、鹵素、OH或C₁-C₃烷氧基取代；或R₁₇係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₁₂烷氧基、CN、NO₂、苯基-C₁-C₃烷氧基、苯氧基、C₁-C₁₂烷基硫基、苯基硫基、N(C₁-C₁₂烷基)₂、二苯基-胺基或或R₁₇形成鍵結至其上具有基團或之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵；R₁₈係氫、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₂₀環烷基或苯基-C₁-C₃烷基，其中C₂-C₁₂烯基、C₃-C₂₀環烷基或苯基-C₁-C₃烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆或COOR₁₇；或R₁₈係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、 O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR₁₇；或R₁₈係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆或COOR₁₇；或R₁₈係(CH₂CH₂O)_nH、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₈烷醯基或C₃-C₆烯醯基；或R₁₈係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、OH、C₁-C₄烷氧基或C₁-C₄烷基硫基；或R₁₈係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₁₂烷氧基、CN、NO₂、苯基-C₁-C₃烷氧基、苯氧基、C₁-C₁₂烷基硫基、苯基硫基、N(C₁-C₁₂烷基)₂、二苯基胺基、(CO)O(C₁-C₈烷基)、(CO)-C₁-C₈烷基、(CO)N(C₁- C₈烷基)₂或；R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₄羥基烷基、C₂-C₁₀烷氧基烷基、C₂-C₅烯基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基、C₃-C₁₂烯醯基、SO₂-(C₁-C₄鹵代烷基)或苯甲醯基；或R₁₉及R₂₀係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₂₀烷氧基、C₁-C₁₂烷基、苯甲醯基或C₁-C₁₂烷氧基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR₁₇之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、=O、OR₁₇、SR₁₈、NR₂₁R₂₂、 (CO)R₂₃、NO₂、鹵素、C₁-C₄-鹵代烷基、CN、苯基、或C₃-C₂₀環烷基，該C₃-C₂₀環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₁₇；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₂₀烷氧基、=O、OR₁₇、SR₁₈、 NR₂₁R₂₂、(CO)R₂₃、、鹵素、NO₂、CN、苯基或C₃-C₂₀環烷基，該C₃-C₂₀環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₁₇；R₂₁及R₂₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₃-C₁₀環烷基或苯基；或R₂₁及R₂₂與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR₂₆之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合；R₂₃係氫、OH、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₂₀環烷基，或R₂₃係苯基、萘基、苯基-C₁-C₄烷基、OR₁₇、SR₁₈或NR₂₁R₂₂；R₂₄係(CO)OR₁₇、CONR₁₉R₂₀、(CO)R₁₇；或R₂₄具有針對R₁₉及R₂₀所給出含義中之一者；R₂₅係COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、(CO)R₁₇；或R₂₅具有針對R₁₇所給出含義中之一者；R₂₆係氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、間雜有一或多個O或CO之C₂-C₂₀烷基；或係苯基-C₁-C₄烷基、未經間雜或間雜有一或多個O或CO之C₃-C₈環烷基；或係(CO)R₁₉；或係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、 SR₁₈、NR₁₉R₂₀或；但條件為在該分子中存在至少一個基團或

該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之特徵在於其在咔唑部分上包含一或多個成環(annelated)不飽和環。換言之，R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈中至少一對係

在一實施例中，該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)，該C₁-C₂₀烷基係直鏈或支鏈且係(例如)C₁-C₁₈-、C₁-C₄-、C₁-C₁₂-、C₁-C₈-、C₁-C₈-或C₁-C₄烷基或C₄-C₁₂-或C₄-C₈烷基。實例係甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十五基、十六基、十八基及二十基。C₁-C₆烷基具有與上文針對C₁-C₂₀烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。

該含有一或多個C-C多重鍵之未經取代或經取代之C₁-C₂₀烷基係指如下文所解釋之烯基。

該C₁-C₄鹵代烷基係如下文所定義經鹵素取代之如上文所定義C₁-C₄烷基。烷基基團係(例如)單-或多鹵化，直至所有H-原子替換為鹵素。其係(例如)C_nH_xHal_y，其中x+y=2n+1且Hal係鹵素，較佳為F。具體實例係氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基，尤其為三氟甲基或三氯甲基。C₂-C₄羥基烷基意指經一或兩個O原子取代之C₂-C₄烷基。烷基基團係直鏈或支鏈。實例係2-羥基乙基、1-羥基乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、1-羥基丁基、4-羥基丁基、2-羥基丁基、3-羥基丁基、2,3-二羥基丙基或2,4-二羥基丁基。C₂-C₁₀烷氧基烷基係間雜有一個O原子之C₂-C₁₀烷基。C₂-C₁₀烷基具有與上文針對C₁-C₂₀烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。實例係甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基。

該間雜有一或多個O、S、NR₂₆或CO之C₂-C₂₀烷基經O、S、NR₂₆或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該等烷基係直鏈或支鏈。舉例而言，將存在以下結構單元：-CH₂-CH₂-O-CH₂CH₃、-[CH₂CH₂O]_y-CH₃(其中y=1至9)、-(CH₂-CH₂O)₇-CH₂CH₃、-CH₂-CH(CH₃)-O-CH₂-CH₂CH₃、-CH₂-CH(CH₃)-O-CH₂-CH₃、-CH₂-CH₂-S-CH₂CH₃、-CH₂-CH(CH₃)-NR₂₆-CH₂-CH₃、-CH₂-CH₂-COO-CH₂CH₃或-CH₂-CH(CH₃)-OCO-CH₂-CH₂CH₃。

該C₃-C₁₀環烷基、C₃-C₁₀環烷基及C₃-C₈環烷基在本申請案上下文中應理解為至少包含一個環之烷基。其係(例如)環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基、戊基環戊基及環己基。C₃-C₁₀環烷基在本發明上下文中亦意欲涵蓋二環，換言之，橋聯環，例如、、及相應環。其他實例係諸如、、(例如)或等結構、以及橋聯或稠合環系統，舉例而言，該術語亦意欲涵蓋、等。

該間雜有O、S、CO、NR₂₆之C₃-C₂₀環烷基具有上文給出之含義，其中烷基中至少一個CH₂-基團替換為O、S、CO或 NR₂₆。實例係諸如、、(例如

)、、、、、或等結構。

該C₁-C₈烷基-C₃-C₁₀環烷基係經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之C₃-C₁₀環烷基。實例係、等。

該間雜有一或多個O之C₁-C₈烷基-C₃-C₁₀環烷基係經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之O間雜C₃- C₁₀環烷基。實例係、等。

該C₁-C₁₂烷氧基係經一個O原子取代之C₁-C₁₂烷基。C₁-C₁₂烷基具有與上文針對C₁-C₂₀烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C₁-C₄烷氧基係直鏈或支鏈，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、異丁氧基或第三丁氧基。C₁-C₈烷氧基及C₁-C₄-烷氧基具有與上文所述相同之含義且具有最高相應C原子數。

該C₁-C₁₂烷基硫基係經一個S原子取代之C₁-C₁₂烷基。C₁-C₂₀烷基具有與上文針對C₁-C₂₀烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C₁-C₄烷基硫基係直鏈或支鏈，例如甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、異丁基硫基、第三丁基硫基。

該苯基-C₁-C₃烷基係(例如)苄基、苯基乙基、α-甲基苄基或α,α-二甲基-苄基，尤其為苄基。

該苯基-C₁-C₃烷氧基係(例如)苄氧基、苯基乙氧基、α-甲基苄氧基或α,α-二甲基苄氧基，尤其為苄氧基。

該C₂-C₁₂烯基係單-或多不飽和且係(例如)C₂-C₁₀-、C₂-C₈-、C₂-C₅-烯基，例如乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1,1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、5-己烯基、7-辛烯基或十二烯基，尤其為烯丙基。C₂-C₅烯基具有與上文針對C₂-C₁₂烯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。

該間雜有一或多個O、CO或NR₂₆之C₂-C₁₂烯基經O、S、NR₂₆或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該烯基係直鏈或支鏈且如上文所定義。舉例而言，可形成以下結構單元：-CH=CH-O-CH₂CH₃、-CH=CH-O-CH=CH₂等。

該C₄-C₈環烯基具有一或多個雙鍵且係(例如)C₄-C₆-環烯基或C₆-C₈-環烯基。實例係環丁烯基、環戊烯基、環己烯基或環辛烯基，尤其為環戊烯基及環己烯基，較佳為環己烯基。

該C₃-C₆烯氧基係單或多不飽和且具有上文針對烯基所給出含義中之一者，且附接氧基具有最高相應C原子數。實例係烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1,3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。

該C₂-C₁₂炔基係單或多不飽和直鏈或支鏈且係(例如)C₂-C₈-、C₂-C₆-或C₂-C₄炔基。實例係乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等。

該C₂-C₂₀烷醯基係直鏈或支鏈且係(例如)C₂-C₁₈-、C₂-C₁₄-、C₂-C₁₂-、C₂-C₈-、C₂-C₆-或C₂-C₄烷醯基或C₄-C₁₂-或C₄-C₈烷醯基。實例係乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十二醯基、十四醯基、十五醯基、十六醯基、十八醯基、二十醯基，較佳為乙醯基。C₁-C₈烷醯基具有與上文針對C₂-C₂₀烷醯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。

該C₂-C₁₂烷氧基羰基係直鏈或支鏈且係(例如)甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、1,1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二氧基羰基，尤其為甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或異丁氧基羰基，較佳為甲氧基羰基。

該間雜有一或多個O之C₂-C₁₂烷氧基羰基係直鏈或支鏈。兩個O原子由至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該經間雜之烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代。該C₆-C₂₀芳氧基羰基係(例如)苯基氧基羰基[=苯基-O-(CO)-]、萘氧基羰基、蒽氧基羰基等。C₅-C₂₀雜芳氧基羰基係C₅-C₂₀雜芳基-O-CO-。

該C₃-C₁₀環烷基羰基係C₃-C₁₀環烷基-CO-，其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。該間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆之C₃-C₁₀環烷基羰基係指經間雜環烷基-CO-，其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。

該C₃-C₁₀環烷氧基羰基係C₃-C₁₀環烷基-O-(CO)-，其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆之C₃-C₁₀環烷氧基羰基係指經間雜環烷基-O-(CO)-，其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。

該C₁-C₂₀烷基苯基係指經一或多個烷基取代之苯基，其中C原子之總和最多為20。

該C₆-C₂₀芳基係(例如)苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、基、并四苯基、聯伸三苯基等，尤其為苯基或萘基，較佳為苯基。萘基係1-萘基或2-萘基。

在本發明上下文中，該C₃-C₂₀雜芳基意欲包含單環或多環系統，例如稠合環系統。實例係噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、二苯并呋喃基、唏基、呫噸基、噻噸基、啡噁噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、中氮茚基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹噁啉基、喹唑啉基、啉基、喋啶基、咔唑基、β-哢啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌間二氮苯基、菲咯啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋呫基、吩噁基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9,10-二側氧基-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-呫噸基、8-甲基-2-呫噸基、3-呫噸基、2-啡噁噻基、2,7-啡噁噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5,6-二甲基-2-吡嗪基、2-中氮茚基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、1,5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、3-甲氧基-6-異喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞嗪基、1,4-二甲氧基-6-酞嗪基、 1,8-萘啶-2-基、2-喹噁啉基、6-喹噁啉基、2,3-二甲基-6-喹噁啉基、2,3-二甲氧基-6-喹噁啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉基、3-啉基、6-啉基、7-啉基、3-甲氧基-7-啉基、2-喋啶基、6-喋啶基、7-喋啶基、6,7-二甲氧基-2-喋啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-萘嵌間二氮苯基、1-甲基-5-萘嵌間二氮苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋呫基、2-吩噁基、10-甲基-2-吩噁基等。

該C₃-C₂₀雜芳基尤其為噻吩基、苯并[b]噻吩基、噻蒽基、噻噸基、1-甲基-2-吲哚基或1-甲基-3-吲哚基；尤其為噻吩基。

該C₄-C₂₀雜芳基羰基係經由CO基團連接至分子其餘部分之如上文所定義C₃-C₂₀雜芳基。

該經取代之芳基(苯基、萘基、C₆-C₂₀芳基或C₅-C₂₀雜芳基)係分別經1至7次、1至6次或1至4次、尤其1次、2次或3次取代。顯而易見，所定義芳基不能具有比芳基環處之自由位置為多之取代基。

該苯基環上之取代基較佳在苯基環上之位置4中或呈3,4-、3,4,5-、2,6-、2,4-或2,4,6-組態。

該間雜1次或多次之經間雜基團間雜(例如)1至19次、1至15次、1至12次、1至9次、1至7次、1至5次、1至4次、1至3次或1次或2次(顯而易見，間雜原子數取決於擬間雜之C原子數)。經1次或多次取代之經取代基團具有(例如)1至7個、1至5個、1至4個、1至3個或 1個或2個相同或不同取代基。

該經一或多個所定義取代基取代之基團意欲具有一個取代基或多個如所給出相同或不同定義之取代基。鹵素係氟、氯、溴及碘，尤其為氟、氯及溴，較佳為氟及氯。若R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及 R₄或R₅及R₆、R₆及R₇、R₇及R₈彼此獨立地共同為；則形成(例如)以下結構(Ia)-I(i)：亦或(例如)

諸如(Id)-(Ih)等結構：

較佳者係結構(Ia)。

該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之特徵在於至少一個苯基環與咔唑部分稠合以形成「萘基」環。亦即上述結構中之一者係以式(C-I)所示結構給出。

若R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈彼此獨立地共同為-(CH₂)_P-Y-(CH₂)_q-，則形成(例如)諸如等結構。

若苯基或萘基環上之取代基OR₁₇、SR₁₈、SOR₁₈、SO₂R₁₈或NR₁₉R₂₀經由基團R₁₇、R₁₈、R₁₉及/或R₂₀與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環，則獲得包含3個或更多個環(包括萘基環)之結構。

實例係等。

若R₁₇形成鍵結至其上具有基團或之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵，則形成(例如) 諸如等結構。

若R₁₆係經SR₁₈取代之苯基，其中基團R₁₉表示鍵結至其中附接有COR₁₆基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則形成(例如)諸如等結構。亦即，若R₁₆係經SR₁₈取代之苯基，其中基團R₁₈表示鍵結至其中附接有COR₁₆基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則噻噸基部分與咔唑部分之一個苯基或萘基環一起形成。

若R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR₁₇之5員或6員飽和或不飽和環，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉。較佳地，若R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR₁₇之5員或6員飽和或不飽和環，則形成未經間雜或間雜有O或NR₁₇、尤其O之5員或6員飽和環。

若R₂₁及R₂₂與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR₂₆之5員或6員飽和或不飽和環，且苯環視情況與該飽和或不飽和環稠合，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉或相應成環環(例如)等。

若R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，則該環系統意欲包含一個以上環(例如2個或3個環)以及來自相同種類或不同種類之一個或一個以上雜原子。適宜雜原子係(例如)N、S、O或P、尤其N、S或O。實例係咔唑、吲哚、異吲哚、吲唑、嘌呤、異喹啉、喹啉、哢啉、吩噻嗪等。

術語「及/或」或「或/及」在本發明上下文中意欲表達不僅可存在所定義替代物(取代基)中之一者，而且可存在總共若干所定義替代物(取代基)，即不同替代物(取代基)之混合物。

術語「至少」意欲定義一者或一者以上，例如一者或兩者或三者、較佳一者或兩者。

術語「視情況經取代」意指其提及之基團未經取代或經取代。

術語「視情況經間雜」意指其提及之基團未經雜或經間雜。

在整個本說明書及下文之申請專利範圍中，除非上下文另有要求，否則詞語「包含(comprise)」或變體(例如，「comprises」或「comprising」)應理解為暗指包括所述整數或步驟或整數群組或步驟群組，但並不排除任一其他整數或步驟或整數群組或步驟群組。術語「(甲基)丙烯酸酯」在本申請案上下文中意欲指丙烯酸酯以及相應甲基丙烯酸酯。

本發明上下文中用於本發明化合物之文字中所示較佳者意欲指所有申請專利範圍類別，亦即亦指針對組合物、用途、方法、彩色濾光片等之申請專利範圍。

該具有式(C-I)所示結構之肟酯係藉由文獻中所述方法來製備，例如藉由在以下條件下使相應肟與醯鹵、尤其氯化物或酸酐反應：在惰性溶劑(例如第三丁基甲基醚、四氫呋喃(THF)或二甲基甲醯胺)中，在鹼(例如三乙胺或吡啶)存在時，或在鹼性溶劑(例如吡啶)中。在下文中作為實例，闡述式Ia化合物之製備，其中R₇係肟酯基團且X係直接鍵係[自適當肟開始實施化合物(Ib)-(Ih)之反應]：

R₁、R₂、R₅、R₆、R₈、R₁₃、R₁₄及R₁₅係如上文所定義，Hal意指鹵素原子、尤其Cl。

R₁₄較佳為甲基。

此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知，且通常在-15℃至+50℃、較佳0至25℃之溫度下實施。

當X係CO時，相應肟係藉由用亞硝酸烷基酯(例如亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯)將亞甲基亞硝化來合成。然後，酯化係在與上文所述相同之條件下實施：

因此，本發明之標的亦係藉由在鹼或鹼之混合物存在下使相應肟化合物與式(a)之醯鹵或式(b)之酸酐反應來製備如上文所定義該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之方法。

其中Hal係鹵素、尤其Cl，且R₁₄係如上文所定義。

所需作為起始材料之肟可藉由標準化學教材(例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)或專著(例如S.R.Sandler & W.Karo,Organic functional group preparations，第3卷，Academic Press)中所述多種方法來獲得。

最便利的一種方法係(例如)在極性溶劑(例如二甲基乙醯胺(DMA)、DMA水溶液、乙醇或乙醇水溶液)中使醛或酮與羥胺或其鹽反應。在此情形下，添加諸如乙酸鈉或吡啶等鹼來控制反應混合物之pH。眾所周知，反應速度具有pH依賴性，且可在開始時或在反應期間連續地添加鹼。亦可使用諸如吡啶等鹼性溶劑作為鹼及/或溶劑或共溶劑。反應溫度通常為室溫至混合物之回流溫度，一般為約20℃至120℃。

相應酮中間體係(例如)藉由文獻(例如標準化學教材，例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)中所述方法來製備。另外，連續弗裏德-克拉夫茨反應(Friedel-Crafts reaction)可有效用於合成中間體。此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知。

肟之另一便利合成係用亞硝酸或亞硝酸烷基酯將「活性」亞甲基亞硝化。鹼性條件(如Organic Syntheses coll.第VI卷(J.Wiley & Sons,New York,1988)，第199頁及第840頁中所述)與酸性條件(如Organic Synthesis coll.第V卷，第32頁及第373頁，coll.第III卷，第191頁及第513頁，coll.第II卷，第202頁、第204頁及第363頁中所述)二者適於製備在本發明中用作起始材料之肟。一般自亞硝酸鈉產生亞硝酸。亞硝酸烷基酯可為(例如)亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯。

本發明另一實施例係具有游離式(IA)所示結構之光起始劑(C-1)：

其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、、COR₁₆、OR₁₇、鹵素、NO₂ 或；或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈ 彼此獨立地為經取代之C₂-C₁₀烯基；或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈彼此獨立地共同為-(CH₂)_P-Y-(CH₂)_q-；或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈ 彼此獨立地共同為；但條件為R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或 R₇及R₈中至少一對係，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C₁-C₄-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、CN、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、CN、OR₁₇、SR₁₈、SOR₁₈、SO₂R₁₈或NR₁₉R₂₀，其中該等取代基OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀視情況經由基團R₁₇、R₁₈、R₁₉及/或R₂₀與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為、COR₁₆或NO₂；Y係O、S、NR₂₆或直接鍵；p係整數0、1、2或3；q係整數1、2或3；X係CO或直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、COOR₁₇、OR₁₇、SR₁₈、CONR₁₉R₂₀、 NR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂或；或R₁₃係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO₂、NR₂₆或CO，或係C₂-C₁₂烯基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR₂₆，其中經間雜之C₂-C₂₀烷基及未經間雜或經間雜之C₂-C₁₂烯基未經取代或經一或多個鹵素取代；或R₁₃係C₄-C₈環烯基、C₂-C₁₂炔基或C₃-C₁₀環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆；或R₁₃係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、、COR₁₆、CN、NO₂、鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆；或其各經C₃-C₁₀環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₁₀環烷基取代；k係整數1至10；R₁₅係C₆-C₂₀芳基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂、SO-C₁-C₁₀烷基、SO₂-C₁-C₁₀烷基、間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基；或其各經C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係氫、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₈環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR₂₆；或R₁₅係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、SR₁₈、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、NR₁₉R₂₀、 COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、PO(OC_kH_2k+1)₂、、、苯基；或該C₁-C₂₀烷基經苯基取代，該苯基經鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀取代；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO₂，且該經間雜之C₂-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基或經OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀取代之苯基；或R₁₅係C₂-C₂₀烷醯基或苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、苯基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係未經取代或經一或多個OR₁₇取代之萘甲醯基或係C₃-C₁₄雜芳基羰基；或R₁₅係C₂-C₁₂烷氧基羰基，其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C₂-C₁₂烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代；或R₁₅係苯氧基羰基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、苯基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係CN、CONR₁₉R₂₀、NO₂、C₁-C₄鹵代烷基、S(O)_m-C₁-C₆烷基、未經取代或經C₁-C₁₂烷基或SO₂-C₁-C₆烷基取代之S(O)_m-苯基；或R₁₅係SO₂O-苯基，其未經取代或經C₁-C₁₂烷基取代；或係二苯基膦醯基或二(C₁-C₄烷氧基)-膦醯基；m係1或2；R'₁₅具有針對R₁₅所給出含義中之一者；X₁係O、S、SO或SO₂；X₂係O、CO、S或直接鍵； R₁₆係C₆-C₂₀芳基或C₃-C₂₀雜芳基，其每一者未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₁-C₂₀烷基；或其每一者經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₃-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₆係氫、未經取代或經一或多個以下基團取代之C₁-C₂₀烷基：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₁₆係間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₂-C₁₂烷基；或R₁₆係(CH₂CH₂O)_n+1H、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₈環烷基；或R₁₆係經SR₁₈取代之苯基，其中基團R₁₈表示鍵結至其中附接有COR₁₆基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵；n係1至20；R₁₇係氫、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C₁-C₄烷基)、SO₂-(C₁-C₄鹵代烷基)、O(C₁-C₄鹵代烷基)、C₃-C₂₀環烷基或間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S或NR₂₆；或R₁₇係(CH₂CH₂O)_n+1H、 (CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₁-C₈烷醯基、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₆烯醯基或C₃-C₂₀環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₂₆；或R₁₇係C₁-C₈烷基-C₃-C₁₀環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R₁₇係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C₁-C₆烷基、鹵素、OH或C₁-C₃烷氧基取代；或R₁₇係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₁₂烷氧基、CN、NO₂、苯基-C₁-C₃烷氧基、苯氧基、C₁-C₁₂烷基硫基、苯基硫基、N(C₁-C₁₂烷基)₂、二苯基-胺基或或R₁₇形成鍵結至其上具有基團或之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵；R₁₈係氫、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₂₀環烷基或苯基-C₁-C₃烷基，其中C₂-C₁₂烯基、C₃-C₂₀環烷基或苯基-C₁-C₃烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆或COOR₁₇；或R₁₈係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR₁₇；或R₁₈係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆或COOR₁₇；或R₁₈係(CH₂CH₂O)_nH、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₈烷醯基或C₃-C₆烯醯基；或R₁₈係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、OH、C₁-C₄烷氧基或C₁-C₄烷基硫基；或R₁₈係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₁₂烷氧基、CN、NO₂、苯基-C₁-C₃烷氧基、苯氧基、C₁-C₁₂烷基硫基、苯基硫基、N(C₁-C₁₂烷基)₂、二苯基胺基、(CO)O(C₁-C₈烷基)、(CO)-C₁-C₈烷基、(CO)N(C₁- C₈烷基)₂或；R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₄羥基烷基、C₂-C₁₀烷氧基烷基、C_2-C₅烯基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、SO₂-(C₁-C₄鹵代烷基)、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基、C₃-C₁₂烯醯基或苯甲醯基；或R₁₉及R₂₀係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₂₀烷氧基、C₁-C₁₂烷基、苯甲醯基或C₁-C₁₂烷氧基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR₁₇之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、=O、OR₁₇、SR₁₈、NR₂₁R₂₂、(CO)R₂₃、NO₂、鹵素、C₁-C₄-鹵代烷基、CN、苯基、或C₃-C₂₀環烷基，該C₃-C₂₀環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₁₇；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₂₀烷氧基、=O、OR₁₇、SR₁₈、NR₂₁R₂₂、(CO)R₂₃、、鹵素、NO₂、CN、苯基或C₃-C₂₀環烷基，該C₃- C₂₀環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR₁₇；R₂₁及R₂₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₃-C₁₀環烷基或苯基；或R₂₁及R₂₂與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR₂₆之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合；R₂₃係氫、OH、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR₂₆之C₃-C₂₀環烷基，或R₂₃係苯基、萘基、苯基-C₁-C₄烷基、OR₁₇、SR₁₈或NR₂₁R₂₂；R₂₄係(CO)OR₁₇、CONR₁₉R₂₀、(CO)R₁₇；或R₂₄具有針對R₁₉及R₂₀所給出含義中之一者；R₂₅係COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、(CO)R₁₇；或R₂₅具有針對R₁₇所給出含義中之一者；R₂₆係氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O或CO；或係苯基-C₁-C₄烷基、C₃-C₈環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O或CO；或係(CO)R₁₉；或係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、 OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或；但條件為在該分子中存在至少一個基團或

針對式(IA)所示結構之光起始劑(C-1)所定義基團之較佳者對應於如針對如下文所給出式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)給出者，只是每一所定義肟酯基團(例如)皆替換為相應游離肟基團。

每一肟酯基團可以兩種構型(Z)或(E)存在。可藉由習用方法來分離異構體，但亦可使用異構體混合物作為(例如)光起始物質。因此，本發明亦係關於式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之構型異構體之混合物。

較佳者係如上文所定義之式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、、COR₁₆或NO₂，或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或R₇及R₈彼此獨立地共同為但條件為R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄、R₅及R₆、R₆及R₇或 R₇及R₈中至少一對係；X係CO或直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、SR₁₈、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀或PO(OC_kH_2k+1)₂；或R₁₃係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、NR₂₆或CO；或R₁₃係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個或COR₁₆取代；R₁₄係C₁-C₂₀烷基、苯基或C₁-C₈烷氧基；R₁₅係苯基、萘基、C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈或C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O或S；或其各經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₄-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或PO(OC_kH_2k+1)₂；或R₁₅係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、NR₁₉R₂₀、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀或PO(OC_kH_2k+1)₂；R'₁₄具有針對R₁₄所給出含義中之一者；R'₁₅具有針對R₁₅所給出含義中之一者；R₁₆係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或間雜有一或多個O、S或NR₂₆之C₂-C₂₀烷基，或R₁₆係苯基，其經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₃-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₄-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₆係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)或(CO)O(C₁-C₄烷基)；R₁₇係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(C₁-C₄烷基)、(CO)O(C₁-C₄烷基)、C₃-C₂₀環烷基或間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或 R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；R₁₈係經(CO)OR₁₇取代之甲基；R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、苯基、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₈烷醯基或C₁-C₈烷醯基氧基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經取代；但條件為在該分子中存在至少一個基團或

必須重視如上文所定義之式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)，其中R₁、R₂、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、 COR₁₆或NO₂，R₃及R₄一起為；R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂係氫；X係直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基；R₁₄係C₁-C₂₀烷基；R₁₅係C₁-C₂₀烷基或苯基，其經一或多個OR₁₇或C₁-C₂₀烷基取代；R₁₆係苯基，其經一或多個C₁-C₂₀烷基或OR₁₇取代；且R₁₇係未經取代或經一或多個鹵素取代之C₁-C₂₀烷基或係間雜有一或多個O之C₂-C₂₀烷基；但條件為在該分子中存在至少一個基團。

本發明之標的進一步係如上文所定義之式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫，或R₁及R₂、R₃及R₄或R₅及R₆彼此獨立地共同為但條件為R₁及R₂、R₃及R₄或R₅及R₆中至少一對為或R₂係、COR₁₆、NO₂或；或R₇係或COR₁₆；R₉、R₁₁及R₁₂係氫；R₁₀係氫、OR₁₇或COR₁₆；X係CO或直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、OR₁₇、SR₁₈或PO(OC_kH_2k+1)₂；或R₁₃係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；或R₁₃係苯基；k係整數2；R₁₄係C₁-C₂₀烷基或噻吩基；R₁₅係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個OR₁₇或C₁-C₂₀烷基取代；或R₁₅係噻吩基、氫、C₁-C₂₀烷基，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、C₃-C₈環烷基、NR₁₉R₂₀或COOR₁₇；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有SO₂；R₁₆係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或C₁-C₂₀烷基；或R₁₆係噻吩基； R₁₇係氫、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團：鹵素、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄)烯基或間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；R₁₈係C₃-C₂₀環烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個OH、O(CO)-(C₂-C₄)烯基或(CO)OR₁₇取代；或R₁₈係苯基，其未經取代或經一或多個鹵素取代；R₁₉及R₂₀彼此獨立地為C₁-C₈烷醯基或C₁-C₈烷醯基氧基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成間雜有O之5員或6員飽和環；但條件為在該分子中存在至少一個基團。

本發明化合物之實例係如上文所定義之式(Ia)-(Ig)化合物。式(Ia)、(Ib)、(Ic)、尤其式(Ia)或(Ic)、或式(Ia)、(Ic)或(Id)、尤其式(Ia)之化合物令人關注。

舉例而言，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、或COR₁₆，或R₁及R₂、R₂及R₃、R₃及R₄ 或R₅及R₆、R₆及R₇、R₇及R₈彼此獨立地共同為。

舉例而言，R₃及R₄或R₁及R₂共同為或R₃ 及R₄及R₅及R₆共同為；R₃及R₄尤其共同為。

舉例而言，R₁、R₅、R₆及R₈係氫。

R₇尤其為氫、或COR₁₆。或R₇係或COR₁₆、尤其為。

R₂尤其為，COR₁₆或或R₂與 R₁一起為。R₂尤其為COR₁₆。

X較佳為直接鍵。

舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、OR₁₇或SR₁₈；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀，其中取代基OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀視情況經由基團R₁₇、R₁₈、R₁₉及/或R₂₀與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為或COR₁₆。

具體而言，舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、OR₁₇或SR₁₈；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為或COR₁₆。

舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個C₁-C₆烷基取代之苯基；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為或COR₁₆。

在另一實施例中，舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、OR₁₇或SR₁₈；或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀，其中取代基OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀視情況經由基團R₁₇、R₁₈、R₁₉及/或R₂₀與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環。

此外，舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、OR₁₇或SR₁₈，或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或COR₁₆。

或舉例而言，R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、鹵素、OR₁₇或SR₁₈，或R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為鹵素、OR₁₇、COR₁₆或NR₁₉R₂₀。

較佳地，R₉、R₁₁及R₁₂係氫且R₁₀係氫、OR₁₇或COR₁₆。

R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇或CONR₁₉R₂₀；或R₁₃係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO₂、NR₂₆或CO，或係C₂-C₁₂烯基，其視情況間雜有一或多個O、CO或NR₂₆，或R₁₃係C₃-C₁₀環烷基，其視情況間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆，或R₁₃係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、 NR₁₉R₂₀、、COR₁₆、NO₂、鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；或係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、COOR₁₇、OR₁₇、SR₁₈、CONR₁₉R₂₀或PO(OC_kH_2k+1)₂；或係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O。

此外，R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、COOR₁₇、OR₁₇、SR₁₈、CONR₁₉R₂₀或PO(OC_kH_2k+1)₂；或係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個 O；或係C₂-C₁₂烯基、C₃-C₁₀環烷基；或R₁₃係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、、COR₁₆、NO₂、鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O。

在另一實施例中，R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、OR₁₇、SR₁₈或PO(OC_kH_2k+1)₂；或係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；或係C₂-C₁₂烯基、C₃-C₁₀環烷基、苯基或萘基。

或R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R₁₇、OR₁₇、SR₁₈或PO(OC_kH2_k+1)₂；或係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；或係苯基、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₁₀環烷基。

或R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基、苯基、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₁₀環烷基。

或R₁₃係(例如)C₁-C₂₀烷基、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₁₀環烷基。

較佳地，R₁₃係C₁-C₂₀烷基，尤其為C₁-C₈烷基，例如2-乙基己基。

R₁₄係(例如)氫、C₃-C₈環烷基、C₂-C₅烯基、C₁-C₂₀烷氧基或C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R₁₄係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、C₁-C₄鹵代烷基、鹵素、OR₁₇、SR₁₈及/或NR₁₉R₂₀；或R₁₄係C₃-C₅雜芳基，例如噻吩基，或係C₁-C₈烷氧基、苄氧基或苯氧基。

或R₁₄係(例如)C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R₁₄係C₃-C₅雜芳基(例如噻吩基)或係未經取代或經取代一或多個以下基團取代之苯基：C₁-C₆烷基、C₁-C₄鹵代烷基、鹵素、OR₁₇、SR₁₈及/或NR₁₉R₂₀；或R₁₄係C₁-C₈烷氧基、苄氧基或苯氧基。

在另一實施例中，R₁₄表示C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經苯基取代；或R₁₄係苯基，其未經取代或經一或多個C₁-C₆烷基取代。

較佳地，R₁₄係C₁-C₂₀烷基、C₃-C₅雜芳基(例如噻吩基)，或係苯基，尤其為C₁-C₂₀烷基或噻吩基，尤其為C₁-C₈烷基。

R₁₅係(例如)C₆-C₂₀芳基或C₅-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀、C₁-C₂₀烷基；或R₁₅係氫、C₃-C₈環烷基，該C₃-C₈環烷基視情況間雜有一或多個O、CO或NR₂₆；或R₁₅係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR₁₇、C₃-C₈環烷基、C₅-C₂₀雜芳基、C₈-C₂₀苯氧基羰基、C₅-C₂₀雜芳氧基-羰基、NR₁₉R₂₀、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、 PO(OC_kH_2k+1)₂、、苯基或經以下基團取代之苯基：鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇或NR₁₉R₂₀；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S或SO₂，或R₁₅係C₂-C₂₀烷醯基、苯甲醯基、C₂-C₁₂烷氧基羰基、苯氧基羰基、CONR₁₉R₂₀、NO₂或C₁-C₄鹵代烷基。

此外，R₁₅係(例如)氫、C₆-C₂₀芳基，尤其為苯基或萘基，其各未經取代或經C₁-C₁₂烷基取代；或係C₃-C₅雜芳基，例如噻吩基；或係C₃-C₈環烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₇、C₃-C₈-環烷基、NR₁₉R₂₀或COOR₁₇；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O或SO₂。

該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)令人關注，其中R₁₅係(例如)氫、苯基、萘基，其各未經取代或經C₁-C₈烷基取代；或R₁₅係噻吩基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₇、C₃-C₈-環烷基、NR₁₉R₂₀或COOR₁₇；或R₁₅係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O或SO₂。

R₁₅尤其為(例如)C₃-C₈環烷基或C₁-C₂₀烷基，尤其為C₁-C₂₀烷基，尤其為C₁-C₁₂烷基。

R'₁₄及R'₁₅之較佳者分別係如上文針對R₁₄及R₁₅所給出者。

X₁係(例如)O、S或SO，例如O或S，尤其為O。

R₁₆係(例如)C₆-C₂₀芳基(尤其苯基或萘基、尤其苯基)或C₅-C₂₀雜芳基(尤其噻吩基)，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-G₄鹵代烷基、CN、NO₂、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或間雜有一或多個O之C₁-C₂₀烷基；或其各經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR₁₇、CONR₁₉R₂₀、苯基、C₃-C₈環烷基、C₅-C₂₀雜芳基、C₆-C₂₀芳氧基羰基、C₅-C₂₀雜芳氧基羰基、OR₁₇、SR₁₈或NR₁₉R₂₀；或R₁₆係氫、C₁-C₂₀烷基，該C₁-C₂₀烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₁₆係C₂-C₁₂烷基，其間雜有一或多個O；或係(CH₂CH₂O)_n+1H、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₈環烷基，且n係1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。

此外，R₁₆係(例如)苯基或萘基，尤其為苯基、噻吩基或咔唑，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或C₁-C₂₀烷基；或R₁₆係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C₃-C₆烯氧基、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C₁-C₄烷基)；或R₁₆係C₂-C₁₂烷基，其間雜有一或多個O；或係(CH₂CH₂O)_n+1H、(CH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₂-C₁₂烯基或C₃-C₈環烷基，且n係1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。

此外，R₁₆係(例如)苯基或萘基，尤其為苯基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或C₁-C₂₀烷基；或R₁₆係C₃-C₅雜芳基，尤其為噻吩基。

R₁₆尤其為(例如)苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀或C₁-C₂₀烷基，或R₁₆係噻吩基。

較佳地，R₁₆係(例如)苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個C₁-C₂₀烷基取代。

R₁₆尤其為苯基，其經一或多個C₁-C₂₀烷基取代。

R₁₇係(例如)氫、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、OCH₂CH₂(CO)O(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C₁-C₄烷基)、C₃-C₂₀環烷基或間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O；係(CH₂CH₂O)_n+1H、(GH₂CH₂O)_n(CO)-(C₁-C₈烷基)、C₁-C₈烷醯基、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₆烯醯基或C₃-C₂₀環烷基，其視情況間雜有一或多個O；或R₁₇係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C₁-C₆烷基、鹵素、OH或C₁-C₃烷氧基取代；或R₁₇係苯基、萘基或C5-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₁₂烷氧基、CN、NO₂、苯基-C₁-C₃烷氧基、苯氧基、C₁-C₁₂烷基硫基、苯基硫基、N(C₁-C₁₂烷基)₂、二苯基-胺基或。

在另一實施例中，R₁₇係(例如)氫、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄烯基)或間雜有一或多個O之C₂-C₂₀烷基；或係C₁-C₈烷醯基、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₆烯醯基、間雜有一或多個O之C₂-C₂₀烷基、視情況間雜有一或多個O之C₃-C₂₀環烷基；或係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₆烷基、鹵素、OH或C₁-C₃烷氧基；或係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₁₂烷基或C₁-C₁₂烷氧基。

R₁₇亦為(例如)氫、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₃-C₂₀環烷基、O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄烯基)或間雜有一或多個O之C₂-C₂₀烷基，或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O。

R₁₇尤其為氫、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：O(CO)-(C₁-C₄烷基)、O(CO)-(C₂-C₄烯基)或間雜有一或多個O之C₂-C₂₀烷基，或R₁₇係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O。

R₁₈係(例如)C₃-C₂₀環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R₁₈係C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-(C₁-C₄烷基)或 (CO)OR₁₇；或R₁₈係C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR₂₆或COOR₁₇；或R₁₈係C₂-C₈烷醯基或C₃-C₆烯醯基、苯甲醯基；或R₁₈係苯基、萘基或C₃-C₂₀雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₁₂烷氧基或NO₂。

在另一實施例中，R₁₈係(例如)C₃-C₂₀環烷基、C₁-C₂₀烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-(C₁-C₄烷基)或(CO)OR₁₇；或R₁₈係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個鹵素或C₁-C₁₂烷基、尤其鹵素取代。

R₁₈係(例如)C₁-C₂₀烷基、C₂-C₁₂烯基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、C₂-C₈烷醯基、苯甲醯基、苯基或萘基。

舉例而言，R₁₈係C₁-C₂₀烷基，其經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C₂-C₄)烯基、O(CO)-(C₁-C₄烷基)或(CO)OR₁₇，或R₁₈係苯基，其經一或多個鹵素取代。

較佳地，R₁₈係C₁-C₈烷基，其如上文所定義經取代。

舉例而言，R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₄羥基烷基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、苯基或萘基、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基、C₃-C₁₂烯醯基或苯甲醯基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR₁₇之5員或6員飽和或不飽和環；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代： C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、或。

此外，舉例而言，R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₄羥基烷基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₈ 烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基、C₃-C₁₂烯醯基或苯甲醯基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR₁₇之5員或6員飽和環；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成咔唑環。

舉例而言，R₁₉及R₂₀彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₄羥基烷基、C₃-C₂₀環烷基、苯基-C₁-C₃烷基、C₁-C₈烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基、C₃-C₁₂烯醯基或苯甲醯基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR₁₇之5員或6員飽和環。

較佳地，R₁₉及R₂₀彼此獨立地為C₁-C₈烷醯基、C₁-C₈烷醯基氧基；或R₁₉及R₂₀與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。

舉例而言，R₂₁及R₂₂彼此獨立地為氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₃-C₁₀環烷基或苯基；或R₂₁及R₂₂與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。R₂₁及R₂₂尤其彼此獨立地為氫或C₁-C₂₀烷基。

R₂₃係(例如)氫、OH、苯基或C₁-C₂₀烷基。R₂₃尤其為氫、OH或C₁-C₄烷基。

R₂₄之較佳者係如針對R₁₉及R₂₀所給出。R₂₅之較佳者係如針對R₁₇所給出。

R₂₆係(例如)氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基、C₂-C₂₀烷基，其間雜有一或多個O或CO；或係苯基-C₁-C₄烷基、C₃-C₈環烷基，其視情況間雜有一或多個O或CO；或係(CO)R₁₉或苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C₁-C₂₀烷基、鹵素、C₁-C₄鹵代烷基、OR₁₇、SR₁₈、NR₁₉R₂₀。

或R₂₆表示(例如)氫、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₄鹵代烷基；係苯基-C₁-C₄烷基、C₃-C₈環烷基、(CO)R₁₉或苯基，其未經取代或經一或多個C₁-C₂₀烷基取代。此外，R₂₆係(例如)氫或C₁-C₂₀烷基、尤其為C₁-C₄烷基。

本發明該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之實例如下式(1)至式(86)所示。

該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)用於使包含至少一種烯系不飽和光可聚合化合物之組合物光聚合之用途。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)之使用量為2重量份至20重量份，較佳為3重量份至18重量份，更佳為4重量份至16重量份。

當本發明之黑色感光性樹脂組成物含有該具有式(C-I)所示結構之光起始劑(C-1)時，則由此黑色感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣及黑色間隙體可進一步改善無顯影殘渣。

本發明之黑色感光性樹脂組成物另可選擇性添加其他光起始劑(C-2)。

該其他光起始劑(C-2)之具體例可包含前述之光起始劑(C-1)以外之O-醯基肟化合物、三氮雜苯化合物、苯乙烷酮化合物、二咪唑化合物、二苯甲酮化合物、α-二酮化合物、酮醇化合物、酮醇醚化合物、醯膦氧化物、醌類化合物、含鹵素化合物、過氧化物或上述化合物之任意組合。

上述該光起始劑(C-1)以外之O-醯基肟化合物之具體例可包含1-[4-(苯基硫代)苯基]-庚烷-1,2-二酮2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯醯基)苯基]-庚烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-[9-乙基-6-(3-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-(9-乙基-6-苯醯基-9H-咔唑-3-取代基)-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)甲氧基苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

較佳地，該光起始劑(C-1)以外之O-醯基肟化合物可為1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-01；1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-02；乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基- 4-四氫呋喃甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)；乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)甲氧基苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)或上述化合物之任意組合。該O-醯基肟化合物可單獨一種或混合複數種使用。

上述三氮雜苯化合物之具體例可包含但不限於乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物、2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物、4-(對-胺基苯基)-2,6-二-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包含2,4-雙(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯、2,4-雙(三氯甲基)-3-(1-對-二甲基胺基苯基-1,3-丁二烯基)-s-三氮雜苯或2-三氯甲基-3-胺基-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包含2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-乙氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-丁氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-甲氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-丁氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(2-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-5-甲基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(5-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4,7-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-乙氧基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯或2- (4,5-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述4-(對-胺基苯基)-2,6-二-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包含4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(苯基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基羰基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N-(對-甲氧基苯基)羰基胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯或2,4-雙(三氯甲基)-6-{3-溴-4-[N,N-雙(乙氧基羰基甲基)胺基]苯基}-1,3,5-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

上述三氮雜苯化合物較佳可為4-[間-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2,4-雙(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯或上述化合物之組合。該三氮雜苯化合物可單獨一種或混合複數種使用。

上述苯乙烷酮化合物之具體例可包含對二甲胺苯乙烷酮、α,α’-二甲氧基氧化偶氮苯乙烷酮、2,2’-二甲基-2-苯基苯乙烷酮、對-甲氧基苯乙烷酮、2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮或2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-嗎啉代)-1-丙酮等之化合物，或者上述化合物之任意組合。該苯乙烷酮化合物較佳可為2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-嗎啉代)-1-丙酮、2-芐基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮。上述之苯乙烷酮化合物可單獨一種或混合複數種使用。

上述二咪唑化合物之具體例可包含2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(對-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2,2’,4,4’-四甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑或2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑等之化合物，或者上述化合物之任意組合。上述二咪唑化合物可單獨一種或混合複數種使用。該二咪唑化合物較佳可為2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑。

上述二苯甲酮化合物之具體例可包含二苯甲酮、4,4’-雙(二甲胺)二苯甲酮或4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮等之化合物，或者上述化合物之任意組合。該二苯甲酮化合物可單獨一種或混合複數種使用。該二苯甲酮化合物較佳可為4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮。

上述α-二酮化合物之具體例可包含苯偶醯或乙醯基等。

上述酮醇化合物之具體例可包含二苯乙醇酮。

上述酮醇醚化合物之具體例可包含二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮***或二苯乙醇酮異丙醚等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

上述醯膦氧化物之具體例可包含2,4,6-三甲基苯醯二苯基膦氧化物或雙-(2,6-二甲氧基苯醯)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

上述醌類化合物之具體例可包含蒽醌或1,4-萘醌等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

上述含鹵素類化合物之具體例可包含苯醯甲基氯、三溴甲基苯碸或三(三氯甲基)-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

上述過氧化物之具體例可包含二-第三丁基過氧化物等之化合物。

較佳地，其他光起始劑(C-2)可為1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-02；1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-01；2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為IRGACURE 907或上述化合物之任意組合。

基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該光起始劑(C)之使用量為5重量份至50重量份，較佳為8重量份至45重量份，且更佳為11重量份至40重量份。

本發明之溶劑(D)可溶解前述之鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)及光起始劑(C)，但又不與後述之黑色顏料(E)產生反應，且較佳具有適當之揮發性。

該溶劑(D)之具體例可包含烷基二醇單烷醚化合物、烷基二醇單烷醚醋酸酯化合物、二乙二醇烷基醚、其他醚類化合物、酮類化合物、乳酸烷酯化合物、其他酯類化合物、芳香族烴類化合物、羧酸胺化合物或上述化合物之任意組合。上述之溶劑(D)可單獨一種或混合複數種使用。

前述烷基二醇單烷醚化合物之具體例可包含乙二醇單甲醚、乙二醇單***、二乙二醇單***、二乙二醇單正丙醚、二乙二醇單正丁醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單***、丙二醇單甲醚、丙二醇單***、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單***、二丙二醇單正丙醚、二丙二醇單正丁醚、三丙二醇單甲醚或三丙二醇單***等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述烷基二醇單烷醚醋酸酯化合物之具體例可包含乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇***醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇***醋酸酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述二乙二醇烷基醚之具體例可包含二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲***或二乙二醇二***等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述其他醚類化合物之具體例可包含四氫呋喃等之化合物。

前述酮類化合物之具體例可包含甲乙酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮或二丙酮醇等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述乳酸烷酯化合物之具體例可包含乳酸甲酯或乳酸乙酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述其他酯類化合物之具體例可包含2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羥基醋酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、醋酸正戊酯、醋酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯或2-氧基丁酸乙酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述芳香族烴類化合物之具體例可包含甲苯或二甲苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述羧酸胺化合物之具體例可為N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺或N,N-二甲基乙醯胺等之化合物，或上述化合物之任意組合。

較佳地，該溶劑(D)可為丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該溶劑(D)之使用量為1000重量份至3500重量份，較佳為1200重量份至3200重量份，且更佳為1500重量份至3000重量份。

根據本發明之黑色顏料(E)包含第一黑色顏料(E-1)，並可選擇性地包含第二黑色顏料組分(E-2)，以下分述之。

該第一黑色顏料(E-1)為下述式(E-I)所表示之化合物、其幾何異構物、其鹽、或其幾何異構物之鹽。

上述式(E-I)所表示之化合物之幾何異構物具有以下之核心構造(但，構造式中之取代基省略)，且反-反異構物可能最為穩定。

於上述式(E-I)所表示之化合物為陰離子性之情況時，較佳為藉由任意公知之適當之陽離子，例如金屬、有機、無機或金屬有機陽離子，具體而言，鹼金屬、鹼土類金屬、過渡金屬、一級銨、二級銨、三烷基銨等三級銨、四烷基銨等四級銨或有機金屬錯合物補償其電荷而成之鹽。又，於上述式(E-I)所表示之化合物之幾何異構物為陰離子性之情況時，較佳為相同之鹽。

上述式(E-I)之取代基及該等之定義中，就有遮蔽率變高之傾向之方面而言，較佳為以下。其原因在於：可認為以下之取代基不具有吸收，而不會對顏料之色相產生影響。R^2e、R^4e、R^5e、R^7e、R^9e及R^10e相互獨立，較佳為氫原子、氟原子、或氯原子，更佳為氫原子。R^3e及R^8e相互獨立，較佳為氫原子、NO₂、OCH₃、OC₂H₅、溴原子、氯原子、CH₃、C₂H₅、N(CH₃)₂、N(CH₃)(C₂H₅)、N(C₂H₅)₂、α-萘基、β-萘基、SO₃H或SO₃ ^-，更佳為氫原子或SO₃H。

R^1e及R^6e相互獨立，較佳為氫原子、CH₃或CF₃，更佳為氫原子。較佳為選自由R^1e與R^6e、R^2e與R^7e、R^3e與R^8e、R^4e與R^9e、及R^5e與R^10e所組成之群組中之至少1個組合相同，更佳為R^1e與R^6e相同，R^2e與R^7e相同，R^3e與R^8e相同，R^4e與R^9e相同，且R^5e與R^10e相同。

該碳數1至12之烷基例如為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、2-甲基丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2-二甲基丙基、正己基、庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基丁基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基或十二烷基。

該碳數3至12之環烷基例如為環丙基、環丙基甲基、環丁基、環戊基、環己基、環己基甲基、三甲基環己基、側柏基、降基、基、降蒈基(norcaryl)、蒈基(caryl)、基、降蒎基(norpinyl)、蒎基(pinyl)、1-金剛烷基或2-金剛烷基。

該碳數2至12之烯基例如為乙烯基、烯丙基、2-丙烯-2-基、2-丁烯-1-基、3-丁烯-1-基、1,3-丁二烯-2-基、2-戊烯-1-基、3-戊烯-2-基、2-基-1-丁烯-3-基、2-甲基-3-丁烯-2-基、3-甲基-2-丁烯-1-基、1,4-戊二烯-3-基、己烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基或十二烯基。

該碳數3至12之環烯基例如為2-環丁烯-1-基、2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基、3-環己烯-1-基、2,4-環己二烯-1-基、1-對烯-8-基、4(10)-側柏烯-10-基、2-降烯-1-基、2,5-降二烯-1-基、7,7-二甲基-2,4-降蒈二烯-3-基或莰烯基(camphenyl)。

該碳數2至12之炔基例如為1-丙炔-3-基、1-丁炔-4-基、1-戊炔-5-基、2-甲基-3-丁炔-2-基、1,4-戊二炔-3-基、1,3-戊二炔-5-基、1-己炔-6-基、順-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、反-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、1,3-己二炔-5-基、1-辛炔-8-基、1-壬炔-9-基、1-癸炔-10-基或1-十二炔-12-基。

該鹵素原子例如為氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。

於本發明之一較佳具體例中，式(E-I)之R^2e、R^4e、R^5e、R^7e、R^9e及R^10e相互獨立為氫原子、氟原子或氯原子，R^3e及R^8e相互獨立為氫原子、NO₂、OCH₃、OC₂H₅、溴原子、氯原子、CH₃、C₂H₅、N(CH₃)₂、N(CH₃)(C₂H₅)、N(C₂H₅)₂、α-萘基、β-萘基、SO₃H或SO₃-，R^1e與R^6e相同，R^2e與R^7e相同，R^3e與R^8e相同，R^4e與R^9e相同，R^5e與R^10e相同。

該第一黑色顏料(E-1)較佳為下述式(E-I-1)所表示之化合物。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該第一黑色顏料(E-1)之使用量為40重量份至180重量份，較佳為45重量份至160重量份，且更佳為50重量份至140重量份。

當本發明之黑色感光性樹脂組成物無同時使用該第一鹼可溶性樹脂(A-1)及該第一黑色顏料(E-1)時，則由此黑色感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣及黑色間隙體其具有顯影殘渣之缺陷。

該第二黑色顏料(E-2)包含但不限於(1)黑色有機顏料：二萘嵌苯黑(perylene black)、花青黑(cyanine black)、苯胺黑(aniline black)等；(2)由紅、藍、綠、紫、黃色、花青(cyanine)、洋紅(magenta)等顏料中，選擇兩種或兩種以上的顏料進行混合，使其成近黑色化之混色有機顏料；(3)遮光材：碳黑(carbon black)、氧化鉻、氧化鐵、鈦黑(titanium black)、石墨等。

上述碳黑之具體例包含但不限於C.I.Pigment black 7，或者三菱化學公司所製造之商品，其型號為MA100、MA220、MA230、MA8、#970、#1000、#2350或#2650。該黑色顏料(E)可單獨一種或混合複數種使用。

較佳地，該第二黑色顏料(E-2)可為碳黑，或者前述型號為MA100或MA230之商品。

基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該黑色顏料(E)之使用量為50重量份至180重量份，較佳為55重量份至160重量份，且更佳為60重量份至140重量份。

在不影響本發明功效之前提下，本發明的黑色感光性樹脂組成物可進一步選擇性地添加添加劑(F)。該添加劑(F)之具體例可包含界面活性劑、填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、防凝集劑或前述鹼可溶性樹脂(A)以外之其他能增加各種性質(例如機械性質)的聚合物。

前述界面活性劑之具體例可包含陽離子型界面活性劑、陰離子型界面活性劑、非離子型界面活性劑、兩性界面活性劑、聚矽氧烷界面活性劑、氟素界面活性劑或上述界面活性劑之任意組合。

該界面活性劑之具體例可包含但不限於聚乙氧基十二烷基醚、聚乙氧基硬酯醯醚或聚乙氧基油醚等之聚乙氧基烷基醚類；聚乙氧基辛基苯基醚或聚乙氧基壬基苯基醚等之聚乙氧基烷基苯基醚類；聚乙二醇二月桂酸酯或聚乙二醇二硬酸酯等之聚乙二醇二酯類；山梨糖醇酐脂肪酸酯化合物；脂肪酸改質的聚酯化合物；三級胺改質的聚胺基甲酸酯化合物；或者市售之商品。其中，該市售商品可為信越化學工業公司製造之產品，且其型號為KP；道康寧東麗股份有限公司(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為SF-8427；共榮社油脂化學工業製造之產品，且其型號為Polyflow；得克姆股份有限公司(Tochem Products Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為F-Top；大日本印墨化學工業製造之產品，且其型號為Megafac；住友3M製造之產品，且其型號為Fluorade；或者旭硝子公司製造之產品，且其型號為Asahi Guard或Surflon。該界面活性劑可單獨一種或混合複數種使用。

前述填充劑之具體例可包含玻璃或鋁等。

前述密著促進劑之具體例可包含乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學製造之商品，且其型號為KBM-403)、EPPN501H(日本化藥公司製)、EPIKOTE 152(殼牌化學公司製造)、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷或3-巰丙基三甲氧基矽烷等之化合物，或者上述化合物之任意組合。

前述抗氧化劑之具體例可包含2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚或上述化合物之任意組合。

前述防凝集劑之具體例可包含聚丙烯酸鈉等之化合物。

基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，添加劑(F)中之填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、防凝集劑或鹼可溶性樹脂(A)以外之聚合物的使用量係不超過10重量份，且較佳係不超過6重量份。

<黑色感光性樹脂組成物之製備>

黑色感光性樹脂組成物的製備係將前述之鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、溶劑(D)及黑色顏料(E)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時亦可添加添加劑(F)，予以均勻混合後，即可獲得溶液狀態之黑色感光性樹脂組成物。

其次，黑色感光性樹脂組成物的製備方法並沒有特別之限制。黑色顏料(E)可直接加至由鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)和溶劑(D)所組成的混合物中，而可分散形成前述溶液狀態之感光性樹脂組成物。或者，先將部份之黑色顏料(E)加至由部份鹼可溶性樹脂(A)及部份之溶劑(D)所組成之混合物中，以形成顏料分散液。然後，將其餘之鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、其餘之溶劑(D)和剩餘之黑色顏料(E)加至前述之顏料分散液中，以製得溶液狀態之感光性樹脂組成物。

上述黑色顏料(E)的分散步驟可藉由珠磨機(beads mill)或輥磨機(roll mill)等之混合器來進行。

<黑色矩陣/黑色間隙體之製備>

黑色矩陣係將上述的黑色感光性樹脂組成物塗佈在薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)基板或透明基板上，並依序進行預烤處理、曝光處理、顯影處理及後烤處理後即可製得，其方式可為(1)整合式彩色濾光片方式，其係將包含黑色矩陣及像素層之彩色濾光片設置於TFT元件基板側；或(2)整合式黑色矩陣方式，其係僅將黑色矩陣設置於TFT元件基板側，上述方式並沒有特別限制。當所製得之黑色矩陣的膜厚為2μm時，光學密度範圍可為3.0以上，較佳為3.2至5.5，且更佳為3.5至5.5。

另外，本發明之黑色矩陣係形成於TFT基板上，其方式可為(1)整合式彩色濾光片方式，其係將包含黑色矩陣及像素層之彩色濾光片設置於TFT元件基板側；或(2)整合式黑色矩陣方式，其係僅將黑色矩陣設置於TFT元件基板側，上述方式並沒有特別限制。

若將上述之黑色感光性樹脂組成物用以製造黑色間隙體，則以上述相同方法形成，且黑色間隙體之厚度為3μm。以下詳述本發明之黑色矩陣/黑色間隙體的製備方法。

首先，藉由旋轉塗佈(spin coating)或流延塗佈(cast coating)等之塗佈方式，將溶液狀態的黑色感光性樹脂組成物均勻地塗佈在基板上，以形成塗膜。上述基板之具體例可包含用於液晶顯示裝置等之薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)基板或透明基板：無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、硬質玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃及於前述之玻璃上附著透明導電膜者；或者用於固體攝影裝置等之光電變換裝置基板(例如：矽基板)等。

形成塗膜之後，以減壓乾燥之方式去除大部份之溶劑。然後，以預烤(pre-bake)之方式去除剩餘之溶劑，以形成預烤塗膜。根據各成分之種類及比例的不同，前述之減壓乾燥及預烤的條件係隨之改變。減壓乾燥一般係在小於200mmHg之壓力下進行1秒至20秒，且預烤係在70℃至110℃對塗膜加熱處理1分鐘至15分鐘。

接著，以具有特定圖案之光罩對前述之預烤塗膜進行曝光處理。曝光處理所使用之光線可為g線、h線或i線等之紫外光，且紫外光之照射裝置可為(超)高壓水銀燈或金屬鹵素燈。

進行曝光處理後，將前述曝光後之預烤塗膜浸漬於21℃至25℃之顯影液(developing solution)中，以去除上述未經曝光之部分的預烤塗膜，而可在基板上形成特定的圖案。

前述之顯影液可為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、矽酸鈉、甲基矽酸鈉、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲胺、氫氧化四乙胺、膽鹼、吡咯、哌啶或1,8-二氮雜二環-[5,4,0]-7-十一烯等之鹼性化合物。該顯影液之濃度一般為0.001重量百分比至10重量百分比，較佳為0.005重量百分比至5重量百分比，且更佳為0.01重量百分比至1重量百分比。

進行顯影處理後，將具有特定圖案之基板以水洗淨，並利用壓縮空氣或壓縮氮氣風乾上述之基板。然後，以熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理，即可於基板上形成黑色矩陣。後烤處理之溫度一般為150℃至250℃。當加熱裝置係使用熱板時，其加熱時間為5分鐘至60分鐘；當加熱裝置係使用烘箱時，其加熱時間為15分鐘至150分鐘。

<彩色濾光片之製備方法>

本發明之彩色濾光片之製備係先藉由旋轉塗佈、流延塗佈或輥式塗佈等塗布方式，將溶液狀態之彩色濾光片用的感光性樹脂組成物均勻地塗佈在前述具有黑色矩陣及/或黑色間隙體之基板上，以形成塗膜。

形成塗膜後，藉由減壓乾燥去除大部份之溶劑，且以預烤之方式去除剩餘之溶劑，以形成預烤塗膜。其中，根據各成分之種類或比例的不同，減壓乾燥及預烤之條件係隨之改變。減壓乾燥一般係在0mmHg至200mmHg之壓力下進行1秒至60秒，且預烤係在70℃至110℃下對塗膜加熱處理1分鐘至15分鐘。

然後，以具有特定圖案之光罩對前述之預烤塗膜進行曝光處理。曝光處理所使用之光線可為g線、h線或i線等之紫外光，且紫外光之照射裝置可為(超)高壓水銀燈或金屬鹵素燈。

進行顯影處理後，將具有特定圖案之基板以水洗淨，並利用壓縮空氣或壓縮氮氣風乾上述之基板。然後，以熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理。後烤處理之條件如前所述，在此不另贅述。重複上述之步驟，以形成紅、綠、藍等畫素著色層於基板上。

接著，於220℃至250℃之真空環境下，利用濺鍍之方式形成ITO保護膜(蒸鍍膜)於前述畫素著色層之表面上。必要時，對ITO保護膜進行蝕刻與佈線，並在ITO保護膜表面塗佈液晶配向膜(液晶配向膜用聚醯亞胺)，而可形成具有畫素層的彩色濾光片。

<液晶顯示器之製備方法>

將上述所製得之彩色濾光片及設有薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)之基板作對向配置，並且在上述兩者之間設置間隙(晶胞間隔；cell gap)。然後，以黏著劑貼合彩色濾光片與上述基板的周圍部分並且留下注入孔。接著，在基板表面以及黏著劑所分隔出的間隙內由注入孔注入液晶，並封住注入孔，以形成液晶層。之後，將偏光板設置在彩色濾光片中接觸液晶層的另一側與基板中接觸液晶層的另一側，而可製成液晶顯示器。

上述之液晶可為液晶化合物或液晶組成物，此處並未特別限定，惟可使用任何一種液晶化合物及液晶組成物。

再者，彩色濾光片中所使用的液晶配向膜是用來限制液晶分子的配向，且其沒有特別的限制，舉凡無機物或有機物任一者均可，並且本發明並不限於此。

除上述方法外，具有本發明之樹脂黑色矩陣的液晶顯示裝置，亦可使用例如日本專利特開平4-253028號公報、特開平7-159772號公報、特開平9-311348號公報等中所揭示之眾所周知的方法而製造。又，本發明之樹脂黑色矩陣，特佳為安裝在Willem Den Boer，‘‘Active Matrix Liquid Crystal Displays”(Newnes，2005，pp.141-142)等中所揭示之BOA方式等之液晶顯示裝置、或日本專利特開平10-206888號公報、特開2002-277899號公報等中所揭示之COA方式之液晶顯示裝置中。

茲以下列實例予以詳細說明本發明，唯並不意謂本發明僅侷限於此等實例所揭示之內容。

<製備第一鹼可溶性樹脂(A-1)>

<製備例A-1-1>

在一四頸錐瓶上設置攪拌器、溫度計、冷凝管及氮氣入口，並導入氮氣。然後，加入100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱為PGMEA)至四頸錐瓶中，並將溫度升溫至100℃。接著，將10重量份之二甲基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯(以下簡稱為DMOA)、25重量份之甲基丙烯酸(以下簡稱為MAA)、40重量份之苯乙烯(以下簡稱為SM)、25重量份之甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(以下簡稱為HEMA)及4.5重量份之2,2’-偶雙氮-2-甲基丁腈(以下簡稱為AMBN)溶於100重量份之PGMEA中，並將此混合溶液於2小時內逐滴滴入四頸錐瓶中。於100℃反應6.5小時後，即可製得合成例A-1-1之鹼可溶性樹脂(A-1-1)。

<製備例A-1-2至A-1-3>

製備例A-1-2至A-1-3係使用與製備例A-1-1之第一鹼可溶性樹脂的製作方法相同之製備方法，不同之處在於製備例A-1-2至A-1-3係改變第一鹼可溶性樹脂中原料的種類及使用量，且其配方如表1所示，在此不另贅述。

<製備例A-1-4>

在一四頸錐瓶上設置攪拌器、溫度計、冷凝管及氮氣入口，並導入氮氣。然後，加入100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱為PGMEA)至四頸錐瓶中，並將溫度升溫至100℃。接著，將10重量份之二乙基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯(以下簡稱為DEOA)、25重量份之二環己基-2,2’-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯(以下簡稱為DCOA)、40重量份之丙烯酸(以下簡稱為AA)、25重量份之甲基丙烯酸苯甲酯(以下簡稱為BzMA)及4.5重量份之2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(以下簡稱為ADVN)溶於100重量份之PGMEA中，並將此混合溶液於2小時內逐滴滴入四頸錐瓶中。於100℃反應6.5小時後，將1重量份之甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯(以下簡稱為ECMMA)加至充滿氮氣之四頸錐瓶中，並將溫度上升至110℃。反應6小時後，即可製得合成例A-1-4之鹼可溶性樹脂(A-1-4)。

<製備例A-1-5至A-1-8>

製備例A-1-5至A-1-8係使用與製備例A-1-4之第一鹼可溶性樹脂的製作方法相同之製備方法，不同之處在於製備例A-1-5至A-1-8係改變第一鹼可溶性樹脂中原料的種類及使用量，且其配方如表1所示，在此不另贅述。

<製備第二鹼可溶性樹脂(A-2)>

<製備例A-2-1>

將100重量份的芴環氧化合物(新日鐵化學製造，且型號為ESF-300；環氧當量為231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯連續添加至500mL的四頸燒瓶中，且入料速度控制為每分鐘25重量份，並將溫度維持在100℃至110℃。反應15小時後，即可獲得固體成分濃度為50wt%之淡黃色透明混合液。

接著，將100重量份的上述混合液溶解於25重量份的乙二醇***醋酸酯中，同時添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐及13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐，並加熱至110℃至115℃。反應2小時後，即可獲得酸價為98.0mgKOH/g且數目平均分子量為1623之第二鹼可溶性樹脂(A-2-1)。

<製備例A-2-2>

接著，將100重量份的上述混合液溶解於25重量份的乙二醇***醋酸酯中，同時添加13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐。在90℃至95℃下反應2小時後，添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐，並於90℃至95℃下反應4小時，即可獲得酸價為99.0mgKOH/g且數目平均分子量為2162之第二鹼可溶性樹脂(A-2-2)。

<製備例A-2-3>

將400重量份的環氧化合物(日本化藥(株)製造，且型號為NC-3000；環氧當量為288)、102重量份的丙烯酸、0.3重量份的甲氧基酚(methoxyphenol)、5重量份的三苯基膦及264重量份的丙二醇甲醚醋酸酯置於反應瓶中，將溫度維持在95℃，反應9小時後，即可獲得酸價為2.2mgKOH/g之中間產物。接著，加入151重量份的四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)，在95℃下反應4小時，即可獲得酸價為102mgKOH/g且數目平均分子量為2589之第二鹼可溶性樹脂(A-2-3)。

<製備其他鹼可溶性樹脂(A-3)>

<製備例A-3-1>

將1重量份的2,2’-偶氮雙異丁腈、240重量份的丙二醇單甲基醚醋酸酯、20重量份的甲基丙烯酸、15重量份的苯乙烯、35重量份的甲基丙烯酸苯甲酯、10重量份的甘油單甲基丙烯酸脂及20重量份的氮-苯基馬來醯亞胺置於一裝有攪拌器及冷凝器之圓底燒瓶中，並使該燒瓶內部充滿氮氣，之後，緩慢攪伴並升溫至80℃，使各反應物均勻混合並進行聚合反應4小時。之後，再將其升溫至100℃，並添加0.5重量份的2,2’-偶氮二異丁腈進行1小時聚合後，即可得一其它鹼可溶性樹脂(A-3-1)。

<製備例A-3-2>

將2重量份的2,2’-偶氮雙異丁腈、300重量份的二丙二醇甲基醚、15重量份的甲基丙烯酸、15重量份的2-羥基丙烯酸乙酯及70重量份的甲基丙烯酸苯甲酯置於一裝有攪拌器及冷凝器之圓底燒瓶中，並使該燒瓶內部充滿氮氣，之後，緩慢攪伴並升溫至80℃，使各反應物均勻混合並進行聚合反應3小時。之後，再將其升溫至100℃，並添加0.5重量份的2,2’-偶氮二異丁腈進行1小時聚合後，即可得一其他鹼可溶性樹脂(A-3-2)。

<製備例A-3-3>

在容積為1000毫升的四頸錐瓶上設置氮氣入口、攪拌器、加熱器、冷凝管及溫度計，導入氮氣後，添加40重量份的甲基丙烯酸、30重量份的甲基丙烯酸甲酯、30重量份的苯乙烯、2重量份的2,2'-偶氮二(異丁腈)(2,2'-Azobis(isobutyronitrile)，AIBN)以及100重量份的異丙醇。接著，緩慢攪拌上述混合物並且使溶液昇溫至80℃。接著，於此80℃下聚縮合4小時，再加入重量份的對苯二酚單甲醚(Hydroquinone monomethyl ether)後，邊緩慢回復至室溫邊進行聚合。然後，加入40重量份的甲基丙烯酸環氧丙酯(Glycidyl methacrylate，GMA)之後，以超純水將產物沉澱、過濾、乾燥後，可得一其他鹼可溶性樹脂(A-3-3)。

<實施例>

<製備黑色感光性樹脂組成物>

<實施例1>

將60重量份前述之鹼可溶性樹脂A-1-1、40重量份前述之鹼可溶性樹脂A-3-1、60重量份的EO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯(以下簡稱為B-1)、10重量份的1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)(以下簡稱為C-2-1)、70重量份的第一黑色顏料(E-1-1)及10重量份的第二黑色顏料(商品名MA220；以下簡稱為E-2-1)加至1200重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱為D-1)中，並以搖動式攪拌器(shaking type stirrer)攪拌均勻後，即可製得實施例1之黑色感光性樹脂組成物。所得之黑色感光性樹脂組成物以下述顯影殘渣之評價方式進行評價，所得結果如表2所示。

<實施例2至16及比較例1至5>

實施例2至16及比較例1至5係使用與實施例1之黑色感光性樹脂組成物的製作方法相同之製備方法，不同之處在於實施例2 至16及比較例1至5係改變黑色感光性樹脂組成物中原料的種類及使用量，且其配方及評價結果分別如表2及表3所示，在此不另贅述。

<比較例6>

將8重量份前述之鹼可溶性樹脂A-3-3、20重量份的黑色顏料(商品名MA100)加至72重量份的丙二醇單甲基醚醋酸酯中，並以由氧化鋯珠填充之研磨式(mill type)分散機分散後，可以得到黑色顏料分散液。

接著，取100重量份前述之黑色顏料分散液、5重量份的下式單體、5重量份的二季戊四醇五丙烯酸酯、1.6重量份的光起始劑CGI242(Ciba Specialty Chemicals製)、3.2重量份的光起始劑CGI113(Ciba Specialty Chemicals製)加至55.2重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱為PGMEA)中，即可製得比較例6之黑色感光性樹脂組成物。所得之黑色感光性樹脂組成物以下述顯影殘渣之評價方式進行評價，評價結果為×。

<評價方式>

<顯影殘渣>

將上述各實施例及比較例的黑色感光性樹脂組成物以旋轉塗佈的方式塗佈在兩組100mm×100mm的玻璃基板上。然後，於約100毫米汞柱(mmHg)的壓力下進行減壓乾燥約30秒鐘。接著，將上述的兩組玻璃基板置於80℃下預烤3分鐘，以形成膜厚為2.5微米的預烤塗膜。將上述兩組預烤塗膜置於具有不同線幅的光罩下，以能形成20μm的線幅的曝光量照射該預烤塗膜，之後，將該兩組預烤塗膜分別浸漬於23℃的顯影劑(0.04%氫氧化鉀)中40及80秒，以去除該預烤塗膜未經紫外光照射的部分，再用純水洗淨後，再於烘箱中以230℃進行後烤處理60分鐘。接著，以顯微鏡(Nikon製，型號Eclipse 50i)及掃描式電子顯微鏡(Hitachi製，型號S-3000N)觀察兩組圖案邊緣是否有顯影殘渣，其評價方式如表4所示：

上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效，而非限制本發明。習於此技術之人士對上述實施例所做之修改及變化仍不違背本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

Claims

一種黑色感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；及黑色顏料(E)，其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一第一鹼可溶性樹脂(A-1)及一第二鹼可溶性樹脂(A-2)，其中該第一第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有如式(I)所示之結構：於式(I)中，A₁及A₂分別獨立地表示氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基；該第一鹼可溶性樹脂(A-1)具有至少一個乙烯性不飽和基，且係由一第一混合物反應所製得，該第一混合物係由具有如下式(I-1)所示之乙烯性不飽和單體(a-1-1)、具有至少一個羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(a-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(a-1-3)所共聚合而成之一共聚合物，再與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(a-1-4)反應而得：於式(I-1)中，A₁及A₂分別獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基之碳數為1至25之烴基；該第二鹼可溶性樹脂(A-2)係由一第二混合物聚合而得，該第二混合物包含具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-2-1)及具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-2-2)，其中該具有至少二個環氧基的環氧化合物(a-2-1)具有由式(III)或式(IV)所示之化合物或其組合：於式(III)中，B₁、B₂、B₃及B₄分別為相同或不同，且B₁、B₂、B₃及B₄分別表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至5之烷基、碳數為1至5之烷氧基、碳數為6至12之芳香基或碳數為6至12之芳烷基；於式(IV)中，B₅至B₁₈分別為相同或不同，B₅至B₁₈分別氫原子、鹵素原子、碳數為1至8之烷基或碳數為6至15之芳香基，且a代表0至10之整數。及該黑色顏料(E)包含一第一黑色顏料(E-1)，其中該第一黑色顏料(E-1)包含一具有式(E-I)所示之化合物、其幾何異構物、其鹽、或其幾何異構物之鹽：於式(E-I)中，R^1e及R^6e相互獨立為氫原子、CH₃、CF₃、氟原子或氯原子；R^2e、R^3e、R^4e、R^5e、R^7e、R^8e、R^9e及R^10e係和其他全部相互獨立為氫原子、鹵素原子、R^11e、COOH、COOR^11e、COO-、CONH₂、CONHR^11e、CONR^11eR^12e、CN、OH、OR^11e、COCR^11e、OOCNH₂、OOCNHR^11e、OOCNR^11eR^12e、NO₂、NH₂、NHR^11e、NR^11eR^12e、NHCOR^12e、NR^11eCOR^12e、N=CH₂、N=CHR^11e、N=CR^11eR^12e、SH、SR^11e、SOR^11e、SO₂R^11e、SO₃R^11e、SO₃H、SO₃-、SO₂NH₂、SO₂NHR^11e或SO₂NR^11eR^12e；且選自由R^2e與R^3e、R^3e與R^4e、R^4e與R^5e、R^7e與R^8e、R^8e與R^9e、及R^9e與R^10e所組成之群組中之至少1個組合，係為相互直接鍵結，或者藉由氧原子、硫原子、NH或NR^11e橋接而相互鍵結；R^11e及R^12e相互獨立為碳數1至12之烷基、碳數3至12之環烷基、碳數2至12之烯基、碳數3至12之環烯基或碳數2至12之炔基；其中基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該第一鹼可溶性樹脂(A-1)之使用量為45重量份至95重量份，該第二鹼可溶性樹脂(A-2)之使用量為5重量份至55重量份。
根據請求項1之黑色感光性樹脂組成物，其中該光起始劑(C)包含一具有式(C-I)所示結構之第一光起始劑(C-1)：於式(C-I)中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇及R₈彼此獨立地為氫、或COR₁₆；且R₃及R₄或R₅及R₆共同為；R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此獨立地為氫；X係CO或直接鍵；R₁₃係C₁-C₂₀烷基，其係未經取代；或R₁₃係C₂-C₁₂烯基，其係間雜有一或多個O，其中該經間雜之C₂-C₁₂烯基係經一或多個鹵素取代；R₁₄係C₁-C₂₀烷基，其係未經取代；R₁₅係C₆-C₂₀芳基，其係經一或多個以下基團取代：OR₁₇；或其經C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基係未經取代；或R₁₅係未經取代之萘甲醯基；R₁₆係C₆-C₂₀芳基，其經一或多個C₁-C₂₀烷基取代，該C₁-C₂₀烷基係未經取代；R₁₇係C₁-C₂₀烷基，其係經一或多個以下基團取代：鹵素；但條件為在該分子中存在至少一個基團。
根據請求項1之黑色感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)之使用量為40重量份至200重量份；該光起始劑(C)之使用量為5重量份至50重量份；該溶劑(D)之使用量為1000重量份至3500重量份；及該黑色顏料(E)之使用量為50重量份至180重量份。
根據請求項2之黑色感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該光起始劑(C-1)之使用量為2重量份至20重量份。
根據請求項1之黑色感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該黑色顏料(E-1)之使用量為40重量份至180重量份。
一種黑色間隙體，其係藉由根據請求項1至5中任一項之黑色感光性樹脂組成物經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理所形成。
一種黑色矩陣，其係藉由根據請求項1至5中任一項之黑色感光性樹脂組成物經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理所形成。
一種彩色濾光片，其包含根據請求項6中之黑色間隙體。
一種彩色濾光片，其包含根據請求項7中之黑色矩陣。
一種液晶顯示器，其包含根據請求項8至9中任一項之彩色濾光片。