TWI660695B - 挑染梳 - Google Patents
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Abstract
一種挑染梳結構,包含梳背、設於梳背的複數個第一梳齒以及分別設於梳背且位於複數個第一梳齒其中相鄰的兩個第二梳齒之間,相鄰第一梳齒與梳背的輪廓分別構成第一凹槽,第二梳齒、第一梳齒與梳背的輪廓分別構成第二凹槽,且第二凹槽所容納的髮束量大於第一凹槽所容納的髮束量。梳背還有複數個檔塊凸設於梳背與第二梳齒的連接處,第二凹槽的髮束被檔塊推高而與其他髮束分層。
Description
本發明係關於一種挑染梳結構,特別是用於挑染時能平均分束的挑染梳。
適合的髮型與髮色除了能修飾妝容,增加整體造型上的層次感,更可令他人感受到的容光煥發精神奕奕,成為眾人矚目的焦點。除此之外,有些人也選擇挑染增加造型的層次感。
挑染時,一般是靠設計師憑感覺抓取髮量,批次進行挑染或其他的髮型設計,因此,每一束挑染髮量皆不相同。此外,在設計師經驗傳承的過程中也沒有一個既定的量化方式。有鑑於此,本發明人係集結多年來於相關領域之實務經驗,設計利於挑染的梳子結構。
本發明提供一種挑染梳,可以將頭髮分束成二種髮束量,而利於後續的髮型挑染設計。
基於上述目的,提供一種挑染梳,挑染梳包含梳背以及複數個第一梳齒並排設置於梳背,相鄰的第一梳齒與梳背的輪廓分別構成第一凹槽,其特徵在於,包含複數個第二梳齒,分別設置於梳背而位於該等第一梳齒其中相鄰的兩個之間,第二梳齒、第一梳齒與梳背的輪廓分別構成第二凹槽,以及,複數個檔塊,凸設於梳背與第二梳齒的連接處,檔塊於第二梳齒延伸方向的投影覆蓋第二凹槽且不覆蓋等第一凹槽。其中,各該第二凹槽所容納的髮束量大於各該第一凹槽所容納的髮束量。
藉由於梳子上設置容置兩種不同髮束量的凹槽,同時設計使第二凹槽的髮束量符合每批次挑染的量,而達到定量挑染的需求。此外,在構成第二凹槽時,利用第二梳齒上凸設檔塊,將已被第二凹槽分束的髮量頂住,以利設計師拾取。
此外,凹槽的髮容量可以依據以下定義設置,梳背、該等第一梳齒與該等第二梳齒共同位於一虛擬平面,各該第二凹槽於虛擬平面的投影面積大於各該第一凹槽於虛擬平面的投影面積。
此外,在利於分束拾取的前提下,檔塊可以具有斜面,斜面可以覆蓋或不覆蓋第二梳齒。或者,第二梳齒與其相鄰的二個第一梳齒齒座之間具有一預定寬度,檔塊於梳背延伸方向的寬度小於預定寬度。
另一方面,在利於比較髮束量的前提下,第一凹槽的封閉端與第二凹槽的封閉端可以在同一個平面上。而且,於第一梳齒的長度大於第二梳齒的長度。。
於本發明中,為了從梳子凹槽的整排頭髮中獲取欲挑染的髮束,第二梳齒與梳背之結合端於梳背延伸方向的寬度介於0.5公分至2公分。
為了清楚說明本發明之具體實施方式、構造及所達成之效果,配合圖示說明如下:
請參見圖1至圖3,圖中,一種挑染梳,包含梳背10、複數個細長型的第一梳齒20朝向遠離梳背10的方向平行延伸且並排設置於梳背10、複數個粗短型的第二梳齒30設置於梳背10,朝向遠離梳背10的方向平行且位於兩個相鄰的第一梳齒20之間,其中,相鄰的二個第一梳齒20與梳背10的輪廓構成第一凹槽21,相鄰的第二梳齒30、第一梳齒20與梳背10的輪廓構成第二凹槽31。同時,梳背10,第一梳齒20與第二梳齒30位於相同的一虛擬平面,第二凹槽31於虛擬平面的投影面積大於第一凹槽21於虛擬平面的投影面積。換句話說,第二凹槽31所容納的髮束量大於第一凹槽21。
藉由在梳子上設置容置兩種不同髮束量的凹槽,同時使第二凹槽31的髮束量符合每批次挑染的髮量,而達到定量挑染的需求。詳細的說,第二梳齒30與梳背10之結合端於梳背10延伸方向的寬度W介於0.5公分至2公分,這樣藉由第二梳齒30進行分束的髮量較適合做造型。
另一方面,梳背10上凸設複數個檔塊40於第二梳齒30與梳背10結合處,檔塊40的下方正好是第二梳齒30,進一步地,第二梳齒與其相鄰的二個第一梳齒齒座之間具有一寬度W2,檔塊40於梳背延伸方向的寬度W1小於預定寬度。當髮束分散容納於該等第二凹槽31時,檔塊40將會頂住尚未被第二梳齒30分散的頭髮,使頭髮自然產生分層的效果。
在本實施例中,檔塊40具有斜面41,斜面41為三角形且朝遠離梳背10的方向漸縮,最終延伸至覆蓋第二梳齒30的齒尖,使被第二梳齒30分散的頭髮能順勢被頂上。檔塊40具有垂直梳背10的頂面42,其為檔塊40斜面41頂端與梳背10連接的表面,使頭髮與梳背10產生縫隙,以利拾取髮束,或利於觀察披覆於梳背10之頭髮。
此外,第一凹槽21的封閉端與第二凹槽31的封閉端共同位於虛擬平面,當有一排頭髮平整的位於多個連續的凹槽中,每一髮束都能在同一條平面上被觀察,利於比較髮束量。
在本實施例中,將一個第二梳齒30設於兩個第一梳齒20之間,第一梳齒20的長度大於第二梳齒30的長度,如圖2所示,使兩個第二凹槽31呈現M型。如此一來,大量的頭髮先位於第二凹槽31的開口,再受到第一梳齒20與第二梳齒30的引導而平均進入兩個第二凹槽31中,而平均的分成兩束。
本發明所提供再一實施例,請參閱圖4與圖5,其主要結構大致與前述實施例相同,差異在於:檔塊40具有斜面41,斜面41底端自梳背10向外延伸且不覆蓋第二梳齒30,斜面41頂端朝向梳背10垂直方向遠離梳背10,藉此使第二凹槽31的髮束頂於斜面41,進行後續處理。
請參見圖5,設計師在使用本發明之挑染梳時,可以在頭髮的下方,由上往下梳,界定多個髮束,如圖5所示,大髮束100、101能集中於第二凹槽31,且相對於第一凹槽21的小髮束102位於上方,再使用夾子或髮圈固定這些定量的髮束,而進行後續的挑染、綁麻花辮、捲髮編髮的設計動作。
此外,在其他的實施態樣中,在考量將頭髮分成預定髮束或髮量的前提下,可以在兩個第一梳齒中設置相鄰的兩個第二梳齒,構成三個較大的凹槽,或改變第二梳齒的外圍輪廓,使第二梳齒相鄰兩側的第二凹槽31具有不同的髮束容量,或依此設計多種梳齒,構成兩種以上髮束容量的凹槽,進行髮束定量。
10‧‧‧梳背
20‧‧‧第一梳齒
21‧‧‧第一凹槽
30‧‧‧第二梳齒
31‧‧‧第二凹槽
40‧‧‧檔塊
41‧‧‧斜面
42‧‧‧頂面
W1、W2‧‧‧寬度
100、101、102‧‧‧髮束
圖1是挑染梳之實施例示意圖。
圖2是挑染梳之前視圖。
圖3是剖面A之結構示意圖。
圖4是挑染梳之另一實施例示意圖。
圖5是挑染梳之使用示意圖。
Claims (6)
- 一種挑染梳,包含一梳背以及複數個第一梳齒並排設置於該梳背,相鄰該等第一梳齒與該梳背的輪廓分別構成一第一凹槽,其特徵在於: 複數個第二梳齒,分別設置於該梳背而位於該等第一梳齒其中相鄰的兩個之間,該第二梳齒、該第一梳齒與該梳背的輪廓分別構成一第二凹槽;以及 複數個檔塊,凸設於該梳背與該等第二梳齒的連接處; 其中,各該第二凹槽所容納的髮束量大於各該第一凹槽所容納的髮束量。
- 如申請專利範圍第1項所述之挑染梳,其中該等檔塊具有一斜面,該斜面不覆蓋該第二梳齒。
- 如申請專利範圍第1項所述之挑染梳,其中該等檔塊具有一斜面,該斜面覆蓋該等第二梳齒。
- 如申請專利範圍第1項所述之挑染梳,其中該第二梳齒與其相鄰的二個該第一梳齒齒座之間具有一預定寬度,該檔塊於該梳背延伸方向的寬度小於該預定寬度。
- 如申請專利範圍第1項所述之挑染梳,其中於該等第一梳齒的長度大於該等第二梳齒的長度。
- 如申請專利範圍第1項所述之挑染梳,其中該等第二梳齒與該梳背之結合端於該梳背延伸方向的寬度介於0.5公分至2公分。
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Citations (5)
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- 2018-09-17 TW TW107132707A patent/TWI660695B/zh not_active IP Right Cessation
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