TWI658209B - 氣流產生裝置 - Google Patents

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TWI658209B
TWI658209B TW106145965A TW106145965A TWI658209B TW I658209 B TWI658209 B TW I658209B TW 106145965 A TW106145965 A TW 106145965A TW 106145965 A TW106145965 A TW 106145965A TW I658209 B TWI658209 B TW I658209B
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張守倫
王春
李剛
譚東旭
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緯創資通股份有限公司
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Abstract

一種氣流產生裝置包含一圍壁、一框架片、一遮蓋膜片及一振動件。該圍壁形成一氣流通道。該框架片設置於該氣流通道內且其周圍與該圍壁緊密接觸。該遮蓋膜片包含固定至該框架片之中間部位之一中間連接部及連接至該中間連接部之複數個活動遮蓋部，該遮蓋膜片位於該框架片與該氣流通道之出口之間，該複數個活動遮蓋部選擇性地遮蓋該框架片之複數個開孔。該振動件與該框架片固定連接。當該振動件振動時，該框架片之中間部位及該遮蓋膜片之中間連接部隨之移動，使得該複數個活動遮蓋部密封該複數個開孔或相對於該複數個開孔相對向上移動。

Description

氣流產生裝置
本發明關於一種氣流產生裝置，尤指一種無扇葉而藉由往復振動以產生氣流的器流產生裝置。
一般對於電子裝置的散熱問題，多使用扇葉轉動式風扇，通過風扇扇葉轉動強制對流與環境進行熱交換。扇葉轉動式風扇即使小型化仍具有相當的裝置體積，需要相當的設置空間來設置。目前扇葉轉動式風扇仍常使用於傳統筆電的散熱系統中。但對於薄型筆電，平板，手機等，由於裝置結構尺寸的限制，扇葉轉動式風扇難以滿足其要求，造成裝置於運作時產生的熱難以迅速散逸，影響了裝置運作效能。
鑑於先前技術中的問題，本發明提供一種氣流產生裝置，利用薄膜振動產生氣壓差並搭配單向閥門結構，以產生強制氣流，可用於散熱。
根據本發明之氣流產生裝置包含一圍壁、一框架片、一遮蓋膜片及一振動件。該圍壁形成一氣流通道，該氣流通道具有一入口及一出口。該框架片設置於該氣流通道內且具有複數個開孔，該框架片的周圍與該圍壁緊密接觸並將該氣流通道區隔為連通該出口之一上氣室與連通該入口之一下氣室。該遮蓋膜片包含一中間連接部及連接至該中間連接部之複數個活動遮蓋部，該遮蓋膜片位於該框架片與該出口之間，該中間連接部固定至該框架片之中間部位，該複數個活動遮蓋部選擇性地遮蓋該複數個開孔。該振動件與該框架片固定連接，可用以往復振動。其中，當該振動件朝向該上氣室以一第一方向移動時， 該框架片之中間部位及該遮蓋膜片之中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個活動遮蓋部密封該複數個開孔並將該上氣室內之氣體推出該出口外，同時自該入口吸入一外部氣體，以及當該振動件以相反於該第一方向之一第二方向朝向該下氣室移動時，該框架片之至少中間部位及該遮蓋膜片之中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個活動遮蓋部相對於該複數個開孔以該第一方向掀開，使至少一部分該外部氣體從該下氣室進入該上氣室。藉此，透過該振動件的振動，產生該複數個活動遮蓋部與該複數個開孔產生的開、合作用，使得該氣流產生裝置能產生一氣流，自該入口流入該氣流產生裝置、流經該氣流通道、自該出口流出該氣流產生裝置。該氣流即可作為散熱之用。
相對於先前技術，本發明之氣流產生裝置非利用旋轉扇葉產生氣流，故裝置體積可小於傳統扇葉轉動式風扇，使得該氣流產生裝置可適用於薄型筆電，平板，手機等裝置之散熱系統中，提昇散熱效能，也改善了裝置運作效能。
關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。
1、3、4、5、6‧‧‧氣流產生裝置
10‧‧‧圍壁
102‧‧‧氣流通道
102a‧‧‧入口
102b‧‧‧出口
104‧‧‧第一開口
106‧‧‧第二開口
12‧‧‧框架片
12a‧‧‧第一開孔
12b‧‧‧周圍
12c‧‧‧中間部位
14‧‧‧第一遮蓋膜片
142‧‧‧第一中間連接部
144‧‧‧第一活動遮蓋部
16‧‧‧振動件
18‧‧‧下支架
20‧‧‧上支架
22‧‧‧下彈簧
24‧‧‧上彈簧
36‧‧‧振動件
362‧‧‧磁鐵
364‧‧‧電磁鐵
52‧‧‧第二遮蓋膜片
522‧‧‧第二中間連接部
524‧‧‧第二活動遮蓋部
54‧‧‧第三遮蓋膜片
542‧‧‧第三中間連接部
544‧‧‧第三活動遮蓋部
56‧‧‧下支架
56a‧‧‧第二開孔
56b‧‧‧周圍
56c‧‧‧中間部位
58‧‧‧上支架
58a‧‧‧第三開孔
58b‧‧‧周圍
58c‧‧‧中間部位
A‧‧‧上氣室
B‧‧‧下氣室
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
圖1為根據一實施例之氣流產生裝置之示意圖。
圖2為圖1之氣流產生裝置之***圖。
圖3為圖1之氣流產生裝置於其振動件以一第一方向移動時沿線X-X之剖面圖。
圖4為圖1之氣流產生裝置於其振動件以一第二方向移動時沿線X-X之剖面圖。
圖5為根據另一實施例之氣流產生裝置之剖面圖。
圖6為根據另一實施例之氣流產生裝置之剖面圖。
圖7為根據另一實施例之氣流產生裝置之***圖。
圖8為圖7之氣流產生裝置之剖面圖。
圖9為圖8之氣流產生裝置於其振動件之磁鐵以第二方向移動時之剖面圖。
圖10為根據另一實施例之氣流產生裝置之剖面圖。
請參閱圖1至圖4。根據本發明一實施例之一氣流產生裝置1包含一圍壁10、一框架片12(於剖面圖中，以誇大比例繪示)、一第一遮蓋膜片14(於剖面圖中，以誇大比例繪示)及一振動件16。圍壁10形成一氣流通道102並具有一第一開口104及一第二開口106，氣流通道102具有一或多個入口102a及一或多個出口102b。其中，第一開口104即包含入口102a，第二開口106即包含出口102b。框架片12設置於氣流通道102內且具有複數個第一開孔12a，框架片12的周圍12b與圍壁10內壁緊密接觸或固定。第一遮蓋膜片14包含一第一中間連接部142及連接至第一中間連接部142之複數個與複數個第一開孔12a的數量及位置分別相對應之第一活動遮蓋部144。第一遮蓋膜片14位於框架片12與出口102b之間，第一中間連接部142固定至框架片12之中間部位12c(例如熱熔、膠黏)，該複數個第一活動遮蓋部144可選擇性地遮蓋該複數個第一開孔12a。振動件16(其與外部電源連接之接線以虛線示意於圖3中)與框架片12固定連接，用以產生在單一軸向的往復振動。於本實施例中，振動件16可為包含有永磁鐵與電磁鐵之組合模組，用以在電磁鐵的磁力作用下使永磁鐵在單一軸向上的往復移動而伴隨帶動與永磁鐵連接之活動遮蓋部144擺動，但本發明均不以此為限，例如振動件16亦可包含一或多個壓電片，藉以在電壓驅動下進行擺動而伴隨帶動與壓電片連接之活動遮蓋部144擺動。於實作上，圍壁10得由但不限於一圓管實作，例如圍壁10截面可呈方形。框架片12與第一遮蓋膜片14得由但不限於高分子(例如聚酯樹脂、聚乙烯、聚丙烯等等)材料製作(可併透過衝壓裁切出其輪廓)，且框架片12與第一遮蓋膜片14可為相同材質亦可為不同材質，以及可均為薄膜或只有第一遮蓋膜片 14為薄膜。在另一實施例中，框架片12與第一遮蓋膜片14也可採用金屬薄膜。
此外，氣流產生裝置1還包含一下支架18及一上支架20，下支架18及上支架20分別設置於第一開口102a及第二開口102b並固定連接至圍壁10。下支架18及上支架20分別位於入口102a及出口102b，故有助於維持圍壁10結構，亦有助於提昇氣流產生裝置1整體結構強度。另外，於本實施例中，下支架18及上支架20由數個肋連接數個同心圓結構實作，但於實作上，下支架18及上支架20亦可以其他結構實作，例如以圓盤實作，其上形成數個通孔182、202，以供氣體(例如空氣)流通。又，下支架18及上支架20其中之一可直接與圍壁10一體成型，例如透過對金屬板實施引伸加工形成杯狀結構。於本實施例中，氣流產生裝置1在下支架18及上支架20間之氣流通道102被第一遮蓋膜片14與框架片12區隔成上氣室A及下氣室B。
當振動件16以一第一方向D1往上氣室A振動時(如圖3所示，以圖3視角而言，振動件16位於振動的高點)，框架片12之中間部位12c及第一遮蓋膜片14之第一中間連接部142亦隨之以第一方向D1移動，使得該複數個第一活動遮蓋部144密封該複數個第一開孔12a；其中，圖中框架片12呈向上突起的狀態。以圖3視角而言，於振動件16向上振動(即以第一方向D1移動)的過程中會壓縮上氣室A的空氣而使上氣室A產生相對於下氣室B而言較大的氣壓，使框架片12及第一遮蓋膜片14均受其上方上氣室A氣體向下的阻力，故此阻力會使該複數個第一活動遮蓋部144趨向緊貼該複數個第一開孔12a，進而產生密封該複數個第一開孔12a的效果，或謂關閉該複數個第一開孔12a。
此外，於振動件16向上振動的過程中，框架片12及第一遮蓋膜片14向上氣室A的移動(或謂框架片12帶著第一遮蓋膜片14向上突出)亦會對框架片12上方上氣室A的氣體產生推擠作用，使得框架片12上方上氣室A的氣體經由出口102b快速吹出圍壁10以產生較強氣流(以空心箭頭表示於圖中)；同時，框架片12 及第一遮蓋膜片14向上的移動亦會使框架片12下方氣室B框架片膨脹，使得下氣室B氣壓小於下支架18下方外大氣壓，促使下支架18下方的外界氣體自入口102a被吸入下氣室B(以空心箭頭表示於圖中)。
又，當振動件16以相反於第一方向D1之一第二方向D2往下氣室B振動時(如圖4所示，以圖4視角而言，振動件16位於振動的低點)，框架片12之中間部位12c及第一遮蓋膜片14之第一中間連接部142亦隨之往第二方向D2移動，使得該複數個第一活動遮蓋部144的自由端相對於該複數個第一開孔12a以第一方向D1移動而掀開；其中，圖中框架片12呈向下突起的狀態。以圖4視角而言，於振動件16向下振動(即以第二方向D2移動)的過程中會壓縮下氣室B的空氣而使下氣室B產生相對於上氣室A而言較大的氣壓，框架片12及第一遮蓋膜片14均受其下方氣室B氣體向上的阻力，故此阻力會使該複數個第一活動遮蓋部144的活動端趨向遠離該複數個第一開孔12a(因為第一活動遮蓋部144僅固定的一端受到結構拘束)，進而產生掀開該複數個第一開孔12a的效果。此時，框架片12下方下氣室B的部分氣體即可經過第一開孔12a而進入框架片12上方上氣室A(以空心箭頭表示於圖中)。
因此，於本實施例中，框架片12及第一遮蓋膜片14組成之結構具有單向閥門的效果，透過振動件16上下往復運動，圍壁10外部的氣體不斷地自入口102a吸入圍壁10(或謂氣流通道102)、經由第一開孔12a穿過框架片12、再自出口102b吹出圍壁10，此流動的氣體即形成一單向且間歇性的氣流，且只要振動件16振動頻率夠高時，即可產生連續氣流一直吹出。於實作上，此氣流即可用於電子裝置的散熱。
另外，於本實施例中，框架片12的周圍12b與圍壁10內壁緊密接觸的效果是透過框架片12的周圍12b與圍壁10固定連接(例如膠黏)而實現，進而使框架片12的周圍12b與圍壁10間能保持氣密並區隔上氣室A與下氣室B。
另外，於本實施例中，該複數個第一活動遮蓋部144分別對應該複數個第一開孔12a，即一對一的配置，但於實作上此配置可改為一個第一活動遮蓋部144同時能遮蓋多個第一開孔12a，藉此框架片12可保有較多的結構體積，較易維持一定的結構強度。此外，於本實施例中，每一個第一活動遮蓋部144的輪廓大於對應的第一開孔12a的輪廓，使得即使當框架片12向上移動時，第一活動遮蓋部144仍能完全遮蓋對應的第一開孔12a。於實作上，即使第一活動遮蓋部144未能完全遮蓋對應的第一開孔12a，其仍具有一定的遮蓋效果，亦即能使氣流產生裝置1產生氣流。此外，於本實施例中，每一個第一活動遮蓋部144呈扇形結構，每一個第一開孔12a亦呈扇形，該複數個第一活動遮蓋部144相對於第一中間連接部142呈輻射狀設置，但於實作上，第一活動遮蓋部144及第一開孔12a亦可由其他輪廓實作，其設置亦不以輻射狀設置為限。
另外，原則上，只要振動件16能將振動有效傳遞至框架片12(亦即使框架片12能產生足夠的運動行程或振幅以實現前述交替開啟、關閉該複數個第一開孔12a)，即可透過框架片12及第一遮蓋膜片14產生氣流，故於實作上，振動件16可固定至框架片12其他位置(其中，越遠離框架片12的周圍12b，可產生越大的振幅)。於本實施例中，振動件16固定連接至框架片12之中間部位12c，可使框架片12受到平衡的振動。
於本實施例中，振動件16係由單一組模實現，但於實作上，亦可透過多個分離組件實作並實現振動框架片12與第一遮蓋膜片14的效果。請參閱圖5，其為根據另一實施例之氣流產生裝置3之剖面圖，其剖面位置參閱圖1中線X-X。氣流產生裝置3與氣流產生裝置1結構相似，故氣流產生裝置3仍延用氣流產生裝置1之元件符號，且關於氣流產生裝置3之其他說明，請直接參閱氣流產生裝置1及其變化之相關說明，不另贅述。氣流產生裝置3與氣流產生裝置1的差異主要在於氣流產生裝置3的振動件36包含一磁鐵362及一電磁鐵364(以矩形框 表示於圖5中)。磁鐵362固定連接至框架片12之中間部位12c，電磁鐵364相對磁鐵362設置於下支架18上；於本實施例中，磁鐵362與電磁鐵364的磁極方向平行於第一方向D1(或第二方向D2)，但於實作上，不以此為限。當電磁鐵364的線圈(其與外部電源連接之接線以虛線示意於圖5中)以不同方向電流交替導通時，電磁鐵364與磁鐵362之間亦交替產生斥力和吸力，進而產生在D1及D2的方向上往復振動效果。此外，於本實施例中，下支架18強度大於框架片12，故於振動件36運作時，磁鐵362與框架片12會產生較大的相對於圍壁10的振動(或謂振幅)。藉此，振動件36亦能使框架片12與第一遮蓋膜片14如同氣流產生裝置1中框架片12與第一遮蓋膜片14一般的作動，使得氣流產生裝置3亦能如氣流產生裝置1產生氣流。
另外，於實作上，若周圍12b與圍壁10改以滑動接觸設置，周圍12b與圍壁10間亦能保持一定程度的氣密，使得當磁鐵362振動時，框架片12隨之一起振動，周圍12b於圍壁10上滑動，此作動亦能如前述說明產生氣流。此外，於周圍12b與圍壁10之間填充潤滑油，可增加周圍12b與圍壁10之氣密效果；又，增加周圍12b與圍壁10的接觸面積，可提昇周圍12b於圍壁10上滑動的穩定性。
另外，於實作上，電磁鐵364與磁鐵362可互換設置，同樣能使框架片12與第一遮蓋膜片14如同氣流產生裝置1中框架片12與第一遮蓋膜片14一般的作動。又，於實作上，振動件36亦可設置於框架片12上方，例如磁鐵362固定於第一遮蓋膜片14之第一中間連接部142(亦即固定連接至框架片12之中間部位12c)，電磁鐵364設置於上支架20，同樣能使氣流產生裝置3產生氣流。此外，於實作上，框架片12與第一遮蓋膜片14亦可輔以彈簧以提昇振動效率。如圖6所示，氣流產生裝置4相對於氣流產生裝置3還包含一下彈簧22及一上彈簧24。下彈簧22設置於框架片12與下支架18之間，於本實施例中，下彈簧22兩端抵接於框架片12之中間部位12c及下支架18之間(於實作上，亦可抵接於磁鐵362及電磁 鐵364之間)，當振動件36產生振動時，下彈簧22彈性變形。上彈簧24設置於框架片12與上支架20之間，於本實施例中，上彈簧24兩端抵接於第一中間連接部142及上支架20之間，當振動件36產生振動時，上彈簧24彈性變形。此下彈簧22及上彈簧24之設置亦可適用於氣流產生裝置1，不另贅述。
於前述各實施例中，氣流主要由框架片12與第一遮蓋膜片14驅動，下支架18及上支架20本身不具有閥門功能，但於實作上，下支架18及上支架20可更替為具有閥門功能之結構以提昇產生氣流的效率。請參閱圖7至圖9，其為根據另一實施例之氣流產生裝置5之***圖及剖面圖，其剖面位置參閱圖1中線X-X。氣流產生裝置5與氣流產生裝置3結構相似，故氣流產生裝置5仍延用氣流產生裝置3之元件符號，且關於氣流產生裝置5之其他說明，請直接參閱氣流產生裝置1、3及其變化之相關說明，不另贅述。相較於氣流產生裝置3，氣流產生裝置5還包含一第二遮蓋膜片52及一第三遮蓋膜片54，第二遮蓋膜片52連接至氣流產生裝置5的下支架18，第三遮蓋膜片54連接至氣流產生裝置5的上支架20。於本實施例中，下支架56及上支架58與氣流產生裝置3的下支架18及上支架20輪廓不同，此係因下支架56及上支架58需與第二遮蓋膜片52及第三遮蓋膜片54共同作動，但於實作上，若第二遮蓋膜片52及第三遮蓋膜片54能有效遮蓋下支架18及上支架20的鏤空處，則下支架18及上支架20亦可直接使用於氣流產生裝置5中。
進一步來說，下支架56以其周圍56b固定連接至圍壁10且位於入口102a，下支架56具有複數個第二開孔56a。第二遮蓋膜片52包含一第二中間連接部522及連接至第二中間連接部522之複數個第二活動遮蓋部524。第二遮蓋膜片52位於下支架56與框架片12之間，第二中間連接部522固定至下支架56之中間部位56c，該複數個第二活動遮蓋部524遮蓋該複數個第二開孔56a。此外，上支架58以其周圍58b固定連接至圍壁10且位於出口102b，上支架58具有複數個第三開 孔58a。第三遮蓋膜片54包含一第三中間連接部542及連接至第三中間連接部542之複數個第三活動遮蓋部544。上支架58位於第三遮蓋膜片54與第一遮蓋膜片52之間，第三中間連接部542固定至上支架58之中間部位58c，該複數個第三活動遮蓋部544遮蓋該複數個第三開孔58a。整體而言，圍壁10內的空間(即相當於氣流通道102)被下支架56(及第二遮蓋膜片52)、框架片12(及第一遮蓋膜片14)、上支架58(及第三遮蓋膜片54)分隔成一下氣室B及一上氣室A。
如圖8所示，當振動件36的磁鐵362以第一方向D1移動時，框架片12之中間部位12c及第一遮蓋膜片14之第一中間連接部142以第一方向D1移動，使得該複數個第一活動遮蓋部144密封該複數個第一開孔12a，該複數個第二活動遮蓋部524的自由端相對於該複數個第二開孔56a以第一方向D1移動，該複數個第三活動遮蓋部544的自由端相對於該複數個第三開孔58a以第一方向D1移動。其中，以圖8視角而言，於振動件36的磁鐵362向上移動的過程中，框架片12上方上氣室A的氣體受到框架片12(及第一遮蓋膜片14)擠壓，使得上氣室A的氣壓增加(或謂上氣室A體積縮小)，進而使該複數個第三活動遮蓋部544的自由端能相對於該複數個第三開孔58a以第一方向D1掀開；藉此，上氣室A內的氣體能經由該複數個第三開孔58a吹出圍壁10外(以空心箭頭表示於圖中)。同樣地，於振動件36的磁鐵362向上移動的過程中，下氣室B膨脹，使得下氣室B的氣壓降低，進而使該複數個第二活動遮蓋部524在外部空氣較大氣壓的壓力下能相對於該複數個第二開孔56a以第一方向D1掀開；藉此，外部空氣能經由該複數個第二開孔56a吸入下氣室B內(以空心箭頭表示於圖中)。
如圖9所示，當振動件36的磁鐵362以第二方向D2移動時，框架片12之中間部位12c及第一遮蓋膜片14之第一中間連接部142亦隨之以第二方向D2移動，使得該複數個第一活動遮蓋部144的自由端相對於該複數個第一開孔12a以第一方向D1掀開，該複數個第二活動遮蓋部524密封該複數個第二開孔56a，該 複數個第三活動遮蓋部544密封該複數個第三開孔58a。其中，以圖9視角而言，於振動件36的磁鐵362向下移動的過程中，上氣室A膨脹，使得上氣室A的氣壓降低，在外部空氣較大氣壓的壓力下進而使該複數個第三活動遮蓋部544密封該複數個第三開孔58a。同樣地，於振動件36的磁鐵362向下移動的過程中，下氣室B縮小，下氣室B的氣壓增加，進而使該複數個第二活動遮蓋部524密封該複數個第二開孔56a。從另一方面而言，當振動件36的磁鐵362以第二方向D2移動時，上氣室A的氣壓降低且下氣室B的氣壓增加，使得該複數個第一開孔12a開啟、該複數個第二開孔56a關閉及該複數個第三開孔58a關閉；亦即原本在圖8中框架片12被吸入下方氣室B的氣體即可經過第一開孔12a而進入框架片12上方的上氣室A(以空心箭頭表示於圖中)。
因此，於本實施例中，框架片12及第一遮蓋膜片14組成之結構、下支架56及第二遮蓋膜片52組成之結構、上支架58及第三遮蓋膜片54組成之結構均具有單向閥門的效果。透過振動件36的磁鐵362上下往復運動，氣流產生裝置5能產生自入口102a經由第二開孔56a先吸入外部氣體於下氣室B、經由第一開孔12a穿過框架片12推擠至上氣室A、再自出口102b經由第三開孔58a吹氣流。
另外，於本實施例中，下支架56及上支架58(如同下支架18及上支架20)於振動件36的磁鐵362上下運動時，均能保持不變形，故具有結構強度，有助於提昇氣流產生裝置5整體結構強度。但於實作上，下支架56及上支架58亦可採用膜片實作，如同框架片12一樣，具有可撓性，能於振動件36的磁鐵362上下運動時變形。此時，下支架56及上支架58會隨著下氣室B及上氣室A的氣壓(相對於圍壁10外部氣壓)而變形。
另外，於實作上，氣流產生裝置5亦可配置下彈簧22及上彈簧24，以提昇振動效率。如圖10所示，相對於氣流產生裝置5，氣流產生裝置6配置有包含下彈簧22及上彈簧24，其中下彈簧22設置於框架片12與下支架56之間，上彈 簧24設置於框架片12與上支架58之間，其中當振動件36作動(亦即使磁鐵362振動)時，下彈簧22及上彈簧24彈性變形。
另外，於實作上，在不影響用於產生氣流之構件(例如框架片12、第一遮蓋膜片14、振動件16)作動的情形下，氣流產生裝置1、3、4、5、6可再增加支架設置於圍壁10內側(或謂氣流通道102)或於第一開口104、第二開口106處，以增加整個裝置結構強度。
此外，在其它實施例中，氣流產生裝置5除了複數第一遮蓋膜片14之外可以只包含複數第二活動遮蓋部524及複數個第三活動遮蓋部544之其中之一。
據此，相對於先前技術，本發明之氣流產生裝置利用振動件配合薄膜的往復運動所產生的氣壓差並搭配單向閥門結構，以產生強制氣流，可用於散熱，有別於傳統的扇葉轉動式風扇。整體裝置體積可小於傳統扇葉轉動式風扇，使得該氣流產生裝置可適用於薄型筆電，平板，手機等裝置之散熱系統中，提昇散熱效能，也改善了裝置運作效能。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

Claims (42)

  1. 一種氣流產生裝置，包含：一圍壁，形成一氣流通道，該氣流通道具有一入口及一出口；一框架片，設置於該氣流通道內且具有複數個第一開孔，該框架片的周圍與該圍壁緊密接觸並將該氣流通道區隔為連通該出口之一上氣室與連通該入口之一下氣室；一第一遮蓋膜片，包含一第一中間連接部及連接至該第一中間連接部之複數個第一活動遮蓋部，該第一遮蓋膜片位於該框架片與該出口之間，該第一中間連接部固定至該框架片之中間部位，該複數個第一活動遮蓋部選擇性地遮蓋該複數個第一開孔；一下支架，固定連接至該圍壁且位於該入口；一振動件，與該框架片固定連接，可用以往復振動，該振動件包含一磁鐵及一電磁鐵，該磁鐵固定連接至該框架片之中間部位，該電磁鐵相對該磁鐵設置於該下支架上；以及一下彈簧，設置於該框架片與該下支架之間，當該振動件振動時，該下彈簧可彈性變形；其中，當該振動件朝向該上氣室以一第一方向振動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部密封該複數個第一開孔並將該上氣室內之氣體推出該出口外，同時自該入口吸入一外部氣體，以及當該振動件以相反於該第一方向之一第二方向朝向該下氣室移動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部相對於該複數個第一開孔以該第一方向掀開，使至少一部分該外部氣體從該下氣室進入該上氣室。
  2. 如請求項1所述之氣流產生裝置，其中該框架片的周圍與該圍壁固定連接。
  3. 如請求項1所述之氣流產生裝置，更包含一上支架及一上彈簧，其中該上支架固定連接至該圍壁且位於該出口，該上彈簧設置於該框架片與該上支架之間，其中當該振動件振動時，該上彈簧可彈性變形。
  4. 如請求項1所述之氣流產生裝置，更包含一上支架及一第三遮蓋膜片，其中該上支架固定連接至該圍壁且位於該出口，該上支架具有複數個第三開孔，該第三遮蓋膜片包含一第三中間連接部及連接至該第三中間連接部之複數個第三活動遮蓋部，該上支架位於該第三遮蓋膜片與該第一遮蓋膜片之間，該第三中間連接部固定至該上支架之中間部位，該複數個第三活動遮蓋部選擇性遮蓋該複數個第三開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部相對於該複數個第三開孔以該第一方向掀開以使該上氣室之氣體被推擠出該出口外，以及當該振動件以該第二方向移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部密封該複數個第三開孔，並使該下氣室的氣體被吸入於該上氣室中。
  5. 如請求項4所述之氣流產生裝置，其中該上支架係一膜片。
  6. 如請求項1所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部呈扇形結構，該複數個第一活動遮蓋部相對於該第一中間連接部呈輻射狀設置。
  7. 如請求項1所述之氣流產生裝置，其中該複數個第一活動遮蓋部分別對應該複數個第一開孔。
  8. 如請求項7所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部的輪廓大於該對應的第一開孔的輪廓。
  9. 一種氣流產生裝置，包含：一圍壁，形成一氣流通道，該氣流通道具有一入口及一出口；一框架片，設置於該氣流通道內且具有複數個第一開孔，該框架片的周圍與該圍壁緊密接觸並將該氣流通道區隔為連通該出口之一上氣室與連通該入口之一下氣室；一第一遮蓋膜片，包含一第一中間連接部及連接至該第一中間連接部之複數個第一活動遮蓋部，該第一遮蓋膜片位於該框架片與該出口之間，該第一中間連接部固定至該框架片之中間部位，該複數個第一活動遮蓋部選擇性地遮蓋該複數個第一開孔；一下支架，固定連接至該圍壁且位於該入口，該下支架具有複數個第二開孔；一第二遮蓋膜片，包含一第二中間連接部及連接至該第二中間連接部之複數個第二活動遮蓋部，該第二遮蓋膜片位於該下支架與該框架片之間，該第二中間連接部固定至該下支架之中間部位，該複數個第二活動遮蓋部遮蓋該複數個第二開孔；以及一振動件，與該框架片固定連接，可用以往復振動；其中，當該振動件朝向該上氣室以一第一方向振動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部相對於該複數個第二開孔以該第一方向掀開而吸入一外部氣體於該下氣室中，且使得該複數個第一活動遮蓋部密封該複數個第一開孔並將該上氣室內之氣體推出該出口外，以及當該振動件以相反於該第一方向之一第二方向朝向該下氣室移動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部相對於該複數個第一開孔以該第一方向掀開，使至少一部分該外部氣體從該下氣室進入該上氣室，且使得該複數個第二活動遮蓋部密封該複數個第二開孔，並使該先前吸入該下氣室的該外部氣體被推入於該上氣室中。
  10. 如請求項9所述之氣流產生裝置，其中該框架片的周圍與該圍壁固定連接。
  11. 如請求項9所述之氣流產生裝置，其中該下支架係一膜片。
  12. 如請求項9所述之氣流產生裝置，更包含一上支架及一第三遮蓋膜片，其中該上支架固定連接至該圍壁且位於該出口，該上支架具有複數個第三開孔，該第三遮蓋膜片包含一第三中間連接部及連接至該第三中間連接部之複數個第三活動遮蓋部，該上支架位於該第三遮蓋膜片與該第一遮蓋膜片之間，該第三中間連接部固定至該上支架之中間部位，該複數個第三活動遮蓋部選擇性遮蓋該複數個第三開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部相對於該複數個第三開孔以該第一方向掀開以使該上氣室之氣體被推擠出該出口外，以及當該振動件以該第二方向移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部密封該複數個第三開孔，並使該下氣室的氣體被吸入於該上氣室中。
  13. 如請求項12所述之氣流產生裝置，其中該上支架係一膜片。
  14. 如請求項12所述之氣流產生裝置，更包含一上彈簧及一下彈簧，其中該上彈簧設置於該框架片與該上支架之間，該下彈簧設置於該框架片與該下支架之間，其中當該振動件振動時，該上彈簧及該下彈簧能彈性變形。
  15. 如請求項9所述之氣流產生裝置，其中該振動件固定連接至該框架片之中間部位。
  16. 如請求項9所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部呈扇形結構，該複數個第一活動遮蓋部相對於該第一中間連接部呈輻射狀設置。
  17. 如請求項9所述之氣流產生裝置，其中該複數個第一活動遮蓋部分別對應該複數個第一開孔。
  18. 如請求項17所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部的輪廓大於該對應的第一開孔的輪廓。
  19. 一種氣流產生裝置，包含：一圍壁，形成一氣流通道，該氣流通道具有一入口及一出口；一框架片，設置於該氣流通道內且具有複數個第一開孔，該框架片的周圍與該圍壁緊密接觸並將該氣流通道區隔為連通該出口之一上氣室與連通該入口之一下氣室；一第一遮蓋膜片，包含一第一中間連接部及連接至該第一中間連接部之複數個第一活動遮蓋部，該第一遮蓋膜片位於該框架片與該出口之間，該第一中間連接部固定至該框架片之中間部位，該複數個第一活動遮蓋部選擇性地遮蓋該複數個第一開孔；一上支架，固定連接至該圍壁且位於該出口，該上支架具有複數個第三開孔；一第三遮蓋膜片，包含一第三中間連接部及連接至該第三中間連接部之複數個第三活動遮蓋部，該上支架位於該第三遮蓋膜片與該第一遮蓋膜片之間，該第三中間連接部固定至該上支架之中間部位，該複數個第三活動遮蓋部選擇性遮蓋該複數個第三開孔；以及一振動件，與該框架片固定連接，可用以往復振動；其中，當該振動件朝向該上氣室以一第一方向振動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部密封該複數個第一開孔並將該上氣室內之氣體推出該出口外，同時自該入口吸入一外部氣體，且使得該複數個第三活動遮蓋部相對於該複數個第三開孔以該第一方向掀開以使該上氣室之氣體被推擠出該出口外，以及當該振動件以相反於該第一方向之一第二方向朝向該下氣室移動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部相對於該複數個第一開孔以該第一方向掀開，使至少一部分該外部氣體從該下氣室進入該上氣室，且使得該複數個第三活動遮蓋部密封該複數個第三開孔，並使該下氣室的氣體被吸入於該上氣室中。
  20. 如請求項19所述之氣流產生裝置，其中該框架片的周圍與該圍壁固定連接。
  21. 如請求項19所述之氣流產生裝置，更包含一下支架及一第二遮蓋膜片，其中該下支架係一膜片，該下支架固定連接至該圍壁且位於該入口，該下支架具有複數個第二開孔，該第二遮蓋膜片包含一第二中間連接部及連接至該第二中間連接部之複數個第二活動遮蓋部，該第二遮蓋膜片位於該下支架與該框架片之間，該第二中間連接部固定至該下支架之中間部位，該複數個第二活動遮蓋部遮蓋該複數個第二開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部相對於該複數個第二開孔以該第一方向掀開而吸入該外部氣體於該下氣室中，以及當該振動件以該第二方向朝該下氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部密封該複數個第二開孔，並使該先前吸入該下氣室的該外部氣體被推入於該上氣室中。
  22. 如請求項19所述之氣流產生裝置，其中該上支架係一膜片。
  23. 如請求項19所述之氣流產生裝置，更包含一下支架及一第二遮蓋膜片，其中該下支架固定連接至該圍壁且位於該入口，該下支架具有複數個第二開孔，該第二遮蓋膜片包含一第二中間連接部及連接至該第二中間連接部之複數個第二活動遮蓋部，該第二遮蓋膜片位於該下支架與該框架片之間，該第二中間連接部固定至該下支架之中間部位，該複數個第二活動遮蓋部遮蓋該複數個第二開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部相對於該複數個第二開孔以該第一方向掀開而吸入該外部氣體於該下氣室中，以及當該振動件以該第二方向朝該下氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部密封該複數個第二開孔，並使該先前吸入該下氣室的該外部氣體被推入於該上氣室中。
  24. 如請求項23所述之氣流產生裝置，更包含一上彈簧及一下彈簧，其中該上彈簧設置於該框架片與該上支架之間，該下彈簧設置於該框架片與該下支架之間，其中當該振動件振動時，該上彈簧及該下彈簧能彈性變形。
  25. 如請求項19所述之氣流產生裝置，其中該振動件固定連接至該框架片之中間部位。
  26. 如請求項19所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部呈扇形結構，該複數個第一活動遮蓋部相對於該第一中間連接部呈輻射狀設置。
  27. 如請求項19所述之氣流產生裝置，其中該複數個第一活動遮蓋部分別對應該複數個第一開孔。
  28. 如請求項27所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部的輪廓大於該對應的第一開孔的輪廓。
  29. 一種氣流產生裝置，包含：一圍壁，形成一氣流通道，該氣流通道具有一入口及一出口；一框架片，設置於該氣流通道內且具有複數個第一開孔，該框架片的周圍與該圍壁緊密且滑動接觸並將該氣流通道區隔為連通該出口之一上氣室與連通該入口之一下氣室；一第一遮蓋膜片，包含一第一中間連接部及連接至該第一中間連接部之複數個第一活動遮蓋部，該第一遮蓋膜片位於該框架片與該出口之間，該第一中間連接部固定至該框架片之中間部位，該複數個第一活動遮蓋部選擇性地遮蓋該複數個第一開孔；以及一振動件，與該框架片固定連接，可用以往復振動；其中，當該振動件朝向該上氣室以一第一方向振動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部密封該複數個第一開孔並將該上氣室內之氣體推出該出口外，同時自該入口吸入一外部氣體，以及當該振動件以相反於該第一方向之一第二方向朝向該下氣室移動時，該框架片之至少中間部位及該第一遮蓋膜片之第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第一活動遮蓋部相對於該複數個第一開孔以該第一方向掀開，使至少一部分該外部氣體從該下氣室進入該上氣室。
  30. 如請求項29所述之氣流產生裝置，更包含一下支架，固定連接至該圍壁且位於該入口，其中該振動件包含一磁鐵及一電磁鐵，該磁鐵固定連接至該框架片之中間部位，該電磁鐵相對該磁鐵設置於該下支架上。
  31. 如請求項30更包所述之氣流產生裝置，含一下彈簧，設置於該框架片與該下支架之間，其中當該振動件振動時，該下彈簧可彈性變形。
  32. 如請求項31所述之氣流產生裝置，更包含一上支架及一上彈簧，其中該上支架固定連接至該圍壁且位於該出口，該上彈簧設置於該框架片與該上支架之間，其中當該振動件振動時，該上彈簧可彈性變形。
  33. 如請求項29所述之氣流產生裝置，更包含一下支架及一第二遮蓋膜片，其中該下支架固定連接至該圍壁且位於該入口，該下支架具有複數個第二開孔，該第二遮蓋膜片包含一第二中間連接部及連接至該第二中間連接部之複數個第二活動遮蓋部，該第二遮蓋膜片位於該下支架與該框架片之間，該第二中間連接部固定至該下支架之中間部位，該複數個第二活動遮蓋部遮蓋該複數個第二開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部相對於該複數個第二開孔以該第一方向掀開而吸入該外部氣體於該下氣室中，以及當該振動件以該第二方向朝該下氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部密封該複數個第二開孔，並使該先前吸入該下氣室的該外部氣體被推入於該上氣室中。
  34. 如請求項33所述之氣流產生裝置，其中該下支架係一膜片。
  35. 如請求項29所述之氣流產生裝置，更包含一上支架及一第三遮蓋膜片，其中該上支架固定連接至該圍壁且位於該出口，該上支架具有複數個第三開孔，該第三遮蓋膜片包含一第三中間連接部及連接至該第三中間連接部之複數個第三活動遮蓋部，該上支架位於該第三遮蓋膜片與該第一遮蓋膜片之間，該第三中間連接部固定至該上支架之中間部位，該複數個第三活動遮蓋部選擇性遮蓋該複數個第三開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部相對於該複數個第三開孔以該第一方向掀開以使該上氣室之氣體被推擠出該出口外，以及當該振動件以該第二方向移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第三活動遮蓋部密封該複數個第三開孔，並使該下氣室的氣體被吸入於該上氣室中。
  36. 如請求項35所述之氣流產生裝置，其中該上支架係一膜片。
  37. 如請求項35所述之氣流產生裝置，更包含一下支架及一第二遮蓋膜片，其中該下支架固定連接至該圍壁且位於該入口，該下支架具有複數個第二開孔，該第二遮蓋膜片包含一第二中間連接部及連接至該第二中間連接部之複數個第二活動遮蓋部，該第二遮蓋膜片位於該下支架與該框架片之間，該第二中間連接部固定至該下支架之中間部位，該複數個第二活動遮蓋部遮蓋該複數個第二開孔，當該振動件以該第一方向朝該上氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第一方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部相對於該複數個第二開孔以該第一方向掀開而吸入該外部氣體於該下氣室中，以及當該振動件以該第二方向朝該下氣室移動時，該框架片之該至少中間部位及該第一遮蓋膜片之該第一中間連接部以該第二方向移動，使得該複數個第二活動遮蓋部密封該複數個第二開孔，並使該先前吸入該下氣室的該外部氣體被推入於該上氣室中。
  38. 如請求項37所述之氣流產生裝置，更包含一上彈簧及一下彈簧，其中該上彈簧設置於該框架片與該上支架之間，該下彈簧設置於該框架片與該下支架之間，其中當該振動件振動時，該上彈簧及該下彈簧能彈性變形。
  39. 如請求項29所述之氣流產生裝置，其中該振動件固定連接至該框架片之中間部位。
  40. 如請求項29所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部呈扇形結構，該複數個第一活動遮蓋部相對於該第一中間連接部呈輻射狀設置。
  41. 如請求項29所述之氣流產生裝置，其中該複數個第一活動遮蓋部分別對應該複數個第一開孔。
  42. 如請求項41所述之氣流產生裝置，其中每一個第一活動遮蓋部的輪廓大於該對應的第一開孔的輪廓。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11710678B2 (en) 2018-08-10 2023-07-25 Frore Systems Inc. Combined architecture for cooling devices
CN114586479A (zh) 2019-10-30 2022-06-03 福珞尔***公司 基于mems的气流***
US11796262B2 (en) 2019-12-06 2023-10-24 Frore Systems Inc. Top chamber cavities for center-pinned actuators
CN110878747A (zh) * 2019-12-10 2020-03-13 太湖县裕顺防水工程有限公司 一种空气压缩机
CN113597193A (zh) * 2020-04-30 2021-11-02 维沃移动通信有限公司 一种气流产生装置、散热装置及电子设备
CN111867325B (zh) * 2020-07-01 2021-04-20 南京航空航天大学 基于电磁振动与蒸发冷却的电子元件散热***与方法
CN116325139A (zh) * 2020-10-02 2023-06-23 福珞尔***公司 主动式热沉

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6232680B1 (en) * 1999-01-13 2001-05-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Cooling apparatus for electronic device
TW200706819A (en) * 2005-05-02 2007-02-16 Sony Corp Jet generator and electronic device
CN101285459A (zh) * 2008-05-23 2008-10-15 北京联合大学 一种有阀压电泵
CN101589233A (zh) * 2007-01-23 2009-11-25 日本电气株式会社 隔膜泵
JP2010230015A (ja) * 2010-07-16 2010-10-14 Casio Computer Co Ltd ポンプ装置
CN103814217A (zh) * 2011-09-21 2014-05-21 凯希特许有限公司 双腔泵

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US893420A (en) 1906-12-29 1908-07-14 John C Barclay Perforating-machine.
US6848631B2 (en) 2002-01-23 2005-02-01 Robert James Monson Flat fan device
DE602004003316T2 (de) * 2003-09-12 2007-03-15 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Membranpumpe für Kühlluft
US20080304979A1 (en) * 2004-12-23 2008-12-11 Submachine Corp. Reaction Drive Energy Transfer Device
EP1991786A2 (en) * 2006-03-07 2008-11-19 Influent Corp. Fluidic energy transfer devices
CN101490419B (zh) * 2006-12-09 2011-02-02 株式会社村田制作所 压电泵
EP3073114B1 (en) * 2008-06-03 2018-07-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric micro-blower
FR2939482B1 (fr) * 2008-12-10 2011-01-14 Rowenta Werke Gmbh Pompe piezoelectrique pour appareil electromenager
DE502008002644D1 (de) 2008-12-15 2011-03-31 Siemens Ag Schwingmembranlüfter mit gekoppelten Teileinheiten, und Gehäuse mit einem derartigen Schwingmembranlüfter
KR101363554B1 (ko) * 2009-12-04 2014-02-18 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 압전 마이크로 블로어
TWI416044B (zh) 2010-06-30 2013-11-21 Pinecone En Inc Electronic device with heat dissipation function and its heat dissipation module
CN102313265B (zh) 2010-07-08 2013-02-20 绿种子能源科技股份有限公司 具有散热功能的电子装置
US8974200B2 (en) 2011-07-08 2015-03-10 International Business Machines Corporation Device for creating fluid flow
WO2013054801A1 (ja) * 2011-10-11 2013-04-18 株式会社村田製作所 流体制御装置、流体制御装置の調整方法
GB201202346D0 (en) * 2012-02-10 2012-03-28 The Technology Partnership Plc Disc pump with advanced actuator
CN108317093B (zh) * 2014-02-21 2019-12-10 株式会社村田制作所 鼓风机
US9803655B2 (en) 2014-05-12 2017-10-31 Beijing Lenovo Software Ltd. Airflow accelerating device and electronic apparatus
WO2016009870A1 (ja) * 2014-07-16 2016-01-21 株式会社村田製作所 流体制御装置
TWI557321B (zh) * 2015-06-25 2016-11-11 科際精密股份有限公司 壓電泵及其操作方法
CN105159424A (zh) 2015-09-11 2015-12-16 小米科技有限责任公司 散热结构以及散热方法、装置和移动设备
CN205729763U (zh) * 2016-01-05 2016-11-30 山东省嘉林电子科技有限公司 一种经络脉冲气流保健仪
US10584695B2 (en) * 2016-01-29 2020-03-10 Microjet Technology Co., Ltd. Miniature fluid control device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6232680B1 (en) * 1999-01-13 2001-05-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Cooling apparatus for electronic device
TW200706819A (en) * 2005-05-02 2007-02-16 Sony Corp Jet generator and electronic device
CN101589233A (zh) * 2007-01-23 2009-11-25 日本电气株式会社 隔膜泵
CN101285459A (zh) * 2008-05-23 2008-10-15 北京联合大学 一种有阀压电泵
JP2010230015A (ja) * 2010-07-16 2010-10-14 Casio Computer Co Ltd ポンプ装置
CN103814217A (zh) * 2011-09-21 2014-05-21 凯希特许有限公司 双腔泵

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Publication number Publication date
CN109899327A (zh) 2019-06-18
US11466674B2 (en) 2022-10-11
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