TWI644243B - 觸控屏 - Google Patents

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TWI644243B
TWI644243B TW106127393A TW106127393A TWI644243B TW I644243 B TWI644243 B TW I644243B TW 106127393 A TW106127393 A TW 106127393A TW 106127393 A TW106127393 A TW 106127393A TW I644243 B TWI644243 B TW I644243B
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劉菊香
楊岳峰
陳柏林
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大陸商業成科技（成都）有限公司
大陸商業成光電（深圳）有限公司
英特盛科技股份有限公司
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Abstract

一種觸控屏包括蓋板、裝飾層、介質層、感測器結構及週邊走線。所述蓋板包括觸控區域與邊框區域；所述裝飾層設置於所述蓋板的邊框區域的內表面；所述介質層位於所述裝飾層遠離所述蓋板的一側；所述感測器結構對應所述觸控區域設置；所述週邊走線對應所述邊框區域，且位於所述介質層遠離所述裝飾層一側，所述週邊走線還與所述感測器結構電連接。所述裝飾層包括遮蔽部及指示部，所述指示部具有預定文字或圖案，所述遮蔽部位於所述指示部週邊，沿垂直所述觸控屏的方向看，所述週邊走線的第一部分與所述指示部重疊，所述介質層包括開槽，所述開槽位於所述週邊走線的第一部分與所述指示部之間，所述開槽中的介質的介電常數小於所述介質層的介電常數。

Description

觸控屏
本發明涉及一種觸控屏。
目前，觸控技術已廣泛地應用於各種電子產品的顯示裝置中，以便於使用者利用觸控方式操控該電子產品。觸控面板為了使其觸控區域的電極不易被察覺，通常採用氧化銦錫(Indium Tin Oxides，ITO)來形成透明觸控電極。但隨著觸控面板的應用逐漸朝大尺寸方向發展，使用氧化銦錫透明電極的技術存在電阻較大、觸控回應速度較慢，需多道工藝步驟以及製作成本較高等技術問題，使用由金屬網格(Metal Mesh)製作之觸控電極用於取代氧化銦錫的透明觸控電極是較好的解決方案。
一般地，習知觸控屏通常包括一個保護蓋板，保護蓋板中央區域為透明觸控區域，在所述觸控區域之四周為邊框區域。所述觸控區域設置有感測器結構，用於偵測觸控動作之位置，所述邊框區域設有裝飾層，用以遮蔽連接所述感測器結構之週邊走線。具體地，所述裝飾層可以包括形成預定文字或圖案之指示部及設置於所述指示部週邊之遮蔽部，所述預定文字或圖案可為商標或特定標識。
然而，由於所述指示部與所述週邊走線均位於所述邊框區域且藉由介質層間隔，當二者發生交疊時可能產生較大寄生電容，並對觸控屏的良率及觸控性能等產生不利影響，有必要改善。
有鑑於此，有必要提供一種可消除指示部與週邊走線交疊產生之不利影響的觸控屏。
一種觸控屏，其包括：蓋板，包括觸控區域與位於觸控區域週邊之邊框區域；裝飾層，設置於所述蓋板的邊框區域之內表面；介質層，位於所述裝飾層遠離所述蓋板一側；感測器結構，對應所述觸控區域設置；及週邊走線，對應所述邊框區域，且位於所述介質層遠離所述裝飾層一側，所述週邊走線還與所述感測器結構電連接；其中，所述裝飾層包括遮蔽部及指示部，所述指示部形成預定文字或圖案，所述遮蔽部位於所述指示部週邊，沿垂直所述觸控屏的方向看，所述週邊走線之第一部分與所述指示部重疊，所述介質層包括開槽，所述開槽位於所述週邊走線之第一部分與所述指示部之間，所述開槽中介質的介電常數小於所述介質層的介電常數。
在一種實施方式中，所述開槽中的介質為空氣。
在一種實施方式中，所述開槽中的介質的介電常數小於2。
在一種實施方式中，所述指示部的邊緣與所述介質層之邊緣具有預定間隔。
在一種實施方式中，所述預定間隔大於0.15mm。
在一種實施方式中，所述指示部的材料之絕緣阻抗小於1012歐姆。
在一種實施方式中，所述介質層為光學膠層。
在一種實施方式中，所述介質層還位於所述感測器結構與所述蓋板之間。
在一種實施方式中，所述感測器結構包括複數個電極，所述週邊走線數量為複數條，每個電極連接對應之一條週邊走線，沿垂直所述觸控屏的方向看，所述複數條週邊走線之第一部分與所述指示部重疊。
在一種實施方式中，所述複數個電極包括複數個沿第一方向延伸之第一電極、及與所述複數個第一電極絕緣相交之複數個第二電極，所述複數個第一電極與所述複數個第二電極構成複數個電容；所述第一電極包括透明導電材料之導電電極或者包括複數條金屬微線構成之金屬網格結構；所述第二電極包括透明導電材料之導電電極或者包括複數條金屬微線構成之金屬網格結構。
相較於習知技術，本發明的觸控屏中，所述介質層包括開槽，所述開槽位於所述週邊走線之第一部分與所述指示部之間，所述開槽中的介質的介電常數小於所述介質層的介電常數，使得所述週邊走線與所述指示部交疊位置之寄生電容較小，進而可以改善較大的寄生電容對觸控屏的良率及觸控性能等產生不利影響。
10‧‧‧觸控屏
11‧‧‧蓋板
12‧‧‧裝飾層
13‧‧‧介質層
14‧‧‧感測器結構
15、25、35、45、55、65‧‧‧週邊走線
111‧‧‧觸控區域
112‧‧‧邊框區域
121‧‧‧指示部
122‧‧‧遮蔽部
131‧‧‧開槽
151、251、351、451、551、651‧‧‧第一部分
140、240、340、440、540、640‧‧‧基板
141、241、341、441、541、641‧‧‧第一電極
143、243、543、643‧‧‧絕緣層
142、242、342、442、542、642‧‧‧第二電極
X‧‧‧第一方向
Y‧‧‧第二方向
241a、441a‧‧‧第一電極部
241b、441b‧‧‧第一連接部
242a、424a‧‧‧第二電極部
242b、442b‧‧‧第二連接部
343a、443a‧‧‧絕緣部
圖1是本發明第一實施方式的觸控屏的平面結構示意圖。
圖2是圖1所示的觸控屏的剖面示意圖。
圖3是圖1所示的觸控屏的剖面示意圖。
圖4是圖1所示的觸控屏的感測器結構及週邊走線的平面結構示意圖。
圖5是本發明第二實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。
圖6是本發明第三實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線的 結構示意圖。
圖7是本發明第四實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。
圖8是本發明第五實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。
圖9是本發明第六實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。
請參閱圖1、圖2及圖3，圖1是本發明第一實施方式之觸控屏10的平面結構示意圖，圖2是圖1沿線II-II之剖面示意圖，圖3是圖1沿線III-III之剖面示意圖。所述觸控屏10包括蓋板11、裝飾層12、介質層13、感測器結構14及週邊走線(Fanout)15。
所述蓋板11包括觸控區域111與邊框區域112，所述蓋板11可以為透明蓋板，其材料可以包括玻璃、藍寶石、透明樹脂、透明陶瓷中的一種，但不限於上述材料。可以理解，所述蓋板11的四周可以具有弧形倒角，且所述蓋板11可以是邊緣具有弧度的2.5D或3D蓋板。
所述裝飾層12設置於所述蓋板11之邊框區域112的內表面，用於遮蔽所述觸控屏10的週邊走線15等，本實施方式中，所述裝飾層12還形成有預定文字或圖案。具體地，所述裝飾層12還包括指示部121及遮蔽部122，所述指示部121具有所述預定文字或圖案，所述預定文字或圖案可以是特定的圖案、特定之文字或字母組合，如商標文字或圖案、某品牌的專用標示(如圖1中所示的Logo)等。所述遮蔽部122位於所述指示部121週邊。可以理解，所述遮蔽部122與所述指示部121的顏色及材料不同，具體地，所述 遮蔽部122與所述指示部121可以為顏色不同之油墨材料(如所述遮蔽部122包括黑色油墨材料，所述指示部121包括其他彩色油墨材料)，從而所述指示部121可以具有所述預定文字或圖案。所述指示部121的材料的絕緣阻抗可以小於1012歐姆。
所述介質層13位於所述裝飾層12遠離所述蓋板11的一側以及所述蓋板11之觸控區域111的內表面。具體地，所述介質層13的材料可以為光學膠(OCA)，用於將所述週邊走線15及所述感測器結構14粘接於所述裝飾層12遠離所述蓋板11一側及所述觸控區域111的內表面。
進一步地，所述介質層13包括開槽131，所述開槽131對應指示部121設置，所述開槽131中之介質的介電常數小於所述介質層13的介電常數。具體地，所述開槽131中之介質的介電常數小於2。本實施方式中，所述開槽131中的介質為氣體，如空氣，但是，可以理解，在變更實施方式中，所述開槽131中可以填充其他介電常數較小之絕緣材料，如樹脂材料等。更進一步地，所述介質層13的邊緣與所述指示部121的邊緣還具有預定間隔，所述預定間隔的寬度可以大於0.15毫米(mm)。
所述感測器結構14對應所述觸控區域111設置，且位於所述介質層13遠離所述蓋板11一側，其中所述介質層13可以將所述感測器結構14粘接於所述蓋板11的觸控區域111之內表面，從而所述介質層13夾於所述蓋板11與所述感測器結構14之間。可以理解，所述感測器結構14用於偵測施加到所述觸控區域111的觸控動作的位置。可以理解，所述感測器結構14可以為電容式觸摸感測器結構，其偵測施加到所述觸控區域111的觸控動作引起的電容變化，用以偵測施加到所述觸控區域111的觸控動作的位置。
所述週邊走線15對應所述邊框區域112，且位於所述介質層13遠離所述裝飾層12一側。所述週邊走線15還與所述感測器結構14電連接，用於 藉由軟性電路板(圖未示)電連接觸控驅動及檢測電路(圖未示)，以將所述觸控及檢測驅動電路的驅動信號傳輸至所述感測器結構14以及將所述感測器結構14產生之感應信號傳輸至所述觸控驅動及檢測電路，進而所述觸控驅動及檢測電路依據所述驅動信號及所述感應信號判斷施加到所述觸控區域111的觸控動作的位置。可以理解，所述週邊走線15的數量為複數條，所述感測器結構14可以包括複數個電極，每個電極連接對應的一條週邊走線15。所述週邊走線15的材料可以包括金屬，如不透光的金屬：銀、鋁等。
進一步地，所述週邊走線15包括第一部分151，沿垂直所述觸控屏10的方向看，所述週邊走線15之第一部分151與所述指示部121重疊，所述開槽131位於所述週邊走線15的第一部分151與所述指示部121之間。所述開槽131的平面形狀可以為矩形，但不限於矩形，也可為圓形、橢圓形、多邊形或其他與所述指示部121輪廓相適應的形狀。
請參閱圖4，圖4是圖1所示的觸控屏10的感測器結構14及週邊走線15的平面結構示意圖。所述感測器結構14為雙層導電層架構，其包括基板140、複數個第一電極141、絕緣層143及複數個第二電極142。所述複數個第一電極141均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極142沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。本實施方式中，所述第一電極141與所述第二電極142均為直條形。
所述第一電極141與所述第二電極142位於不同層，所述絕緣層143夾於所述第一電極141與所述第二電極142之間，所述複數個第一電極141與所述複數個第二電極142絕緣相交構成複數個電容。可以理解，所述感測器結構14藉由所述複數個電容偵測施加到所述觸控區域111之觸控動作引起電信號變化，用以偵測施加到所述觸控區域111的觸控動作的位置。所述 第一電極141可以由透明導電材料(如氧化銦錫，ITO)形成，所述第二電極142也可以由與第一電極相同的透明導電材料形成。所述絕緣層143的材料可以為透明絕緣材料。
每個第一電極141連接對應的一條週邊走線15，且每個第二電極142也連接對應的一條週邊走線15。且複數條週邊走線15包括對應所述指示部121之第一部分151，從平面上看(即垂直所述觸控屏10的方向看)，所述第一部分151與所述介質層13的開槽131重疊。
相較於習知技術，本發明之觸控屏10中，所述介質層13包括開槽131，所述開槽131位於所述週邊走線15的第一部分151與所述指示部121之間，所述開槽131中的介質的介電常數小於所述介質層13的介電常數，使得所述週邊走線15與所述指示部121交疊位置的寄生電容較小，如使用者手指與所述週邊走線形成的寄生電容較小，進而可以改善較大的寄生電容對觸控屏的良率及觸控性能等產生不利影響。
請參閱圖5，圖5是本發明第二實施方式的觸控屏的感測器結構及週邊走線之結構示意圖。所述第二實施方式的觸控屏與第一實施方式的觸控屏的結構基本相同，也就是說，上述對所述第一實施方式的觸控屏的描述基本上均可以適用於所述第二實施方式之觸控屏，二者主要差別在於：感測器結構之結構不同。
具體地，所述第二實施方式中，所述感測器結構包括基板240、複數個第一電極241、絕緣層243及複數個第二電極242。所述複數個第一電極241均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極242沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。所述第一電極241與所述第二電極242位於不同層，所述絕緣層243夾於所述第一電極241與所述第二電極242之間，所述複數個第一電極241與所述複數個第二電極242絕緣相交構成複 數個電容。可以理解，所述感測器結構藉由所述複數個電容偵測施加到觸控區域的觸控動作引起的電信號變化，用以偵測施加到觸控區域的觸控動作的位置。所述第一電極241可以由透明導電材料(如氧化銦錫，ITO)形成，所述第二電極242也可以由與第一電極相同的透明導電材料形成。所述絕緣層243可以為透明絕緣材料。
每個第一電極241包括複數個第一電極部241a及複數個第一連接部241b，所述複數個第一電極部241a沿所述第一方向X排列，相鄰兩個第一電極部241a之間由對應的一第一連接部241b連接。每個第二電極242包括複數個第二電極部242a及複數個第二連接部242b，所述複數個第二電極部242a沿所述第二方向Y排列，相鄰兩個第二電極部242a之間由對應的一第二連接部242b連接。所述第一電極241的第一連接部241b與所述第二電極242與所述第二連接部242b交疊。所述第一電極部241a與所述第二電極部242a大致為菱形，所述第一連接部大致為直條形。
每個第一電極241連接對應之一條週邊走線25，且每個第二電極242也連接對應之一條週邊走線25。且複數條週邊走線25包括對應指示部的第一部分251，從平面上看(即垂直所述觸控屏的方向看)，所述第一部分251與介質層的開槽重疊。
請參閱圖6，圖6是本發明第三實施方式之觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。所述第三實施方式之觸控屏與第一實施方式之觸控屏的結構基本相同，也就是說，上述對所述第一實施方式的觸控屏的描述基本上均可以適用於所述第三實施方式的觸控屏，二者的主要差別在於：感測器結構之結構不同。
所述第三實施方式中，所述感測器為單層導電層結構。具體地，所述感測器結構包括複數個第一電極341、複數個絕緣部343a及複數個第二 電極342。所述複數個第一電極341均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極342沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。本實施方式中，所述第一電極341與所述第二電極342均為直條形。所述第一電極341與所述第二電極342的大部分位於同一層，如均位於基板340上。每個絕緣部343a位於對應的一第一電極341與一第二電極342的相交處，以將所述第一電極341與所述第二電極342絕緣。可以理解，所述第二電極342的位於所述絕緣部343a上的部分與所述第一電極341位於不同層。所述絕緣部343a之材料為透明絕緣材料。
所述感測器結構藉由所述複數個電容偵測施加到觸控區域的觸控動作引起的電信號變化，用以偵測施加到觸控區域的觸控動作的位置。所述第一電極341可以由透明導電材料(如氧化銦錫，ITO)形成，所述第二電極342也可以由與第一電極相同的透明導電材料形成。但，可以理解，在一種實施方式中，所述第二電極342可以大部分與所述第一電極341材料相同，但位於所述絕緣部343a上之部分可以為金屬材料。
每個第一電極341連接對應的一條週邊走線35，且每個第二電極342也連接對應的一條週邊走線35。且複數條週邊走線35包括對應所述指示部的第一部分351，從平面上看(即垂直所述觸控屏的方向看)，所述第一部分351與介質層之開槽重疊。
請參閱圖7，圖7是本發明第四實施方式之觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。所述第四實施方式的觸控屏與第一實施方式的觸控屏的結構基本相同，也就是說，上述對所述第一實施方式之觸控屏的描述基本上均可以適用於所述第四實施方式之觸控屏，二者的主要差別在於：感測器結構之結構不同。
具體地，所述第四實施方式中，所述感測器結構包括複數個第一電極441、複數個絕緣部443a及複數個第二電極442。所述複數個第一電極441均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極442沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。每個第一電極441包括複數個第一電極部441a及複數個第一連接部441b，所述複數個第一電極部441a沿所述第一方向X排列，相鄰兩個第一電極部441a之間由對應的一第一連接部441b連接。每個第二電極442包括複數個第二電極部442a及複數個第二連接部442b，所述複數個第二電極部442a沿所述第二方向Y排列，相鄰兩個第二電極部442a之間由對應的一第二連接部442b連接。每個絕緣部443a位於對應的一第一電極441的第一連接部441b與一第二電極442的第二連接部442b的相交處，以將所述第一電極441與所述第二電極442絕緣。所述絕緣部443a的材料為透明絕緣材料。所述第一電極部441a與所述第二電極部442a可以大致為菱形，所述第一連接部大致為直條形。
所述複數個第一電極441與所述複數個第二電極442絕緣相交構成複數個電容。可以理解，所述感測器結構藉由所述複數個電容偵測施加到觸控區域的觸控動作引起的電信號變化，用以偵測施加到觸控區域的觸控動作的位置。所述第一電極441可以由透明導電材料(如氧化銦錫，ITO)形成，所述第二電極442也可以由與第一電極441相同的透明導電材料形成，但是，可以理解，在一種實施方式中，所述第二電極442的第二電極部442a與所述第一電極441材料相同，但位於所述絕緣部443a上的第二連接部442b可以為金屬材料。
每個第一電極441連接對應的一條週邊走線45，且每個第二電極442也連接對應的一條週邊走線45。且複數條週邊走線45包括對應指示部之第 一部分451，從平面上看(即垂直所述觸控屏的方向看)，所述第一部分451與介質層的開槽重疊。
圖8是本發明第五實施方式之觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。所述第五實施方式之觸控屏與第一實施方式之觸控屏的結構基本相同，也就是說，上述對所述第一實施方式的觸控屏的描述基本上均可以適用於所述第五實施方式的觸控屏，二者的主要差別在於：感測器結構之電極材料不同。
所述第五實施方式中，所述感測器結構也為雙層導電層架構，其包括基板540、複數個第一電極541、絕緣層543及複數個第二電極542。所述複數個第一電極541均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極542沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。所述第一電極541與所述第二電極542位於不同層，所述絕緣層543夾於所述第一電極541與所述第二電極542之間，所述複數個第一電極541與所述複數個第二電極542絕緣相交構成複數個電容。本實施方式中，所述第一電極541與所述第二電極542均為直條形。
可以理解，所述感測器結構藉由所述複數個電容偵測施加到觸控區域的觸控動作引起的電信號變化，用以偵測施加到觸控區域的觸控動作的位置。所述第一電極541可以包括由金屬微線構成的金屬網格結構(metal mesh)，其材料可以是金屬，如納米銀、銅等，所述第二電極542也可以由與第一電極相同的金屬網格結構。
每個第一電極541連接對應的一條週邊走線55，且每個第二電極542也連接對應的一條週邊走線55。且複數條週邊走線55包括對應指示部之第一部分551，從平面上看(即垂直所述觸控屏的方向看)，所述第一部分551與介質層之開槽重疊。
圖9是本發明第六實施方式之觸控屏的感測器結構及週邊走線的結構示意圖。所述第六實施方式之觸控屏與第二實施方式之觸控屏的結構基本相同，也就是說，上述對所述第二實施方式的觸控屏的描述基本上均可以適用於所述第六實施方式的觸控屏，二者的主要差別在於：感測器結構之電極材料不同。
具體地，所述第六實施方式中，所述感測器結構也為雙層導電層架構，其包括基板640、複數個第一電極641、絕緣層643及複數個第二電極642。所述複數個第一電極641均沿第一方向X延伸，所述複數個第二電極642沿第二方向Y延伸，所述第一方向X可以與所述第二方向Y垂直。所述第一電極641與所述第二電極642位於不同層，所述絕緣層643夾於所述第一電極641與所述第二電極642之間，所述複數個第一電極641與所述複數個第二電極642絕緣相交構成複數個電容。可以理解，所述感測器結構藉由所述複數個電容偵測施加到觸控區域的觸控動作引起的電信號變化，用以偵測施加到觸控區域的觸控動作的位置。
所述第一電極641可以包括由金屬微線構成的金屬網格結構(metal mesh)，其材料可以是金屬，如納米銀、銅等，所述第二電極642也可以由與第一電極641相同的金屬網格結構。
每個第一電極641包括複數個第一電極部641a及複數個第一連接部641b，所述複數個第一電極部641a沿所述第一方向X排列，相鄰兩個第一電極部641a之間由對應的一第一連接部641b連接。每個第二電極642包括複數個第二電極部642a及複數個第二連接部642b，所述複數個第二電極部642a沿所述第二方向Y排列，相鄰兩個第二電極部642a之間由對應的一第二連接部642b連接。所述第一電極641的第一連接部641b與所述第二電極642與所述第二連接部641a交疊。
每個第一電極641連接對應的一條週邊走線65，且每個第二電極642也連接對應的一條週邊走線65。且複數條週邊走線65包括對應指示部的第一部分651，從平面上看(即垂直所述觸控屏的方向看)，所述第一部分651與介質層的開槽重疊。
當然，本發明並不局限於上述公開的實施例，本發明還可以是對上述實施例進行各種變更。本技術領域人員可以理解，只要在本發明的實質精神範圍之內，對以上實施例所作的適當改變和變化都落在本發明要求保護的範圍之內。

Claims (10)

  1. 一種觸控屏，其包括：蓋板，包括觸控區域與位於觸控區域週邊之邊框區域；裝飾層，設置於所述蓋板之邊框區域的內表面；介質層，位於所述裝飾層遠離所述蓋板一側；感測器結構，對應所述觸控區域設置；及週邊走線，對應所述邊框區域，且位於所述介質層遠離所述裝飾層一側，所述週邊走線還與所述感測器結構電連接；其改良在於：所述裝飾層包括遮蔽部及指示部，所述指示部形成預定文字或圖案，所述遮蔽部位於所述指示部週邊，沿垂直所述觸控屏的方向看，所述週邊走線之第一部分與所述指示部重疊，所述介質層包括開槽，所述開槽位於所述週邊走線之第一部分與所述指示部之間，所述開槽中之介質的介電常數小於所述介質層的介電常數。
  2. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述開槽中之介質為空氣。
  3. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述開槽中之介質的介電常數小於2。
  4. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述指示部之邊緣與所述介質層之邊緣具有預定間隔。
  5. 如請求項4所述之觸控屏，其中：所述預定間隔大於0.15mm。
  6. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述指示部之材料的絕緣阻抗小於1012歐姆。
  7. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述介質層為光學膠層。
  8. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述介質層還位於所述感測器結構與所述蓋板之間。
  9. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述感測器結構包括複數個電極，所述週邊走線之數量為複數條，每個電極連接對應之一條週邊走線，沿垂直所述觸控屏的方向看，所述複數條週邊走線之第一部分與所述指示部重疊。
  10. 如請求項1所述之觸控屏，其中：所述複數個電極包括複數個沿第一方向延伸之第一電極、及與所述複數個第一電極絕緣相交之複數個第二電極，所述複數個第一電極與所述複數個第二電極構成複數個電容；所述第一電極包括透明導電材料之導電電極或者包括複數條金屬微線構成之金屬網格結構；所述第二電極包括透明導電材料之導電電極或者包括複數條金屬微線構成之金屬網格結構。
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