TWI637707B - 正壓皮膚剝落系統 - Google Patents

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TWI637707B TW106124934A TW106124934A TWI637707B TW I637707 B TWI637707 B TW I637707B TW 106124934 A TW106124934 A TW 106124934A TW 106124934 A TW106124934 A TW 106124934A TW I637707 B TWI637707 B TW I637707B
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Abstract

本發明是一種皮膚剝落系統,其運用正壓將鹽和/或生物惰性結晶顆粒磨料或鹽溶液傳遞到角質層,當與皮膚接觸時,與最小數量的負壓相結合來閉合環路,以排出廢棄的顆粒和脫落的皮膚細胞和碎屑。一種施加器手柄,其被優化用於本文討論的組合壓力系統以去除表皮層。

Description

正壓皮膚剝落系統
本發明涉及普通的皮膚治療領域,更具體地涉及在美學上、化妝和治療上對人體皮膚進行磨皮術、微晶磨皮、除皺術和皮膚剝落術以改善皮膚的改進系統。
人皮膚由真皮(深層)和表皮(表面)組成。表皮還包括多層,其中多層包括角質層(最外層)、透明層、顆粒層、棘層和基底層。除去部分的這些層被機體理解為輕度損傷,並導致了癒合反應以取代失去的皮膚細胞。
根據去除皮膚的深度,皮膚剝落術通常可以分為三類。最表層的剝落或剝離延伸到表皮。一種更侵入性的、中等深度的除皺術,延伸到乳頭狀真皮,並且深度除皺術將組織去除到網狀真皮的深度。皮膚剝落引起的皮膚損傷將產生炎症和隨後的癒合反應。當真皮和表皮細胞被替換時,將產生新的外層皮膚,當纖維母細胞合成了新的膠原層的形成時,新生的細胞外基質的刺激完成了。新的皮膚層形成為更類似年輕者的生理和外觀及更正常的皮膚。依靠這些技術的皮膚消磨術已被用作治療平滑疤痕、瑕疵,或治療其他皮膚狀况,其可能由例如粉刺、痤瘡疤痕、陽光曝曬、皺紋、色素沉著、日光性彈力組織變性、其他膚色異常、血管紋萎縮性、脂溢性皮炎、妊娠紋等引起。
衆所周知,真皮脫離的各種方法被用於美容領域,範圍涵蓋 雷射燒蝕、化學換膚、針創傷、果皮脫皮膏等等。每種方法都有其優點和問題,具有更好療效的方案在這一領域中非常具有競爭力。因此,下面描述通過專用輸送裝置使用帶有鹽(例如,作為研磨介質)的正壓流動的新的和改進的方法。
本申請案主張2016年07月25日提出的美國臨時專利申請案第62/494,005號的優先權,其內容通過引用完整地納入本申請案中。
以下簡要概述以便對所要求保護主題的一些方面提供基本的瞭解。這一概述不是一個廣泛概要,並不打算確定重要/關鍵要素或劃定保護主題的範圍。其目的是將一些概念以簡化形式呈現,作為後面更詳細描述的前奏。
在本公開實施例的一個方面中,提供了一種正壓皮膚剝落系統,包括:單一氣壓源,用於提供正壓力;除濕機,對來自該氣壓源的空氣和被配置為容納皮膚剝落磨料容器的一室內的空氣進行除濕;連接到該除濕機的多個除濕台;控制器和調節器中至少一個,用於控制來自該氣壓源的加壓空氣的壓力值;輸入管,具有加壓和除濕空氣,連接到該皮膚剝落磨料容器;輸出管,用於從皮膚處理部位收集廢物;正壓真空產生噴射器,連接到該輸出管;以及剝落手柄,與受體組織形成衝擊角,包括:軟管端部,其在一側,以及皮膚處理端部,其在另一側,該軟管端部與該輸入管和該輸出管相連接;偏轉室,位於該皮膚處理端部;皮膚界面,位於該偏轉室底部;以及輸入和輸出通道,其從該軟管端部穿過該手柄內部到達內部的該偏轉室端部,該輸入通道受到該氣壓源的正壓並將研磨料引導至該皮膚界面,且該輸出通道處於由正壓真空產生噴射器產生的真空壓力下並引導來自偏轉室的使用過的磨料和皮膚廢物,其中,當該手柄與皮膚緊密接觸時觸發磨料的循環。
在本公開的實施例的另一方面,提供上述系統,其中所述室是可密封的底盤;和/或其中所述可密封底盤還容納所述壓力源、過濾台和皮膚剝落磨料容器;和/或容器含有皮膚剝落磨料,該研磨料是由氯化鈉構成的鹽;和/或容器含有皮膚剝落磨料,該研磨料是氧化鋁或碳酸氫鈉;和/或還包括廢物容器,其與該真空噴射器和該除濕台中的至少一個相連;和/或手柄的衝擊角大致在20~50°,或者15~45°,或者22~27°之間,並大約在25°;和/或進一步包括用於治療脫落皮膚的超音波換能器;和/或其中所述超聲換能器以1MHz、2MHz、3MHz、3.3MHz或5MHz其中之一的頻率工作;和/或進一步包括可調節燈,其在400~2940nm的範圍內發射光;和/或包括加壓空氣被控制到最大約60PSI,並確保正壓被管理和調整到24~45PSI之間的水準;和/或其中偏轉室的縱向長度為約13mm,深度為約7mm;和/或其中偏轉室大約為13~16mm寬和大約14mm高。
在本公開的實施例的另一方面,有一種使皮膚再生的皮膚剝落方法,包括:加壓空氣;除濕空氣;以及通過成角度的手柄將正壓下的研磨料引導到組織上,該手柄具有大約在20~50°,或者15~45°,或者22~25°之間或約25°的衝擊角,並具有:在一側的軟管端部和在另一側的皮膚處理端部,該軟管端部連接到輸入管和輸出管;偏轉室,在該皮膚處理端部;皮膚界面,在該偏轉室底部;以及輸入和輸出通道,從該軟管端部穿過該手柄內部到達內部的該偏轉室端部,該輸入通道受到氣壓源的正壓並將研磨料引導至該手柄的皮膚界面,且該輸出通道處於真空壓力下並引導來自該偏轉室的使用過的研磨料和皮膚廢物;其中,至少達到降低太陽損傷,天氣損傷和老化斑點,減少癒合的疤痕中不規則的色素圖案,細紋、皺紋的平滑,粉刺的點蝕,皮膚強度、彈性/光滑度的提高,妊娠紋的消除這些目的的其中之一。
在本公開的實施例的另一方面,提供上述方法,進一步包括 施加頻率為1MHz、2MHz、3MHz、3.3MHz或5MHz其中之一的超音波信號,以及施加400~2940nm範圍內的光,至少兩者之一至處理區域。
〔本發明〕
100‧‧‧皮膚剝落系統示意圖
105‧‧‧皮膚剝落系統
110‧‧‧外底盤
120‧‧‧控制面板
130‧‧‧遠程超音波換能器/控制器
140‧‧‧關節臂
150‧‧‧可調節燈
200‧‧‧控制面板示意圖
220‧‧‧功率和晶體控制開關
250‧‧‧手柄
300‧‧‧頂級子系統及其與介質相互作用示意圖
310‧‧‧介質
320‧‧‧空氣壓力源
330‧‧‧除濕器/熱源
335‧‧‧廢棄物
340‧‧‧初級過濾器
345‧‧‧廢棄物
350‧‧‧次級過濾器
355‧‧‧廢棄物
360‧‧‧有角度的手柄
365‧‧‧廢棄物
400‧‧‧濕度控制鹽室的內部視圖
420‧‧‧鹽罐
425‧‧‧正壓輸注蓋
430‧‧‧管
440‧‧‧管
450‧‧‧粉末進料系統
460‧‧‧除濕器
470‧‧‧廢物過濾袋
480‧‧‧顆粒回收系統或噴射器
490‧‧‧濕度傳感器
500‧‧‧功能塊的框圖
520‧‧‧空氣壓縮機
525‧‧‧安全閥
530‧‧‧熱交換器
533‧‧‧除濕器
535‧‧‧次級可調節安全閥
540‧‧‧壓力調節器
542‧‧‧第一級空氣過濾器
543‧‧‧真空噴射器
544‧‧‧第一級空氣過濾器
545‧‧‧廢物袋
546‧‧‧第一級空氣過濾器
547‧‧‧真空管
550‧‧‧聚結過濾器
552‧‧‧次級過濾器
554‧‧‧次級過濾器
556‧‧‧次級過濾器
560‧‧‧電子調節器
561‧‧‧0.025英寸孔口
563‧‧‧0.3μm過濾器
565‧‧‧粉末瓶
567‧‧‧夾緊閥
569‧‧‧0.070英寸孔
570‧‧‧壓力分配器
573‧‧‧3.5PSI釋放件
575‧‧‧0.070英寸孔口
577‧‧‧粉末供給殼體
580‧‧‧廢物收集器
590‧‧‧粉末管
600‧‧‧手柄組件的側視圖
610‧‧‧手柄組件
620‧‧‧手柄組件的一侧
630‧‧‧縱向軸線的頭部
640‧‧‧皮膚接觸表面
700‧‧‧手柄組件的剖視圖
722‧‧‧連接口
724‧‧‧連接口
730‧‧‧手柄組件的頭部
734‧‧‧皮膚接觸界面
736‧‧‧彎曲的表面
752‧‧‧輸入通道
754‧‧‧輸出通道
760‧‧‧次級較小通道
780‧‧‧偏轉室
784‧‧‧偏轉壁
800‧‧‧手柄的簡單圖形
810‧‧‧鹽
860‧‧‧手柄
863‧‧‧輸入通道
865‧‧‧端部
866‧‧‧輸出通道
870‧‧‧主體組織
873‧‧‧上皮層
875‧‧‧皮下層
第1圖:示例性的皮膚剝落系統105的示意圖100。
第2圖:示例性系統的控制面板120的實施例圖示200。
第3圖:框圖300,示出了頂級子系統及其與介質和互相之間的相互作用。
第4圖:濕度控制鹽室的內部視圖400。
第5圖:所描述的實施例中的一個或多個中的各種功能塊的框圖500。
第6圖:示例性手柄組件610的側視圖600。
第7圖:示例性手柄組件的剖視圖700。
第8圖:操作中的示例性手柄860的簡單圖形800。
介紹
通過微晶磨皮技術角質層的最上層的去除可以通過顆粒磨損或非顆粒磨損方式進行。基於顆粒的微晶磨皮涉及沿著閉環真空迴路加速結晶顆粒磨料,所述閉環真空迴路由通向皮膚的大致線性的手持式裝置(即手柄)***以提供皮膚磨損的焦點。用於使結晶顆粒磨料流動的動力通常由一種裝置提供,裝置利用電路一端施加的負壓以在電路另一端產生吸力。使用柔性管道,其能夠承受足以將結晶顆粒磨料傳送到皮膚上的壓力,並且此後將廢棄的顆粒和細胞碎屑從施用位置移除到皮膚上而不會使管道塌陷或扭結。
典型的習知的基於顆粒的皮膚磨皮/微晶磨皮裝置使用真空迴路,其包括至少i)柔性輸入管,以從顆粒儲存室提供結晶顆粒磨料的單 向流動,其中顆粒儲存室連接到ii)用戶控制手柄一端,其包括內部並行的輸入和輸出通道,僅在手柄的皮膚接觸表面彼此敞開,從而將加速的結晶磨料控制遞送到皮膚上,以及iii)柔性輸出管,將廢顆粒和細胞碎片携帶到廢物容器。手柄的皮膚接觸窗與皮膚的接觸閉合並密封真空迴路。因此,將負壓施加到電路的一端,從而將皮膚拉到手柄的皮膚接觸窗口中,並且還提供用於轟擊表皮的磨料顆粒流並隨後從皮膚接觸部位移除使用後的顆粒和細胞廢料。
然而,這種習知技術的系統對皮膚的長期施加負壓,其通常多半會導致各種副作用和問題。例如,研究表明,皮膚通常不能耐受超過22mmHg的長時間吸入/真空,並且超過該限度一段時間可能導致真空誘發的瘀傷、紅斑和由於這種侵蝕性微晶磨皮引起的水腫。對於某些皮膚類型尤其如此,例如特別薄的膚色(Fitzpatrick等級III至VI)的皮膚,其對拉扯、牽引或撕裂,或瘀傷/水腫引起的變色敏感。此外,對於皮膚厚度和彈性不同的區域,施加一個恆定的真空度可能會導致一個不可預知的影響範圍,考慮到皮膚經歷的吸力誘發的拉伸程度。例如,在皮膚非常薄的區域,例如眼瞼中,急性創傷更有可能發生,而相反,較厚的皮膚,例如背部的皮膚,可能會經歷微小的創傷。
因此,鑒於習知技術的缺點,長期以來,需要一種皮膚剝落系統,其可減少或消除皮膚暴露於習知技術治療期間通常使用的延長的高真空壓力。這樣的系統將減少對下表皮結構的創傷,例如長時間暴露於負壓引起的血管和細胞外區室,並且由於存在禁忌症,例如特別薄的皮膚,膚色(Fitzpatrick等級III至VI)以及對拉扯、撕裂、瘀傷或變色敏感的皮膚,將增加那些無法使用習知治療的患者群體。
伴隨著減少或消除延長的真空效應的需要,已知使用各種結晶顆粒磨料來完成皮膚磨損,習知技術中優選使用鋁基晶體,包括氧化鋁。 由於氯化鈉在外部使用時與人體皮膚的相容性和無毒性質,已經嘗試使用氯化鈉。但是由於所使用的典型鹽晶體的微觀結構非常不規則和易碎,並且不能提供美容和/或治療功效所需的皮膚磨損水準所必需的一致性,因此其使用率已經下降。相比之下,在氧化鋁被推進到皮膚上時,其能夠保持其結晶結構和研磨能力,但鋁的存在即暗示了人體經歷的各種副作用,從毛孔堵塞到一些證據表明,在女性阿爾茨海默病患者的大腦中鋁的含量更高。
相應地,本領域中長期以來一直需要設計能夠通過利用氯化鈉以一種方式進行皮膚剝落的設備,例如,氯化鈉作為研磨介質,以允許氯化鈉在與皮膚接觸時保持其結晶研磨性質。
描述
鑒於上文,提供了提供這種顆粒流動的機械改進設計,和/或手柄的改進的設計,其允許操作者優化顆粒流的控制,因為其例如涉及到手柄和被處理皮膚之間的接觸角度。
因此,這裡描述的一個或多個實施例涉及用於治療皮膚以進行皮膚磨皮、微晶磨皮或皮膚剝脫的裝置,其通過使用特別配置成可選的在正壓下將晶體磨料顆粒流從殼體輸送到皮膚表面的手持組件(例如手柄),並進一步收集遞送的(廢棄)結晶磨料顆粒、逐出的皮膚細胞和/或皮膚碎屑返回到殼體。一個或多個各種實施例包括從中央控制單元向手柄提供正壓和可選的負壓的裝置。用戶輸入裝置允許控制施加的壓力量。手持的配件連接到殼體(其包括除濕裝置,其將殼體保持在低於50%的濕度),其中通過一個軟管或多個軟管提供將諸如磨料鹽和/或晶體和/或皮膚碎屑的貨物傳送到輸入和/或輸出儲存室的手段。
手柄還可用於引導包含所需介質的微小晶體的空氣流,介質為例如氧化鋁、氯化鈉或碳酸氫鈉等。一個或多個實施例涉及正壓系統的 功能和結構,用於沿著輸入通道和通過手柄向結晶顆粒磨料提供動力以加速顆粒流到皮膚上。可以使用能夠從手柄的皮膚接觸部分提供負壓的輸出通道,以從皮膚接觸部位去除細胞和/或結晶顆粒磨料碎屑。
第1圖是示例性的皮膚剝落系統105的示意圖100,其示出外底盤110,控制面板120,遠程超聲換能器/控制器130,連接到可調節燈150的關節臂140。示意圖模糊的部分是示例性手柄。底盤110的內部是各種正壓和真空系統、磨料容器/過濾器、溫度/濕度控制器系統。第1圖的實施例示出了非常緊湊和多功能單元以及可移動的單元,在外底盤110的底部有滾子/腳輪。
第2圖是示例性系統的控制面板120的實施例圖示200,其具有相關聯的功率和晶體控制開關220和示例性手柄250。控制面板120/晶體控制開關220包含多個〝按鈕〞或用於控制第1圖的系統105的操作的開關和指示器,並且其被理解為在本領域中是衆所周知的。例如,用於控制和提供系統105中的各種子系統的狀態的按鈕/開關/儀錶/燈,狀態為例如真空度、磨料水準、流速、壓力、熱量、過濾器狀態、廢物狀態、燈、等等,如圖所示位於控制面板120/220上,或者可以根據設計偏好分布在系統105的其他側面/表面上。
第3圖是框圖300,示出了頂級子系統及其與介質和互相之間的相互作用。為了便於說明的目的,在各種實施例中,介質將被稱為〝鹽〞,為便於理解,如果需要可以使用其它研磨型介質。介質(或鹽)310通過空氣壓力源320,除濕器/熱源330和初級過濾器340的組合按順序或同時操作。
在一個實施例中,正空氣壓力源320從其儲存室被除濕330和傳送鹽310,於是,除濕鹽通過一個或多個初級過濾器340過濾以產生〝第一級過濾和除濕〞磨料。來自除濕器330的提取的水分(或水)作為 廢物335被排空,作為排出的水分,或通過廢物箱(未示出)或排出管(未示出),廢物過濾鹽345和/或365也被排空。在一些實施例中,除濕器可以是吸濕固體,其被控制以在鹽中提供所需的水分含量(例如,通過第2圖所示的開關/控制器的其中之一)。應當理解,初級過濾器340可以包括一個過濾器或一系列多個過濾器,其操作以選擇用於第一級過濾的鹽的適當尺寸和〝品質〞。如果需要額外過濾以獲得較高〝品質〞的鹽,則第一級過濾器和除濕鹽由次級過濾器350處理。第二階段過濾和除濕的鹽廢物,類似地作為廢物355和/或365提取。然後,隨後的鹽具有適當的尺寸、品質和濕度,以作為優良的皮膚病磨料被適當地使用,並通過空氣壓力源320(或次級空氣壓力系統,如果需要)轉移到有角度的手柄360。然後將剝落物和使用的鹽從有角度的手柄360收集在廢物容器365中。
應當注意,在一些實施例中,如果需要,各種廢物(廢物345、廢物355、廢物365)可以被引導到一單個〝廢物〞容器中。並且,雖然除濕機330被示為僅影響第一階段過程,但是應當理解,在一些實施例中,除濕還將應用於第二階段過程,從而確保鹽退出第一階段過程後,不被空氣再次加濕。因此,在這些後面的實施例中,〝除濕〞將包括封閉系統,例如,如第1圖所示的底盤110的整個內部可以是密封的外殼或相對於需要除濕的子系統部分密封。
第4圖是濕度控制鹽室的內部視圖400,以及底盤110內的主要子系統。鹽罐420包含磨料介質,其可以是一次性容器和/或由供應商提供的一種預填充物。在鹽罐420的底部是正壓輸注蓋(PPIC)425,與鹽罐420相接合,以向粉末進料系統450(圖中所示的粉末進料系統的蓋)提供鹽。PPIC 425的底部是一對管430和440,管430向鹽罐420提供清潔的乾燥空氣壓力,以及管440提供鹽從PPIC到粉末進料系統450的路徑。除濕器460提供適當的濕度(通常但不一定在50%以下)。廢物過濾袋 470收集用過的鹽和皮膚碎屑,並且通常是一次性的。顆粒回收系統或噴射器480是廢物過濾袋470的頂部,並操作為在保持正壓誘導速度的同時從處理部位回收多餘的顆粒。為了監控濕度,濕度傳感器490通過直接連接或無線向用戶跟蹤濕度和繼電器的濕度狀態。在一些實施例中,濕度傳感器490可以從底盤110移除並放置在房間中,以查看房間的濕度是否足夠。
第5圖示出了所描述的實施例中的一個或多個中的各種功能塊的框圖500。應當理解,這些元素中的一些是可選的。為了完整性,框圖500列出了所有可選組件。
空氣壓縮機520提供具有安全閥525(這裡示出為設定為例如約50磅/平方英寸(PSI))的系統和鹽流動空氣壓力,其提供單級降壓調節。熱交換器530和除濕器533(H2O分離器)與壓縮機520一致,用於冷卻和除濕加壓空氣以及用於鹽的流動。熱交換器530可以是基於線圈的系統,能夠除濕至35%相對濕度。除濕器533可以提供多種功能,例如向粉末瓶565提供可變的壓力,以及對真空噴射器543提供總體壓力,以及對排出濕氣提供壓力。一系列第一級空氣過濾器542、544和546提供各種更細微程度的過濾空氣來使鹽流動。例如,過濾器542提供0.3μm大小的過濾以從熱交換器530移除水蒸汽。一系列兩個單向過濾器544和546提供0.020英寸過濾並防止回流。來自各種過濾器的任何水/廢物(水分)被引導到排水或廢物收集器580。提供最大約為60PSI的次級可調節安全閥535,以確保正壓被管理並被調整到24~45PSI之間的水準。
壓力調節器540還通過真空噴射器543連接到壓縮機流,該噴射器將廢物引導到廢物袋545。壓力調節器540提供壓力〝步降〞以更好地將廢鹽和廢物吸入廢物袋545。此外,該壓力也被送到手提式真空管547用於運輸用完的材料。真空噴射器543也連接到真空管547,真空管 547又連接到真空開關515和0.3μm過濾器562。接下來,次級過濾器0.3μm552,0.020英寸554和0.020英寸556與聚結過濾器550組合使用。聚結過濾器550作為第二級過濾的開始操作,其類似於第一級過濾。電子調節器560在聚結過濾器550的下游。調節器560控制在用戶界面/控制面板上設置的電壓和壓力設置。因此,來自調節器560的控制的、步降的、可調節的和可變的PSI正壓通過0.025英寸孔口561傳送,隨後是由導向粉末瓶565的0.3μm過濾器563組成的附加過濾級別。這種水分過濾,可調節的壓力空氣在粉末瓶565中產生正壓力,以將粉末瓶565中的磨料推到夾緊閥567。
夾緊閥567連接到粉末瓶565,然後通過0.070英寸孔569連接到粉末供給殼體577。夾緊閥567被設定為處於關閉狀態,直到當與皮膚接觸時手柄處的循環壓力〝閉合〞為止。在接觸時,夾緊閥567打開,研磨材料通過0.070英寸孔口569供給。進粉殼體577將除濕的正壓和過濾的空氣混合,並將經過過濾和除濕的鹽以控制面板120上設定的強度分配。壓力分配器570在電調節器560的下游並且連接到3.5PSI釋放件573,並且通過0.070英寸孔口575連接到管道,並連接到隨後的進粉殼體577。 壓力分配器570分配調節的壓力以將研磨材料推進到手柄中。通過穿過0.070英寸孔口575將空氣速度進行優化,其中從粉末供給殼體577中其與研磨材料混合。粉末供給殼體577連接到導向手柄的粉末管590。
第6圖是示例性手柄組件610的側視圖600,其通常是縱向實心結構,在表面側640具有開口,並且在縱向軸線的相對端或620側具有管端。手柄具有在其縱向軸線的頭部630處的皮膚接觸表面640和在其縱向軸線的相對端處的〝交換〞表面620。手持組件的縱向軸線的〝交換〞(即,非皮膚接觸)端620可以配置有配件,其能夠附著輸入或輸出軟管,或者優選二者同時附接,其中所述輸入和/或輸出軟管連接到所述中央控制 單元,所述中央控制單元可以可選地具有存儲室,用於將所述結晶磨料顆粒提供給所述輸入通道,和/或廢物容器,用於從所述輸出通道接收物質。 這樣的連接可以包括真空管或手術管,或任何其他已知的連接材料,其能夠承受由該裝置提供的壓力,並且能夠將結晶磨料傳送到皮膚並且將廢物從皮膚接觸部位移除。
手柄組件610可以被設計成使得其縱向軸線相對於皮膚接觸表面640構成〝衝擊角〞。〝衝擊角〞或磨料介質衝擊組織的角度與患者的不適程度具有直接相關性。衝擊角越大,不適程度越強。因此,在一個實施例中,手柄組件610可被設計成具有一衝擊角,其中皮膚接觸表面的平面相對於手柄組件610的軸線具有小於90°的角度,具體地在20~50°。 在多數實施例中,該角度將在15~45°之間,最佳角度範圍在22~25°。在一個原型實施例中,該角度設定為25°,具有優異的結果。使用這些較小的角度將有更輕微的不適和更積極、有效的治療過程。
第7圖是示例性手柄組件的剖視圖700,示出了在交換側的連接口722和連接口724。連接口722、連接口724允許容易地***相應的管(未示出)。連接口722、連接口724經由兩個通道,輸入通道752和輸出通道754與手柄組件的頭部730連通,兩個通道穿過整個手柄組件的整個長度行進到皮膚接觸界面734。根據設計偏好,通道752、通道754可以是圓柱形通道,具有均勻的橫截面或具有不均勻的橫截面。在第7圖所示的實施例中,通道具有均勻的橫截面,除了輸入通道均勻752在其接近皮膚接觸界面734時具有次級較小通道760。頭部730包含偏轉室780,用於輸入、輸出通道752、754的腔室開口,和皮膚接觸界面734。偏轉室780的長度和高度均設置為大於輸入/輸出通道的組合尺寸,以允許磨料/鹽,細胞和皮膚微粒從偏轉壁784偏轉並被〝吸入〞到輸出通道754。應當理解,關於偏轉室780的術語〝偏轉〞是一般術語。也就是說,如果腔室足夠長 或施加的壓力足夠低,則不會在腔室中發生剝離的組織或磨料的所謂偏轉,而是簡單地重新定向到輸出通道754。因此,術語〝偏轉室〞被理解為包括偏轉狀況以及偏轉室780內的非偏轉狀況。
在原型實施例中,偏轉室780的縱向長度約為13mm,深度約為7mm。偏轉室780的高度大約在13~16mm之間,為大約14mm。 衝擊角約為25°。當然,這些值只是代表一個原型,因此可以使用其它大小、尺寸,而不脫離本公開的主旨和範圍。
輸入通道752位於輸出通道754的下方,並針對皮膚接觸界面734的〝後〞部,與偏轉壁784的分離使來自撞擊鹽的〝牆壁〞跳飛效應最小化。在皮膚接觸界面734終端的一側,提供球根狀的或彎曲的表面736以使得頭部730更容易傾斜,而不會導致皮膚接觸界面734從皮膚〝開封〞和/或允許頭部730穿過患者皮膚移動而不引起〝邊緣〞不適。
在操作中,當手柄與皮膚接觸時,壓力通過抽吸機構施加到輸出通道754來創造真空,該真空引起結晶顆粒磨料從濕度控制的儲存室吸入輸入通道752。因此,推動結晶顆粒磨料通過手柄的輸入通道752,其將微小顆粒結晶磨料的流動以高速引導到皮膚上,其磨損皮膚並且隨著手柄的每次通過而磨損細胞層。在手柄的皮膚接觸界面734處,將結晶磨料吸出通過輸入通道752,並且來自皮膚表面的脫落的皮膚細胞和碎屑通過手柄的輸出通道754從接觸部位移除。
力和動量被傳遞到磨料顆粒的依賴機制,通過在輸入通道752的一端在皮膚上產生正壓力迴路,並通過輸出通道754通過真空迴路返回而發生。因此,正壓和負壓系統皆被使用。具體地,當與皮膚接觸時,應用於迴路一端的正壓力將磨料顆粒提供給手柄的皮膚接觸界面734,並且在輸出通道754中被負壓排空。需要平衡壓力並且被實現為封閉系統,該封閉系統需要與皮膚接觸形成。
應該理解的是,通過手柄上的一個或多個孔(未示出),與皮膚的接觸可以放大從而接合皮膚並進一步產生力量,該力量從手柄上的一個輸入孔抽出顆粒,然後使之遠離皮膚並進入廢物存儲室。應該進一步理解的是,封閉迴路可以是半封閉迴路系統,其中不需要完全密封,由於即使減壓,也有足夠的力量提供足夠的操作。
本發明裝置的手柄被設計成在半封閉迴路系統中通過壓力循環輸送結晶磨料。手柄與皮膚表面接觸,以從儲存室提供磨料顆粒從而以一定角度引導顆粒流,該角度基本上不垂直於皮膚平面。
當顆粒下降到皮膚上時,此方向減少了顆粒之間的碰撞總數從而更好地保持其結晶研磨性能。通過製備這種理想粒度的方法可以調製結晶顆粒磨料的尺寸。特別地,顆粒的平均尺寸可以在60微米到750微米之間。
該裝置還包括中央控制台,該中央控制台包含殼體,殼體包括用戶輸入裝置,用於通過手持組件以足以除去至少一些表皮的速度控制結晶磨料至皮膚的傳遞,並用於收集傳遞的結晶磨料和任何皮膚細胞。用戶輸入設備可以包括電腦和/或觸控螢幕,和/或鍵盤,濕度控制室等。該裝置可以包括儲存室(比如漏斗),用於提供結晶磨料以磨損皮膚。在一些實施例中,裝置還可以包括儲存室,用於接收諸如接觸皮膚的結晶磨料的廢料。在一些實施例中,任何這樣的儲存室都包含在裝置的殼體內。
第8圖是操作中的示例性手柄860的簡單圖形800。正壓下的鹽810被輸入到主體組織870,該主體組織在皮下層875上方具有上皮層873。輸入通道863引導鹽810撞擊表面界面的端部865,其被引導(具有剝離的組織顆粒)到輸出通道866中,該輸出通道具有負壓以將鹽/碎屑從處理區域拉出。
結合超音波治療
運用皮膚剝落完成皮膚處理後,皮膚可能暴露於美容增強或治療物質,隨後使用超音波。運用超音波以增強美容和/或治療增強物質的遞送和吸收是本領域已知的。本發明的特別優選的超音波頻率範圍包括1MHz、2MHz、3MHz、3.3MHz、5MHz。
結合發光裝置治療
本發明的任何治療可以與光療聯合使用,例如通過可調節燈。光可以通過任何方式提供,優選LED發光設備。關於使用發光裝置,優選這樣的裝置用於功率譜輸出,而不是總輸出功率。光的波長範圍可以在400~2940nm之間,更優選地在401~1550nm之間,或者最優選地在404~950nm之間。
本發明的組合治療可以集中於治療粉刺。這種治療可能集中在已知殺死粉刺細菌的波長範圍(404~414nm)和促進皮膚修復的波長(660nm)。對於抗衰老和妊娠紋的治療,在660nm處的紅光被用於刺激皮膚細胞生長並改善膠原蛋白網絡。在930nm處的近紅外光擴張毛細血管,從而使組織氧合和改善營養通道,於抗衰老和妊娠紋的治療生長因子和免疫系統變得更好。
因此,優選的光設置包括藍色,為了治療粉刺以殺死導致丘疹的表面下細菌。另一個優選的光設置包括紅光和藍光的組合以治療粉刺、粉刺疤痕、粉刺炎症和色素沉著。另一個優選的光設置包括紅色和琥珀色(590nm)的組合,用於一般皮膚復原,特別是治療皮膚表面的紅色和棕色。另一個優選的光設置包括紅色和近紅外光(NIR)的組合,用於治療色素和刺激膠原蛋白、皮膚收緊和治療妊娠紋。曝光程序範圍可能從3分鐘曝光到30分鐘的程序曝光,或其中的任何時間,包括4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28和29分鐘的曝光,以及之間的任何二手間隔。皮膚暴露 於燈光可能發生在0.1~8.0英寸的範圍內,包括任何中間距離,其中距離皮膚的最佳距離為4.5英寸。這種治療可以或可以不與其他已知的治療組合,包括抗生素,視黃酸或ACCUTANETM
例1
為了實現皮膚復原、減少日曬傷害、天氣損傷和老年斑、減少癒合疤痕中的不規則顏色圖案、細紋、皺紋和粉刺點蝕的平滑、提高皮膚強度、彈性和光滑度,以及改善妊娠紋的外觀,進行典型的皮膚剝落程序。典型的皮膚剝落治療。典型的方案是: 清潔待處理區域的任何油、化妝品或其他污垢和碎屑。確保皮膚乾燥。
進行皮膚剝落。這通過保持皮膚繃緊並將手柄拉出待處理的區域來完成。至少一次通過待處理的區域,至多8次通過待處理的區域。
治療可以在待治療區域的一個、兩個或三個不同方向上(水平、垂直和傾斜)進行。
清潔任何剩餘顆粒的處理區域。
可選擇進行蒸汽、音波清潔和提取。
在雷射和IPL光療之前或在微針刺之前使用皮膚剝落,用於治療妊娠紋、皮膚復原、粉刺、色素沉著和紅色病變的外觀。
選擇性地實行局部產品(topical product)的超音波應用以滲透產品,如維生素C血清、膠原肽、乙醇酸和其他抗氧化劑,以及皮膚局部復原,深入皮膚細胞。
選擇性地使用本發明的光療法以幫助進一步滲透和活化局部治療,如維生素C血清、膠原肽、乙醇酸,其他抗氧化劑和皮膚局部復原。
例2
實行以下方法以實現皮膚復原、減少日曬損傷、天氣損傷和 老化斑點、減少癒合疤痕中的不規則色素圖案、細紋、皺紋和粉刺點蝕的平滑、提高皮膚強度、彈性和光滑度並且用於改善妊娠紋的外觀。
治療方式:
皮膚重塑包括降低日曬傷害、改善皮膚質地和堅實度、減少皺紋等。效果通常於第三次治療後顯現。
當皮膚剝落時,清潔任何剩餘顆粒的處理區域。
選擇性地實行局部產品的超音波應用以滲透產品,如維生素C血清、膠原肽、乙醇酸,以及其它抗氧化劑,以及皮膚局部復原,深入皮膚細胞。
選擇性地進行蒸汽,音波清潔和提取。
使用本發明的光療法來幫助滲透局部治療如維生素C血清或膠原肽。
與膠原肽結合使用的本發明的光療法比單獨的光療或膠原治療更快地平滑妊娠紋、皺紋和細紋的外觀。
光療法在化學剝離處理後是有效用的,以加速皮膚的恢復。
例3
本研究使用能夠以包含5J/cm2的各種能量傳遞光的LED裝置。進行各種組織培養和動物模型研究以確定LED光對皮膚細胞的影響。 本研究包括組織培養研究,動物研究和人類臨床研究。在成纖維細胞(皮膚細胞)組織培養中研究了幾種波長和強度。在該實驗設計中,細胞增殖和膠原蛋白生成的最佳波長被確定為紅光。660nm波長的紅光被發現是特別有效的。動物研究表明傷口的邊緣是兩種類型皮膚細胞(成纖維細胞和 角質細胞)增加的來源,這兩種類型皮膚細胞被紅色和近紅外光所刺激。 然後這兩種細胞類型移入傷口區域以形成新的皮膚。被治療動物的傷口癒合加速。加速傷口癒合伴隨著組織生長因子數量的增加。對一些士兵進行了研究,其中這些士兵需要長時間在潛水室裡生活並在深潛的條件下受傷。由於非常緩慢的癒合率,在這些條件下,磨損、瘀傷和小切口會變得嚴重。近紅外光的傷口癒合在接近正常條件下被顯示出改善。
例4
促進膠原蛋白和細胞再生
紅色和琥珀色光提供有效的皮膚重塑治療,其可用於抗衰老治療。抗衰老治療採用以下方法:
*皮膚重塑包括降低日曬損傷、改善皮膚質地和緊實度、減少皺紋、促進膠原蛋白產生。效果通常於第三次治療後可見。
**假設沒有其他活性成分;紅/琥珀光治療用於幫助活性成分,如抗氧化劑和膠原肽的滲透和活化。
紅色和琥珀光光療法被整合到當前介於清潔劑和最後保濕之間的方法中。
1、當皮膚剝落時,清潔任何殘留晶體的處理區域,並用光療法進行跟蹤。
2、首先進行蒸汽,音波清潔和提取,然後進行光療法。
3、使用琥珀色和/或光療法來幫助滲透局部治療如維生素C血清或膠原肽。
4、在本發明的情况中,與膠原肽一起使用的光療法比單獨 的光療或膠原治療更快地平滑皺紋和細紋。
例5
促進皮膚再生的近紅外光:低強度雷射照射對糖尿病微血管病患者皮膚微循環的系統影響。
具有長期存在的糖尿病的患者在腿部和手臂中的循環不暢導致疼痛、麻木,最終導致神經損傷和麻痺。輸出與高端LED器件相當的低能級雷射器件,其僅提供30J/cm2的近紅外光。之後在皮膚區域測量血流量。把它與未照亮的另一隻腳或手上的血流量進行比較。在照射區域中測量到改善的且持續的血流量,其中改善在照明關閉後至少持續30分鐘。
皮膚中血流的持續改善被認為是由於近紅外照明引起的。普遍認為,皮膚上的近紅外光通過血管擴張使毛細血管擴大。近紅外光通過改善組織氧合和營養獲取,提高紅光對皮膚再生的影響。在該波長(930nm)處的近紅外光不會引起組織加熱或熱感。
例6
光療對老年患者在受到創傷後壓迫潰瘍癒合的影響:一項前瞻性、隨機、控制性的研究。
壓迫傷口(褥瘡)的最常見治療是抗生素和機械操作。典型的II期傷口需要12~14周才能癒合。II期壓迫傷是嚴重的,並構成嚴重感染的威脅;它的特點為皮膚覆蓋的損失,並且在破壞下面的組織之前出現。 本研究使用了一種以高達5J/cm2的紅色和近紅外光輸出的魔杖型LED器件。患者傷口每周照射3~5次,直到傷口閉合。每日測量傷口尺寸。與未治療的傷口相比,這些患者的傷口在50%的時間內癒合。
例7
目前公開的使用藍光和紅光的方法有效地治療了輕度至嚴重發炎的粉刺,時間範圍為0.5至3個月,通常為1個月。藍色模式的LED 以藍光的最佳波長和強度有效活化氨基乙酸〔(ALA)+(LEVULANTM)〕。強烈的藍光深入毛囊和油腺之下,即過氧化苯甲醯處理後粉刺群殘留之處。藍光穿透,約1.5mm,比大多數局部治療的穿透深四倍。此外,效果高度局部化。藍光在細菌內產生毒性,但對皮膚本身是中性的。局部治療可以先施用,包括5%過氧化苯甲醯和口服抗生素四環素。ALA吸收藍光並活化。這種活化對粉刺細菌是劇毒的,但對周圍的皮膚細胞沒有毒性。本發明提供了這種效果所需的醫學證明的最佳波長和強度。
儘管已經在某些實施例和示例的環境中公開了本發明,本領域中具有通常知識者應當理解,本發明超出了具體公開的實施例,延伸到其他替代實施例和/或用途以及其明顯的修改和等同物。因此,除了所附申請專利範圍之外,並不意圖限制本發明。

Claims (16)

  1. 一種正壓皮膚剝落系統,係包括:一單一氣壓源,用於提供正壓力;一除濕機,對來自該氣壓源的空氣和被配置為容納皮膚剝落磨料容器的一室內的空氣進行除濕;多個除濕台,該除濕台連接到該除濕機;控制器和調節器中至少一個,用於控制來自該氣壓源的加壓空氣的壓力值;一輸入管,具有加壓和除濕空氣,連接到該皮膚剝落磨料容器;一輸出管,用於從皮膚處理部位收集廢物;一正壓真空產生噴射器,連接到該輸出管;以及一剝落手柄,與受體組織形成衝擊角,包括:在一側的軟管端部和在另一側的皮膚處理端部,該軟管端部與該輸入管和該輸出管相連接;一偏轉室,位於該皮膚處理端部;一皮膚界面,位於該偏轉室底部;以及輸入和輸出通道,從該軟管端部穿過該手柄內部到達內部的該偏轉室端部,該輸入通道受到該氣壓源的正壓並將磨料引導至該皮膚界面,且該輸出通道處於由正壓真空產生噴射器產生的真空壓力下並引導來自該偏轉室的使用過的磨料和皮膚廢物,其中,當該手柄與皮膚緊密接觸時觸發磨料的循環。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中,該室是一可密封的底盤。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之正壓皮膚剝落系統,其中,該可密封的底盤還容納壓力源,過濾台和皮膚剝落磨料容器。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中,該容器含有皮膚剝落磨料,該皮膚剝落磨料是鹽,即由氯化鈉組成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中,該容器含有皮膚剝落磨料,該皮膚剝落磨料是氧化鋁或碳酸氫鈉。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,更包括一廢物容器,其與該真空噴射器和該除濕台中的至少一個相連。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中,該手柄的衝擊角在20~50°,15~45°,22~27°之間,25°其中之一。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,更包括用於治療脫落皮膚的一超音波換能器。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該超音波換能器以1MHz、2MHz、3MHz、3.3MHz或5MHz其中之一的頻率工作。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,更包括一可調節燈,其在400~2940nm的範圍內發射光。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該加壓空氣被控制到最大60PSI,並確保正壓被管理和調整到24~45PSI之間的水準。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該偏轉室的縱向長度為13mm,深度為7mm。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該偏轉室為13~16mm寬,以及14mm高。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該手柄的衝擊角度在22~27度之間。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該手柄的偏轉室的縱向長度比該偏轉室的深度長。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之正壓皮膚剝落系統,其中該輸入和該輸出通道沿該手柄的長度方向貫穿該手柄。
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