TWI632400B - 線光源發生裝置及其柱狀透鏡板系統 - Google Patents

Abstract

本發明有關於線光源發生裝置、使用於該線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統、以及具備該線光源發生裝置之曝光裝置。本發明又有關於微細線光源之製造方法。本發明又有關於利用具有微細線幅之線光源之微電路基板之製造方法以及藉由該方法製造之微電路基板。

本發明之線光源發生裝置係利用柱狀透鏡板之線光源特性而製造，包括光源與柱狀透鏡板系統，光源以均勻強度均勻照射柱狀透鏡板系統之整個面積。本發明使用柱狀透鏡板系統製造線幅為奈米尺寸之線光源。該柱狀透鏡板系統係由一個或層疊多柱狀透鏡板構成。本發明能有效利用於曝光裝置領域。

Description

線光源發生裝置及其柱狀透鏡板系統

本發明有關於線光源發生裝置、用於該線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統(lenticular)，以及具備該線光源發生裝置之曝光裝置。本發明有關於微細線光源的製造方法。本發明還有關於使用具有微細線幅的線光源之微電路基板之製造方法，以及微電路基板。

本發明之特徵係利用柱狀透鏡板提供之線光源之特性。利用本發明之柱狀透鏡板系統，可將線光源之線幅製作為直到奈米尺寸。發生奈米尺寸之線幅之線光源曝光裝置可謂係劃時代之發明。使用習知曝光裝置，能曝光之面積非常有限。與此相比，具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置不受任何所要曝光之曝光物之長度或幅度。能根據需要加工大面積。

使用本發明之柱狀透鏡板之線光源發生裝置和具備該線光源發生裝置之曝光裝置，係利用了凸透鏡板之集光功能。尤其，有效使用在柱狀透鏡板之鏡片之中央部附近區域產生之垂直光功能。於本發明之線光源發生裝置使用以各種形態結合柱狀透鏡板之柱狀透鏡板系統。該柱狀透鏡板系統之形態有由一個凸透鏡板構成之形態和層疊多個柱狀透鏡板之層疊體形態。該柱狀透鏡板層疊體係適當組合凸透鏡板或凹透鏡板而成。柱狀透鏡板系統可以同時利用凸透鏡板之集光功能與凹透鏡板之分光功能。凹透鏡板具有分光功能。經分光，線光源變更細微，且線光源之數量增加。藉此能夠進行更加精密之曝光工作。

曝光裝置係將圖案轉移到反應光之物質(光阻(Photo-resist：PR)，感光材料)之裝置。該過程為如下。於基板準備塗布有感光材料之基板，於該基板上面放置形成有圖案之圖案膜。然後，向該圖案膜上面照射紫外線。該紫外線藉由圖案膜按照圖案之形狀使感光材料曝光。曝光工作之後，用化學方法去除非曝光部，而轉移所需之圖案。本發明中，將塗布感光材料之各種形態之材料定義為基板。以往，為製造具有微間距之電路使用了平行光曝光裝置。平行光曝光裝置，不僅製造費用高，而且能適用之面積有限。本發明中不使用高價之平行光曝光裝置，而製造具備使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置之曝光裝置來代替高價之設備。

一般，曝光裝置係包括：光源、藉由排列多樣之鏡片而處理該光源之光之光學系統、工作臺、其他傳送裝置、冷卻裝置、控制器。本發明之曝光裝置係具備使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置之曝光裝置。該線光源發生裝置係包括光源與柱狀透鏡板系統。本發明之曝光裝置之曝光工作係藉由該線光源發生裝置與圖案膜或光罩之相對移送而完成。本發明之曝光裝置係用本發明之線光源發生裝置來代替使用於一般之曝光裝置之光學系統。本發明之線光源發生裝置使用柱狀透鏡板。

若使用本發明之線光源發生裝置之曝光裝置，則感光層按照圖案膜或光罩之圖案正確且精密地曝光。即使間距極其微細之圖案也能曝光，感光層之厚度相對厚也能鮮明地曝光。本發明之線光源發生裝置係以簡單之構造代替加工非常大之鏡片之後互相結合而製成之複雜之光學系統。 為了微細且精密地曝光，需使用複雜且較大之光學系統。但實際上在光學系統之中心附近之區域中只能獲得巴掌大點之曝光基板之有效面積。

但是，本發明僅用簡單之柱狀透鏡板系統能獲得所需之有效面積，係為非常驚人之事。本發明所使用之柱狀透鏡板系統之厚度大部分為1mm以內。以現在之科學水準，將構成光學系統之鏡片製作為非常大係具物理限制。但是，以現在之科學水準，將柱狀透鏡板製作為非常大係很簡單，並沒有任何限制。並且，具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置，其特徵為，對振動非常強。並且，即使稍微振動之環境下也能正確地曝光。

本發明有關於線光源發生裝置、用於該線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統，以及具備該線光源發生裝置之曝光裝置。本發明有關於微細線光源的製造方法。本發明還有關於使用具有微細線幅的線光源之微電路基板之製造方法，以及微電路基板。

本發明的特徵係利用柱狀透鏡板所具有之線光源之特性。本發明之具備線光源發生裝置之曝光裝置可以廉價製造，於曝光裝置領域可獲得波及效應。而且，利用本發明之曝光裝置可以大量生產使用平行光曝光裝置也不能製作之大面積微間距電路。適於曝光裝置領域之技術方面可謂劃時代之進步。

本發明之目的為，以廉價可曝光超微電路，並開發一種能曝光大面積之曝光技術。為開發該技術，利用凸透鏡板之集光功能及垂直光功能。藉由最大限度地利用凸透鏡 板之特性，利用本發明之曝光技術，即使係形成有較厚之感光層且由超微間距構成之電路也能容易曝光。使用本發明之線光源發生裝置，最大之特徵係即使由數微米單位構成之超微電路也能曝光、還能迅速曝光大面積、能用掃描工作連續進行曝光工作。

工作環境方面，藉由激光之加工需要在沒有振動之空間進行。但是，本發明之具備線光源發生裝置之曝光裝置，即使有微小之振動對結果物不會帶來影響，適是事實。藉由激光之微電路之功能由點光源形態而成，對此，本發明之線光源發生裝置係線光源之形態。對於曝光速度而言，藉由本發明之線光源掃描，則能夠容易且有效地曝光大面積。精密觀察曝光結果物可以確認藉由由點光源而成之激光曝光之截面非常粗糙，而用本發明之曝光裝置進行曝光之曝光截面係非常乾淨。

為曝光超微電路，以往使用了平行光曝光裝置。但是，平行光曝光裝置係其光學系統之結構複雜，製造費用也很高。平行光曝光裝置需要結合很大的凸透鏡板和凹透鏡板而組合成非常複雜之結構，所以光學系統之製造費用非常高。並且，即使製造了很大之光學系統，光學系統中能用於實際工作中之有效面積僅限定於鏡片之中心部位之被限定之領域。但是，具備線光源發生裝置之本發明之曝光裝置係其結構簡單，不利用高價之設備，只利用柱狀透鏡板鏡片之光學性質而製作。本發明中，線光源之光具有具線形態之垂直光或具線形態之平行光之性質。具有微細之線幅之線形垂直光，即使透過圖案膜，也可以減少光擴散、折射及散射作用，所以能夠精密地曝光超微細圖案。

為實現大面積超微電路，需要具備以下條件。本發明之線光源發生裝置滿足以下之全部條件第一、需防止光之折射及分散；第二、需為能夠迅速進行掃描工作之線光源；第三、需藉由鏡片收集光能；第四、比被曝光之超微電路，提供線幅更微細之線光源；第五、線光源與線光源互不接觸而具有間隔。

本發明曝光裝置之線光源發生裝置所提供之光透過圖案膜或光罩照射於形成在感光層之基板。該照射之光以圖案膜或光罩所具有之圖案之形狀使感光層曝光。

本發明之線光源發生裝置之實施例可構成為很多種。本發明中作為基本要素包括光源及柱狀透鏡板系統。線光源發生裝置中，還藉由振動機構向該柱狀透鏡板系統施加振動。最基本形態係固定該光源及柱狀透鏡板系統以防相對移動。將該線光源發生裝置適用於本發明之曝光裝置時，該線光源發生裝置相對於設置在曝光裝置之圖案膜進行移動，藉由該傳送動作進行曝光工作。

本發明之特徵係使用柱狀透鏡板所提供之線光源。用於線光源發生裝置之柱狀透鏡板，可根據曝光目的具有各種間距及焦距。為曝光超細微間距，也應將柱狀透鏡板設計為具有微細之間距。該線光源發橫裝置優選最大限度地利用透過凸透鏡板之光垂直照射之凸透鏡板垂直光功能。對該垂直光請參照後面詳述。將使用本發明之柱狀透鏡板之線光源發生裝置適用於曝光裝置時，線光源發生裝置必須位於圖案膜或光罩之上部。

利用本發明之曝光裝置連續曝光柔性基板時，將線光源發生裝置從圖案膜或光罩離開預定距離以防互相摩擦。以線光源發生裝置從圖案膜離開之狀態下互相藉由傳送工作進行曝光工作。藉由該傳送工作，即便基板之面積很大也能通過線光源發生裝置之掃描工作容易曝光。一般，所有曝光裝置，於圖案膜或光罩之下部配置基板，基板上面塗布薄層感光材料。在進行曝光工作時，該基板和該圖案膜之間不許有滑動，相互間也不許相對移動。即，在曝光工作中，該基板和該圖案膜成一體移動。

使用於本發明之凹透鏡板係使藉由凸透鏡板收集之線光源成為線幅更窄之線光源。同時，增加線光源之光線數。如此，增加線光源之光線數，同時使用線幅更窄的線光源，則可以更加精密地曝光。若使用結合凹透鏡板和凸透鏡板之性質之柱狀透鏡板系統，則可以製作成線光源之線幅具有數十至數百奈米之超微細線光源。意味著若使用具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置，則能曝光至數微米之微細間距。

本發明之曝光裝置中，若使用凸透鏡板之垂直光功能，則所要曝光之電路之間距僅為數微米，即便所使用之感光層之厚度比數十微米厚也能曝光地很乾淨。垂直光之性質減少光折射、干擾及散射，因此也可以曝光超微電路。若藉由本發明之曝光裝置進行曝光工作，則沒有不良，很鮮明，而且也能構成乾淨之電路。即便係大面積之基板，具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置藉由線光源發生裝置之相對移動能夠在短時間內一次性曝光大面積。

本發明之曝光裝置需要將線光源發生裝置和圖案膜或 線光源發生裝置和光罩互相相對移動。相對移動的方法有：第一，於圖案膜或光罩停止狀態下，移動線光源發生裝置；第二，於線光源發生裝置停止狀態下，移動圖案膜或光罩；第三，同時移動線光源發生裝置和圖案膜或光罩。設計本發明之曝光裝置時，可根據需要設計為不同之形狀。

本發明之線光源發生裝置主要使用構成凸透鏡板之各鏡片所具有之光之收集功能。尤其，利用具有微細線幅之線光源時，層疊凹透鏡板和凸透鏡板而使用。凸透鏡板之各鏡片具有以線光源形態收集光源之功能，凹透鏡板之各鏡片具有將光線以線光源形態進一步細分之功能。層疊凸透鏡板與凹透鏡板之柱狀透鏡板系統同時執行集光及分光功能。透過柱狀透鏡板系統之光形成為線形。

本發明中利用光垂直照射之吹之光功能。凸透鏡板折射來自光源的光並聚焦於焦點。但是，凸透鏡板之鏡片之中央部附近之區域係光之折射作用非常微弱之區域。此處，不折射來自光源之光，而將來自光源之光直接照射至下部。本發明中集中利用凸透鏡板所具有之垂直光功能。線光源發生裝置使用垂直光柱狀透鏡板，若使用具備線光源發生裝置之曝光裝置，則感光層之厚度成為數十微米以上，即便所要曝光之間距只有數微米，也能精密地進行曝光操作。即便圖案膜或光罩所成之圖案之間距為超微細間距，若使用垂直光柱狀透鏡板系統，則光之散射、折射、擴散及分散等得以減少，而能乾淨且鮮明地曝光。

若比較習知之平行光曝光裝置與本發明之曝光裝置，首先，平行光曝光裝置需要高價光學系統。與此相比，本 發明之曝光裝置僅利用柱狀透鏡板所具有之物理功能，所以經濟效果良好。而且，習知之平行光曝光裝置很難進行大面積曝光，但是，本發明之曝光裝置藉由線光源發生裝置之相對移動，很容易且快速進行大面積曝光。

本發明之線光源發生裝置與柱狀透鏡板系統，除曝光裝置領域之外，還能廣泛利用於顯示裝置與顯示面板。用於習知顯示裝置之顯示面板藉由偏光濾光器傳遞來自背光之光。此時，若透過偏光濾光器，則來自背光之光會大大減少。隨此，電力消耗也多。到那時，若將本發明之線光源發生裝置用於顯示裝置，則可以不使用偏光濾光器。偏光濾光器具有線光源之作用。本發明之線光源發生裝置並不需要偏光濾光器，而其本身具有線光源之作用。不僅如此，本發明之線光源發生裝置在提供光源時不會發生光損失。藉此，若使用本發明之線光源發生裝置來代替顯示面板之背光與偏光濾光器，則由於沒有光損失，因此能大大地增加電池之壽命。

將本發明之線光源發生裝置適用於顯示面板時，對柱狀透鏡板系統可以施加微振動。觀察由本發明之線光源發生裝置之線光源，可知線光源與線光源之間的間隔為數微米。該間隔可藉由施加於柱狀透鏡板之微振動來解決。即，藉由振動手段振動柱狀透鏡板系統，則可瞬時間填充線光源和線光源之間之空白。藉由柱狀透鏡板系統之振動，可以利用顯示面板之後像之視錯覺效果。即，由於超高速微振動，因此無法用人的眼睛識別空白。

本發明有關於使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置、使 用於該線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統、具備該線光源發生裝置之曝光裝置、將來自光源之光變換為具有微細線幅之線光源之微細線光源製作方法。線光源發生裝置使用具有微細間距之柱狀透鏡板系統。本發明又有關於使用具有微細線幅之線光源之微電路基板之製造方法以及由此製造之微電路基板。

以下，說明本發明之各種實施例。本發明利用藉由本發明之柱狀透鏡板系統產生線光源之特性。利用柱狀透鏡板系統製作本發明之線光源發生裝置。並製造具備該線光源發生裝置之曝光裝置。若用利用柱狀透鏡板之本發明之線光源發生裝置，則可以製作線光源之線幅為奈米尺寸之超細微線光源。為製作具有奈米尺寸之線幅之線光源，構成本發明之柱狀透鏡板系統。利用本發明之柱狀透鏡板系統之線光源發生裝置能夠利用於各種產業，其中最有效利用於曝光裝置領域。

利用本發明之柱狀透鏡板之線光源發生裝置大致包括光源和柱狀透鏡板系統，但也可以包括其他設備。光源利用使用化學物半導體之LED面光源，或可以使用安裝多個LED之光源。除LED以外，所有發光之發光體都可以用作光源。本發明中也可以用一個凸透鏡板構成柱狀透鏡板系統。但是，大部份情況下，層疊一個凸透鏡板和一個凹透鏡板而使用，或者層疊多個柱狀透鏡板而使用。本發明之光源係於曝光中之光之強度非常重要。並且，均勻地分佈光線起非常重要之作用。將來自光源之光源以均勻之分佈和均勻之強度均勻地照射至柱狀透鏡板系統之整個面積，為佳。

本發明之曝光裝置中，本發明之線光源發生裝置相對於安裝於曝光裝置之圖案膜進行移動時才能進行曝光工作。構成本發明之線光源發生裝置之光源和柱狀透鏡板系統係相互間不相對移動，而係朝相同之方向以相同之速度移動之形態，相對於曝光裝置之圖案膜進行移動。為此，本發明之曝光裝置係大部份在一個集裝箱安裝光源和柱狀透鏡板系統。如上所述，在一個集裝箱安裝光源和柱狀透鏡板系統時，在所述集裝箱內平面搖動該光源，或對該柱狀透鏡板系統施加微振動。但是，此時由於該光源和該柱狀透鏡板系統安裝在一個集裝箱內，因此必須以相同之速度朝相同之方向相對於曝光裝置之圖案膜進行相對移動。

本發明中，透過本發明之線光源發生裝置之光線優選朝垂直方向照射。如此朝垂直方向照射時，光線不會分散到外側、且不會發生折射而直接朝垂直方向照射。在本發明中，將該線光源發生裝置稱之為垂直光線光源發生裝置。為發生垂直光，主要使用柱狀透鏡板鏡片之中央部區域之功能。

柱狀透鏡板具有可將光線大致朝垂直方向照射到基板之功能，在本發明中，將柱狀透鏡板定義為垂直光柱狀透鏡板。本發明所定義之垂直光柱狀透鏡板並不意味著光線朝完整的朝垂直方向直射，而使意味著大致朝垂直方向直射。本發明之線光源發生裝置所使用之柱狀透鏡板可以使用一般之柱狀透鏡板，但是，曝光工作之正確度有可能降低。本發明中為正確地進行曝光工作，優選使用大致朝垂直方向照射光線之垂直光柱狀透鏡板。

本發明所使用之柱狀透鏡板系統之形態中，最簡單且 基本之形態為由一個凸透鏡板構成。其次係在一個凸透鏡板之下部層疊一個凹透鏡板之形態。但是，為得到更良好之效果，可以製成為一個以上凸透鏡板和一個以上凹透鏡板之層疊體。該柱狀透鏡板層疊體係以適當順序組合凸透鏡板或凹透鏡板排列而成。

以下說明本發明之曝光裝置。說明本發明之曝光裝置之際，說明曝光裝置之基本概念。並且，為具體說明結構，分上部結構和下部結構說明實施例。

本發明之曝光裝置具備使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置。該線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統。本發明之曝光裝置之曝光工作藉由該線光源發生裝置與圖案膜之相對移動而達成。說明本發明時，圖案膜與光罩具有幾乎相同之目的與幾乎相同之功能，因此，在此僅說明圖案膜，沒有特別說明之情況下，也同樣適用於光罩。

利用本發明之曝光裝置進行曝光工作時，只要線光源發生裝置和圖案膜之間相對移動才能進行曝光工作。為執行曝光工作，需要使線光源發生裝置和圖案膜相對移動，相對移動之方法有三種形態。第一，使線光源發生裝置移動，而圖案膜被固定之情況；第二，固定線光源發生裝置，而使圖案膜移動之情況；第三，線光源發生裝置與圖案膜一同移動，但其移動速度不同。設置於該圖案膜之下部之基板與設置於該基板下部之工作臺之移動，可根據需要適當設計。本發明之曝光裝置適用以上三種形態中之一種。按照曝光裝置之動作分別設計其結構。該結構設計屬於公知技術，因此省略對其之說明。

為進一步詳細說明本發明之曝光裝置之結構，說明本 發明之曝光裝置之上部結構。於上部結構構成線光源發生裝置。在該上部結構可進一步包括傳送裝置、冷卻光源之熱之冷卻裝置、控制器等。還可進一步包括彈性輥。

本發明之曝光裝置之下部結構係形成在該上部結構之下面之構造物。在本發明之曝光裝置之下部結構設置工作臺。在該工作臺可拆卸地安裝塗布感光材料之基板。在該工作臺可以設置用於緊貼基板之緊貼手段。在下部構造可以包括用於傳送該工作臺之傳送裝置、用於冷卻線光源發生裝置之冷卻裝置、供電裝置以及控制器等。

在於該上部結構與下部結構之間可拆卸地安裝圖案膜或形成有光罩及感光層之基板等。在準備曝光工作或曝光工作結束時可以拆卸位於上部結構與下部結構之間之圖案膜或形成有光罩及感光層之基板等。可從本發明之曝光裝置之構造物拆卸之構件不能視為曝光裝置之構成要素，而定義為配件。

構成本發明之曝光裝置之順序為如下，但可根據情況及特性進行改變。在線光源發生裝置與工作臺之間配置圖案膜或光罩及基板。基板位於圖案膜或光罩之下部，可拆卸地安裝於工作臺上面。在工作臺下部可以配置用於將基板緊貼於工作臺之緊貼手段、用於傳送該工作臺之傳送裝置、用於冷卻來自光源之光線之冷卻裝置、供電裝置以及控制器等。

藉由本發明之線光源發生裝置而製成的來自線光源之光線照射至曝光裝置之圖案膜或光罩。該線光源之光透過該圖案膜或光罩之後使基板之感光層曝光。

在進行曝光工作時，該圖案膜或光罩緊貼於基板或從 基板離開。在進行曝光工作時，該圖案膜或光罩與該基板之間不許發生滑動。並且，在進行曝光工作時，通常基板緊貼於工作臺不產生滑動，但有時會發生在基板和工作臺之間發生滑動之現象。

在進行曝光工作之際，基板與工作臺之間沒有發生滑動時，可藉由緊貼手段緊貼該基板與該工作臺，該緊貼手段形成在工作臺，利用真空壓力緊貼該基板與該工作臺。此時，線光源發生裝置移動，而使工作臺固定，還可以固定線光源發生裝置，而使工作臺移動。

在進行曝光工作之際，基板相對於工作臺進行滑動之情況係利用柔性基板，基板卷繞與卷繞筒之同時，連續進行曝光工作之情況。此時，工作臺與線光源發生裝置係停止狀態，圖案膜與基板互相緊貼或相離開之狀態，相對於工作臺進行滑動移動。

此時，在上部結構形成彈性輥，可以利用該彈性輥按壓圖案膜。即，藉由彈性輥進行按壓，該圖案膜被擠壓於基板，從而該圖案膜與基板成為一體，並相對於停止狀態之工作臺進行滑動移動。此時，彈性輥與線光源發生裝置成為一體同樣進行移動。在曝光工作中，包括線光源發生裝置之上部結構係停止狀態。

本發明之曝光裝置中，可用通常所使用之裝置來代替用於使上部結構與下部結構相對移動之傳送裝置、用於去除來自光源之熱之冷卻裝置、上部結構驅動裝置、下部結構驅動裝置、控制器以及供電裝置等。在本發明中省略適些構成。以下說明本發明之曝光裝置之實施例。但是，本發明並不限定於該實施例。

第1圖係說明本發明之曝光裝置之概念之圖。本發明之曝光裝置具備本發明之線光源發生裝置。本發明之曝光裝置1用包括基板構造物9、線光源發生裝置2及開閉口之裝置部構成基本構架。用上部結構與下部結構之概念說明曝光裝置之具體構成。

本發明之線光源發生裝置2包括光源4與柱狀透鏡板系統5。該光源對具有預定面積之柱狀透鏡板系統之整體面積均勻地照射光。在具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置中最重要之部份是柱狀透鏡板系統。

本發明之線光源發生裝置有很多種形態。線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統。該柱狀透鏡板系統與該光源不相對移動。線光源發生裝置之最簡單之形態係在相同之集裝箱安裝光源與柱狀透鏡板系統之形態。此時，光源在該集裝箱內進行搖動運動，而柱狀透鏡板系統可在該集裝箱內進行微振動。曝光工作中，線光源發生裝置相對於安裝於曝光裝置之圖案膜進行移動。

將光源與柱狀透鏡板系統安裝在相同之集裝箱內係本發明之線光源發生裝置之普遍構成。還可以將光源和柱狀透鏡板系統不安裝在集裝箱內，而安裝在各種形態之構造物。整個光源與柱狀透鏡板系統朝相同之方向以相同之速度移動係本發明之核心概念之一。光源與柱狀透鏡板系統不能互相移動，適是本發明之核心技術。由於光源與柱狀透鏡板系統朝相同之方向以相同之速度一同移動，因此理所當然當光源為停止狀態時，該柱狀透鏡板系統也為停止狀態。

使用柱狀透鏡板之技術中，有與本發明之線光源發生 裝置之機制不同之立體影像照相機技術。立體影像照相機中，在記錄圖像之底片前面配置凸透鏡板。在攝像立體影像時，打開照相機之快門，開放鏡片，攝影時，底片處於靜止狀態，邊移動被攝體邊記錄多個圖像。作為其他方法有被攝體為靜止狀態，邊使凸透鏡板和底片移動邊記錄多個圖像之方法。該機制與本發明之機制有很大之區別。被攝體對應為光源。

立體影像照相機使用柱狀透鏡板處於靜止狀態，而僅移動光源，或者光源處於靜止狀態，而僅移動柱狀透鏡板之機制。使用柱狀透鏡板記錄立體影像之機制多使用於立體影像之記錄裝置。觀察立體影像可知藉由各凸透鏡板之鏡片在底面記錄多個圖像。意味著對相同之被攝體，光角互不相同之多個圖像在一個柱狀透鏡板間距內被記錄為多個。這利用了在凸透鏡板之各鏡片之間距內記錄光角不同之被攝體之像，從而可以看到立體影像之原理。

在本發明之曝光裝置之工作臺上配置均勻地塗布有感光材料之基板。在準備曝光工作或結束曝光工作時可從該工作臺拆卸該基板。該基板可藉由緊貼裝置緊密固定在工作臺之上部。在該基板上面配置圖案膜或光罩。在準備曝光工作或結束曝光工作時可從該工作臺拆卸該圖案膜或光罩。

該圖案膜或光罩緊貼於基板或從基板隔離。在曝光工作中圖案膜或光罩對該基板不會相對移動。在曝光裝置之曝光工作時，圖案膜或光罩與線光源發生裝置應互相相對移動。即，線光源發生裝置處於靜止狀態時，圖案膜或光罩進行移動，圖案膜或光罩處於靜止狀態時，線光源發生 裝置進行移動。也可以使線光源發生裝置與圖案膜一起移動，此時，應使線光源發生裝置與圖案膜之移動速度不同。

本發明之曝光裝置中，線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統配置於線光源發生裝置之下部。配置於線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統優選具有預定距離以防與圖案膜或光罩的移動而發生摩擦。為正確之曝光工作，其距離越小越好。

該相對移動可藉由各種傳送裝置3實現。本發明之曝光裝置中，為使該線光源發生裝置移動，使用馬達及軌道，或者使用齒條及小齒輪結構，或者使用LM引導件等各種形態。請參照第1圖，還可以利用滑動棒藉由馬達驅動進行移動。

本發明之曝光裝置之曝光工作中，還可以構成為線光源發生裝置處於靜止狀態，而移動配置於線光源發生裝置之下部之基板構造物9。本發明中，基板構造物係配置於線光源發生裝置之下部構造物之總稱。在基板構造物可以包括工作臺、工作臺傳送裝置、真空壓發生裝置以及冷卻裝置等。塗布有感光材料之基板可拆卸地配置在工作臺上，該基板與基板構造物獨立構成。

將基板安裝在工作臺上時，還可以設置將該基板藉由真空壓緊貼在工作臺上之緊貼裝置。移動曝光裝置之工作臺之工作臺傳送裝置可以構成為各種形態。適些裝置皆包含於該基板構造物。在圖案膜6或光罩之下部，基板可拆卸地安裝在曝光裝置之工作臺。在該基板8均勻地塗布有感光層7。圖案膜或光罩緊貼於基板或從基板隔離。在曝光工作中，該圖案膜或光罩相對於該基板不許移動。

在基板上面之感光層塗布有透明之保護膜以保護感光材料。使用本發明之曝光裝置進行曝光工作時，以黏貼有透明之保護膜之狀態進行曝光工作，或去除透明之保護膜之狀態進行曝光工作。黏貼有透明之保護膜之狀態進行曝光工作時，具有保護感光層之優點，去除透明之保護膜之狀態進行曝光工作時，具有可以精密地曝光之優點。

剝離透明之保護膜之狀態進行曝光時，圖案膜或光罩不許損傷感光層。為此，第一、將該圖案膜或光罩從感光層隔離預定距離進行曝光工作，第二、在該圖案膜或光罩之表面增加異型性，然後緊貼在感光層進行曝光工作。

若在感光層黏貼保護膜之狀態下進行曝光工作，則不會損傷感光材料。理論上最為正確之曝光方法係在剝離感光層之保護膜之狀態下，使圖案膜或光罩緊貼在感光層後進行曝光工作。第二、在黏貼感光層之保護膜之狀態下，使圖案膜或光罩緊貼在感光層，然後進行曝光工作。第三、在剝離感光層之保護膜之狀態下，將圖案膜或光罩從該感光層隔離進行曝光工作。第四、在黏貼感光層之保護膜之狀態下，將圖案膜或光罩從感光層隔離進行曝光工作。

黏貼保護膜之狀態下進行曝光工作，雖有利於不損壞感光層，但由於透明之保護膜會受到光折射、干擾及擴散等影響。本發明之曝光裝置可以製造為可適當對應現場之曝光條件及狀態之結構。

藉由本發明之線光源發生裝置2向圖案膜6照射光，則圖案膜之透明部透射光線，而不透明部切斷光線。藉由本發明之線光源發生裝置2收集之光透過圖案膜6之透明部使感光層硬化。若將藉由本發明之線光源發生裝置形成 之線光源之光照射至圖案膜，則按照圖案膜之圖案使感光材料曝光。曝光工作後，將感光材料之沒有被曝光之部份，即將沒有硬化之部份用化學方法去除，而在平板8形成由曝光部而成之圖案。

本發明之曝光裝置中，基板可拆卸地安裝於曝光裝置之工作臺上。在進行曝光工作時，優選將基板緊貼於工作臺上。為此，在工作臺之上部形成微孔，藉由該微孔用真空壓將基板緊密固定於工作臺上。為方便說明，將均勻地塗布有感光材料之板稱之為基板，並將平平地展開該基板之狀態稱之為平板。圖案膜或光罩可拆卸地配置在線光源發生裝置之下部及基板之上部。

利用本發明之曝光裝置進行曝光工作之狀態下，圖案膜不許相對於基板進行移動，也不許有滑動。均勻地塗布有感光材料之基板可以具有各種形態。還有在未經變形之硬基板塗布很薄的感光材料之形態。用柔性基板卷繞之狀態下可以連續進行曝光工作。

本發明之曝光裝置中，在曝光裝置之兩側或一側形成有可以卷繞柔性基板之滾筒。從而可以連續進行曝光工作。

本發明之線光源發生裝置，除包括光源柱狀透鏡板系統外，還可以包括執行其他功能之構成元件。本發明之線光源發生裝置中，即便包括其他構成元件，只要具備線光源發生裝置之核心要素之所謂光源4與配置於光源下部之柱狀透鏡板系統5，則皆屬於本發明之線光源發生裝置。

用於本發明之柱狀透鏡板系統有以下形態。第一、由一個柱狀透鏡板構成之形態；第二、層疊多個柱狀透鏡板之形態。由一個柱狀透鏡板構成之柱狀透鏡板系統係使用 一個凸透鏡板或者使用一個凹透鏡板。層疊多個柱狀透鏡板之柱狀透鏡板系統有層疊彼此相同之透鏡板之形態、或適當組合排列不同種類之透鏡板而進行層疊之形態。層疊彼此相同之透鏡板之形態有層疊凸透鏡板之形態和層疊凹透鏡板之形態，層疊不同種類之透鏡板之形態有以適當之順序排列一個以上凸透鏡板與一個以上凹透鏡板之形態。

在本發明之柱狀透鏡板系統之柱狀透鏡板之至少一部份優選包括垂直光柱狀透鏡板。垂直光柱狀透鏡板包括垂直光凸透鏡板或垂直光凹透鏡板。柱狀透鏡板之層疊組合或排列順序可根據情況進行設計，因此能以各種形態適用。層疊凸透鏡板或凹透鏡板時，可以層疊各柱狀透鏡板之正面、或也可以層疊相反面。

本發明之柱狀透鏡板系統中，一般在最上部配置凸透鏡板，但也可以配置凹透鏡板。在該凸透鏡板之下部層疊凹透鏡。該凹透鏡板之數量至少為一個以上。將收集之來自線光源之光分為更多光時，增加凹透鏡板之數量即可。

製造具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置時，線光源發生裝置配置於圖案膜或光罩之上部。為連續進行曝光工作，將該線光源發生裝置配置成與圖案膜或光罩隔開預定距離以無摩擦地進行相對移動。

第2圖係一般之凸透鏡板之示意圖。如第2圖所示，凸透鏡板10係連續連接具有凸起部之柱子之形狀。凸透鏡板係朝側面連續連接多個凸透鏡板鏡片11而成。各凸透鏡板鏡片呈長柱形狀。

凸透鏡板係多個凸透鏡板鏡片朝側面連接而成之形狀。各凸透鏡鏡片係於一側表面形成平面，於另一側表面 形成凸起部之柱子形態。藉由凸透鏡板之各凸透鏡，光源之光彙聚成線形。該凸透鏡板常使用於記錄或再生立體圖像。

第3圖係藉由凸透鏡板彙聚來自光源之光之狀態之示意圖。各凸透鏡板鏡片13、14彙聚光源12之光。在凸透鏡板之下部緊貼感光層之後照射光，則被彙聚之光以線形曝光感光層15。被彙聚之光形成曝光部16。在感光層出現線形曝光部和非曝光部。

請參照附圖，若向凸透鏡板照射光源12之光，則光朝向各凸透鏡板鏡片13、14彙聚。當改變透鏡之曲率時，鏡片之焦點距離變化。此時，藉由調整凸透鏡板之焦點距離，可以調整彙聚在感光材料15之光。利用該特徵，可以調整鏡片之集光能力。藉由該彙聚之光在感光層15形成曝光部16。

第4圖係在凸透鏡板之各鏡片之中央部產生之垂直光之狀態之示意圖。凸透鏡板藉由各鏡片之曲面折射來自上部之光並向焦點聚集。此時，照射到各凸透鏡板鏡片之正中央附近之光產生微細之折射作用。即，以折射非常小之狀態下，朝下部垂直照射。從凸透鏡板鏡片之各正中央部離得越遠，光之折射越多，並彙聚在焦點。藉由該折射作用產生集光現象。自各鏡片之正中央離得越遠，折射角度越大。

在凸透鏡板，以光之折射作用非常微細之狀態下朝下部大致垂直地照射之部分定義為垂直光區域。垂直光區域對應於凸透鏡板之各鏡片之中央部附近區域。

取凸透鏡板之各鏡片之中央部附近之區域構成凸透鏡 板之定義為垂直光凸透鏡板。光在垂直光凸透鏡板也幾乎垂直照射到下部。但係，並不係完全沒有折射作用之狀態。由於在垂直光凸透鏡板也有折射作用，因此可以執行集光功能。垂直光凸透鏡板與一般之凸透鏡板相比，可以表現為光幾乎朝垂直方向照射。本發明中，垂直光凸透鏡板係雖有折射作用，但其折射作用非常小。

本發明中，為說明上之方便，垂直光凸透鏡板僅切斷凸透鏡板之各鏡片中央附近之區域，並僅連接適些而製作凸透鏡板。垂直光凸透鏡板，其功能係彙聚來自光源之光並傳遞到下部，此時幾乎垂直地傳遞。本發明中，凸透鏡板鏡片之中央部區域係並不只係指凸透鏡板鏡片之正中央部分。包括以正中央部位中心之左右小範圍區域18。

凸透鏡板鏡片之正中央附近之預定範圍區域18彙聚來自光源17之光，幾乎垂直地傳遞到下部。在凸透鏡板鏡片之正中央附近之預定範圍區域18折射作用變得最小。照射到該區域之光被聚集後垂直往下照射。

本發明中，將藉由凸透鏡板鏡片之正中央附近之區域，幾乎朝垂直方向彙聚而照射之光定義為垂直光。本發明中將凸透鏡板鏡片之區域定義為垂直光區域18，凸透鏡板鏡片之區域使光幾乎朝垂直方向聚集而往下照射。凸透鏡板鏡片之正中央附近之預定範圍成為垂直光區域。垂直光凸透鏡板也為發明之保護對象。

本發明中，垂直光意味著大致垂直。垂直光柱狀透鏡板係使用於本發明之線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統之代表例。本發明之曝光裝置中可以使用多種形態之凸透鏡板，但垂直光柱狀透鏡板之效果最好。本發明之曝光裝置 中除該垂直光柱狀透鏡板之外還可以使用多種形態之柱狀透鏡板。

若想得到線幅微細之線光源，則所使用之柱狀透鏡板之間距必須為微細。作為一實施例，將垂直光凸透鏡之間距形成為20微米時，線光源之線幅為3微米。利用該柱狀透鏡板系統構成間距為20微米之微電路。可知在柱狀透鏡板中，根據柱狀透鏡板之間距之大小以及焦距，線光源發生裝置之效率發生變化。具有超微細間距之垂直光柱狀透鏡板可藉由各種方法來製成。以下，說明製造垂直光柱狀透鏡板之各種方法。

藉由車刀(bite)或激光加工僅製作一個凸透鏡板鏡片之正中央部附近之區域形狀之後，複製其可連續製作。垂直光柱狀透鏡板之間距顯著小於一般之凸透鏡板之間距。適係因為只取凸透鏡板鏡片之正中央附近之區域構成凸透鏡板。只有在垂直光柱狀透鏡板之間距為數十微米以下時才能加工間距為數微米尺寸之電路基板。

第5圖係本發明之垂直光柱狀透鏡板之結構之說明圖。本發明中，垂直光柱狀透鏡板可藉由各種形態之實施例構成。第5圖係僅連接各凸透鏡板鏡片之垂直光區域21製成。適係本發明之垂直光柱狀透鏡板之代表形態。位於上部之光源之光透過本發明之垂直光柱狀透鏡板以被集光之形態大致朝垂直方向照射到下部。

第6圖係在凸透鏡板形成鏡片屏蔽物而實現垂直光之垂直光柱狀透鏡板之說明圖。該圖係本發明之垂直光柱狀透鏡板之一實施例。在各凸透鏡板鏡片中，在除垂直光區域25之外部份填充不透明屏蔽物24，從而屏蔽光線透過。 該柱狀透鏡板鏡片係藉由在除垂直光區域以外之部份填充不透明屏蔽物之方法來構成垂直光柱狀透鏡板。在垂直光柱狀透鏡板之下部形成感光材料，並藉由將光線僅照射在柱狀透鏡板鏡片之垂直光區域25來形成曝光部26。

第7圖係說明在凸透鏡板形成有光透過狹縫之垂直光柱狀透鏡板之說明圖。本實施例中，在凸透鏡板之下部形成光透過狹縫。該光透過狹縫形成在各凸透鏡板鏡片29之正中央部之下部。光透過狹縫被形成為將光線僅透過凸透鏡板鏡片29之正中央下部之區域。該光透過狹縫係在不透明板沿各柱狀透鏡板鏡片之長度方向形成長長之凹槽而可以製造。

光透過狹縫由薄膜而成，在該薄膜形成透明部以使光線僅透過凸透鏡板鏡片29之正中央下部之區域。透過凸透鏡板之各鏡片29而被收集之光照射到下部時，只允許透過光透過狹縫之光線照射至下部。在光透過狹縫之下部配置感光層時，被收集之光照射於感光層而形成曝光部33。光透過狹縫藉由狹縫支撐體33支撐。

作為本發明之垂直光柱狀透鏡板之其他另一實施例，在柱狀透鏡板同時形成第6圖之屏蔽物與第7圖之光透過狹縫。本發明中，只要柱狀透鏡板之一部份能夠形成垂直光，則將該柱狀透鏡板稱之為垂直光柱狀透鏡板。通常，柱狀透鏡板係連接多個柱狀透鏡板鏡片而成。各柱狀透鏡板鏡片朝鏡片之長度方向具有相同之截面。本發明中，只要柱狀透鏡板鏡片之數量為一個以上，則稱之為柱狀透鏡板。所以，柱狀透鏡板鏡片之數量為一個之柱狀透鏡板也屬於本發明。

柱狀透鏡板鏡片之數量越多越容易曝光。即，柱狀透鏡板鏡片之數量越多，曝光時間越短。本發明實施例中，藉由使用菲涅爾鏡片而更有效地利用光。適也應屬於本發明之實施例。

本發明之使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置之概念非常重要。本發明之線光源發生裝置必須使用柱狀透鏡板。本發明之線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統。該光源與該柱狀透鏡板系統安裝於一個集裝箱內，適是代表性的實施形態。

本發明中，光源包括LED光源，可以使用各種形態之光源。該光源優選均勻地照射在整個面積。為實現分佈均勻之光線，本發明中，在與柱狀透鏡板系統平行之平面內使該光源朝前後及/或左右方向進行搖動運動。為調整光強度，藉由上下移動光源來調整對柱狀透鏡板系統之距離。作為調整距離之方法可以使用螺栓或其他各種方法。並且，在該柱狀透鏡板系統設置振動手段，從而可以施加微振動。

本發明之柱狀透鏡板系統可包括一個以上凸透鏡板，或可包括一個以上凹透鏡板，或者可同時包括一個以上凸透鏡板與一個以上凹透鏡板。該柱狀透鏡板系統優選包括一個以上垂直光柱狀透鏡板。本發明中，優選為將構成該柱狀透鏡板系統之所有柱狀透鏡板由垂直光柱狀透鏡板構成之形態。在此，垂直光柱狀透鏡板包括垂直光凸透鏡板或垂直光凹透鏡板。

該柱狀透鏡板系統可以包括一個以上形成有不透明屏蔽物之凸透鏡板。該柱狀透鏡板系統可以包括一個以上形 成有光透過狹縫之柱狀透鏡板。該柱狀透鏡板系統可以包括一個以上形成有遮光部之柱狀透鏡板。

本發明之線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統，該光源與該柱狀透鏡板系統互不相移動，而是被固定之形態。作為其他實施例，該線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統，該光源與該柱狀透鏡板系統安裝於相同之線光源集裝箱內。

本發明之柱狀透鏡板系統僅由一個凸透鏡板構成時，在柱狀透鏡板系統之下部形成與柱狀透鏡板鏡片相同數量之線形。即，僅使用一個凸透鏡板時，對應柱狀透鏡板鏡片之數量形成線光源之線。

以下，說明定義線光源發生裝置之大小之術語。將線光源發生裝置之大小與柱狀透鏡板系統之大小相比較進行說明。在柱狀透鏡板系統中，將柱狀透鏡板鏡片之長度方向之大小定義為柱狀透鏡板系統之長度，並將其定義為線光源發生裝置之長度。相對於柱狀透鏡板鏡片之長度直角，柱狀透鏡板系統之大小定義為柱狀透鏡板系統之幅度，並將其定義為線光源發生裝置之幅度。進行曝光工作時，線光源發生裝置朝柱狀透鏡板鏡片之幅度方向，即朝線光源發生裝置之幅度方向相對移動。

為利用本發明之曝光裝置進行大面積曝光工作，線光源發生裝置之長度必須長，並朝線光源發生裝置之幅度方向之傳送距離必須長。由於可以朝線光源發生裝置之幅度方向進行傳送工作，因此即便線光源發生裝置之幅度小也能進行大面積曝光。本發明之線光源發生裝置之長度，即柱狀透鏡板鏡片之長度方向之大小係在製造柱狀透鏡板時 可以製造成任意長度。所以，本發明可以進行大面積曝光工作。

以下，說明對本發明之線光源發生裝置之大小之實施例。當所要曝光之基板之規格為橫1m、縱2m時，線光源發生裝置之幅度大致為10cm左右，線光源發生裝置之長度稍微大於1m。此時，傳送距離需要200m以上。

在曝光工作中，必須使本發明之線光源發生裝置相對於圖案膜移動。本發明之曝光裝置中，柱狀透鏡板系統配置在線光源發生裝置之最底部，配置於圖案膜或光罩之上部。為了使圖案膜或光罩與線光源發生裝置能夠在無摩擦狀態下移動，優選將該圖案膜或光罩與該線光源發生裝置隔開預定距離。

在曝光工作中，藉由本發明之線光源發生裝置與圖案膜或光罩之相對移動，可以形成大面積曝光部。本發明之相對移動可藉由各種方法來實現。作為具體實施例，說明使線光源發生裝置移動，而圖案膜與曝光裝置之工作臺一起固定之情況。在線光源發生裝置形成軌道及驅動部，驅動部由具有驅動齒輪之驅動電機而成，在軌道部可以形成與驅動齒輪嚙合之齒條齒輪。

本發明之線光源發生裝置使用柱狀透鏡板之集光功能。本發明之曝光裝置中，最大限度地使用垂直光凸透鏡板之集光功能，此時，即便感光層之厚度為數十微米以上，且被曝光之電路幅度之間距為數微米，也能很乾淨地曝光。由於可以乾淨地曝光，因此沒有不良且可以構成鮮明之電路。尤其，在本發明之線光源發生裝置使用垂直光柱狀透鏡板時，來自線光源發生裝置之垂直光可以防止光之 散射、折射及反射作用。

本發明之使用柱狀透鏡板之線光源發生裝置作為基本要素包括光源與柱狀透鏡板系統。該柱狀透鏡板系統之形態大致分為兩種。第一係由一個凸透鏡板構成之形態，第二係層疊多個柱狀透鏡板之柱狀透鏡板層疊體形態。柱狀透鏡板層疊體係適當組合凸透鏡板或凹透鏡板排列而成。作為柱狀透鏡板系統之代表例可舉在凸透鏡板之下部層疊一個以上凹透鏡板之例。作為柱狀透鏡板系統之形態有僅層疊一個以上凹透鏡板之形態，並存在其他各種層疊形態。

本發明中作為柱狀透鏡板系統使用層疊凸透鏡板與凹透鏡板之層疊體，在曝光工作中可以曝光間距更微細之電路。若使用被層疊之柱狀透鏡板，可以製成線光源之線幅為數十奈米單位之線光源。若在底片照射線幅為數十奈米之線光源，則可以進行電路幅度為數微米之曝光工作。

以下，簡單說明凸透鏡板與凹透鏡板。柱狀透鏡板由透明材料而製成。一面形成為平面，另一面形成為凸透鏡或凹透鏡。該凹透鏡或凸透鏡以柱子形態連續排列而成。凹透鏡板係由透明材料而製成，一面形成為平面，另一面係柱子形態連續排列凹透鏡而成。

第8圖係凹透鏡板之立體圖。凸透鏡板係凸透鏡之柱子連續連接而成，凹透鏡板34係凹透鏡之柱子連續連接而成。藉由凸透鏡板收集光，藉由凹透鏡板將光線被分割為多個。本發明之柱狀透鏡板系統可以構成為排列一個以上凸透鏡板，或者排列一個以上凹透鏡板，或者層疊一個以上凸透鏡板與一個以上凹透鏡板構成之層疊體。

可由一個凸透鏡板構成本發明之柱狀透鏡板系統。本 發明之柱狀透鏡板系統係以各種順序層疊凸透鏡板與凹透鏡板而成，可根據其層疊順序與方法獲得不同之效果。柱狀透鏡板之層疊順序對曝光裝置之性能帶來很大之影響，因此應根據情況進行設計。

第9a、9b、9c圖係柱狀透鏡板系統之實施例。第9a圖係在凸透鏡板之下部層疊凹透鏡板。凸透鏡板鏡片做凸透鏡之功能，凹透鏡板鏡片做凹透鏡之功能。凹透鏡板中將凹陷部份之中央部稱之為凹鈎。

第9b圖係在凸透鏡板37之下部層疊4個凹透鏡板38、39、40、41。倒轉凹透鏡板排列時能獲得其他不同效果。藉由在最上部層疊凹透鏡板、在最下部層疊凸透鏡板之形態變化，可以改變柱狀透鏡板系統之性能。

第9c圖係在凸透鏡板之下部配置凹透鏡板，在該凹透鏡板43之下部配置凸透鏡板44之實施例。

以下，說明藉由凸透鏡板收集之光藉由凹透鏡板分割之形態。凹透鏡板具有分割線光源之光線之分割作用。在上部配置凸透鏡板，在下部層疊凹透鏡板時，來自光源之光以與凸透鏡板之鏡片相同數量之光線傳遞到凹透鏡板。該光線藉由下部之凹透鏡板之鏡片分割。

與凸透鏡板之鏡片相同數量之光線藉由位於下部之凹透鏡板被分割為更多數量之光線。線光源藉由凹透鏡板分割為更多數量之線光源。同時線光源之線幅變更細。線幅變細之線光源所受之折射與干擾很少，並透過圖案膜。

適意味著可以使基板之曝光層更微細地曝光。藉由層疊之柱狀透鏡板收集及分割之光，第一、線光源之線幅變細，第二、線光源之數量增加。本發明中使用藉由柱狀透 鏡板系統收集或分割之光，因此可以更加微細地進行曝光工作。本發明中，藉由柱狀透鏡板系統製成之線光源可以製成線幅為數十奈米至數百奈米之光線。

第10圖係具備遮光部之垂直光凸透鏡板之構造圖。本發明中，藉由層疊之柱狀透鏡板系統能夠製成數十奈米至數百奈米之線光源。但此時，透過柱狀透鏡板系統之相鄰之線光源之間隔過於窄。線光源過於密集會導致不理想之現象。相鄰之光線之間隔過於窄，則會成為一個塊體。

因此，在線光源透過圖案膜時會產生光之干擾及折射，從而不能正確地進行曝光工作。為防止相鄰之線光源互相結合，如第10圖所示，在凸透鏡板46之間設置用於切斷光線之遮光部47。

本發明中不論是凸透鏡板或凹透鏡板，在鏡片與相鄰之鏡片之間設置遮光部來防止光線進入。如此在柱狀透鏡板形成防止光線透射之區域，本發明中定義為遮光部。該遮光部在鏡片與鏡片之間形成平面部，並用印刷方法印刷成不透明部，或者在鏡片與鏡片之間形成平面部，在該平面部黏貼形成不透明部之圖案膜。本發明中，將適些柱狀透鏡板定義為具備遮光部之柱狀透鏡板45。

第11圖係具備遮光部之凹透鏡板之構造圖。對應於具備遮光部之凸透鏡板。具備遮光部50之凹透鏡板49中，在凹陷部51與凹陷部之間配置遮光部50。

第12圖係具備遮光部之柱狀透鏡板系統之其它另一實施例。層疊具備遮光部之凸透鏡板53與具備遮光部之凹透鏡板54、55、56而構成具備遮光部之柱狀透鏡板系統。

第13圖係層疊具備遮光部之凸透鏡板57、59、61與 具備遮光部之凹透鏡板58、60而構成具備遮光部之其他另一柱狀透鏡板系統。該構成具有將在柱狀透鏡板系統發生之線光源與線光源之間隔開之優點。具備遮光部之柱狀透鏡板系統，可以組合具備遮光部之凸透鏡板及/或具備遮光部之凹透鏡板而構成各種形態。

本發明有關於使用於線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統。本發明之柱狀透鏡板系統由一個凸透鏡板構成或由柱狀透鏡板層疊體構成。柱狀透鏡板層疊體時，包括一個以上凸透鏡板或包括一個以上凹透鏡板或包括一個以上凸透鏡板與一個以上凹透鏡板而構成層疊體。

本發明之柱狀透鏡板系統還可以包括振動手段。本發明之柱狀透鏡板系統之一部份可以包括垂直光柱狀透鏡板。作為垂直光透鏡板之種類有垂直光凸透鏡板與垂直光凹透鏡板，作為垂直光柱狀透鏡板之實施例，可舉柱狀透鏡板包括屏蔽物或光透過狹縫或遮光部之例。

本發明中，柱狀透鏡板系統需保持平坦度。為將柱狀透鏡板保持為平面，可由玻璃板等透明板支撐。由於柱狀透鏡板系統很薄，因此很容易彎曲。為保持平坦度之透明板優選使用玻璃板。為保持平面，在柱狀透鏡板系統之上部或下部或上下部配置透明板。

該柱狀透鏡板系統為層疊體時，柱狀透鏡板互不相移動。為此優選焊接成整體。並不是在柱狀透鏡板之整體面進行焊接，而是在柱狀透鏡板之邊緣部進行焊接。該焊接可藉由各種方法進行。作為代表例有超聲波接合或UV樹脂接合。形成該焊接部時優選在真空狀態進行以防在柱狀透鏡板與柱狀透鏡板之層疊部產生縫隙。

以下，進一步說明曝光裝置，該曝光裝置具備使用柱狀透鏡板之本發明之線光源發生裝置。

具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置使用柱狀透鏡板，適是本發明之特徵。該線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統，該光源與柱狀透鏡板系統係同步結構，即整體上朝相同之方向以相同之速度移動。

同步結構係指光源與柱狀透鏡板系統朝相同之方向移動，同時兩者整體上以相同之速度移動。最為代表性的方法有在一個集裝箱內安裝光源與柱狀透鏡板系統，該集裝箱被密封或開放之構造物製成。此時，光源與柱狀透鏡板系統整體上朝相同之方向以相同之速度移動。移動方向係對於柱狀透鏡板鏡片之長度方向呈直角。

光源之搖動運動並不是絕對不影響光源之速度，而是使光源之搖動速度比光源之移動速度快，從而不影響整個光源之速度。即，為曝光工作而傳送光源與柱狀透鏡板系統時，該光源之傳送速度並不受搖動之影響，該光源與柱狀透鏡板系統相同之速度移動。

本發明之線光源發生裝置中，在柱狀透鏡板系統設置振動手段而可以施加微振動。嚴格地說，具備搖動之光源或振動之柱狀透鏡板系統時，各部份並不是以相同之速度移動。為方便說明，定義為整體上以相同之速度移動。

為方便說明，本發明中用同步結構之術語表現。作為代表例，在具備本發明之線光源發生裝置之曝光裝置中，光源與柱狀透鏡板系統被固定在相同之集裝箱內，互不相移動，以相同之速度移動。此時，光源不搖動，柱狀透鏡板系統也沒有振動，係成一體移動。

本發明中，光源之性質非常重要。在平板黏貼多個LED等發光體而製作光源時，嚴格地說，整個面積之光強度並不均勻。LED光源與相鄰之LED之間形成有間隔，由於此間隔不能使整個面積之光強度均勻。但是，儘管如此，藉由將該光源朝橫向及/或縱向搖動在與柱狀透鏡板所成之平面相同之平面上，而努力在整個面積得到均勻之光分佈。為確保光源之均勻度，需要在短時間內反覆搖動。光源可以朝任意方向搖動，重要的是短時間內反覆移動。

光強度在曝光裝置中起非常重要之作用，為調整光強度，最為代表性的方法是調整耗電量。作為附加方法，為調整光強度，在本發明之線光源發生裝置中提出了調整光源與柱狀透鏡板系統之相互間之距離之方法。儘管耗電量相同，光源與柱狀透鏡板系統之距離越近，越能照射更強之光。

為調整光強度，可以將該光源對於該柱狀透鏡板系統遠離或靠近來調整距離。光源與柱狀透鏡板系統安裝在相同之集裝箱內時，柱狀透鏡板系統位於該集裝箱之最下端面。在集裝箱內，將光源朝柱狀透鏡板系統側移動而光源靠近時能夠得到很強的光強度。為構成調整光源與柱狀透鏡板系統之距離之裝置，可以適用各種形態之直線傳送裝置。

光源與柱狀透鏡板系統安裝在相同之集裝箱內時，將光源與柱狀透鏡板系統固定在該集裝箱內以防光源與柱狀透鏡板系統移動，還可以使該光源與柱狀透鏡板系統互相不能相對移動。此時，僅藉由調整所使用之電源才能控制光線之強度。此時，沒有光源之搖動作用或柱狀透鏡板系 統之振動作用。光源與柱狀透鏡板系統互相不能相對移動地構成之曝光裝置也屬於本發明之曝光裝置之一實施例。

光源與柱狀透鏡板系統安裝在相同之集裝箱內時，構成為將該集裝箱本身可相對於本發明之曝光裝置之工作臺朝上下方向移動。藉由該集裝箱之上下運動，能夠在工作臺上進行用於曝光工作之準備工作。

本發明之曝光裝置中，藉由冷卻裝置冷卻由於光源而產生之熱，也可以將冷卻空氣或冷卻水強制循環在集裝箱內部，從而可以進行冷卻。此時，為製造冷卻空氣或冷卻水之機械裝置可以安裝於線光源發生裝置之內部或外部，也可以設置於曝光裝置之工作臺之下面。

本發明之曝光裝置中，圖案膜或光罩位於柱狀透鏡板系統之下部。進行曝光工作時，柱狀透鏡板系統配置於從該圖案膜或光罩隔開預定距離之位置。在彼此相對移動時，該間隔減少摩擦，從而能夠順利傳送。柱狀透鏡板系統與圖案膜或光罩之間之間隔越小越好。在該圖案膜或光罩之下部配置形成有感光層之基板。該基板緊貼於該圖案膜或光罩或從該圖案或光罩隔開預定距離。將該基板從該圖案膜或光罩隔開時，不能排除光折射、干擾等副作用。

因此，為進行精密之曝光工作，優選使該基板與該圖案膜或光罩緊貼。但是，該圖案膜或光罩與感光層緊貼時，由於該圖案膜或光罩接觸於感光層，因此會損壞感光層。所以，應將該圖案膜或光罩與感光層互相隔開預定間隔。但是，互相隔開時，隔開間隔越小越好，以減少光折射及干擾。

為進行正確之曝光工作必須使感光層與圖案膜或光罩 緊貼。緊貼後進行曝光工作時，由於光線直接傳到感光層，因此會顯著減少光折射或干擾等副作用。根據曝光工作之精密度適當選擇隔開或緊貼。

在本發明之柱狀透鏡板系統，通常在柱狀透鏡板系統之最上部層配置凸透鏡板，但是，根據情況還可以配置凹透鏡板。根據各曝光裝置所要求之特性，各改變柱狀透鏡板之種類及層疊形態。為構成高效率之曝光裝置，優選包括一個以上垂直光柱狀透鏡板。本發明之曝光裝置之柱狀透鏡板系統包括形成有不透明屏蔽物之柱狀透鏡板或者形成有光透過狹縫之柱狀透鏡板或者形成有遮光部之柱狀透鏡板。

第14圖係說明本發明之曝光裝置之上部及下部結構之概念之說明圖。從本發明之曝光裝置之側面進行附加說明。上部結構，包括：藉由彈性體73圍繞之擠壓輥74、線光源發生裝置75。進一步可具備輔助輥62、64、65。擠壓輥74與線光源發生裝置75互相連動移動。

擠壓輥配置在線光源發生裝置之前方部，執行將圖案膜63緊貼於基板70之工作。藉此，在圖案膜與基板緊貼之狀態下，用來自線光源發生裝置之線光源進行曝光工作。下部結構包括配置基板70之工作臺69、以及將基板緊貼於該工作臺上之緊貼手段68。該曝光裝置設計成工作臺與上部結構係被固定，在進行曝光工作時，基板與圖案膜進行移動。

在曝光裝置之工作臺69可拆卸地配置均勻地塗布有感光層72之基板70。在該基板之上面配置圖案膜62。在進行曝光工作時，具備線光源發生裝置之上部結構應相對於 圖案膜進行移動。在圖案膜與下部結構之工作臺成一體移動時，在上部結構與下部結構之任意部份應具備傳送裝置。

並，在上部結構或下部結構中之一部份形成有冷卻裝置用於冷卻在線光源發生裝置之光源產生之熱。在冷卻裝置發生之冷卻空氣或冷卻水冷卻於線光源發生裝置發生之熱。圖案膜藉由擠壓輥被擠壓於基板。

基板藉由緊貼手段緊貼於工作臺。該緊貼手段係在工作臺形成微孔，藉由該微孔用真空泵之真空壓力將基板緊貼於工作臺上。為能準備曝光工作，上部結構可相對於工作臺朝上下方向移動。在準備曝光工作之工程，需要將上部結構從工作臺朝上方移動。

本發明之曝光裝置中，圖案膜之形態多種多樣。一般多使用單獨形成之片狀圖案膜。作為其他形態，還可以製成為圖案膜之開始端與末端部連接之履帶形態。該履帶方式有利於大量生產。構成該履帶之圖案膜之情況，線光源發生裝置位於該圖案膜之內部。

不使用履帶之圖案膜時，該上部結構在初期位置進行曝光工作之後，從下部結構隔開之狀態進行移動，然後再回到初期位置，以此方式反覆進行曝光工作。

在本發明之曝光裝置之工作臺之兩側端部或一側端部形成有卷繞柔性基板之卷筒結構。基板為非導電性基板時，為在基板70設置導電層71，首先用導電金屬包薄薄地濺射處理表面，根據情況，在該濺射層上面再進行電鍍而增加導電層71之厚度。

在曝光工作時，曝光裝置之線光源發生裝置與圖案膜應互相相對移動。圖案膜係與下部結構連接而可以移動。 此時，若固定上部結構，則下部結構可以相對移動，若固定下部結構，則上部結構可以相對移動。形成有圖案之圖案膜63可由履帶構成。該圖案膜藉由擠壓輥74緊貼於基板。即，圖案膜擠壓於塗布有感光材料72之基板70，該圖案膜與塗布於該基板之感光層藉由該擠壓輥相接觸，互相不滑動。可以藉由緊貼手段緊貼基板與工作臺。

圖案膜為履帶形態時，線光源發生裝置75位於該履帶53之內部。將上部結構構成為可相對下部結構朝上下方向移動，以便能進行交換基板等曝光準備工作。基板70多使用均勻地塗布有感光層72之柔性基板。若使用柔性基板，則在工作臺69之兩側卷筒卷繞柔性基板即可連續進行曝光工作。

若將圖案膜形成為無線軌道形態，則可以連續工作。作為基板使用在聚醯亞胺膜70上形成導電金屬層71，並在該金屬層上面均勻地塗布感光材料72之基板。圖案膜不係無線軌道形態之情況，若在預定範圍內進行了曝光工作，則應將上部結構再移動到初期位置。為說明該結構，將開始曝光裝置之位置稱之為初期位置。此處構成在預定範圍內進行了曝光工作之後，將上部結構移動到從下部結構隔開之狀態，並回到初期位置之裝置。

第15圖係進一步說明第14圖之說明圖。形成為履帶之圖案膜由透明部87與不透明部76構成。在該履帶內部配置線光源發生裝置86。

上部結構包括受彈性體83之支撐之擠壓輥84、一個以上輔助輥77、78、79以及線光源發生裝置86。下部結構包括工作臺與將基板緊貼於該工作臺之緊貼手段。構成線光 源發生裝置之光源與柱狀透鏡板系統藉由支撐架85堅固地一體結合。基板80用感光材料81被均勻地塗布。

第16圖係本發明之線光源發生裝置之實施例之說明圖。本實施例中，構成線光源發生裝置91之光源88與柱狀透鏡板系統89安裝於集裝箱內。該光源在集裝箱內進行搖動，或可上下移動。

在集裝箱內部可以形成使光源搖動之搖動結構或使柱狀透鏡板系統微振動之振動結構。該結構為公知之設備，因此省略對此之詳細說明。在集裝箱之內部可以設置用於冷卻在光源發生之熱之冷卻裝置等各種附加設備。

在集裝箱內部可以形成使光源裝置朝上下方向移動之裝置。在本發明中，將柱狀透鏡板系統配置在集裝箱之底部。為調整光強度，可在集裝箱之內部調整光源與柱狀透鏡板系統之距離。

藉由調整光源與柱狀透鏡板系統之距離，可以調整照射到圖案膜或光罩之光強度。

第17圖係對上部結構之其他另一實施例。上部結構包括用彈性體圍繞之擠壓輥97、一個以上輔助輥100、101、102、103及線光源發生裝置98。藉由擠壓輥與線光源發生裝置互相連動移動，相對於工作臺朝上下方向移動，從而可以準備曝光工作。並且，使擠壓輥與線光源發生裝置朝左右方向移動，從而可以進行大面積曝光工作。或者，停止擠壓輥與線光源發生裝置，而使圖案膜與基板朝左右方向移動，從而可以進行大面積曝光工作。

本實施例中，在初期位置執行曝光工作之後，上部結構以從下部結構隔開之狀態回到初期位置，以此方式反覆 進行工作。在基板93之上部濺射金屬層以賦予導電性，在該濺射金屬層上面用銅等金屬形成薄的電鍍層92之後，在該薄的電鍍層上面形成薄的感光層。

本發明之曝光裝置係光源安裝在集裝箱內之形態。但是，本發明所使用之光源並不僅限於安裝於集裝箱內之形態。例如，有光源之光線照亮整個曝光裝置之工作臺之情況。還有光源之光線均勻地照亮進行曝光裝置之工作室之情況。本發明不管光源形態，只要光源之光線僅透過柱狀透鏡板系統傳到感光層，皆屬於本發明。

在本發明之曝光裝置進行曝光工作之際，光線透過柱狀透鏡板系統之外之部份時無法傳遞到感光層。適用於本發明之曝光裝置之所有光源。如上所述，當光源照亮工作臺之整個面積時或整個工作室時，不需移動光源。在進行曝光工作時，使光線不許透過除柱狀透鏡板系統以外之部份傳遞到感光層。該柱狀透鏡板系統應相對於圖案膜進行相對移動。

如所示形態構成之光源也包含於構成本發明之線光源發生裝置之光源之概念。此時，該線光源發生裝置包括光源與柱狀透鏡板系統，該線光源發生裝置藉由與圖案膜之相對移動而進行曝光工作。

第18圖係在集裝箱內調整光強度之線光源發生裝置之說明圖。光源與柱狀透鏡板系統安裝於相同之集裝箱內104。安裝於該集裝箱內之光源可在集裝箱內朝上下方向移動。作為光源之實施例可舉LED光源106。LED係將多個LED結合於支撐體而構成光源。還可以將LED構成為面光源。本發明中，與各LED結合之支撐體，或與由面光源構 成之LED結合之支撐體都稱之為光源支撐體105。

本發明之實施例中，將該光源支撐體可朝上下方向移動地形態安裝於該集裝箱內。在該集裝箱之底部配置柱狀透鏡板系統107。在集裝箱內部使該光源支撐體朝上下方向移動，從而調整照射到柱狀透鏡板系統之光強度。並藉由控制耗電量來控制光強度，或者藉由調整光源與柱狀透鏡板系統之間之距離來控制光強度。本發明之曝光裝置中，照射於基板之光強度和線光源發生裝置之相對傳送速度決定曝光品質時起非常重要之作用。因此，將照射於基板之線光源之強度控制為微細之裝置非常重要。並且，將線光源發生裝置之相對傳送速度控制為微細之裝置也非常重要。

第19圖是說明線光源發生裝置、圖案膜及基板之位置關係之說明圖。在本發明之線光源發生裝置中，在集裝箱之底部配置柱狀透鏡板系統。圖案膜或光罩配置於柱狀透鏡板系統之下部。在圖案膜或光罩之下部配置基板。第19圖係將圖案膜或光罩108緊貼於基板109之圖。將圖案膜或光罩108緊貼於基板之感光層，則最大限度地減低光折射或干擾。從而能正確地進行曝光工作。若不剝離形成於感光層之保護膜而進行曝光工作時，即便在緊貼狀態下工作也不會損壞感光層。若剝離保護膜後進行工作，則會損壞感光層。此時，優選將圖案膜或光罩從感光層隔開預定距離之狀態下進行曝光。

本發明所使用之柱狀透鏡板系統係，其最上部係凸透鏡板，在該凸透鏡板之下部組合一個以上凹透鏡板而構成之最基本形態。但是，根據情況，也可以在柱狀透鏡板系 統之最上部配置凹透鏡板，在最下部配置凸透鏡板。

本發明之線光源發生裝置及用於該線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統以各種形態不盡使用於曝光裝置，還可以使用於通常之顯示裝置之顯示面板。在現有顯示裝置中，將光線藉由背光和偏光濾波器傳遞到顯示面板，此時，透過偏光膜之光線會減少很多。但是，若在顯示裝置使用本線光源發生裝置，則該線光源發生裝置能代替背光及偏光濾波器之功能。因此，本發明之線光源發生裝置具有無損失地利用來自光源之光線之優點。無光線的損失，則可以大大增加電池之壽命。

為了將本發明之線光源發生裝置能夠使用於通常之顯示面板，在柱狀透鏡板系統可以進一步設置微振動手段。藉由在柱狀透鏡板系統安裝發生微振動之振動手段，可以解消在線光源發生裝置產生之線光源和線光源之間之空白部。線光源與線光源之間之間隔僅係數微米至數十微米左右。由於該線光源與線光源之間之間隔而產生之空白部藉由柱狀透鏡板系統之微振動而可以解決。即，利用錯覺現象使觀看者感受不到空白部。

本發明又有關於微細線光源製作方法。本發明之微細線光源製作方法係藉由使由光源照射之光線透過具有微間距之柱狀透鏡板系統，而製作微細之線光源。為製作微細線光源而使用之柱狀透鏡板之間距應微細。並且，優選使用包含垂直光柱狀透鏡板之柱狀透鏡板系統。

上面所述微細線光源係指線光源之線幅微細，線幅在數十奈米至數十微米左右。本發明之具體實驗中，為得到線幅為700奈米之線光源，使用了間距為33微米之垂直光 凸透鏡板，並在該垂直光凸透鏡板之下部層疊8個凹透鏡板。

並且，為製作線幅為3微米之線光源，使用了間距為30微米之垂直光凸透鏡板與在該垂直光凸透鏡板之下部層疊一個凹透鏡板之柱狀透鏡板系統。使用該線光源之線幅為3微米之線光源發生裝置，可以迅速進行大面積曝光工作。使用具備線幅為3微米之線光源之曝光裝置進行曝光工作之結果，可以迅速曝光大面積基板，即該基板為曝光部之幅度為10微米、非曝光部之幅度為10微米、感光層之厚度為15微米。

本發明之柱狀透鏡板系統中，即使柱狀透鏡板之間距為相同，也藉由改變柱狀透鏡板鏡片之焦距，可以更加精密地進行曝光工作。本發明所使用之柱狀透鏡板之間距雖很微細，但在該微細間距上也可以將柱狀透鏡板之焦距設計地很多樣。

本發明中，所謂微細線光源係其線光源之線幅在數十奈米之數十微米之範圍。但是，本發明之曝光裝置或線光源發生裝置也可適用於除所述微細範圍以外之區域。本發明之柱狀透鏡板系統中使用微細間距之術語時，該微細間距範圍表示數微米之數十微米之範圍。但是，本發明之柱狀透鏡板系統也可適用在除該微細範圍以外之區域。如何製作使用於本發明之微細柱狀透鏡板係非常重要，但由於不包含於本發明之範圍，因此，省略對其之說明。

本發明又有關於使用線幅微細之線光源之微電路基板之製作方法以及藉此製作方法製作之微電路基板。通常，形成微電路之基板藉由曝光工作及蝕刻工作而製成。或 者，藉由曝光工作以及電鍍工作而製成。習知對間距大之電路基板執行曝光工作之光源係散射光。例如，可舉對具有線幅大之電路之PCB基板進行曝光工作時使用散射光源進行工作。習知，對具有微細間距之電路基板進行曝光工作時使用平行光進行工作。本發明中，可以利用曝光裝置容易進行大面積曝光工作，該曝光裝置具備能製作微細線幅之線光源發生裝置。

本發明之微細電路基板之製造方法係將來自光源之光線照射至本發明之柱狀透鏡板系統，從而產生具有微細線幅之線光源，然後，利用該線光源曝光塗布有感光層之基板。然後，藉由現象工程以及蝕刻工程在該經曝光之基板製造微電路基板。或，藉由現象工程及電鍍工程在該經曝光之基板製造微電路基板。

該基板係一般在柔性基板上面濺射銅，在該濺射層上面再鍍銅而形成鍍銅層。可用導電金屬來代替銅。在已進行曝光工作之基板進行現象工作及蝕刻工作之工序係與習知工程相同，因此省略說明。

以下說明藉由該電鍍工程製作微細電路基板之方法。首先，在已進行現象工作之基板進行電鍍工程，此時對基板沒有進行蝕刻工程。在藉由現象工程去除非曝光部之空間部，藉由電鍍工程形成金屬電路部。形成電路部之後停止電鍍工作。然後，用化學方法去除曝光部。並藉由軟蝕刻去除在去除該曝光部之部位出現之導電性金屬。由此，藉由電鍍方法製造微細電路基板。以下，更具體說明藉由電鍍工程製作微細電路基板之方法。

首先，在非導電體支撐基板形成較薄之導電層。作為 該非導電體支撐基板之代表實施例，可舉聚酰亞胺薄膜。為形成較薄之導電層，藉由將銅等金屬濺射於該非導電體支撐基板上面而形成較薄之導電層。需要增加該導電層之厚度時，也可以在該濺射層上面電鍍銅等導電性金屬。

本發明中，非導電體支撐基板可以包括硬質材料。並且，非導電體支撐基板係在大量生產方面優選使用卷繞式柔性基板。本發明中所使用之非導電體支撐基板可舉聚醯亞胺薄膜。在形成於非導電體支撐基板之導電層上部塗布感光材料。感光材料以數微米至數十微米之厚度均勻地塗布。此時，為了良好地塗布感光材料，藉由等離子工作進行清洗後塗布於導電層。

在圖案膜照射藉由本發明之線光源發生裝置而產生之線幅微細之線光源之光線。藉由圖案膜，在基板形成曝光部與非曝光部。藉由圖案膜將來自線光源之光照射至感光層，則受到光線之部份稱為曝光部，未受到光線之部份稱為非曝光部。用化學方法去除該非曝光部，則會形成空間部。在該空間部之下部出現較薄之導電層。

在電鍍槽內，對該出現之導電層施加電而進行電鍍。同時，在該空間部形成導電性微電路。形成微電路預定高度之後停止電鍍。並抛光該微電路之表面而使其乾淨。抛光可藉由抛光輪來抛光表面，也可以藉由其他之方法進行抛光。

然後，為去除曝光部下部之較薄之導電層，用化學方法去除曝光部。在去除曝光部之部位形成空間部。在該空間部之下部露出較薄之導電層。藉由軟蝕刻去除被露出之較薄之導電層。若去除較薄之導電層，則形成新蝕刻空間 部。本發明可廣泛使用於微零件之加工。作為微零件之種類可舉微金屬電路。本發明之超微細金屬電路多用於覆晶薄膜(Chip on film)或FPCB等。通常，非導電體支撐基板為聚醯亞胺薄膜。

本發明有關於藉由該微電路基板之製造方法製成之微電路。惟以上所述僅為本發明之較佳可行實施例，變更適用部分即可使用，於本發明之思想及範圍內進行各種修改及變形係對本發明技術人員來說係自明的，故舉凡運用本發明說明書及圖示內容所為之等效結構變化，均同理包含於本發明之範圍內，合予陳明。

1‧‧‧曝光裝置

2、86‧‧‧線光源發生裝置

3‧‧‧線光源發生裝置傳送裝置

4、12、17、88、106‧‧‧光源

5、89、107‧‧‧柱狀透鏡板系統

6‧‧‧薄膜

7、15、72、81‧‧‧感光材料/感光層

8‧‧‧平板

9‧‧‧基板構造物

10、37、44、46、53、57、59、61‧‧‧凸透鏡板

11、13、14、29‧‧‧凸透鏡板鏡片

16、26、33‧‧‧曝光部

18、21、25‧‧‧垂直光區域

24‧‧‧不透明屏蔽物

34、38、39、40、41、43、49、54、55、56、58、60‧‧‧凹透鏡板

45‧‧‧柱狀透鏡板

47、50‧‧‧遮光部

51‧‧‧凹陷部

62，64，65‧‧‧輔助滾輪

63、108‧‧‧圖案膜

68‧‧‧緊貼手段

69‧‧‧工作臺

70、80、93、109‧‧‧基板

71‧‧‧導電層

73‧‧‧彈性體

74‧‧‧擠壓薄膜

75、91、98‧‧‧線光源發生裝置

76‧‧‧不透明部

77、78、79、100、101、102、103‧‧‧輔助輥

83‧‧‧彈性體

84、97‧‧‧擠壓輥

85‧‧‧支撐架

87‧‧‧透明部

92‧‧‧電鍍層

104‧‧‧集裝箱

105‧‧‧光源支撐體

第1圖係具備線光源發生裝置之本發明之曝光裝置之整體概念圖。

第2圖係一般之凸透鏡板之立體圖。

第3圖係在凸透鏡板收集光之狀態之示意圖。

第4圖係說明凸透鏡板之垂直光之說明圖。

第5圖係垂直光柱狀透鏡板之說明圖。

第6圖係說明形成有鏡片屏蔽物之垂直光柱狀透鏡板之說明圖。

第7圖係說明在凸透鏡板形成有光透過狹縫之垂直光柱狀透鏡板之說明圖。

第8圖係一般之凹透鏡板之立體圖。

第9a、9b、9c圖係柱狀透鏡板系統之實施例。

第10圖係具備遮光部之凸透鏡板之構造圖。

第11圖係具備遮光部之凹透鏡板之構造圖。

第12圖係具備遮光部之柱狀透鏡板系統之其它另一實施 例。

第13圖係具備遮光部之柱狀透鏡板系統之其它另一實施例。

第14圖係分上下結構說明本發明之曝光裝置之構成之說明圖。

第15圖係附加說明第14圖之說明圖。

第16圖係本發明之線光源發生裝置之說明圖。

第17圖係本發明之曝光裝置之上部結構之說明圖。

第18圖係於集裝箱內部調整光強度之線光源發生裝置之說明圖。

第19圖係在曝光裝置說明線光源發生裝置、圖案膜及基板之位置關係之說明圖。

Claims (3)

1. 一種用於線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統，其中該柱狀透鏡板系統層疊多個柱狀透鏡板而構成，該柱狀透鏡板系統係上下層疊組合一個以上連續連接具有凸起部之柱子之形狀凸透鏡板與一個以上連續連接凹透鏡柱之形狀之凹透鏡板而構成。
2. 一種用於線光源發生裝置之柱狀透鏡板系統，其中該柱狀透鏡板系統層疊多個柱狀透鏡板，該柱狀透鏡板系統係上下層疊組合一個以上連續連接具有凸起部之柱子之形狀之凸透鏡板與一個以上連續連接凹透鏡柱之形狀之凹透鏡板而構成，該柱狀透鏡板系統包括不透明屏蔽物。
3. 一種線光源發生裝置，其使用柱狀透鏡板，其中該線光源發生裝置包括光源和柱狀透鏡板系統，該光源與該柱狀透鏡板系統安裝於集裝箱內，其中該柱狀透鏡板系統係上下層疊組合一個以上連續連接具有凸起部之柱子之形狀之凸透鏡板與一個以上連續連接凹透鏡柱之形狀之凹透鏡板而構成。