TWI570057B - An aqueous chlorine dioxide generating system - Google Patents

Description

一種二氧化氯水溶液產生系統

本發明係為一種二氧化氯水溶液產生系統，特別是指一種系統化且可大量生產置二氧化氯水溶液之產生系統。

按，由於二氧化氯(Chlorine dioxide,ClO₂)氣體本身具有一未成對的自由活性電子，使得二氧化氯具有強效的氧化能力，可用來氧化細菌、病毒、黴菌等病原體的蛋白質、胜肽、DNA或RNA，以消滅該等病原體，而由於氣態之二氧化氯並不能提供使用者方便使用，因此目前於醫療衛生、食品加工、環境保護、工業用水、畜牧養殖以及汙水處理…等產業中，其多將二氧化氯溶於水中形成二氧化氯水溶液，令使用者可方便使用二氧化氯水溶液來進行消毒、殺菌、除臭。

而二氧化氯水溶液之產生方法，主要係將亞氯酸鹽以及酸類兩種試劑，於使用前將該兩試劑混合加至適量的水中，令亞氯酸鹽及酸類可產生反應以得到二氧化氯溶液之方法，惟因其操作繁瑣複雜、且需準備若干種試劑來調和，而有使用上不方便之缺失；故，目前多利用電解設備電解食鹽水之方法來生成二氧化氯氣體，再將生成後之二氧化氯氣體溶於水中使形成二氧化氯水溶液以供使用。

上述二氧化氯水溶液之生成方法雖較利用亞氯酸鹽以及酸類兩試劑混合之方式更為方便、安全；惟由於該二氧化氯水溶液係將二氧 化氯氣體利用機械設備打入水液中，使二氧化氯氣體溶於水液中形成二氧化氯水溶液，其產能有限且並無法系統化，造成業者需設置複數個電解設備與混和裝置，而提高二氧化氯之製備成本。

本發明之目的，即在於改善上述製備二氧化氯水溶液所具有之缺失，俾提供一種系統化且可大量生產置二氧化氯水溶液之產生系統。

為達到上述目的，本發明之一種二氧化氯水溶液產生系統，包含有一水液儲存裝置、電解液儲存裝置、電解裝置、反應裝置、儲存裝置、冷卻裝置與清洗裝置；其中：水液儲存裝置，係用以儲存水液並與反應裝置連接，令水液儲存裝置所儲存之水液係供反應裝置混合使用；電解液儲存裝置，用以儲存電解液，該電解液儲存裝置並與電解裝置連接，令電解液儲存裝置所儲存之電解液可輸入電解裝置進行電解；電解裝置，係與電解液儲存裝置及反應裝置連接，用以電解電解液以生成二氧化氯氣體，並將該二氧化氯氣體輸送至反應裝置以與水液混合形成二氧化氯水溶液；反應裝置，係與水液儲存槽及電解裝置連接，用以將水液儲存裝置所輸入之水液與電解裝置所輸入之二氧化氯氣體混合使形成二氧化氯水溶液；儲存裝置，係與反應裝置連接，用以存放反應裝置所混合生成之二氧化氯水溶液成品； 冷卻裝置，係與電解裝置連接用以對電解裝置作熱交換，藉以冷卻電解裝置因電解反應所產生之高溫；清洗裝置，係與電解裝置連接，用以清洗電解裝置電解反應完成後所殘留之鹼性廢液；藉由上述裝置，俾提供一種系統化且可大量生產置二氧化氯水溶液之產生系統。

10‧‧‧水液儲存裝置

11‧‧‧水液儲存槽

12‧‧‧水液加壓幫浦

13‧‧‧輸水管

14‧‧‧低液位感測器

15‧‧‧入水管

151‧‧‧氣壓閥

20‧‧‧電解液儲存裝置

21‧‧‧電解液儲存槽

22‧‧‧電解液加壓幫補

23‧‧‧輸液管

24‧‧‧低液位感測器

30‧‧‧電解裝置

31‧‧‧電解槽

32‧‧‧輸氣管

33‧‧‧排放管

331‧‧‧耐酸鹼氣壓閥

34‧‧‧冷卻器

35‧‧‧排出管

36‧‧‧回流管

37‧‧‧溫度感測器

40‧‧‧反應裝置

41‧‧‧加壓幫浦

411‧‧‧進水管

412‧‧‧出水管

413‧‧‧氣液混合器

42‧‧‧反應槽

421‧‧‧第一入水管

422‧‧‧第二入水管

423‧‧‧第一出水管

424‧‧‧第二出水管

425‧‧‧氣壓閥

426‧‧‧耐酸鹼氣壓閥

427‧‧‧耐酸鹼氣壓閥

428‧‧‧耐酸鹼氣壓閥

43‧‧‧低液位感測器

44‧‧‧高液位感測器

45‧‧‧氧化還原監測點

50‧‧‧儲存裝置

51‧‧‧成品加壓幫浦

52‧‧‧成品儲存槽

53‧‧‧成品進水管

54‧‧‧成品出水管

541‧‧‧耐酸鹼氣壓閥

55‧‧‧低液位感測器

56‧‧‧高液位感測器

60‧‧‧冷卻裝置

61‧‧‧冷卻水槽

62‧‧‧加壓幫浦

63‧‧‧輸水管

631‧‧‧氣壓閥

64‧‧‧溫度感測器

70‧‧‧清洗裝置

71‧‧‧清水槽

72‧‧‧清水加壓幫浦

73‧‧‧抽水管

73‧‧‧輸水管

731‧‧‧氣壓閥

74‧‧‧低液位感測器

75‧‧‧入水管

751‧‧‧氣壓閥

第1圖係本發明之系統方塊圖。

第2圖係本發明之系統裝置圖。

第3圖係本發明之系統裝置圖，及第一實施例動作示意圖(一)。

第4圖係本發明之系統裝置圖，及第一實施例動作示意圖(二)。

第5圖係本發明之系統裝置圖，及第二實施例之動作示意圖(一)。

第6圖係本發明之系統裝置圖，及第二實施例之動作示意圖(二)。

第7圖係本發明之系統裝置圖，及第三實施例之動作示意圖(一)。

第8圖係本發明之系統裝置圖，及第三實施例之動作示意圖(二)。

第9圖係本發明之系統裝置圖，及第三實施例之動作示意圖(三)。

第10圖係本發明之系統裝置圖，及冷卻裝置輸送冷卻水液至電解裝置之示意圖。

第11圖係本發明之系統裝置圖，及清洗裝置輸送水液清洗電解裝置之動作示意圖。

有關本發明為達到目的所運用之技術手段及其方法，茲謹再 配合第1圖所示之系統圖，詳細說明如下：如第1圖所示之系統圖，本發明之二氧化氯水溶液產生系統，包含有一水液儲存裝置10、電解液儲存裝置20、電解裝置30、反應裝置40、儲存裝置50、冷卻裝置60與清洗裝置70；其中：水液儲存裝置10，係用以儲存水液並與反應裝置30連接，令水液儲存裝置10所儲存之水液係供反應裝置30混合使用；電解液儲存裝置20，用以儲存電解液，該電解液儲存裝置20並與電解裝置30連接，令電解液儲存裝置20所儲存之電解液可輸入電解裝置30進行電解。

電解裝置30，係與電解液儲存裝置20及反應裝置連接40， 用以電解電解液以生成二氧化氯氣體，並將該二氧化氯氣體輸送至反應裝置40以與水液混合形成二氧化氯水溶液。

反應裝置40，係與水液儲存裝置10及電解裝置30連接， 用以將水液儲存裝置10所輸入之水液與電解裝置30所輸入之二氧化氯氣體混合使形成二氧化氯水溶液。

儲存裝置50，係與反應裝置40連接，用以存放反應裝置40 所混合生成之二氧化氯水溶液成品。

冷卻裝置60，係與電解裝置30連接用以對電解裝置30作 熱交換，藉以冷卻電解裝置30因電解反應所產生之高溫。

清洗裝置70，係與電解裝置30連接，用以清洗電解裝置30 電解反應完成後所殘留之鹼性廢液。

藉由上述裝置，水液儲存裝置10將水液輸送至反應裝置 40，且電解液儲存裝置20將電解液輸送至電解裝置30電解使產生二氧化氯氣體，並將產生之二氧化氯氣體輸送至反應裝置40與水液混合形成二氧化氯水溶液，然後將二氧化氯水溶液輸送至儲存裝置50存放；同時該冷卻裝置60可於電解裝置30進行電解時產生高熱時冷卻電解裝置30；接著，待二氧化氯水溶液產生作業完畢後，該清洗裝置70可對電解裝置30進行清洗；藉此；俾提供一種系統化且可大量生產二氧化氯水溶液之產生系統。

如第2圖至第11圖所示，有關本發明一種二氧化氯水溶液 之產生系統所應用之技術手段及其構造裝置，進一步詳細說明如下：水液儲存裝置10(請參閱第2圖所示)，係用以儲存水液以供混合使用，該水液以逆滲透水(RO水)為佳；該水液儲存裝置10包含有一水液儲存槽11，水液儲存槽11連接有一水液加壓幫浦12，該水液加壓幫浦12並連接有輸水管13，該輸水管13並與反應裝置40連接；另，該水液儲存槽11設有一低液位感測器14，用以偵測水液儲存槽11中之水液是否過少；該水液儲存槽11並設有一入水管15，入水管15另一端則與水源(圖中未揭示)銜接，入水管15上則設有一氣壓閥151，令當水液儲存槽11之低液位感測器14感測其內水液過少時，則可控制開始氣壓閥151，使水液可由入水管15補充輸入水液儲存槽11。

電解液儲存裝置20，(請參閱第2圖所示)，係用以儲存電 解液以供電解裝置30電解使用；包含有一電解液儲存槽21；電解液儲存槽21連接有一電解液加壓幫浦22，該電解液加壓幫補22並連接有輸液管23，該輸液管23係與電解裝置30連接，該輸液管23並設有一氣壓閥231；另， 該電解液儲存槽21設有一低液位感測器24，用以偵測電解液儲存槽21中之電解液是否過少。

電解裝置30(請參閱第2圖所示)，係用以提供電解反應， 該電解裝置30係與電解液儲存槽21之輸液管22與連接；該電解裝置30包含有電解槽31，電解槽31係與電解液儲存裝置20之輸液管23連接，電解槽31上設有輸氣管32，該輸氣管32係用以輸送二氧化氯氣體至反應裝置40，且該電解槽31設有排放管33，排放管33上設有耐酸鹼氣壓閥331，該排放管33係用以將鹽水或清洗水自電解槽31內排出；再，該電解裝置30設有冷卻器34，該冷卻器34係用以冷卻降溫電解槽31，該冷卻器34係與冷卻裝置60連接，該冷卻器34並設有排出管35，該排出管35並與排放管33連接；又，該冷卻器34進一步設有回流管36，該回流管36係與冷卻裝置60連接。

反應裝置40(請參閱第2圖所示)，包含有一加壓幫浦41 與若干的反應槽42，該加壓幫浦41設有進水管411與出水管412，該加壓幫浦41之出水管412上並設有一氣液混合器413，該氣液混合器413之進氣端係與電解裝置30之輸氣管34連接；該反應槽42各設有第一入水管421、第二入水管422、第一出水管423、第二出水管424，該第一入水管421係與水液儲存槽11之輸水管12連接，第二入水管422係與加壓幫浦41之出水管412連接，第一出水管423係與加壓幫浦41之入水管411連接；再，該第一入水管421設有氣壓閥425，該第二入水管422、第一出水管423與第二出水管424各設有耐酸鹼氣壓閥426、427、428；另，該反應槽42設有一低液位感測器43與高液位感測器44，用以偵測反應槽42中之二氧化氯 水溶液之容量。

儲存裝置50(請參閱第2圖所示)，包含有一成品加壓幫浦 51與一成品儲存槽52，成品加壓幫浦51設有成品進水管53，該成品進水管53係與反應裝置40之第二出水管424連接，該成品加壓幫浦51並設有成品出水管54，該成品出水管54係與成品儲存槽52連接；又，該成品出水管54並設有耐酸鹼氣壓閥541；另，該成品儲存槽52設有一低液位感測器55與高液位感測器56，用以偵測成品儲存槽52中之二氧化氯水溶液之容量。

冷卻裝置60(請參閱第2圖所示)，包含有一冷卻水槽61， 冷卻水槽61係用以降低水液溫度，冷卻水槽61之出水端設有冷卻水加壓幫浦62，冷卻水加壓幫浦62之出水端則設有輸水管63，輸水管63另一端則與電解裝置30所設冷卻器33之進水端連接，且該輸水管63並設有一氣壓閥631；該冷卻水槽61並與電解裝置30之回流管36連接；又，該冷卻水槽61並設有低液位感測器65，用以感測冷卻水槽61內之水液是否過少。

清洗裝置70(請參閱第2圖所示)，包含有一清水槽71，氫 槽71係用以儲存清水，該清水槽71連接有一清水加壓幫浦72，該清水加壓幫浦72之出水端則設有輸水管73，該輸水管73另一端則與電解裝置30之入水端連接，且輸水管73上設有一氣壓閥731；另，該清水槽71設有一低液位感測器74，用以偵測清水槽70中之水液是否過少；再，該清水槽71設有一入水管75，入水管75上設有氣壓閥751，該入水管75另一端係與清水水源銜接，當清水槽71內水液低於低液位感測器74時，即開啟入水管75之氣壓閥751，使清水水源之清水得以補充輸入清水槽71中。

如第3圖所示，其係僅利用反應裝置40中所設之一反應槽 42來生產二氧化氯水溶液；藉由上述裝置，開啟反應槽42所設第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，控制水液儲存裝置10之水液儲存槽11中所存之RO水液經水液加壓幫浦12、輸水管13、第一入水管421輸入反應裝置40之反應槽42中，然後利用反應裝置40所設之加壓幫浦41抽吸反應槽42中所存之水液，使水液經第一出水管423、進水管411、加壓幫浦41、出水管412、氣液混合器413、第二進水管422再循環進入反應槽42中，令反應槽42中之液體可作循環輸出、輸入；同時，將電解液儲存裝置20所設電解液儲存槽21中所儲存之電解液經電解液加壓幫浦22、輸液管23輸入電解裝置30之電解槽31中電解使產生二氧化氯氣體與鹼性廢液，令該反應生成之二氧化氯氣體輸入輸氣管32中，此時，因反應裝置40中水液通過氣液混合器413時會產生抽吸力，令輸氣管32中之二氧化氯氣體得受該抽吸力進入氣液混合器413中與水液混合使形成二氧化氯水溶液，令該二氧化氯水溶液得由第二進水管422輸入反應槽42中；然後依據所設定之二氧化氯水溶液之濃度，據以控制水液儲存槽11中之水液是否再輸入反應槽42中，同時控制反應裝置40之加壓幫浦41是否再抽吸循環反應槽42中之水液流經氣液混合器413，使與二氧化氯氣體再混合以提高或降低二氧化氯氣體濃度。

待反應槽42中二氧化氯水溶液到達所需之濃度，且反應槽 42之高液位感測器44感測反應槽42內二氧化氯水溶液已達高液位時，關閉反應裝置40之加壓幫浦41、第一入水管421上所設之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423上所設之耐酸鹼氣壓閥426、427，使水液儲存 槽11之水液不再輸入反應槽42中，且反應槽42內所存之二氧化氯水溶液不再循環與二氧化氯氣體、水液混合，開啟反應槽42所設第二出水管424之耐酸鹼氣壓閥428，使反應槽42中二氧化氯水溶液經成品進水管53、成品加壓幫浦51加壓輸送，再由成品輸水管54排入成品儲存槽52中存放(如第4圖所示)，即可得二氧化氯水溶液成品者。

如第5圖所示，其係同時利用二反應槽42A、42B作反應作 業以生產二氧化氯水溶液；藉由上述裝置，開啟二個反應槽42A、42B上所設第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，控制水液儲存槽11中之RO水液經水液加壓幫浦12、輸水管13、第一入水管421輸入反應裝置40之二個反應槽42A、42B中，然後利用反應裝置40所設之加壓幫浦41抽吸二個反應槽42A、42B中所存之水液，使水液經第一出水管423、進水管411、加壓幫浦41、出水管412、氣液混合器413、第二進水管422再循環進入二個反應槽42A、42B中；同時，將電解液儲存槽21中所儲存之電解液經電解液加壓幫浦22、輸液管23輸入電解槽31中電解使產生二氧化氯氣體與鹼性廢液，令該反應生成之二氧化氯氣體輸入輸氣管32中；此時，因反應裝置40中水液通過氣液混合器413時會產生抽吸力，令輸氣管32中之二氧化氯氣體得受該抽吸力進入氣液混合器413中與水液混合使形成二氧化氯水溶液，令該二氧化氯水溶液得由第二進水管422輸入二反應槽42A、42B中；然後依據所設定之二氧化氯水溶液之濃度，據以控制水液儲存槽11內之水液是否再輸入二反應槽42A、42B中，同時控制反應裝置40之加壓幫浦41是否再抽吸循環反應槽42中之水液流經氣液混合器413，使與二氧化氯氣體再混合以提高濃度；待 二反應槽42A、42B中二氧化氯水溶液之濃度到達所需之濃度後且二氧化氯水溶液已達高液位後，關閉反應裝置40之加壓幫浦41、第一入水管421上所設之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423上所設之耐酸鹼氣壓閥426、427，使水液儲存槽11之水液不再輸入二反應槽42中，且反應裝置40所存之二氧化氯水溶液不再循環與二氧化氯氣體混合，開啟反應槽42所設第二出水管424之耐酸鹼氣壓閥428，使二反應槽42A、42B中二氧化氯水溶液經成品進水管53、加壓幫浦51加壓輸送，再由成品輸水管54排入成品儲存槽52中存放(如第6圖所示)；故，本實施例確可利用若干的反應槽42同時生產二氧化氯水溶液，實具有高度之快速性與生產效率。

又，另一實施例是，如第7圖所示，本發明之反應裝置40 設置有二反應槽42A、42B，當欲生產二氧化氯水溶液時，可先開啟第一個反應槽42A之第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，同樣控制水液儲存槽11中之RO水液經水液加壓幫浦12、輸水管13、第一入水管421輸入反應裝置40之第一個反應槽42A中，然後利用反應裝置40所設之加壓幫浦41抽吸第一個反應槽42A中所存之水液，使水液經第一出水管423、進水管411、加壓幫浦41、出水管412、氣液混合器413、第二進水管422再循環進入第一個反應槽42A中；同時，將電解液儲存槽21中所儲存之電解液經電解液加壓幫浦22、輸液管23輸入電解槽31中電解使產生二氧化氯氣體與鹼性廢液，令該反應生成之二氧化氯氣體輸入輸氣管32中；此時，因反應裝置40中水液通過氣液混合器413時會產生抽吸力，令輸氣管32中之二氧化氯氣體得受該抽吸力進入氣液混合器413中與水液混合使形成二氧化氯水溶液，令該二氧化氯水溶 液得由第二進水管422輸入二反應槽42中；然後依據所設定之二氧化氯水溶液之濃度，據以控制水液儲存槽11中之水液是否再輸入第一個反應槽42A中，同時控制反應裝置40之加壓幫浦41是否再抽吸循環第一個反應槽42A中之水液流經氣液混合器413，使與二氧化氯氣體再混合以提高濃度；待第一個反應槽42A中二氧化氯水溶液達到所需求之濃度後，控制關閉第一個反應槽42A之第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，使第一個反應槽42A不再進行水液循環與二氧化氯水溶液混合生成作業，接著，如第8圖所示，開啟第一個反應槽42A所設第二出水管424之耐酸鹼氣壓閥428，使第一個反應槽42A中之二氧化氯水溶液而輸入成品儲存裝置50之成品儲存槽52中，同時開啟第二個反應槽42B之第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，令水液儲存槽11之水液輸入第二個反應槽42B中，藉由反應裝置40之加壓幫浦41抽吸第二個反應槽42B中的水液進行循環，並與電解裝置30所生成之二氧化氯氣體經氣液混合器413混合使形成二氧化氯水溶液，將該二氧化氯水溶液輸入第二個反應槽42B；待第二個反應槽42B中之二氧化氯水溶液達高液位時，則關閉其第一入水管421之氣壓閥425及第二入水管422、第一出水管423之耐酸鹼氣壓閥426、427，使第二個反應槽42B不再進行水液循環與二氧化氯水溶液混合生成作業，然後再控制開啟第一個反應槽42A重新開始作業，此時，開啟第二個反應槽42B所設第二出水管424之耐酸鹼氣壓閥428，使第一個反應槽42A中之二氧化氯水溶液而輸入成品儲存裝置50之成品儲存槽52中(如第9圖所示)；因此，藉由設置若干的反應槽42，使每一反應槽42依序進行生 產作業，令本系統之水液儲存裝置10、電解裝置30及反應裝置40可不間斷地生產二氧化氯水溶液，確可提高二氧化氯水溶液之生產效率者。

另，如第10圖所示，由於電解裝置30於電解作業時會因通 電產生熱度，造成電解裝置30之溫度升高而降低電解效益，本系統可控制開啟冷卻裝置60之輸水管63所設的氣壓閥631，令加壓幫浦62可將冷卻水槽61中冷水輸送至電解裝置30之冷卻器34中作熱交換作業，藉以降低電解槽31之溫度，接著該電解裝置30之冷卻器34中經熱交換而溫度升高之水液可回流至回流管36以回送至冷卻水槽61降溫，以再次作熱交換作業。

如第11圖所示，當完成二氧化氯水溶液生成作業後，開啟 電解裝置30之排放管33上所設氣壓閥331，將電解裝置30經電解後所生成之鹼性廢液予以流出排離，接著開啟清洗裝置70之清水加壓幫浦72及輸水管73所設氣壓閥731，令清水槽71中之水液得藉由清水加壓幫浦72之抽吸而經抽水管73、清水加壓幫浦72、輸水管73輸入電解裝置30中，藉以清洗殘留於電解裝置30中之鹼性廢液，然後該鹼性廢液及清洗水即可由排放管33、排出管35排出。

承上述，較佳之實施例是，該電解裝置30之電解槽31上設 有溫度感測器37，該溫度感測器37可偵測電解槽31之溫度，藉以控制冷卻裝置60對電解槽31作熱交換作業之啟閉者。

承上述，較佳之實施例是，該反應裝置40之反應槽42上設有氧化還原電位(ORP)監測點45，用以監測反應槽42內氧化還原之特性。

承上述，較佳之實施例是，該冷卻裝置60之冷卻水槽61上設置有溫度感測器64，該溫度感測器64可偵測冷卻水槽61之溫度，藉以 控制冷卻裝置60之冷卻效益。

由是，從以上所述可知，本發明具有如下之優點：

(一)由於本發明係將水液儲存裝置10、電解液儲存裝置20電解裝置30、反應裝置40、儲存裝置50、冷卻裝置60及清洗裝置70予以連接，並系統控制化，進而得以簡單控制、操作快速，且可快速製備生產二氧化氯水溶液之生產系統。

(二)由於本發明之反應裝置40設置若干組反應槽42，並利用若干的管路系統予以連接，並藉由電解裝置30持續電解生成二氧化氯氣體，再利用氣液混合器413之水液輸送以混合形成二氧化氯水溶液，其可有效提高二氧化氯水溶液之生產效率。

(三)再，由於本發明之反應裝置40設置若干組反應槽42，其無須等待需將反應槽42清空排除二氧化氯水溶液後才可再進行混合生成作業，而可提高生產效率及儲存容量。

(四)由於本發明之電解裝置30進一步與冷卻裝置60連接，當因通電作電解反應而產生高溫時，該冷卻裝置60可利用冷水對電解裝置30進行熱交換，藉以維持電解裝置30之作業溫度而不致升高，進而可避免電解裝置30過熱而影響電解效益者。

(五)另，由於本發明進一步設置有清洗裝置70，當該次二氧化氯水溶液生產作業完成後，其水液可輸入電解裝置30，以將電解裝置30中所殘留之鹼性廢液清洗排除，避免殘留之鹼性廢液影響後續之電解作業。

(六)由於本發明之反應槽42設有低液位感測器43與高液 位感測器44，其可偵測反應槽42中二氧化氯水溶液之容量，藉以控制反應槽42所設第二出水管424之耐酸鹼氣壓閥428之啟閉，藉以使反應槽42中二氧化氯水溶液得以輸入儲存裝置50之成品儲存槽52中以供下一次作業之盛裝，進而可提高整體生產作業之生產效率。

故，本發明確可藉由系統化設置二氧化氯水溶液之生產裝 置，使可大量生產置二氧化氯水溶液之產生系統；因此，本發明確具有顯著之進步性，且其方法確為未曾有過，誠已符合發明專利要件，爰依法提出專利申請，並祈賜專利為禱，至感德便。

以上所述，僅為本發明用以說明之可行實施例，因此並不能 以其限制本發明之保護範圍，舉凡熟習此技藝者依本發明說明書及申請專利範圍所為之均等變化或修飾，皆應仍屬本發明所涵蓋之保護範圍。

10‧‧‧水液儲存裝置

20‧‧‧電解液儲存裝置

30‧‧‧電解裝置

40‧‧‧反應裝置

50‧‧‧儲存裝置

60‧‧‧冷卻裝置

70‧‧‧清洗裝置

Claims (5)

1. 一種二氧化氯水溶液產生系統，包含有一水液儲存裝置、電解液儲存裝置、電解裝置、反應裝置、儲存裝置、冷卻裝置與清洗裝置；其中：水液儲存裝置，係用以儲存水液並與反應裝置連接，令水液儲存裝置所儲存之水液係供反應裝置混合使用；電解液儲存裝置，用以儲存電解液，該電解液儲存裝置並與電解裝置連接，令電解液儲存裝置所儲存之電解液可輸入電解裝置進行電解；電解裝置，係與電解液儲存裝置及反應裝置連接，用以電解電解液以生成二氧化氯氣體，並將該二氧化氯氣體輸送至反應裝置以與水液混合形成二氧化氯水溶液；反應裝置，係與水液儲存裝置及電解裝置連接，用以將水液儲存裝置所輸入之水液與電解裝置所輸入之二氧化氯氣體混合使形成二氧化氯水溶液；儲存裝置，係與反應裝置連接，用以存放反應裝置所混合生成之二氧化氯水溶液成品；冷卻裝置，係與電解裝置連接用以對電解裝置作熱交換，藉以冷卻電解裝置因電解反應所產生之高溫；清洗裝置，係與電解裝置連接，用以清洗電解裝置電解反應完成後所殘留之鹼性廢液。
2. 一種二氧化氯水溶液產生系統，包含有一水液儲存裝置、電解液儲存裝置、電解裝置、反應裝置、儲存裝置、冷卻裝置與清洗裝置；其中：水液儲存裝置，係用以儲存水液以供混合使用，包含有一水液儲存槽， 水液儲存槽連接有一水液加壓幫浦，該水液加壓幫浦並連接有輸水管，該輸水管並與反應裝置連接；另，該水液儲存槽設有一低液位感測器；該水液儲存槽並設有一入水管，入水管另一端則與水源銜接，入水管上則設有一氣壓閥；電解液儲存裝置，係用以儲存電解液以供電解裝置電解使用包含有一電解液儲存槽，該電解液儲存槽連接有一電解液加壓幫浦，該電解液加壓幫補並連接有輸液管，該輸液管係與電解裝置連接；另，該電解液儲存槽設有一低液位感測器；電解裝置，係用以提供電解反應，該電解裝置包含有一電解槽，該電解槽係與電解液儲存槽之輸液管與連接；該電解槽設有輸氣管，該輸氣管係用以輸送二氧化氯氣體，且該電解槽並設有排放管，排放管上設有氣壓閥；再，該電解裝置並設有冷卻器，該冷卻器係用以對電解槽冷卻降溫，該冷卻器係與冷卻裝置連接，該冷卻器並設有排出管，該排出管並與排放管連接；該冷卻器設有一回流管，該回流管係與冷卻裝置連接；反應裝置，包含有一加壓幫浦與若干的反應槽，該加壓幫浦設有進水管與出水管，該加壓幫浦之出水管上並設有一氣液混合器，該氣液混合器之進氣端係與電解裝置之輸氣管連接；該反應槽各設有第一入水管、第二入水管、第一出水管、第二出水管，該第一入水管係與水液儲存槽之輸水管連接，第二入水管係與加壓幫浦之出水管連接，第一出水管係與加壓幫浦之入水管連接；再，該第一入水管設有氣壓閥，該第二入水管、第一出水管與第二出水管各設有耐酸鹼之氣壓閥；另，該反應槽設有一低液位感測器與高液位感測器； 儲存裝置，包含有一成品加壓幫浦與一成品儲存槽，成品加壓幫浦設有成品進水管，該成品進水管係與反應裝置之第二出水管連接，該成品加壓幫浦並設有成品出水管，該成品出水管係與成品儲存槽連接；又，該成品出水管並設有耐酸鹼氣壓閥；另，該成品儲存槽設有一低液位感測器與高液位感測器；冷卻裝置，包含有一冷卻水槽，冷卻水槽係用以降低水液溫度，冷卻水槽之出水端設有加壓幫浦，加壓幫浦之出水端則設有輸水管，輸水管另一端則與電解裝置中冷卻器之進水端連接，且該輸水管並設有一氣壓閥；清洗裝置，包含有一清水槽與一清水加壓幫浦，該清水槽係利用抽水管與清水加壓幫浦連接，該清水加壓幫浦之出水端則設有輸水管，該輸水管另一端則與電解裝置之入水端連接，且輸水管上設有一氣壓閥；另，該清水槽設有一低液位感測器；再，該清水槽設有一入水管，入水管上設有氣壓閥。
3. 如申請專利範圍第2項所述之一種二氧化氯水溶液產生系統，其中該電解裝置之電解槽上設有溫度感測器。
4. 如申請專利範圍第2項所述之一種二氧化氯水溶液產生系統，其中該反應裝置之反應槽上設有氧化還原電位(ORP)監測點。
5. 如申請專利範圍第2項所述之一種二氧化氯水溶液產生系統，其中該冷卻裝置之冷卻水槽上設置有溫度感測器。