TWI558569B - An optical member laminate having an adhesive layer and a method for manufacturing the same - Google Patents

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TWI558569B TW104101566A TW104101566A TWI558569B TW I558569 B TWI558569 B TW I558569B TW 104101566 A TW104101566 A TW 104101566A TW 104101566 A TW104101566 A TW 104101566A TW I558569 B TWI558569 B TW I558569B
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Toru Umemoto
Hirofumi Katami
Hiroyuki Takao
Takahiro Nonaka
Atsushi Yasui
Takami Hikita
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Nitto Denko Corp
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Description

具有黏著劑層之光學構件層合體及其製造方法
本發明係有關具有黏著劑層之光學構件層合體及其製造方法。特別是本發明係有關具有使透明之光學構件與其他的光學構件接合用之黏著劑層的光學構件層合體及其製造方法。
例如液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置的顯示裝置，為了將偏光薄膜、相位差薄膜、保護玻璃等之透明保護(cover)構件、其他各種透明光學構件與其他的光學構件接合，而使用黏著劑。亦即，被接合之2個光學構件之間被配置黏著劑層，該2個光學構件係藉由將此等互相緊壓被接合，形成光學構件層合體。此種構成之光學構件層合體，在顯示裝置中，透明光學構件之側成為辨識側來配置。此構成中，外光由辨識側之透明光學構件入射時，具有入射光在黏著劑層與非辨識側之光學構件之界面反射，返回至辨識側的問題。此問題在外光之入射角較淺時，特別明顯。
又，近年增加傾向之具備觸控面板的顯示裝 置，在接合有透明光學構件之被接合側光學構件的表面，形成如經圖型化之ITO(銦．錫氧化物)之透明導電性的層。此種顯示裝置被指出因黏著劑層與透明導電性層之間之界面的入射光之內部反射影響，由辨識側可看見透明導電性層之圖型，所謂的「看見圖型」的問題。
不論何種情形，內部反射係因黏著劑與被接合側光學構件及透明導電性層之折射率差所引起的。專利第4640740號公報(專利文獻1)揭示對於此問題的解決方法。亦即，該專利文獻1揭示可減低透明光學構件與黏著劑層之間之界面、及黏著劑層與被接合側光學構件之間之界面之光之全反射的黏著劑組成物。在此所揭示之組成物係說明乾燥後及/或硬化後之折射率高，接近透明光學構件及被接合側光學構件之折射率者。此專利文獻1之教示，使接合2個光學構件之黏著劑層全體為具有與該2個光學構件之折射率接近之折射率者。
此專利文獻1所教示的方法雖在抑制界面反射的點具有效果，但是因使用特定之單體成分，因此有組成物本身為高價的問題。
專利第5564748號公報(專利文獻2)揭示使分散平均粒徑為1nm以上、且20nm以下之氧化鋯或氧化鈦粒子分散於由丙烯酸系樹脂所構成之透明黏著劑之厚度全體之構成之折射率經調整的黏著劑。認為此黏著劑係因將高折射率材料的氧化鋯或氧化鈦粒子混合於透明黏著劑中，因此黏著劑層全體之折射率變高，而可抑制上述界面 反射。但是專利文獻2之方法係因必須大量使用高折射率材料，而有作為黏著劑之特性降低的疑慮，且變成高價。又，使用的高折射率材料係因無機物質的粒子，故有分散困難，因散射產生白濁的問題。因此，考慮使用有機材料的粒子，但是此時變得不容易解決著色的問題。
專利第5520752號公報(專利文獻3)係為了改良專利文獻2所記載的方法，而提案以高分子被覆被分散於黏著劑之金屬氧化物粒子。專利文獻3所揭示為專利文獻2之黏著劑層，為了使金屬氧化物露出於黏著劑層之表面，而有黏著性降低的問題，故以高分子被覆該金屬氧化物粒子，解決此問題者。此專利文獻3所提案的方法，對於黏著劑層之黏著性也許可有某程度之改善，但是與專利文獻2關聯而被指出的問題大部分未被解決。特別是專利文獻3所記載的構成係因以特定之高分子被覆金屬氧化物粒子者，因此變成比專利文獻2之構成更高價。
[專利文獻1]專利第4640740號公報
[專利文獻2]專利第5564748號公報
[專利文獻3]專利第5520752號公報
[發明揭示]
本發明之主要目的係提供使用可容易且廉價 製造之黏著劑層，可有效抑制光學構件層合體之內部反射之層合體的構成。
本發明之另外的目的係藉由含有具有折射率調整區分之黏著劑層之光學構件層合體之構成，有效抑制該層合體之內部反射。
簡而言之，本發明為了達成上述目的，因此由黏著劑層之表面至厚度方向之某範圍，藉由形成具有比黏著劑層之基底材料高之折射率的折射率調整區分，抑制光學構件層合體之內部反射者。
一態樣中，本發明係提供一種光學構件層合體，其係具備將透明之第1光學構件與第2光學構件接合用之透明，且具有特定構成之黏著劑層。具有特定構成之該黏著劑層係含有由面向第1光學構件之側之第1主面至厚度方向，本質上藉由透明的黏著劑基底材料形成的基底黏著劑區分與由面向該黏著劑層之第2光學構件之側之第2主面至厚度方向所形成之透明之黏著性的折射率調整用區分，該折射率調整用區分具有比黏著劑基底材料之折射率高的折射率。此構成中，黏著劑層之折射率調整用區分具有比第2光學構件之折射率低的折射率者。
本發明之另外的態樣係第2光學構件中，面向黏著劑層之側形成所定圖型之透明導電性層。此外，折射率調整用區分係以埋入該透明導電性層與第2光學構件 之間的段差，來與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接觸，該折射率調整用區分具有比透明導電性層之折射率低的折射率。此構成中，第2光學構件係在面向黏著劑層之側的表面，形成具有比透明導電性層之折射率低之折射率的折射率調整層，黏著劑層之折射率調整用區分可為具有比形成於該第2光學構件表面之該折射率調整層之折射率高的折射率者。
折射率調整用區分之厚度為20nm~600nm較佳。折射率調整用區分係在與黏著劑基底材料相同黏著性材料中，分散有具有比該黏著性材料高之折射率之高折射率材料的粒子的構成，藉由此高折射率材料粒子可提高該折射率調整用區分之平均折射率。
第2光學構件形成有所定圖型之透明導電性層的構成中，折射率調整用區分係在與黏著劑基底材料相同的黏著性材料中，分散有具有比該黏著性材料高之折射率的高折射率材料的粒子，以提高該折射率調整用區分之平均折射率的構成，透明導電性層之折射率為1.75~2.14，黏著劑基底材料之折射率為1.40~1.55時，高折射率材料之粒子的折射率為1.60~2.74較佳。高折射率材料之粒子，藉由TEM觀察之平均一次粒徑為3nm~100nm較佳。又，高折射率材料可為選自由TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5、及SnO2所成群之1或複數之化合物。折射率調整用區分與第2光學構件之間的接合面，形成高折射材料之粒子與第2光學構件接觸的區域 與該折射率調整用區分之黏著性材料與該第2光學構件接觸的基底(matrix)區域。此時，高折射材料之粒子與第2光學構件接觸的區域，較佳為以面積比30~99%之範圍形成者。又，高折射率材料之粒子與黏著劑基底材料之折射率之差，較佳為0.2~1.3。
折射率調整用區分可為藉由在與黏著劑基底材料相同的黏著性材料中含有具有比該黏著性材料高之折射率的粒子、聚合物或寡聚物之形態的有機材料，以提高該折射率調整用區分之平均折射率所構成者。又，此構成之黏著劑層使用於第2光學構件形成有透明導電性層之構成時，透明導電性層之折射率為1.75~2.14，黏著劑基底材料之折射率為1.40~1.55，有機材料之折射率為1.59~2.04較佳。在此使用之具有高折射率的有機材料，無特別限定，除了如苯乙烯系之具有芳香環的樹脂外，例如含有硫或氮等之雜原子的樹脂(例如含有硫醇或三嗪環的聚合物)。又，粒子為含有奈米尺寸之有機奈米粒子、球狀高分子，粒徑係藉由TEM觀察之平均一次粒徑為3nm~100nm較佳。
黏著劑層之全光線透過率為80%以上較佳。高折射率材料之粒子可含有以凝聚有複數之粒子之凝聚物的形態存在的部分。又，通常折射率調整用區分所含之高折射材料之粒子係在黏著劑層之厚度方向，以不規則的深度存在。
本發明係提供在另外的態樣中，光學構件層 合體內之內部反射抑制方法。此方法係在將透明之第1光學構件與形成有所定圖型之透明導電性層的第2光學構件接合用之黏著劑層上，形成有在面向該黏著劑層之第2光學構件及透明導電性層之側中，具有比黏著劑層之黏著劑基底材料之折射率高、比透明導電性層之折射率低之折射率之透明的黏著性折射率調整用區分，該透明之黏著性折射率調整用區分面向透明導電性層及第2光學構件，且黏著劑層之相反側之面為面向第1光學構件的狀態下，該透明導電性層及該第2光學構件上與該透明之黏著性折射率調整用區分接合，黏著劑層之該相反側之面與第1光學構件接合，使折射率調整用區分形成以埋入該透明導電性層與前述第2光學構件之間之段差，來與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接觸的狀態，通過第1光學構件入射之外光之黏著劑基底層與折射率調整用區分之界面的反射光及折射率調整用區分與透明導電性層之界面的反射光，藉由光學性干涉，至少局部被抵消者。
本發明之此內部反射抑制方法係通過第1光學構件之入射之外光之本質上藉由黏著劑層中之黏著劑基底材料形成之區分與折射率調整用區分之界面的反射光與折射率調整用區分與第2光學構件之界面的反射光，可藉由光學性干涉，至少局部被抵消。
本發明係在另外的態樣中，提供一種光學構件層合體之製造方法，其係具備將透明之第1光學構件與第2光學構件接合用之透明之黏著劑層。此方法係含有形 成附折射率調整區分之黏著劑層的階段。此階段係藉由分別準備本質上藉由透明之黏著劑基底材料形成的黏著劑層與準備含有具有比該黏著劑基底材料高之折射率之折射率調整材料之粒子的塗佈液，在該黏著劑層之一面塗佈該塗佈液，使該塗佈液所含之折射率調整材料之粒子由黏著劑層之一面滲透至厚度方向，使該黏著劑層乾燥，使該塗佈液之液體部分蒸發的步驟來進行。此方法進一步含有以下的階段：將該附折射率調整區分之黏著劑層，在與該一面相反側之面的另一面中，與該第1光學構件接合，該一面中，與該第2光學構件接合的階段。
此光學構件層合體之製造方法中，折射率調整區分可為具有比第2光學構件之折射率低之折射率者。或該第2光學構件為使用在面向黏著劑層之側形成有所定圖型之透明導電性層者，該折射率調整區分係以埋入該透明導電性層與該第2光學構件之間之段差，與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接合，該折射率調整區分可為具有比透明導電性層之折射率低之折射率者。
依據本發明時，因在由黏著劑層之一面至厚度方向，形成具有比黏著劑層之基底材料高之折射率的折射率調整區分，因此不會提高霧度值，可形成高折射率之區域。高折射率之區域可調整與第2光學構件之間的折射率差，藉此可抑制黏著劑層與第2光學構件之間之界面的 反射。又，第2光學構件側形成有經圖型化之透明導電性層的構成係藉由調整黏著劑層之折射率調整區分之折射率對於該透明導電性層與第2光學構件之折射率，變成可抑制界面反射。此外，該透明導電性層之反射光與第2光學構件表面之反射光、及黏著劑層內部所產生之反射光之間，因反射光彼此之相位差所致的抵消效果，可使大幅減低返回至第1光學構件側之反射光。
1‧‧‧光學構件層合體
2‧‧‧第1光學構件
3、13‧‧‧透明之黏著劑層
3a、13a‧‧‧基底黏著劑區分
3b、13b‧‧‧折射率調整用區分
4‧‧‧第2光學構件
7‧‧‧透明導電性層
17‧‧‧高折射率材料粒子
19‧‧‧分散液
20‧‧‧黏著劑基底材料
21、31‧‧‧層合體
22‧‧‧COP基材
23‧‧‧折射率調整層
24‧‧‧ITO層
25‧‧‧黏著劑層
26‧‧‧玻璃窗
[圖1]表示本發明之最單純之實施形態之一例之光學構件層合體的剖面圖。
[圖2]表示本發明之光學構件層合體所使用之黏著劑層之一實施形態的剖面圖。
[圖3]表示形成有經圖型化之透明導電性層的構成，適用圖2所示之黏著劑層13的實施形態的剖面圖。
[圖4]表示與第2光學構件接觸之黏著劑層之主面狀態的平面圖。
[圖5]表示製作圖2所示之黏著劑層用之步驟者，(a)表示分散液之塗佈步驟的概略圖、(b)表示高折射率材料粒子之滲透步驟的概略圖、(c)表示乾燥步驟的概略圖。
[圖6]表示本發明之實施例中，製作之第2光學構件之構成者，(a)(b)(c)各自表示附ITO之第2光學 構件(1)(2)(3)。
[圖7]表示本發明之實施例之光學構件層合體的構成者，(a)(b)(c)各自表示實施例1、2、3。
[圖8]表示藉由本發明之實施例所製作之黏著劑層之折射率調整用區分之表面狀態的20000倍SEM相片。
[圖9](a)(b)各自表示藉由本發明之不同實施例所得之黏著劑層中之折射率調整用區分之高折射率材料粒子分布的30000倍TEM剖面相片。
以下，參考圖說明本發明之實施形態。圖1係表示本發明之最單純之實施形態之一例之光學構件層合體1的剖面圖，此光學構件層合體1係由光學上透明之第1光學構件2與經由光學上透明之黏著劑層3，與該第1光學構件2接合之第2光學構件4所構成。該透明之第1光學構件2可藉由偏光薄膜、相位差薄膜、其他光學顯示裝置所使用之光學薄膜、或如光學顯示裝置之辨識側保護玻璃之透明保護構件所構成。第1光學構件2係與黏著劑層3之第1主面5接合，第2光學構件4係與黏著劑層3之第2主面6接合。
圖示之光學構件層合體1中，透明之黏著劑層3係具有本質上藉由黏著劑基底材料形成的基底黏著劑區分3a與具有比該基底黏著劑區分3a高之折射率的折射率調整用區分3b。形成基底黏著劑區分3a之黏著劑基底 材料的折射率，較佳為具有與第1光學構件2之折射率接近之折射率者。
黏著劑基底材料只要是具有可使用於光學用途之黏著性的透明材料時，即無特別限定。例如可適宜選擇使用丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑。從透明性、加工性及耐久性等之觀點，較佳為使用丙烯酸系黏著劑。黏著劑基底材料可單獨使用上述黏著劑之任一者，或組合2種類以上來使用。作為丙烯酸系黏著劑之基底聚合物使用的丙烯酸系聚合物，雖無特別限定，但是以(甲基)丙烯酸烷酯為主成分之單體之均聚物或共聚物較佳。在此，「(甲基)丙烯酸」的敘述可作為表示「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」中任一方或兩方來使用，其他情形也同樣。本發明中，丙烯酸系聚合物的用語，除了上述(甲基)丙烯酸烷酯外，也包含可與此共聚合之其他的單體的意思來使用。黏著劑基底材料之折射率，一般為1.40~1.55。
黏著劑層3之厚度無特別限定，通常為5μm~500μm、較佳為5μm~400μm、有更佳為5μm~500μm。其中，折射率調整用區分3b之厚度，較佳為20nm~600nm、更佳為20nm~300nm、又更佳為20nm~200nm。折射率調整區分3b與基底黏著劑區分3a之邊界雖為不規則之凹凸形狀，但是本發明中，折射率調整區分3b之厚度係藉由將凹凸形狀之深度之測量值進行平均來 決定。基底黏著劑區分之厚度係由黏著劑層3之厚度減去折射率調整區分3b之厚度的值。黏著劑層3全體之全光線透過率係依據JIS K7361測量的值為80%以上、較佳為90%以上。黏著劑層3之全光線透過率越高越佳。
折射率調整用區分3b係例如可將具有比黏著劑基底材料高之折射率之樹脂材料的溶液，以所定量塗佈於藉由黏著劑基底材料所形成之黏著劑層之一面，藉由使乾燥來形成。此目的可使用之樹脂材料，例如有專利文獻1所記載之黏著劑組成物。或可藉由將具有比黏著劑基底材料高之折射率的有機物、例如苯乙烯寡聚物以固體成分分散之分散液，塗佈於黏著劑基底材料之層之表面，使乾燥的方法。但是本發明係如以下針對圖2說明，使高折射率材料之粒子從藉由黏著劑基底材料所形成之黏著劑層之一面滲透，使該高折射率材料之粒子分散於與黏著劑層之該一面鄰接的區域較佳。
以下參照圖2，詳細說明本發明之一實施形態之黏著劑層13的構成。
圖2所示之本發明之實施形態的黏著劑層13係與圖1所示之實施形態之黏著劑層3同樣，具有第1主面15及第2主面16，且具有本質上藉由黏著劑基底材料形成的基底黏著劑區分13a與具有比該基底黏著劑區分13a高之折射率之折射率調整用區分13b的構成，但是本實施形態中，折射率調整用區分13b係藉由含有由第2主面16至厚度方向之深度，滲透至黏著劑基底材料內，被 分散於黏著劑基底材料內之高折射率材料的粒子17，而具有比基底黏著劑區分13a高之折射率所構成。
折射率調整用區分13b中之高折射率材料粒子17之折射率，較佳為1.7~2.7之範圍。高折射率材料之粒子與黏著劑基底材料之折射率之差，較佳為0.2~1.3。本發明之此實施形態中可使用的高折射率材料，例如有TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO2、Nb2O5及SnO2，使用選自此等之群之1或複數之化合物，可形成高折射率材料粒子17。高折射率材料粒子17之平均一次粒徑為3nm~100nm即可，粒子係各個分散狀態，或一部分經凝聚的狀態，被分布於折射率調整用區分13b內。折射率調整用區分13b與基底黏著劑區分13a之邊界，如參考圖1進行說明，成為不規則的凹凸形狀，但是折射率調整用區分13b之厚度測量係在各測量位置中，將高折射率材料粒子17之90%存在之深度之範圍作為該測量位置之區分13b之厚度測量值，將複數之測量位置之測量值進行平均，作為折射率調整用區分13b之厚度。
圖3係表示為了構成觸控面板感測器，在第2光學構件4之黏著劑層側表面形成有例如經圖型化之ITO膜之透明導電性層7的構成，適用如圖2所示之黏著劑層13之實施形態的剖面圖。此時之第2光學構件4之例，例如有液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置中之顯示面板的玻璃基板。
如圖3所示，黏著劑層13之折射率調整用區 分13b之主面16係以埋入第2光學構件4與透明導電性層7之間之段差，來與第2光學構件4之黏著劑層側表面與透明導電性層7之兩方接合。圖4係表示與第2光學構件4接觸之黏著劑層13之主面16之狀態的平面圖。如圖4所示，高折射率材料粒子17以島狀被分散於黏著劑基底材料之基底18的海島構成，黏著劑層13與第2光學構件4接觸的面，存在著對於第2光學構件4，有黏著劑基底材料接觸的部分與高折射率材料粒子17接觸的部分。此位置之高折射率材料粒子17與黏著劑基底材料之面積比，較佳為30~99%之範圍。面積比係在一邊為10μm~200μm之方形區域中，高折射率材料粒子17相對於該方形區域之全體面積所佔有之面積之比例，對複數之方形區域進行測量，將其測量值進行平均而求得面積比。
圖5(a)(b)(c)係概略表示製造圖2所示之黏著劑層13之步驟的圖。首先，準備使上述高折射率材料粒子17分散於溶劑的分散液19與黏著劑基底材料之層20。其次，如圖5(a)所示，將此分散液19塗佈於黏著劑基底材料層20之表面。黏著劑基底材料層20之表面因分散液19之溶劑而膨潤，該過程中，分散液19內之高折射率材料粒子17在黏著劑基底材料層20內，於厚度方向滲透。此狀態如圖5(b)所示。然後，藉由乾燥步驟使黏著劑基底材料層20乾燥，使分散液19之溶劑蒸發可得到如圖2所示之黏著劑層13。此狀態如圖5(c)所示。
高折射率材料粒子17對黏著劑基底材料層20之滲透深度係以黏著劑基底材料與分散液19之溶劑之關係來決定。為了使滲透深度成為上述的值，而可適宜選擇溶劑。
[實施例]
以下說明本發明之實施例。
[黏著劑基底製作] <黏著劑A之製作> (丙烯酸寡聚物)
將二環戊基丙烯酸酯(DCPMA、甲基丙烯酸二環戊酯)60重量份、甲基甲基丙烯酸酯(MMA、甲基丙烯酸甲酯)40重量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油(Thioglycerol)3.5重量份、及作為聚合溶劑之甲苯100重量份投入4口燒瓶內，將此等在氮環境下，以70℃攪拌1小時。其次，將作為聚合起始劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.2重量份投入4口燒瓶內，於70℃下反應2小時，接著，於80℃下使反應2小時。然後，將反應液投入於130℃溫度環境下，使乾燥除去甲苯、鏈轉移劑及未反應單體，得到固形狀之丙烯酸系聚合物。如此所得之丙烯酸系聚合物作為「丙烯酸系聚合物(A-1)」。此丙烯酸系聚合物(A-1)之重量平均分子量(Mw)為5.1×103。
(黏著劑A)
由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)68重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)14.5重量份及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)17.5重量份所構成之單體混合物中，摻合光聚合起始劑(商品名「IRGACURE184」、BASF公司製)0.035重量份、及光聚合起始劑(商品名「IRGACURE651」、BASF公司製)0.035重量份後，照射紫外線使黏度(計測條件：BH黏度計No.5 rotor、10rpm、測量溫度30℃)成為約20Pa．s為止，得到上述單體成分之一部分進行聚合的預聚物組成物。
其次，該預聚物組成物中添加上述丙烯酸系聚合物(B-1)5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製)0.3重量份後混合得到丙烯酸系黏著劑組成物。將上述丙烯酸系黏著劑組成物塗佈於剝離薄膜(商品名「MRF#38」、三菱樹脂股份有限公司製)之經剝離處理的面上，使黏著劑層形成後之厚度成為150μm，形成黏著劑組成物層，接著，該黏著劑組成物層之表面貼合剝離薄膜(商品名「MRN#38」、三菱樹脂股份有限公司製)。然後，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2之條件照射紫外線，使黏著劑組成物層光硬化，形成黏著劑層。
<黏著劑B之製作>
將2-乙基己基丙烯酸酯(2EHA)32重量份、丙烯酸異十八酯(ISTA)48重量份、2-羥基丙基丙烯酸酯(2HPA)20重量部、2種光聚合起始劑(商品名：IRGACURE184、BASF製)0.05重量份、及光聚合起始劑(商品名：IRGACURE651、BASF製)0.05重量份投入4口燒瓶內，調製單體混合物。其次，藉由將此單體混合物於氮環境下曝露於紫外線，使局部光聚合，得到聚合率約10重量%之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿料(syrup))。如此所得之丙烯酸系聚合物漿料之100重量份中，添加三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.02重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403、信越化學工業(股)製)0.3份後，將此等均勻混合調製單體成分。
接著，將如上述調製之單體成分塗佈於單面以聚矽氧進行剝離處理後之厚度38μm之聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRF、三菱樹脂(股)製)之剝離處理面，使最終的厚度成為100μm，形成塗佈層。其次，使單面以聚矽氧進行剝離處理後之厚度38μm之聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRE、三菱樹脂(股)製)，使該薄膜之剝離處理面成為塗佈層側，來被覆被塗佈之單體成分的表面。藉此，使單體成分之塗佈層阻隔氧。對於如此所得之具有塗佈層的薄片，使用chemical light lamp((股)東芝製)，將照度5mW/cm2(在約350nm具有最大感度之TOPCON UVR-T1測量)之紫外線照射360秒鐘，使塗佈層硬化形成黏著劑層，製作在黏著劑層之兩面設置有剝離 薄片之黏著薄片(無基材型、黏著劑層之厚度：100μm)。
<黏著劑C之製作>
將作為單體成分之丁基丙烯酸酯(BA)99份、4-羥基丁基丙烯酸酯(4HBA)1份、作為聚合起始劑之偶氮雙異丁腈0.2份及作為聚合溶劑之乙酸乙酯，使固體成分成為30%，投入於具備有溫度計、攪拌機、迴流冷卻管及氮氣導入管的可分離燒瓶後，使氮氣流通，邊攪拌下進行約1小時氮取代。然後，將燒瓶加熱至60℃，使反應7小時得到重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物。此丙烯酸系聚合物之溶液(固體成分100份)中添加作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學(股)製「TAKENATE D110N」)0.1份、矽烷偶合劑(信越化學(股)製「KBM-403」)0.1份，調製黏著劑組成物(溶液)。將如此調製之黏著劑溶液塗佈於剝離薄片之脫膜處理面，使乾燥後之厚度成為25μm，在常壓下進行60℃、1分鐘及150℃、1分鐘加熱乾燥，再於23℃下進行120小時熟成，製作黏著劑層。
[附折射率調整層之黏著劑之製作] <使用黏著劑A/高折射率材料之奈米粒子分散液之事例> (使用黏著劑A/奈米粒子分散液(分散媒：乙醇)的事例)
將黏著劑層之厚度為150μm，該黏著劑層之兩面以輕剝離PET剝離薄片保護之狀態的黏著劑A(黏著劑層之折射率：1.49)之一方的輕剝離PET剝離薄片予以剝離。於露出之黏著劑層之表面，以塗佈棒RDS No.5塗佈作為含有高折射率粒子之分散液之含有二氧化鋯粒子(ZrO2、折射率：2.17、平均一次粒徑：20nm)的塗佈用處理液(分散媒：乙醇、粒子濃度：1.5重量%、分散液之透過率：75%、CIK NanoTek(股)製)，使折射率調整區分之厚度成為20nm~300nm，然後以110℃之乾燥烤箱使乾燥180秒鐘。接著，將PET剝離薄片貼合於分散有二氧化鋯(ZrO2)粒子之黏著劑層表面，得到黏著劑薄片。如此，藉由TEM觀察計測二氧化鋯粒子之平均一次粒徑。
<其他的事例>
與上述事例同樣，使用下述黏著劑及高折射率材料之奈米粒子分散液，同樣製作黏著劑薄片。使用材料為黏著劑B(折射率1.48)、黏著劑C(折射率1.47)、ZrO2奈米粒子分散液(分散媒：乙醇、粒徑20nm)、ZrO2奈米粒子分散液(分散媒：乙醇、粒徑30nm)、及ZrO2奈米粒子分散液(分散媒：n-丙醇、粒徑20nm)。
<使用黏著劑A/作為高折射率材料之苯乙烯寡聚物溶液的事例>
將黏著劑層之厚度為150μm，該黏著劑層之兩面以輕
剝離PET剝離薄片保護之狀態的黏著劑A(黏著劑層之折射率：1.49)之一方的輕剝離PET剝離薄片予以剝離。於露出之黏著劑層之表面，以塗佈棒RDS No.5塗佈預先使固體成分濃度成為2重量%而分散於甲苯之苯乙烯寡聚物溶液(折射率：1.60、安原化學公司製、SX-100)，使折射率調整層之厚度成為20nm~300nm，然後以110℃之乾燥烤箱使乾燥180秒鐘。接著，將PET剝離薄片貼合於配置有苯乙烯之黏著劑層表面，得到黏著劑薄片。
[評價方法] <黏著劑層之表面狀態之觀察>
使用FE-SEM，以加速電壓2kV、觀察倍率500倍、2,000倍、5,000倍、及20,000倍觀察實施例之各自之黏著劑層之具有高折射率材料粒子之側的表面。圖8表示其20,000倍的相片。得知高折射率材料粒子被均勻分散。
<漸層(gradation)構造之觀察>
使用透過型電子顯微鏡(TEM)以倍率30,000倍觀察實施例之黏著劑層之具有高折射率材料粒子之側之表面附近的剖面。其結果如圖9(a)(b)所示。圖9(a)係折射率調整用區分之厚度之大致全體，高折射率材料粒子大致均勻分布，但是圖9(b)之例得知黏著劑層中之高折射率材料粒子之分布在黏著劑層之表面最高，且具有隨著黏著劑層之厚度方向而減少的分布。
<平均表面折射率>
將實施例及比較例所得之黏著薄片之平均表面折射率，使用分光橢圓測厚儀(EC-400、JA.Woolam製)，測量鈉D線(589nm)之折射率。實施例及比較例之黏著薄片係將兩面之剝離薄片剝離，在未塗佈粒子之面貼合黑板的狀態，測量塗佈有粒子之面的平均折射率。比較例之黏著薄片係將兩方之剝離薄片剝離，一面貼合黑板的狀態，測量黏著劑層表面之平均折射率。
<折射率調整層之厚度之測量>
調整黏著劑層之深度方向的剖面，進行TEM觀察。由所得之TEM像(直接倍率3000~30000倍)計測折射率調整層之厚度之測量。折射率調整層之厚度係作為黏著劑基底層與調整層之界面之凸凹的平均值，與黏著劑基底層之界面判別困難時，將表面TEM像以圖像處理軟體(ImageJ)進行二值圖像(binary image)處理，以奈米粒子之90%存在之區域的深度作為調整層之厚度。
<高折射率粒子之面積比率>
使用FE-SEM以加速電壓2kV、觀察倍率500倍、2,000倍、5,000倍觀察黏著劑層之粒子塗佈側的表面。所得之表面SEM像以圖像處理軟體(ImageJ)進行二值化圖像處理，求得相對於長邊23μm、短邊18μm之長方形 區域中之全體面積之面積為高折射率粒子所佔有之面積比率(%)。
<全光線透過率、霧度值>
實施例及比較例所得之黏著薄片係將粒子塗佈側之剝離薄片剝離，貼合於載玻片(商品名：白研磨No.1、厚度：0.8~1.0mm、全光線透過率：92%、霧度：0.2%、松浪硝子工業(股)製)。再將另一方的剝離薄片剝離，製作具有黏著劑層/載玻片之層構成的試驗片。又，比較例之黏著薄片係將一方的剝離薄片剝離，貼合於載玻片(商品名：白研磨No.1、厚度：0.8~1.0mm、全光線透過率：92%、霧度：0.2%、松浪硝子工業(股)製)，再將另一方的剝離薄片剝離，製作具有黏著劑層/載玻片之層構成的試驗片。上述試驗片之可見光區域中之全光線透過率、霧度值使用霧度計(裝置名：HM-150、(股)村上色彩研究所製)測量。
<180度剝離接著力(對玻璃板之180度拉剝離接著力)>
由實施例及比較例所得之黏著薄片切成長度100mm、寬20mm之薄片。其次，實施例及比較例之薄片係將未塗佈粒子之側之剝離薄片剝離，黏貼(補強)PET薄膜(商品名：lumirror S-10、厚度：25μm、東麗(股)製)。又，比較例1、2之薄片係將一方的剝離薄片剝離，黏貼(補強)PET薄膜(商品名：lumirror S-10、厚度：25μm、 東麗(股)製)。其次，將另一方的剝離薄片剝離，對於作為試驗板之玻璃板(商品名：鈉鈣玻璃#0050、松浪硝子工業(股)製)以2kg滾輪、1次來回之壓黏條件壓黏，製作由試驗板/黏著劑層/PET薄膜所構成的樣本(sample)。
對於所得之樣本進行高壓鍋處理(50℃、0.5MPa、15分鐘)後，在23℃、50%R.H.之環境下放置冷卻30分鐘。放置冷卻後，使用伸張試驗機(裝置名：Autograph AG-IS、(股)島津製作所製)，依據JIS Z0237，在23℃、50%R.H.之環境下，伸張速度300mm/分鐘、剝離角度180°之條件下，由試驗板上，將黏著薄片(黏著劑層/PET薄膜)拉剝離，測量180°拉剝離接著力(N/20mm)。又，各實施例、比較例中，製作高折射率粒子未塗佈之黏著薄片，對於該高折射率粒子未塗佈之黏著薄片也與上述同樣，測量180度剝離接著力(基底黏著劑層之接著力)，計算各試樣之180度剝離接著力對基底黏著劑層之接著力之比率(%)。
<含有高折射率粒子之分散液之透過率>
含有高折射率粒子之分散液之透過率係以光電比色計(AC-114、OPTIMA公司製)使用530nm之濾光片測量。以分散溶劑單獨之透過率作為100%，測量各實施例、比較例使用的分散液之透過率(%)。
<反射抑制率之測量>
將實施例及比較例之光學構件層合體之一面作為反射率測量面，相反側之面黏貼附黑PET基材之膠帶(lintec(股)製PET75NBPET38)，作為反射率測量用之試料。藉由反射型分光光度計(U4100、(股)日立高科技製)測量光學構件層合體之反射率測量面側之反射率(Y值)。測量係在將透明導電層進行蝕刻的部分與未蝕刻之部分之雙方的位置進行測量。亦即，將透明導電層進行蝕刻之部分(開口部)的測量係表示黏著劑層之折射率調整層與光學構件層合體之折射率調整層之界面的反射率，未蝕刻之部分(圖型部)之測量係表示黏著劑層之折射率調整層與透明導電層界面之反射率。
反射抑制率係針對經蝕刻之部分與未蝕刻之部分之各自依據下式算出。又，下述式中之「無粒子時之反射率(%)」係指比較例(不使用粒子的情形)之光學構件層合體之反射率。亦即，反射抑制率係表示以具有折射率調整層，反射率可減低何種程度的指標。
反射抑制率(%)=反射率(%)-無粒子時的反射率(%)
[附折射率調整層之黏著劑與透明導電層之層合體之製作] <使用作為基材之ZEONOR(COP)之透明導電層之製作>
在厚度100μm之環烯烴聚合物薄膜(商品名：「ZEONORZF16」、面內雙折射率：0.0001、日本zeon(股)製)之兩面，使用塗佈棒塗佈相對於黏結劑樹脂(商品 名：「UNIDIC RS29-120」、DIC公司製)100份添加有0.07份之直徑3μm之複數之粒子(商品名：「SSX105」、積水樹脂(股)製)的塗佈液，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，形成在兩面具有防黏連層的薄膜(以下稱為COP基材)。其次，在COP基材之單面藉由塗佈棒塗佈折射率調整劑(商品名：「OPSTAR KZ6661」、JSR(股)製)，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，形成厚度100nm、折射率1.65之折射率調整層。所得之COP基材之折射率調整層之表面，在捲繞式濺鍍裝置中，層合透明導電層之厚度23nm之銦錫氧化物層(ITO)。
<使用作為基材之PET之透明導電性層之製作>
在厚度50μm之PET薄膜(商品名：「lumirror：U40」東麗公司製)之單面，使用塗佈棒塗佈相對於黏結劑樹脂(商品名：「UNIDIC RS29-120」、DIC公司製)100份添加有0.1份之直徑3μm之複數之粒子(商品名：「SSX105」、積水樹脂(股)製)的塗佈液，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，在單面形成膜厚1.5μm之防黏連層。其次，在與先前塗佈的面相反面，使用塗佈棒塗佈將硬膜用樹脂(商品名：「OPSTAR KZ7540(含有二氧化矽奈米粒子)」、JSR(股)製)以MIBK調整成為固體 成分10%的塗佈液，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，形成具有膜厚1.5μm之硬化層的薄膜(以下稱為PET基材)。
其次，在先前所得之硬化層之上，使用塗佈棒塗佈將折射率調整劑(商品名：「OPSTAR H0001(含有二氧化鋯奈米粒子)」、JSR(股)製)以MIBK調整成為固體成分10%的塗佈液，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，形成膜厚35nm、折射率1.63之折射率調整層2。其次，在前述折射率調整層2之上，使用塗佈棒塗佈將折射率調整劑(商品名：「L-005(含有中空奈米二氧化矽粒子)」、JSR(股)製)以MIBK調整成為固體成分1.5%的塗佈液，在80℃之烤箱下，1分鐘乾燥後，藉由照射積算光量300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，形成膜厚40nm、折射率1.49之折射率調整層1。然後，將具有折射率調整層1、2之PET基材投入捲繞式濺鍍裝置中，在折射率調整層1之表面層合透明導電層為厚度23nm之銦錫氧化物層(ITO)。
<使用作為基材之玻璃之透明導電層之製作>
在無鹼玻璃(折射率1.53)之一面，藉由濺鍍法形成ITO膜，製作具有非結晶化ITO膜(折射率1.85)之透明導電性基材。此非結晶性ITO薄膜之Sn比率為3重量 %。又，ITO薄膜之Sn比率係由Sn原子之重量/(Sn原子之重量+In原子之重量)算出。
<作為觸控面板感測器機能之光學構件層合體之製造>
在上述透明導電層上之一部份形成光阻膜後，將此於25℃、5重量%之鹽酸(氯化氫水溶液)中浸漬1分鐘，進行透明導電層之蝕刻。藉此，製作存在有相當於電極配線圖型之透明導電層的部分(圖型部)與被除去的部分(開口部)。將上述黏著劑薄片之具有高折射率材料粒子之側的PET剝離薄片予以剝離，使該黏著劑薄片之黏著劑層(具有前述高折射率粒子之側)與該透明導電層接觸狀態，將該黏著劑薄片層合於經圖型化之透明導電層之上。將黏著劑薄片之相反側之PET剝離薄片剝離後，為了表面保護及光學測量，而貼合載玻片或厚度100μm之環烯烴聚合物薄膜(商品名：「ZEONORZF16」、面內雙折射率：0.0001、日本zeon(股)製)。
[第2光學構件之製作]
準備作為第2光學構件4之如圖6(a)所示之層合體21與圖6(b)所示之層合體31。圖6(a)所示之層合體21係在折射率1.53之COP基材22之一表面上形成折射率1.65之折射率調整層23，在該折射率調整層23之上形成經圖型化之ITO層24的構成。ITO之折射率為1.9。此層合體21稱為「附ITO之第2光學構件(1)」。
圖6(b)所示之層合體31係在折射率1.57之PET基材32之一表面上形成折射率1.63之折射率調整層33，在該折射率調整層33之上再形成折射率1.49之另外的折射率調整層33a，該折射率調整層33a之上形成經圖型化之ITO層34的構成。此時，ITO之折射率為1.9。此層合體31稱為「附ITO之第2光學構件(2)」。
此外，製作圖6(c)所示稱為「附ITO之第2光學構件(3)」之層合體41。此附ITO之第2光學構件(3)之層合體41係在折射率1.53之玻璃基板42形成未附圖型之ITO層44的構成。
[實施例1]
如圖7(a)所示，將附ITO之第2光學構件(1)經由本發明之一實施形態之黏著劑層25，與構成第1光學構件2之玻璃窗26接合。玻璃窗26之折射率為1.53。黏著劑層25係具有藉由黏著劑A形成之折射率1.49之基底黏著劑區分25a與折射率1.68之折射率調整用區分25b者。折射率調整用區分25b係將平均粒徑20nm之氧化鋯粒子分散於乙醇液之氧化鋯粒子1.5wt%之分散液，塗佈於由黏著劑A所構成之黏著劑層之表面，使氧化鋯粒子由黏著劑層之一方的表面滲透至厚度方向，藉由乾燥而得者。黏著劑層25之厚度為150μm，折射率調整用區分25b之厚度為150nm。此實施例1中之折射率調整用區分25b之表面相片如圖8所示，剖面相片如圖9(a)所示。 為了測量反射率，而在與COP基材22之折射率調整層23相反側之面的背面，黏貼黑色的PET薄膜27。測量如此所得之光學構件層合體之光學特性。結果如表1所示。
[實施例2]
如圖7(b)所示，將附ITO之第2光學構件(2)經由本發明之其他實施形態之黏著劑層35，與構成第1光學構件2之玻璃窗36接合。玻璃窗36之折射率為1.53。黏著劑層35係具有藉由黏著劑B形成之折射率1.48之基底黏著劑區分35a與折射率1.62之折射率調整用區分35b者。折射率調整用區分35b係將平均粒徑20nm之氧化鋯粒子分散於正丙醇液之氧化鋯粒子2.0wt%之分散液，塗佈於由黏著劑B所構成之黏著劑層之表面，使氧化鋯粒子由黏著劑層之一方的表面滲透至厚度方向，藉由乾燥而得者。黏著劑層35之厚度為100μm，折射率調整用區分35b之厚度為500nm。此實施例2中之折射率調整用區分35b之剖面相片如圖9(b)所示。為了測量反射率，而在與PET基材32之折射率調整層33相反側之面的背面，黏貼黑色的PET薄膜37。測量如此所得之光學構件層合體之光學特性。結果如表1所示。
[實施例3]
如圖7(c)所示，將附ITO之第2光學構件(3)經由本發明之另外的實施形態之黏著劑層45，與構成第1 光學構件2之玻璃窗46接合。玻璃窗46係藉由ZEONOR薄膜(ZF14-100、註冊商標)製作之折射率為1.53的透明構件。黏著劑層45係具有藉由黏著劑C形成之折射率1.46之基底黏著劑區分45a與折射率1.70之折射率調整用區分45b者。折射率調整用區分45b係將平均粒徑30nm之氧化鋯粒子分散於乙醇液之氧化鋯粒子1.5wt%之分散液，塗佈於由黏著劑C所構成之黏著劑層之表面，使氧化鋯粒子由黏著劑層之一方的表面滲透至厚度方向，藉由乾燥而得者。黏著劑層45之厚度為25μm，折射率調整用區分45b之厚度為200nm。為了測量反射率，而在與玻璃基板42之ITO層44相反側之面的背面，黏貼黑色的PET薄膜47。測量如此所得之光學構件層合體之光學特性。結果如表1所示。
[實施例4]
使用與實施例1不同構成之黏著劑層，製作與圖7(a)所示者同樣的光學構件層合體。此實施例係將附ITO之第2光學構件(1)經由本發明之另外的實施形態之黏著劑層25，與構成第1光學構件2之玻璃窗26接合。玻璃窗26之折射率為1.53。黏著劑層25係具有藉由黏著劑A形成之折射率1.49之基底黏著劑區分25a與折射率1.65之折射率調整用區分25b者。折射率調整用區分25b係將平均粒徑20nm之氧化鋯粒子分散於正丁醇液之氧化鈦粒子0.5wt%之分散液，塗佈於由黏著劑A所構 成之黏著劑層之表面，使氧化鈦粒子由黏著劑層之一方的表面滲透至厚度方向，藉由乾燥而得者。此實施例之黏著劑層25之厚度為150μm，折射率調整用區分25b之厚度為130nm。為了測量反射率，而在與COP基材22之折射率調整層23相反側之面的背面，黏貼黑色的PET薄膜27。測量如此所得之光學構件層合體之光學特性。結果如表1所示。
[實施例5]
使用折射率1.60之苯乙烯寡聚物，藉由形成折射率調整用區分，製作與圖7(a)所示者同樣的光學構件層合體。此實施例係將附ITO之第2光學構件(1)經由本發明之另外的實施形態之黏著劑層25，與構成第1光學構件2之玻璃窗26接合。玻璃窗26之折射率為1.53。黏著劑層25係具有藉由黏著劑A形成之折射率1.49之基底黏著劑區分25a與折射率1.55之折射率調整用區分25b者。折射率調整用區分25b係將固體成分為折射率1.60之苯乙烯寡聚物分散於甲苯液之固體成分2wt%之分散液，塗佈於由黏著劑A所構成之黏著劑層之表面，使固體成分由黏著劑層之一方的表面滲透至厚度方向，藉由乾燥而得者。此實施例之黏著劑層25之厚度為150μm，折射率調整用區分25b之厚度為300nm。為了測量反射率，而在與COP基材22之折射率調整層23相反側之面的背面，黏貼黑色的PET薄膜27。測量如此所得之光學構件 層合體之光學特性。結果如表1所示。
[比較例1]
將附ITO之第2光學構件(1)經由僅由黏著劑A所構成之黏著劑層，與構成第1光學構件2之折射率1.53之玻璃窗26接合，製作比較例1之光學構件層合體。
[比較例2]
將附ITO之第2光學構件(2)經由僅由黏著劑B所構成之黏著劑層，與構成第1光學構件2之折射率1.53之玻璃窗26接合，製作比較例2之光學構件層合體。
[比較例3]
將附ITO之第2光學構件(3)經由僅由黏著劑C所構成之黏著劑層，與構成第1光學構件2之折射率1.53之玻璃窗26接合，製作比較例3之光學構件層合體。
[產業上之可利用性]
如上述，本發明係在接合第1光學構件與第2光學構件之黏著劑層中，由第2光學構件側之面至厚度方向，設置具有比黏著劑基底材料之折射率高之折射率的折射率調整區分，因此可抑制外光之內部反射光通過第1光學構件而返回者。本發明可適用於如液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置之光學顯示裝置。本發明特別是可適用於具有觸控感測器之觸控面板方式之顯示裝置。

Claims (21)

  1. 一種光學構件層合體，其係具備將透明之第1光學構件與第2光學構件接合用之透明之黏著劑層的光學構件層合體，前述黏著劑層含有由面向前述第1光學構件之側之第1主面至厚度方向，本質上藉由透明的黏著劑基底材料形成的基底黏著劑區分，與由面向該黏著劑層之前述第2光學構件之側之第2主面至厚度方向所形成之透明之黏著性的折射率調整用區分，該折射率調整用區分具有比前述黏著劑基底材料之折射率高的折射率。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分具有比前述第2光學構件之折射率低的折射率。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學構件層合體，其中前述第2光學構件在面向前述黏著劑層之側形成所定圖型之透明導電性層，前述折射率調整用區分係以埋入該透明導電性層與前述第2光學構件之間的段差，來與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接觸，前述折射率調整用區分具有比前述透明導電性層之折射率低的折射率。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學構件層合體，其中前述第2光學構件係在面向前述黏著劑層之側的表面，形成具有比前述透明導電性層之折射率低之折射率的折射率調整層，前述黏著劑層之前述折射率調整用區分具有比形成於前述第2光學構件表面之前述折射率調整層之折射率高 的折射率。
  5. 如申請專利範圍第1~4項中任一項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分之厚度為20nm~600nm。
  6. 如申請專利範圍第1~4項中任一項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分係在與前述黏著劑基底材料相同黏著性材料中，分散有具有比該黏著性材料高之折射率之高折射率材料的粒子，以提高該折射率調整用區分之平均折射率所構成者。
  7. 如申請專利範圍第3項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分係在與前述黏著劑基底材料相同的黏著性材料中，分散有具有比該黏著性材料高之折射率的高折射率材料的粒子，以提高該折射率調整用區分之平均折射率所構成者，前述透明導電性層之折射率為1.75~2.14，前述黏著劑基底材料之折射率為1.40~1.55，前述高折射率材料之粒子的折射率為1.60~2.74。
  8. 如申請專利範圍第7項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分與前述第2光學構件之間的接合面，形成有前述高折射材料之粒子與前述第2光學構件接觸的區域與該折射率調整用區分之黏著性材料與該第2光學構件接觸之基底區域。
  9. 如申請專利範圍第7或8項之光學構件層合體，其中前述高折射率材料藉由TEM觀察的平均一次粒徑為3nm~100nm。
  10. 如申請專利範圍第7或8項之光學構件層合體，其中前述高折射率材料之粒子與前述黏著劑基底材料之折射率之差為0.2~1.3。
  11. 如申請專利範圍第7或8項之光學構件層合體，其中前述高折射率材料係選自由TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5、及SnO2所成群之1或複數的化合物。
  12. 如申請專利範圍第1~4項中任一項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分係藉由在與前述黏著劑基底材料相同的黏著性材料中含有具有比該黏著性材料高之折射率的粒子、聚合物或寡聚物之形態的有機材料，以提高該折射率調整用區分之平均折射率所構成者。
  13. 如申請專利範圍第3項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分係藉由在與前述黏著劑基底材料相同的黏著性材料中含有具有比該黏著性材料高之折射率的粒子、聚合物或寡聚物之形態的有機材料，以提高該折射率調整用區分之平均折射率所構成者，前述透明導電性層之折射率為1.75~2.14，前述黏著劑基底材料之折射率為1.40~1.55，前述有機材料之折射率為1.59~2.04。
  14. 如申請專利範圍第1~4項中任一項之光學構件層合體，其中前述黏著劑層之全光線透過率為80%以上。
  15. 如申請專利範圍第7或8項之光學構件層合體，其中前述高折射率材料之粒子含有以凝聚有複數之粒子之凝聚物的形態存在的部分。
  16. 如申請專利範圍第1~4項中任一項之光學構件層合體，其中前述折射率調整用區分係在前述黏著劑層之厚度方向，以不規則的深度存在。
  17. 一種光學構件層合體內之內部反射抑制方法，其特徵係將透明之第1光學構件與形成有所定圖型之透明導電性層的第2光學構件接合用之黏著劑層上形成有在面向該黏著劑層之前述第2光學構件及前述透明導電性層之側中，具有比前述黏著劑層之黏著劑基底材料之折射率高、比前述透明導電性層之折射率低之折射率之透明的黏著性折射率調整用區分，該透明之黏著性折射率調整用區分面向前述透明導電性層及前述第2光學構件，前述黏著劑層之相反側之面為面向前述第1光學構件的狀態下，該透明導電性層及該第2光學構件上與該透明之黏著性折射率調整用區分接合，前述黏著劑層之前述相反側之面與前述第1光學構件接合，使前述折射率調整用區分形成以埋入該透明導電性層與前述第2光學構件之間之段差，來與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接觸的狀態，通過前述第1光學構件入射之外光之前述黏著劑基底層與前述折射率調整用區分之界面的反射光及前述折射率調整用區分與前述透明導電性層之界面的反射光，藉由光學性干涉，至少局部被抵消。
  18. 如申請專利範圍第17項之光學構件層合體內之內部反射抑制方法，其中通過前述第1光學構件之入射之外 光之本質上藉由前述黏著劑層中之前述黏著劑基底材料形成之區分與前述折射率調整用區分之界面的反射光與前述折射率調整用區分與前述第2光學構件之界面的反射光，藉由光學性干涉，至少局部被抵消。
  19. 一種光學構件層合體之製造方法，其係具備將透明之第1光學構件與第2光學構件接合用之透明之黏著劑層之光學構件層合體的製造方法，其特徵係含有下述階段，準備本質上藉由透明之黏著劑基底材料形成的黏著劑層，準備含有具有比前述黏著劑基底材料高之折射率之折射率調整材料之粒子的塗佈液，在前述黏著劑層之一面塗佈前述塗佈液，使該塗佈液所含之前述折射率調整材料之粒子由前述黏著劑層之前述一面滲透至厚度方向，藉由使前述黏著劑層乾燥，使前述塗佈液之液體部分蒸發的步驟，形成由前述一面至厚度方向具有以分散狀含有前述折射率調整材料之粒子之折射率調整區分的附折射率調整區分之黏著劑層的階段；將前述附折射率調整區分之黏著劑層，在與前述一面相反側之面的另一面中，與前述第1光學構件接合，前述一面中，與前述第2光學構件接合的階段。
  20. 如申請專利範圍第19項之光學構件層合體之製造方法，其中前述折射率調整區分具有比前述第2光學構件 之折射率低的折射率。
  21. 如申請專利範圍第19或20項之光學構件層合體之製造方法，其中前述第2光學構件在面向前述黏著劑層之側形成所定圖型之透明導電性層，前述折射率調整區分係以埋入該透明導電性層與前述第2光學構件之間之段差，與該透明導電性層與該第2光學構件之兩方接合，前述折射率調整區分具有比前述透明導電性層之折射率低的折射率。
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