TWI556069B - 避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置 - Google Patents

避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI556069B
TWI556069B TW101110752A TW101110752A TWI556069B TW I556069 B TWI556069 B TW I556069B TW 101110752 A TW101110752 A TW 101110752A TW 101110752 A TW101110752 A TW 101110752A TW I556069 B TWI556069 B TW I556069B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
unit
marking
film
control device
distance
Prior art date
Application number
TW101110752A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201303527A (zh
Inventor
朴一雨
金龍煥
尹永根
崔鳳珍
Original Assignee
東友精細化工有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東友精細化工有限公司 filed Critical 東友精細化工有限公司
Publication of TW201303527A publication Critical patent/TW201303527A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI556069B publication Critical patent/TWI556069B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H23/00—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs
    • B65H23/02—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs transversely
    • B65H23/0204—Sensing transverse register of web
    • B65H23/0216—Sensing transverse register of web with an element utilising photoelectric effect
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00788—Producing optical films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/20—Light-tight connections for movable optical elements
    • G02B7/22—Extensible connections, e.g. bellows
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41P—INDEXING SCHEME RELATING TO PRINTING, LINING MACHINES, TYPEWRITERS, AND TO STAMPS
    • B41P2233/00—Arrangements for the operation of printing presses
    • B41P2233/50—Marks on printed material
    • B41P2233/52—Marks on printed material for registering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2301/00—Handling processes for sheets or webs
    • B65H2301/50—Auxiliary process performed during handling process
    • B65H2301/51—Modifying a characteristic of handled material
    • B65H2301/511—Processing surface of handled material upon transport or guiding thereof, e.g. cleaning
    • B65H2301/5111—Printing; Marking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2553/00—Sensing or detecting means
    • B65H2553/40—Sensing or detecting means using optical, e.g. photographic, elements
    • B65H2553/42—Cameras
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2801/00—Application field
    • B65H2801/61—Display device manufacture, e.g. liquid crystal displays

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Controlling Rewinding, Feeding, Winding, Or Abnormalities Of Webs (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置
本發明關於一種避免圖案曲折的控制裝置，其可在一膜上的確實位置中標記圖案。
隨著高畫質三維顯示器需求的暴增，對精確的圖案化光學膜的需求亦隨之增加。舉例來說，圖案化膜雖然可如JP 2003-337226中所述般地在一薄片類型的基膜上形成圖案來製造；然而，考量到製造...等方面的問題，於許多情況中都是在可平穩地展開一滾捲類型的基膜時藉由在該膜上形成圖案來製造該圖案化膜。
圖案曲折會因各種原因發生。舉例來說，當膜沒有被正確滾捲時，膜的中央軸線便會偏離。即使膜被正確地滾捲，當膜沒有正確地平衡或者有外部作用力被施加在該膜之上時，仍可能會發生曲折。
不論原因為何，曲折皆會對膜的品質造成缺陷，因為當發生曲折時，其便無法在一膜上形成精確的圖案。圖1a顯示的係不論是否有曲折，一圖案形成構件都會在一恆定的位置上形成圖案；而圖1b顯示的則係在已於圖1a中形成的膜上的圖案的實際軌跡。
又，明確地說，當製造用於三維顯示器的圖案化膜時，不精確的圖案可能會在建構正確的三維影像中造成問題。
雖然通常會使用邊緣位置控制器(Edge Position Controller，EPC)來避免圖案曲折；不過，因為EPC僅能夠在毫米等級控制圖案的位置，所以，在形成微米等級的圖案時會有限制。
同時，雖然有另一種方法可藉由比較膜上已形成的圖案之間的距離來確認圖案曲折；但是，此方法卻僅能在已經形成該等圖案之後才能夠偵測曲折。所以，需要一種用以即時偵測圖案曲折的新技術。
本發明係為提供一種能夠控制膜上的圖案曲折的裝置。
本發明係為提供一種在圖案被標記在一膜上之前便能夠偵測圖案曲折並且修正圖案之標記位置的控制裝置。
本發明係為提供一種單獨利用該控制裝置或是結合一邊緣位置控制器來控制圖案曲折的方法。
本發明提供一種用以使用在圖案化膜製造裝置中避免圖案曲折的控制裝置，該圖案化膜製造裝置包括一膜傳輸器械以及一圖案形成器械，其中該控制裝置包括：一標記單元，其會在該膜上的一預設基準位置中形成多個標記，該預設基準位置係利用該膜傳輸器械作為基準所定位出來的位置；一確認單元，其係位於該標記單元的後面，該確認單元會確認該膜上該等標記的位置；一計算單元，其會 以該基準位置及該等標記的經確認位置之間的差異為基礎來計算曲折的數額；一控制單元，其會對應於該經算出的曲折數額產生一修正訊號，用以修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置；以及一修正單元，其會接收該修正訊號並且以該已收到的修正訊號為基礎來修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置。
本發明還提供一種利用該控制裝置來控制圖案曲折的方法。
根據本發明，其可以輕易的偵測圖案曲折並且測量曲折距離L及曲折角度θ。本發明會以該距離及該角度為基礎來提供一修正訊號，該修正訊號能夠修正一圖案形成器械的位置，俾使得該圖案形成器械能夠形成穩定的圖案。
本發明能夠操控膜的品質，因為其可以在一膜上形成圖案之前偵測並修正曲折。
根據本發明可以製造精確的圖案化膜，因為其可以根據該經算出的曲折數額來修正圖案形成器械的位置及標記單元的位置。
根據本發明，其可以在配合一精確的雷射產生器及一高解析度視覺系統來運用時以微米等級來測量與控制該膜的曲折。
本發明的控制裝置可以在製造用於顯示器(例如，三維顯示器)的圖案化膜時被單獨利用或是結合一邊緣位置控制器來控制曲折。
本發明關於一種用以使用在圖案化膜製造裝置中避免圖案曲折的控制裝置，該圖案化膜製造裝置包括一膜傳輸器械以及一圖案形成器械，其中該控制裝置包括：一標記單元，其會在該膜上的一預設基準位置中形成多個標記，該預設基準位置係利用該膜傳輸器械作為基準所定位出來的位置；一確認單元，其係位於該標記單元的後面，該確認單元會確認該膜上該等標記的位置；一計算單元，其會以該基準位置及該等標記的經確認位置之間的差異為基礎來計算曲折的數額；一控制單元，其會對應於該經算出的曲折數額產生一修正訊號，用以修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置；以及一修正單元，其會接收該修正訊號並且以該已收到的修正訊號為基礎來修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置。
下文中將詳細說明本發明。
在本發明中，圖案曲折包含膜傳輸器械的中線及膜上任意點的軌跡彼此不平行(參考圖7)的每一種情況。曲折的數額可以利用曲折距離L及曲折角度θ以算術方式來表示。舉例來說，倘若一已滾捲膜的中央軸線在一橫向方向中(垂直於該膜之傳輸方向的方向)移動一特定數額的距離的話，曲折距離L便會和該已滾捲膜之移動距離的數額相同且曲折角度θ為0°。
本發明中用以控制一膜上的圖案曲折的兩個基本原理 如下：
(1)當在一標記單元與一確認單元之間發生曲折(也就是，膜的中央軸線移動及/或膜的傳輸方向改變)時，該確認單元會確認被該標記單元標記的標記已經在一曲折方向(也就是，中央軸線移動的方向或是已改變的傳輸方向)中移動該中央軸線的移動數額或是在該傳輸方向中的改變數額。
(2)當在一膜上形成標記之前便發生曲折時，從該膜處看去，該等標記會被形成在一曲折方向(也就是，中央軸線移動的方向或是已改變的傳輸方向)的相反方向中該中央軸線之移動數額的位置處或是該傳輸方向中之改變數額的位置處。
圖2所示的係上面所述的原理。在圖2所示的情況中包含一標記單元，其具有一固定的第一標記構件以及一可調整的第二標記構件。
如圖2a中所示，當沒有發生曲折時，一確認單元會確認標記被該標記單元形成在它們的正常位置處。
如圖2b中所示，當發生曲折時，膜上的圖案會因為該曲折的關係而逐漸移到其中一側，而且該確認單元會確認該移動。然而，因為該標記單元的位置並沒有移動，所以，由該標記單元所形成的標記會因為該標記單元與該膜之間的相對位置的關係而逐漸移到該膜的另一側。藉由根據曲折的數額來移動該標記單元的位置與該圖案形成器械的位置便可對此作修正。
如圖2c中所示，當曲折穩定之後，該確認單元會確認 在修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置之前已經被標記的標記先移到其中一側且再移到另一側。相反地，在調整該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置之後才被標記的標記則會被確認根據該膜的移動而移到其中一側並且保持該已移動的位置。
最後，如圖2d中所示，倘若該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置並未根據曲折被修正的話，該確認單元會確認該等標記已經返回原來的位置，而該膜的中央軸線則仍然偏離原來的位置。再者，於此情況中，因為該等圖案的邊界彼此重疊的關係，並無法正確地在該膜上形成圖案。
為解決上面所述的問題(無法確認膜的中央軸線偏離)，根據本發明的一曲折控制裝置會被配置成用以根據膜的曲折來移動一標記單元的位置及一圖案形成器械的位置。
下面將詳細說明本發明之用以避免圖案曲折的控制裝置。
該控制裝置係用於一圖案化膜製造裝置中，該圖案化膜製造裝置包含一膜傳輸器械以及一圖案形成器械。
該圖案化膜的一範例可能係一用以施行3維影像的圖案化延遲器。該圖案形成器械係一用以在一膜上形成圖案的構件。舉例來說，該圖案形成器械可能係一包含一光源與遮罩、或是滾筒的曝光器械。該遮罩或是該滾筒的圖案化軸線可能垂直於該膜的展開方向。
本發明的控制裝置雖然可以在用以於一薄片類型的膜上形成圖案時被使用；然而，更有利的係使用在於一滾捲類型的膜上連續形成圖案的時候。
本發明的控制裝置包含一標記單元，其會在一膜上形成多個標記。
該標記單元的基準位置係利用一固定的膜傳輸器械作為基準所決定，俾使得不論是否有曲折，其都能夠在一固定點上形成標記。
該標記單元並不受限於任何特定類型，任何標記構件皆可使用，只要能夠在用於一顯示器設備(例如，LCD…等)的膜上形成讓確認單元來偵測或確認的標記同時不會破壞該膜即可。然而，較佳的係，使用一雷射產生器作為該標記單元(當該標記單元包含一第一標記構件與一第二標記構件時，兩者皆可能是雷射產生器)，以便達到更精確的測量與控制目的。
該標記單元會被配置成包含一或多個標記構件。
當該標記單元包含一個標記構件時，該標記單元會確認與計算因膜的中央軸線之橫向移動(也就是，圖案在垂直於傳輸方向的方向中的移動)…等所造成的圖案曲折。於此情況中，可以利用下面所述的方法來計算曲折距離L，而曲折角度θ則為0°。
當該標記單元包含二或多個標記構件時，其便可以計算每一種類型的曲折。下面將說明利用該等二或多個標記構件來計算曲折距離L與曲折角度θ的特定方法。
該等二或多個標記構件可能包含一第一標記構件以及一第二標記構件，該第二標記構件位於以該第一標記構件為基準的該膜的傳輸方向中的距離d1處以及垂直於該膜之傳輸方向的方向中的距離d2(d2可能為零)處。由上面所述之標記單元所形成的標記的形狀的範例顯示在圖3中。
又，該標記單元可能進一步包含一調整構件，用以在形成標記時調整該第一標記構件與該第二標記構件之間的距離，而且於某些情況中，該第一標記構件或是該第二標記構件中任一者的位置可能為固定。
當該標記單元包含二或多個標記構件時，每一個該等標記構件可以形成具有不同形狀或顏色的標記，俾使得可輕易地分辨出該等標記中的每一者，或者可輕易地區分該等標記與雜訊。
當沒有發生曲折時，該等標記會畫出一條筆直的虛線。當發生曲折時，舉例來說，該等標記會畫出一條如圖2b中所示的線。該條線的形狀會受到曲折的距離與角度的影響，或者會受到膜的傳輸速度的影響。該條線會由將在下面作說明的確認單元來確認。
根據本發明的控制裝置包含一位於該標記單元後面的確認單元。
該確認單元位於該標記單元的後面(在該膜的傳輸方向中)並且會在該膜被傳輸至一確認區(也就是，倘若該確認單元包含一相機模組的話在有一相機模組能夠捕捉影像的區域)時確認該等標記的位置。
於本發明中，傳輸方向意謂著如圖5中所示般垂直於一滾捲膜之中央軸線的方向。當沒有發生曲折時，該傳輸方向會平行於該膜的加工方向。
該確認單元可能包含一或多個確認區。根據該等確認區的數量，可以同步或個別確認由該第一標記構件及該第二標記構件所形成的標記。
能夠確認或偵測該膜上的標記並且計算該等標記單元之位置或座標的任何確認構件皆可作為本發明得確認單元。舉例來說，該確認單元可能包含：一相機模組，其會捕捉包含該膜中的該等標記的影像；以及一電腦裝置，其會儲存該等被捕捉的影像並且從該等被捕捉的影像中計算該等標記的位置。
當使用一能夠辨識直徑為數十微米的標記的高解析度視覺系統時，其可以更精確地測量該等標記的位置變化並且更準確地控制曲折。舉例來說，較佳的係，使用一解析度大小為微米等級(舉例來說，小於十微米)的相機模組。
該確認單元可能進一步包含一區分雜訊和該等標記的構件。該構件特別適用於該標記單元包含一雷射產生器的時候，因為其能夠避免因為雷射或粉塵所造成的外來物質被偵測為標記。
進一步言之，為最小化因該標記之形狀所造成的誤差，較佳的係，確認每一個標記的邊界並且確認該等標記之中心的座標作為該等標記的位置。
本發明的控制裝置包含一計算單元。
該計算單元會被配置成用以藉由以作為基準的膜傳輸器械為基礎所決定的一已知基準位置和由該確認單元所確認之標記的位置之間的比較來計算圖案曲折。
圖14所示的係用以計算曲折距離L的方法。
在圖14a所示的實施例中，該標記單元包含一標記構件。於此情況中，標記1、2、3、以及4會在該膜前進時依序被形成。當該膜的中央軸線移到左邊時，第五個標記會偏離其基準位置(空心圓圈)並且被形成在圖中表示為5的位置中，而且該第五個標記的位置會被該確認單元確認。於此情況中，該曲折距離L為介於該基準位置與該經確認之標記位置之間的距離。
在圖14b所示的實施例中，該標記單元包含一第一標記構件以及一第二標記構件，該第二標記構件位於以該第一標記構件為基準的該膜的傳輸方向中的距離d1處以及垂直於該膜之傳輸方向的方向中的距離d2處。
於此情況中，標記1-1/2-1、1-2/2-2、1-3/2-3、以及1-4/2-4會在該膜前進時依序被形成(1-A表示由該第一標記構件所形成的標記而1-B表示由該第二標記構件所形成的標記，其中A與B為介於1與5之間的整數)。舉例來說，當該確認單元的確認區被安排成垂直於該傳輸方向時，該確認單元會先同時確認標記1-1與2-3，接著會確認1-2與2-4。當該膜的中央軸線在形成1-4與2-4之後移到右邊時，第五個標記會和它們的基準位置偏離距離L並且被形成在圖中表示為1-5與2-5的位置中。
該計算單元會藉由計算由該確認單元所確認之1-3與2-5之間的距離x並且以d2(也就是，在垂直於該傳輸方向的方向中介於該等第一標記構件與第二標記構件之間的距離)扣除x來計算曲折距離L。倘若d2-x為正數的話，其意謂著該膜從該傳輸方向處偏離至右邊；而倘若d2-x為負數的話，則意謂著該膜偏離至左邊。
圖4顯示出用以計算曲折角度θ的方法。
為計算該曲折角度θ，該標記單元必須具有二或多個標記構件。當該標記單元包含一第一標記構件以及一第二標記構件時，其中該第二標記構件如圖14b中所示般地位於以該第一標記構件為基準的該膜的傳輸方向中的距離d1處以及垂直於該膜之傳輸方向的方向中的距離d2處，可以利用該標記單元之基準位置和實際標記位置，d1與d2，之間的距離來計算該曲折角度θ。
圖4a所示的係沒有曲折的範例。於此情況中，由該第一標記構件以及該第二標記構件所標記之標記之間的經確認距離會與d2相同。曲折角度θ可以利用下面的公式1(d1為已知的數值)來算出。
[公式1]θ=atan[(d2-d2)/d1]=0°
圖4b所示的係當發生曲折而從傳輸方向處偏離至左邊的範例。一先被標記的第一標記(一由該第一標記構件所標記的標記)會以左曲折角度θ移動至該第二標記(一由該第 二標記構件所標記的標記)被形成的位置。於此情況中，當該膜前進時，由該第一標記構件所形成的標記以及由該第二標記構件所形成的標記之間的距離會越來越近。該確認單元會確認該第一標記以及該第二標記，而曲折角度θ則可以利用下面的公式2來算出。在公式2中，▲代表該第一標記構件與該第二標記構件之間以機械方式所決定的距離(或者，當沒有曲折時，其代表該第一標記與該第二標記之間的距離)，而α為因為曲折的關係所造成之▲的變化值。在圖4b及公式2中，α係以負記號「-」來表示(也就是，-α)，因為該等標記之間的距離會因曲折的關係而在圖4b中變得比▲更為接近。
[公式2]θ=atan[(d2-d2-α)/d1]=atan[(-α)/d1]=-▲°
圖4c所示的係當發生曲折而從傳輸方向處偏離至右邊的範例。一先被標記的第一標記(一由該第一標記構件所標記的標記)會以右曲折角度θ移動至該第二標記(一由該第二標記構件所標記的標記)被形成的位置。於此情況中，當該膜前進時，由該第一標記構件所形成的標記以及由該第二標記構件所形成的標記之間的距離會越來越分開。該確認單元會確認該第一標記以及該第二標記，而曲折角度θ則可以利用下面的公式3來算出。在公式3中，▲代表該第一標記構件與該第二標記構件之間以機械方式所決定的距離(或者，當沒有曲折時，其代表該第一標記與該第二標 記之間的距離)，而α為因為曲折的關係所造成之▲的變化值。在圖4c及公式3中，α係以正記號「+」來表示(也就是，+α)，因為該等標記之間的距離會因曲折的關係而在圖4c中變得比▲更遠。
[公式3]θ=atan[(d2-d2+α)/d1]=atan[(+α)/d1]=+▲°
該等第一標記構件與第二標記構件較佳的係會被安排在一垂直於該圖案形成器械的一圖案遮罩(或是圖案滾筒)的筆直直線上。
經算出的曲折角度θ會被用來修正該圖案形成器械的位置。同時，該第一標記構件(前面的標記構件)的位置會在該垂直於傳輸方向的方向中調整α數。
該計算單元可能進一步包含週期性地累增曲折之數額(也就是，曲折距離L、曲折角度θ、或是兩者)的構件。於此情況中，下面所述的控制單元會被配置成用以僅在該累增數額大於預設臨界數值時才產生一修正訊號。
本發明的控制裝置包含一控制單元，其會產生一至少用於該標記單元及該圖案形成器械的修正訊號。該控制單元會產生一對應於由該計算單元所算出之圖案曲折數額的修正訊號來修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置。
該控制單元可能會在曲折被確認時產生該對應於圖案曲折之數額(也就是，曲折距離L、曲折角度θ、或是兩者) 的修正訊號。或者，該控制單元可能會週期性地對應於累增的曲折數額(也就是，累增的曲折距離L、累增的曲折角度θ、或是兩者)來產生該修正訊號。或者，該控制單元可能會在該累增數額大於預設臨界數值時產生該修正訊號。
舉例來說，該控制單元可能會在該累增的曲折距離大於20μm時產生該修正訊號。或者，舉例來說，該控制單元可能會在該累增的曲折角度大於0.5°時產生該修正訊號。
於必要時，該控制單元可能會根據曲折的數額進一步產生一額外的修正訊號，用以調整需要被調整的其它器件(例如，該確認單元或是該膜的削切構件…等)的位置。
該控制單元可能會產生並且傳送一用於該標記單元之一部分的修正訊號。舉例來說，當該標記單元包含一第一標記構件與該第二標記構件時，該控制單元可能會產生一用於該第一標記構件或是該第二標記構件中的任一者或是兩者的修正訊號。或者，當該第一標記單元為可調整而該第二標記單元為固定時，該控制單元則可能會產生一僅用於該第一標記構件的修正訊號。
本發明的控制裝置包含一修正單元，其會接收該修正訊號，並且在該膜上形成圖案之前先以該所收到的修正訊號為基礎來修正或調整該標記單元的位置以及該圖案形成器械的位置。
該修正訊號可能係一用以將該標記單元以及該圖案形成器械移動一特定距離的訊號，或是用以將該標記單元以及該圖案形成器械旋轉一特定角度的訊號，或是兩者。
所以，修正或是調整該標記單元的位置以及該圖案形成器械的位置意謂著將該標記單元以及該圖案形成器械移動一特定距離，或是將該標記單元以及該圖案形成器械旋轉一特定角度，或是兩者。
如上面所提，該標記單元的位置會連同該圖案形成器械的位置一起被調整，俾使得本發明的控制裝置能夠在曲折回到正常時確認該正常狀態(也就是，沒有曲折的狀態)。所以，根據本發明，可以解決因為圖案邊界的一部分重疊而無法形成均勻圖案的問題。
本發明可能會被配置成用以在形成圖案之前先修正該圖案形成器械的位置。
本發明的控制裝置可能包含一初始化單元，其會在該圖案形成器械的位置以及該標記單元的位置被該修正單元修正之後將該圖案形成器械的已修正位置以及該標記單元的已修正位置設為一新的基準位置。
舉例來說，在本發明之控制裝置上執行的曲折控制方法可能包含下面步驟：利用被安排在分別事先決定之位置中的一第一標記構件與一第二標記構件週期性地形成一第一標記與一第二標記；週期性地確認該第一標記與該第二標記並且計算該第一標記與該第二標記之間的距離；利用該第一標記與該第二標記之間的距離以及該第一標記與該第二標記之間的基準距離來計算與累增一曲折距離與一曲折角度；當該累增曲折距離或曲折角度大於預設數值時，產生修正訊號來修正圖案形成器械的位置、該第一標記構 件的位置、或是該第二標記構件的位置中的至少其中一者；以及接收該修正訊號並且修正圖案形成器械的位置、該第一標記構件的位置、或是該第二標記構件的位置中的至少其中一者。
本發明的控制方法包含將該標記單元以及該圖案形成器械移動一特定距離的步驟，或是將該標記單元以及該圖案形成器械旋轉一特定角度的步驟，或是兩者。
本發明的控制方法較佳的係如圖13中所示。
本發明的控制裝置可以單獨用來有效地控制一膜上的圖案曲折；然而，更佳的係，配合該控制裝置來使用一邊緣位置控制器(EPC)。
下文中將提供範例以便容易理解本發明。然而，下面所提供的實施例僅係作為本發明的範例，而熟習本技術的人士便很容易明白，可以對本文中所揭示之發明進行各種取代與修正，其並不會脫離本發明的範疇與精神，而且此等修正與改變應被視為落在隨附申請專利範圍所定義之本發明的範疇裡面。
範例
圖6所示的係根據本發明的一範例控制裝置。
如圖6中所示，一標記單元包含一第一標記構件以及一第二標記構件。寬度為15±3μm的線性雷射產生器會被用來作為該第一標記構件以及該第二標記構件。該等雷射產生器會被安排在該滾捲膜的右邊界附近，而且該第一標記構件以及該第二標記構件之間的距離在該膜的傳輸方向 中為100mm(d1=100mm)而在垂直於該膜之傳輸方向的方向中為2mm(d2=2mm)，所以，當曲折角度θ改變0.1°時，d2會增加或減少177μm[100*tan(0.1)μm]。
該確認單元包含：一相機模組，其解析度大小為3.0μm；以及一電腦裝置，其能夠從來自該相機模組的已捕捉影像中計算該等標記的位置。該相機模組會被安排在該第二標記單元後面之750mm的距離處。
一曝光設備與一遮罩會被安排在該確認單元的後面；兩個固定式標記會被安排在該遮罩的每一側，用以檢查該遮罩的對齊安排；而且，另一相機模組會被安裝在該遮罩上，用以確認該等固定式標記。該等固定式標記和該另一相機模組之間的距離為45mm。
又，該計算單元會被配置成用以利用d1與d2的預設數值以及由該確認單元所確認之該第一標記構件與該第二標記構件之間的距離來計算該曲折距離L以及該曲折角度θ。
該控制單元會被設計成用以在該膜每次前進20mm時便以該曲折距離L以及該曲折角度θ為基礎來傳送一修正訊號給該圖案形成器械以及該標記單元。
實驗
1.在膜上發生圖案曲折
本發明會在3m/min與5m/min的線速度以及130N、200N、以及250N的膜張力的情況中檢查是否發生曲折。
實驗的結果如下面表1中所示，不論是否使用邊緣位置控制器(ETC)，於每一種情況中皆發生大量的曲折。
2.根據本發明之控制膜上的圖案曲折
本發明於5m/min的線速度以及200N的膜張力的情況中進行利用根據上面範例的控制裝置來控制膜上的曲折的模擬。其並沒有運用EPC，而且曲折的臨界數值為10μm。
首先，在圖8a中所示之由該確認單元所確認的標記資料中消弭雜訊並且抽出由該等第一標記構件與第二標記構件所形成之標記組成的軌跡。明確地說，其會根據該等經 確認的座標將該標記資料分成多個方塊形成一二維方塊矩陣；將已連結的方塊切割成小斑點(blob)並且將該標記資料中大小小於3000μm的小斑點當作雜訊予以消除；以及研究主要的連結曲線並且分離第一標記軌跡(上方線條)以及第二標記軌跡(下方線條)(參考圖9)。
當F表示整個方塊組而S1、S2…Sn分別表示包含F的方塊時，那麼，它們會符合下面的公式4。
該計算單元會以和該第一標記與該第二標記有關的資料為基礎來計算該曲折距離L以及該曲折角度θ。
該曲折角度θ會如圖11中所示般地利用下面的公式5針對每一個區段被算出。該第一標記與該第二標記之間的距離會利用公式5被算出並且利用d的正切函數(tan(d))取得角度θ。在公式5中，d3係在傳輸方向中介於一第一雷射產生器與一第二雷射產生器之間的距離，而d4則係在垂直於該傳輸方向的方向中介於該第一雷射產生器與該第二雷射產生器之間的距離。在上面所述的模擬中，d3為100mm而d4為2mm。
該曲折距離L會如圖11中所示般地針對每一個區段以第二標記的座標利用下面的公式6來算出。在公式6中，x1…xn係在垂直於該傳輸方向的方向中的座標。
[公式6]L=Median(x1、x2…xn)
控制單元會在該曲折距離L大於10μm的預設數值時傳送該修正訊號，而且該經修正的位置會被設為一新的基準位置。在圖11中，該修正訊號已經被傳送至其中的區段會被標記為已檢查。
圖12所示的係根據本發明的實驗來控制曲折的結果。
在圖式中：圖1a與1b所示的係因膜的曲折所發生的誤差的範例，圖2a至2d所示的係為何需要根據膜的曲折來修正一標記單元之位置的原因，圖3所示的係本發明中由第一標記構件所標記的第一標記以及由第二標記構件所標記的第二標記，圖4a、4b、以及4c所示的係當膜的方向從該膜的傳輸方向處旋轉一特定角度時藉由本發明的計算單元來計算曲折距離與曲折角度的方法，圖5所示的係根據本發明的膜的傳輸方向，圖6所示的係根據本發明一範例的曲折控制裝置， 圖7所示的係一曲折距離與一曲折角度，圖8a與8b所示的係經由一確認單元所確認之由第一標記構件與第二標記構件所形成的標記軌跡，以及根據該等經確認的座標將該標記資料分成多個方塊所形成的一二維方塊矩陣，圖9所示的係一種用以將第一標記與第二標記和雜訊分離的方法，圖10a與10b所示的係根據本發明的計算單元來計算曲折距離與曲折角度的方法，圖11所示的係以經算出的曲折距離與曲折角度為基礎來產生用以調整一圖案形成器械的位置與一第二標記構件的位置的修正訊號的結果，圖12所示的係根據本發明的實驗來控制曲折的結果，圖13所示的係根據本發明來控制曲折的範例，以及圖14a與14b所示的係一種用以計算曲折距離L的方法。

Claims (21)

  1. 一種使用在圖案化膜製造裝置中以避免圖案曲折的控制裝置，該圖案化膜製造裝置包括一膜傳輸器械以及一圖案形成器械，該控制裝置包括：一標記單元，其會在一正在傳輸的膜上的一預設的基準位置中形成多個標記，該預設的基準位置係利用該膜傳輸器械作為基準來定位；一確認單元，其係位於該標記單元的後面，該確認單元會確認該膜上該等標記的位置；一計算單元，其會以該基準位置及該等標記的經確認位置之間的差異為基礎來計算曲折數額；一控制單元，其會對應於經算出的曲折數額產生一修正訊號，用以修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置；以及一修正單元，其會接收該修正訊號並且以接收的修正訊號為基礎來修正該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置，其中該標記單元包括一標記構件，其會週期性地在該膜上形成多個標記，其中該計算單元會以該標記構件的基準位置及該等標記的經確認位置之間的距離的差異為基礎，來計算因該膜之中央軸線的橫向移動(該膜的中央軸線在垂直於該膜之傳輸方向的方向中移動距離L)所造成的曲折數額。
  2. 如申請專利範圍第1項的控制裝置，其中該控制單元 會產生該修正訊號，用以將該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置在垂直於該膜之傳輸方向的方向中移動距離L。
  3. 如申請專利範圍第1項的控制裝置，其中該標記單元包括：一第一標記構件；以及一第二標記構件，其係以該第一標記構件為基準而位於該膜的傳輸方向中的距離d1處以及垂直於該膜之傳輸方向的方向中的距離d2處。
  4. 如申請專利範圍第3項的控制裝置，其中該標記單元進一步包括一調整構件，用以在形成標記時調整該第一標記構件與該第二標記構件之間的距離。
  5. 如申請專利範圍第3項的控制裝置，其中該第一標記構件與該第二標記構件其中一者的位置為固定。
  6. 如申請專利範圍第4或5項的控制裝置，其中該計算單元利用該第一標記構件(或是該第二標記構件)的基準位置以及由該第一標記構件(或是該第二標記構件)所標記之標記的實際位置d1與d2之間的距離差異來計算一曲折距離L以及一曲折角度θ。
  7. 如申請專利範圍第6項的控制裝置，其中該控制單元會產生該修正訊號，用以將該標記單元的位置及該圖案形成器械的位置修正該距離L以及該角度θ。
  8. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該確認單元包括： 一相機模組，其會週期性地捕捉包括該膜之該等標記的影像；以及一週期性地儲存已捕捉影像並且從該等已捕捉影像中計算該等標記之座標的構件。
  9. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該確認單元進一步包括一從該等標記區分雜訊的構件。
  10. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該計算單元進一步包括一週期性累增曲折數額的構件。
  11. 如申請專利範圍第10項的控制裝置，其中該曲折數額包括曲折距離L、曲折角度θ、或是兩者。
  12. 如申請專利範圍第11項的控制裝置，其中該控制單元會在由該計算單元累增的曲折距離L大於預設的臨界數值時、在由該計算單元累增的曲折角度θ大於預設的臨界數值時、或是在由該計算單元累增的曲折距離L及曲折角度θ兩者皆大於預設的臨界數值時產生該修正訊號。
  13. 如申請專利範圍第3項的控制裝置，其中該控制單元會產生一用於該第一標記構件與該第二標記構件其中一者的修正訊號。
  14. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該圖案形成器械包括一遮罩或滾筒，其會被安排在垂直於該膜之傳輸方向的方向中。
  15. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其進一步包括一初始化單元，其會在該圖案形成器械的位置以及該標記單元的位置被該修正單元修正之後，將該圖案形成器 械的已修正位置以及該標記單元的已修正位置設為一新的基準位置。
  16. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該標記單元包括一雷射產生構件，其能夠形成直徑為數十微米的標記，且該確認單元包括一高解析度視覺系統，其能夠確認直徑小於十微米的標記。
  17. 如申請專利範圍第16項的控制裝置，其中該高解析度視覺系統會將該等標記的中心的座標視為該等標記的座標，以減少因該等標記的形狀的關係所造成的誤差。
  18. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該控制單元會進一步產生一修正訊號，用以修正該膜的削切構件的位置。
  19. 如申請專利範圍第1或3項的控制裝置，其中該確認單元係位於該圖案形成器械的前方，並且會在圖案被形成在該膜上之前先確認該膜的圖案曲折。
  20. 一種利用如申請專利範圍第1或3項的控制裝置來控制圖案曲折的方法。
  21. 如申請專利範圍第20項的方法，其中該方法會使用一邊緣位置控制器(EPC)來搭配該控制裝置。
TW101110752A 2011-04-22 2012-03-28 避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置 TWI556069B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20110037635 2011-04-22
KR1020110095852A KR101829308B1 (ko) 2011-04-22 2011-09-22 필름의 패턴의 사행 제어 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201303527A TW201303527A (zh) 2013-01-16
TWI556069B true TWI556069B (zh) 2016-11-01

Family

ID=46298181

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101110752A TWI556069B (zh) 2011-04-22 2012-03-28 避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9134634B2 (zh)
EP (1) EP2514696A3 (zh)
JP (1) JP5960485B2 (zh)
KR (1) KR101829308B1 (zh)
TW (1) TWI556069B (zh)
WO (1) WO2012144738A2 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101634669B1 (ko) * 2014-09-23 2016-06-30 한국기계연구원 유연필름의 사행 산출 장치 및 산출 방법
KR20190007748A (ko) 2017-07-13 2019-01-23 에이치피프린팅코리아 유한회사 정착 장치 및 이를 구비한 화상형성장치
KR102080346B1 (ko) * 2019-05-29 2020-02-24 주식회사 시우테크 이차전지 전극용 고속 노칭 시스템
KR102283071B1 (ko) * 2020-09-21 2021-07-29 위더스케미칼 주식회사 수축 라벨 필름 제조 장치
KR102315950B1 (ko) * 2021-06-30 2021-10-22 (주)신화에프에이 필름 사행 조정 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005026362A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Toshiba Corp 加熱処理装置の温度校正方法、現像処理装置の調整方法、及び半導体装置の製造方法
TW200620017A (en) * 2004-11-01 2006-06-16 Toshiba Kk Computer automated design method, computer automated design system, and method of manufacturing integrated circuit
US20070022798A1 (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Konica Minolta Opto, Inc. Method of treating optical film, apparatus of treating optical film, and method of manufacturing optical film
US20110086193A1 (en) * 2009-10-13 2011-04-14 Nitto Denko Corporation Roll of continuous web of optical film laminate with predefined slit lines, and method and system for manufacturing the same

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3109227B2 (ja) * 1992-03-27 2000-11-13 凸版印刷株式会社 ウェブの蛇行修正機構
JPH0867381A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ウェブの蛇行修正装置
EP0829744B1 (en) 1996-09-12 2005-03-23 Sharp Kabushiki Kaisha Parallax barrier and display
JP3741013B2 (ja) * 2001-09-17 2006-02-01 ウシオ電機株式会社 蛇行修正機構を備えた帯状ワークの露光装置
JP2003200385A (ja) * 2001-12-28 2003-07-15 Fuji Photo Film Co Ltd ウエブ加工装置
JP2003200384A (ja) * 2001-12-28 2003-07-15 Fuji Photo Film Co Ltd ウエブ加工装置
JP2003248113A (ja) * 2002-02-22 2003-09-05 Fuji Photo Film Co Ltd ウエブ加工装置及びウエブ加工装置の加工ヘッド位置決め方法
JP2006514381A (ja) * 2002-12-10 2006-04-27 インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト 表面パネルモジュール、表面パネルモジュール構造、表面パネルモジュール構造の表面パネルモジュールから少なくとも１つの基準位置までの距離を決定するための方法、プロセッサ構造、織地構造、および、表面パネル構造
US7138919B2 (en) * 2004-02-23 2006-11-21 Checkpoint Systems, Inc. Identification marking and method for applying the identification marking to an item
JP4328301B2 (ja) * 2004-03-29 2009-09-09 富士フイルム株式会社 露光装置及び露光方法
JP2007072853A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Renesas Technology Corp 電子装置の製造方法
JP2007079318A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Konica Minolta Opto Inc 光学素子、そのマーキング方法、及び光学ユニットの組立方法
JP2007093861A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Renesas Technology Corp マスクパターン設計方法および半導体装置の製造方法
JP2007101719A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Mitsumi Electric Co Ltd 光導波路装置
US9272448B2 (en) * 2005-11-04 2016-03-01 Konica Minolta Opto, Inc. Cellulose resin film, process for producing cellulose resin film, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display
JPWO2007066514A1 (ja) * 2005-12-09 2009-05-14 コニカミノルタオプト株式会社 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置
JP2007310209A (ja) * 2006-05-19 2007-11-29 Nsk Ltd 露光装置
JP5076441B2 (ja) * 2006-10-20 2012-11-21 東洋製罐株式会社 製袋装置及び袋の製造方法
KR101034818B1 (ko) * 2009-04-07 2011-05-16 대한고열공업(주) 연성 시트의 패턴 성형 장치 및 방법
JP2010265062A (ja) * 2009-05-13 2010-11-25 Sharp Corp シート搬送装置およびシート蛇行修正方法
JP5588223B2 (ja) * 2009-05-26 2014-09-10 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光フィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法
JP5293498B2 (ja) * 2009-08-21 2013-09-18 トヨタ自動車株式会社 ウエブ搬送装置及びその方法と電池の製造方法
JP4503689B1 (ja) * 2009-10-13 2010-07-14 日東電工株式会社 液晶表示素子の連続製造方法及び装置
JP5424271B2 (ja) * 2010-11-08 2014-02-26 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005026362A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Toshiba Corp 加熱処理装置の温度校正方法、現像処理装置の調整方法、及び半導体装置の製造方法
TW200620017A (en) * 2004-11-01 2006-06-16 Toshiba Kk Computer automated design method, computer automated design system, and method of manufacturing integrated circuit
US20070022798A1 (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Konica Minolta Opto, Inc. Method of treating optical film, apparatus of treating optical film, and method of manufacturing optical film
US20110086193A1 (en) * 2009-10-13 2011-04-14 Nitto Denko Corporation Roll of continuous web of optical film laminate with predefined slit lines, and method and system for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP2514696A3 (en) 2015-05-27
US9134634B2 (en) 2015-09-15
EP2514696A2 (en) 2012-10-24
JP2012230380A (ja) 2012-11-22
WO2012144738A2 (ko) 2012-10-26
KR101829308B1 (ko) 2018-02-20
TW201303527A (zh) 2013-01-16
CN102759864A (zh) 2012-10-31
US20120271447A1 (en) 2012-10-25
WO2012144738A3 (ko) 2013-03-07
JP5960485B2 (ja) 2016-08-02
KR20120119968A (ko) 2012-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI556069B (zh) 避免在圖案化膜上的圖案曲折的控制裝置
CN103282832B (zh) 曝光装置
CN107548476B (zh) 校正用于切割片状金属坯料的预定切割路径的方法
CN107709971B (zh) 用于生成与成型玻璃板对应的三维表面信息的***和方法
CN104204956A (zh) 基板处理装置、处理装置以及元件制造方法
CN104216234A (zh) 光刻***光源对称性的检测方法
JP6616809B2 (ja) パターン転写装置およびパターン転写方法
CN103328923A (zh) 在测量同时对激光光切传感器进行的校准
JP5267891B2 (ja) シートに形成されたパターンの位置および形状測定装置および塗工パターン測定装置
US8338805B2 (en) Reticle manufacturing method, surface shape measuring apparatus and signal processor
JP6621448B2 (ja) パターン転写装置およびパターン転写方法
CN102821868B (zh) 对具有微复制透镜阵列的幅材的精确控制
JP2014010296A (ja) 露光装置及びｆｐｒ製造方法
JP2013257163A (ja) 光学フィルムパターン測定装置
US10908519B2 (en) Alignment mark, imprinting method, manufacturing method of semiconductor device, and alignment device
CN104553421B (zh) 用于制造防伪元件的方法和设备
TW201531808A (zh) 用於網格式處理之無遮罩微影
TW202039135A (zh) 具有運動板或腹板的雷射加工機的特徵方法和系統
US9972547B2 (en) Measurement method, manufacturing method of device, and measurement system
CN103208483B (zh) 重叠标记及检查对准度的方法
JP6774269B2 (ja) 計測方法、計測装置、露光装置及び物品の製造方法
CN103270454A (zh) 薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法
JP2012103361A (ja) 露光装置
CN102759864B (zh) 用于防止图案膜上的图案弯曲的控制装置
US9835951B2 (en) Roll to roll light exposure system

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees