TWI544102B - 頂出裝置 - Google Patents
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Description
本發明涉及鍍膜技術,特別涉及一種用於頂出設置於一個傘架內之多個鍍膜基片之頂出裝置。
已有之真空鍍膜裝置一般採用傘架來承載多個鍍膜基片。傘架開設有多個容置孔。每個鍍膜基片裝入對應一個容置孔內進行鍍膜。鍍膜完成後,操作者通過一個柔性之頂桿從傘架之下方伸入每個容置孔內將對應之鍍膜基片頂出,然後取下,生產效率低下。
有鑒於此,有必要提供一種可提高生產效率之頂出裝置。
一種頂出裝置,用於頂出設置於一個傘架內之多個鍍膜基片。所述傘架上開設有多個收容孔。每個鍍膜基片收容於對應之一個收容孔內。所述頂出裝置包括一個支撐件及一個囊體。所述支撐件與所述傘架相對設置並包括一個與所述傘架相對支撐面,所述囊體包括一個設置在所述支撐面上之本體及多個自所述本體上與所述支撐面相背一側延伸出之多個頂出部。所述囊體充滿時,所述多個頂出部形狀及位置與所述多個收容孔分別對應,且所述頂出部分別頂入所述多個收容孔。
與已有技術相比,本發明之頂出裝置,在所述囊體充滿時,所述頂出部分別頂入所述多個收容孔內以將對應收容孔內之鍍膜基片
頂出,不需要手工將鍍膜基片逐一頂出,提高了生產效率。
100‧‧‧頂出裝置
10‧‧‧支撐件
101‧‧‧支撐面
1011‧‧‧安裝孔
1012‧‧‧容置孔
102‧‧‧底面
20‧‧‧囊體
201‧‧‧本體
2011‧‧‧頂壁
2011a‧‧‧開口
2012‧‧‧底壁
2013‧‧‧收容腔
2014‧‧‧入口
202‧‧‧邊緣部
2021‧‧‧通孔
203‧‧‧頂出部
30‧‧‧流體供應裝置
301‧‧‧主體
302‧‧‧傳輸管
40‧‧‧固定件
500‧‧‧傘架
501‧‧‧上表面
502‧‧‧下表面
600‧‧‧鍍膜基片
圖1為本發明較佳實施方式之頂出裝置之俯視示意圖。
圖2為圖1所示之頂出裝置沿II-II方向之剖示圖。
圖3為圖2所示之頂出裝置使用時處於第一階段之狀態示意圖。
圖4為圖3之頂出裝置使用時處於第二階段之狀態示意圖。
以下將結合圖式對本發明作進一步詳細說明。
請參考圖1及圖2,本發明較佳實施方式之頂出裝置100,包括一個支撐件10、一個囊體20及一個流體供應裝置30。
所述支撐件10大致為矩形平板並由金屬製成。所述支撐件10包括一個支撐面101及一個與所述支撐面101相背之底面102。所述支撐面101開設有多個安裝孔1011,所述安裝孔1011為螺孔。所述支撐件10開設有一個貫穿所述支撐面101及所述底面102之容置孔1012。本實施方式中,所述安裝孔1011之數量為四個且該四個安裝孔1011均勻分佈於一個圓周上。
所述囊體20由彈性材料製成。所述彈性材料可以為矽膠、橡膠、彈性樹脂等高分子材料。本實施方式中,所述囊體20由矽膠製成。所述囊體20包括一個本體201及一個圍繞所述本體201之邊緣部202。所述本體201包括一個大致為圓形之頂壁2011及一個大致為圓形之底壁2012。所述頂壁2011及所述底壁2012均具有彈性,且所述頂壁2011之周緣與底壁2012之周緣密封連結。所述本體201還包括多個設置在頂壁2011上之具有彈性之大致為囊狀之頂出部
203。
所述頂壁2011開設有多個開口2011a,所述頂出部203與所述頂壁2011分開製造,每個頂出部203可通過熱壓等方式密封連接至對應一個開口2011a。本實施方式中,所述頂出部203也由矽膠製成。所述頂出部203均勻分佈於所述頂壁2011上,例如,所述頂出部203大致呈多個同心圓分佈,每個同心圓上之頂出部203等間距分佈。在其他實施方式中,所述頂出部203也可以與所述本體201一體形成並從所述頂壁2011延伸形成。
所述頂壁2011、所述底壁2012及所述頂出部203共同圍設形成一個收容腔2013。所述頂壁2011與所述支撐面101相背。所述底壁2012貼靠於所述支撐件10之支撐面101並開設有一個入口2014。所述入口2014為細長管狀且從所述支撐面101穿設於所述容置孔1012內並伸出於所述底面102。所述入口2014封閉時,所述收容腔2013為一密閉空間。所述收容腔2013用於收容流體,所述流體可以為氣體或液體。所述本體201在未充滿流體前形狀為不固定之,而在充滿流體後具有一固定形狀。每個頂出部203均與所述收容腔2013連通。
所述邊緣部202為圓環形且與所述本體201一體形成。所述邊緣部202開設有多個貫穿所述邊緣部202之通孔2021。本實施方式中,所述通孔2021之數量為四個且均勻分佈於所述邊緣部202上。每個通孔2021對應一個安裝孔1011。所述囊體20通過多個固定件40安裝至所述支撐件10上,每個固定件40穿設於一個通孔2021並安裝至對應一個安裝孔1011內。本實施方式中,所述固定件40為螺絲且數量為四個,每個螺絲穿設於一個通孔2021並螺紋連接至對
應一個安裝孔1011並將所述囊體20之邊緣部202按壓於所述支撐件10之支撐面101上。在其他實施方式中,所述固定件40之數量並不限於四個,可以是至少三個,所述安裝孔1011及所述通孔2021之數量與所述固定件40之數量相對應。
所述流體供應裝置30包括一個主體301及一個傳輸管302。所述主體301用於向所述收容腔2013提供所述流體,例如,當所述液體為氣體時,所述主體301可以為一鼓風機;當所述流體為液體時,所述主體301可以包括一個液體盛放容器及一個將液體盛放容器內之液抽送至所述收容腔2013之泵浦。本實施方式中,所述流體為氣體,所述主體301為一鼓風機。所述傳輸管302之一端連接至所述主體301並用於將所述主體301供應之流體導出所述主體301,所述傳輸管302之另一端密封連接至所述入口2014,如此,所述主體301供應之流體可經所述傳輸管302及所述入口2014充入所述收容腔2013內。
請參閱圖3及圖4,使用時,先將所述頂出裝置100設置於一個真空鍍膜機(圖未示)之傘架500之下方,所述支撐件10之支撐面101與所述傘架500相對設置。所述傘架500大致為半球形並包括一個凸狀之上表面501及一個凹狀之與上表面501相背之下表面502。所述傘架500開設有多個貫穿所述上表面501及所述下表面502之收容孔503,所述收容孔503均勻分佈於所述上表面501上,例如,所述收容孔503大致呈多個同心圓分佈,每個同心圓上之收容孔503等間距分佈。所述收容孔503之數量對應於所述頂出部203之數量。每個收容孔503大致為倒錐台狀,即每個收容孔503之孔徑由所述上表面501向所述下表面502逐漸變小。每個收容孔503
內容置一個鍍膜基片600,每個鍍膜基片600之厚度小於每個收容孔503之深度。由於每個收容孔503大致為倒錐台狀,如此,每個鍍膜基片600可以穩定地固持於對應之收容孔503內。
然後,通過所述流體供應裝置30向所述囊體20之收容腔2013內充入流體,當所述收容腔2013內充滿流體後,所述本體201具有固定形狀,所述囊體20之頂壁2011之形狀大致對應於傘架500之下表面502之形狀。所述每個頂出部203內也充滿流體。每個頂出部203之形狀大致為半球形,且每個頂出部203之形狀及位置一個收容孔503相對應。每個頂出部203從所述傘架500之下表面502頂入對應一個收容孔503內以將所述收容孔503內之鍍膜基片600頂出。
本發明之頂出裝置100,在所述囊體20充滿所述流體後,每個頂出部203將伸入對應一個收容孔503內以將對應收容孔503內之鍍膜基片600頂出,不需要手工將鍍膜基片逐一頂出,提高了生產效率。在其他實施方式中,所述支撐件10可以安裝在一個移動裝置(圖未示)上,通過所述移動裝置將所述頂出裝置100移動至所述傘架500之下方。
在其他實施方式中,所述本體201充滿流體後之形狀可以根據傘架500之形狀作相應設計,例如,傘架500為方形平板狀時,則所述囊體20充滿流體後之所述囊體20之頂壁2011可以為相應之平板狀,只要符合每個頂出部203可以伸入對應一個收容孔503並將所述對應之收容孔503內之鍍膜基片600頂出即可。
在其他實施方式中,所述囊體20充滿所述流體後,每個頂出部203也可將對應收容孔503內之鍍膜基片600頂至所述鍍膜基片600
部分露出於所述收容孔503,而非將對應鍍膜基片600頂出所述對應之收容孔503。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100‧‧‧頂出裝置
10‧‧‧支撐件
101‧‧‧支撐面
1011‧‧‧安裝孔
1012‧‧‧容置孔
102‧‧‧底面
201‧‧‧本體
2011‧‧‧頂壁
2011a‧‧‧開口
2012‧‧‧底壁
2013‧‧‧收容腔
2014‧‧‧入口
202‧‧‧邊緣部
2021‧‧‧通孔
203‧‧‧頂出部
301‧‧‧主體
302‧‧‧傳輸管
40‧‧‧固定件
Claims (10)
- 一種頂出裝置,用於頂出設置於一個傘架內之多個鍍膜基片;所述傘架上開設有多個收容孔;每個鍍膜基片收容於對應之一個收容孔內;所述頂出裝置包括一個支撐件及一個囊體;所述支撐件與所述傘架相對設置並包括一個與所述傘架相對之支撐面,所述囊體包括一個設置在所述支撐面上之本體及多個自所述本體上與所述支撐面相背一側延伸出之多個頂出部;所述囊體充滿時,所述多個頂出部形狀及位置與所述多個收容孔分別對應,且所述頂出部分別頂入所述多個收容孔。
- 如申請專利範圍第1項所述之頂出裝置,其中,所述本體包括一個頂壁及一個底壁,所述頂壁及所述底壁均具有彈性且所述頂壁之周緣與底壁之周緣密封連結;所述頂壁與所述支撐面相背並開設有多個開口,所述頂出部與所述頂壁分開製造,每個頂出部通過熱壓方式密封連接至對應一個開口;所述頂壁、所述底壁及所述頂出部共同圍設形成一個用於收容流體之收容腔。
- 如申請專利範圍第2項所述之頂出裝置,其中,所述本體在充滿流體後具有一固定形狀,每個頂出部均與所述收容腔連通。
- 如申請專利範圍第2項所述之頂出裝置,其中,所述本體還包括一個開設於所述底壁之入口;所述頂出裝置還包括一個密封連接至所述入口之流體供應裝置,所述流體供應裝置包括一個主體及一個傳輸管;所述主體用於向所述收容腔提供所述流體,所述傳輸管之一端連接至所述主體並用於將所述主體供應之流體導出所述主體,所述傳輸管之另一端密封連接至所述入口以將所述流體導入所述收容腔。
- 如申請專利範圍第4項所述之頂出裝置,其中,所述流體為氣體,所述主 體為一鼓風機。
- 如申請專利範圍第4項所述之頂出裝置,其中,所述支撐面開設有多個安裝孔,所述囊體還包括一個圍繞所述本體之邊緣部,所述邊緣部開設有多個貫穿所述邊緣部之通孔,所述囊體通過多個固定件安裝至所述支撐件上,每個固定件穿設於一個通孔並安裝至對應一個安裝孔內。
- 如申請專利範圍第6項所述之頂出裝置,其中,所述邊緣部為圓環形,所述通孔之數量為四個且四個通孔均分佈於所述邊緣部。
- 如申請專利範圍第6項所述之頂出裝置,其中,所述安裝孔為螺孔,所述固定件為螺絲。
- 如申請專利範圍第6項所述之頂出裝置,其中,所述支撐件為平板狀且還包括一個與所述支撐面相背之底面,所述支撐件開設有一個貫穿所述支撐面及所述底面之容置孔,所述入口為細長管狀且從所述支撐面穿設於所述容置孔內並伸出於所述底面。
- 如申請專利範圍第1項所述之頂出裝置,其中,所述囊體由矽膠製成。
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