TWI531810B - An antistatic hard coat film, a method for manufacturing the same, a polarizing plate, and an image display device - Google Patents

An antistatic hard coat film, a method for manufacturing the same, a polarizing plate, and an image display device Download PDF

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Description

抗靜電性硬塗膜、其製造方法、偏光板及影像顯示裝置
本發明係有關於一種抗靜電性硬塗膜、其製造方法、偏光板及影像顯示裝置。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、電子紙、平板PC(Tablet PC)等影像顯示裝置中，通常於最表面設置由具有抗反射性、硬塗性或抗靜電性等各種功能之層所構成的光學積層體。
上述光學積層體係於透明基材上積層各種功能層而成。因此，例如於透明基材上形成硬塗層之情形時，會產生如下問題：透明基材表面與硬塗層之界面的反射光、和硬塗層表面之反射光產生干涉，因膜厚不均而引起稱為干涉條紋之不均圖案，從而導致外觀受損。
為了防止此種干涉條紋之產生，例如已知有於透明基材上形成硬塗層之情形時，在用於形成該硬塗層之樹脂組成物中使用可滲透至透明基材而使其膨潤或溶解之溶劑的方法(例如，參照專利文獻1、2)。藉由使用含此種溶劑之樹脂組成物，可使透明基材與硬塗層之界面實質上不存在，而防止干涉條紋之產生。
又，例如於專利文獻3，揭示有於透光性基材上，具備由含有一定之四級銨鹽與(甲基)丙烯酸酯及滲透性溶劑之硬塗層形成用組成物所形成之樹脂層的光學積層體。
該專利文獻3揭示之光學積層體使透光性基材與樹脂層之界面實質上不存在，可防止干涉條紋之產生，又，設置於透光性基材上之樹脂層旨在成為除了硬塗性以外，抗靜電性、抗白化性及透光性等光學特性亦有一定程度優異。
然而，伴隨近年來影像顯示裝置之高品質化，光學積層體亦要求更高品質。
因此，關於如上所述之先前之光學積層體，例如若欲達成較高水準之抗白化性，則存在抗靜電性下降或產生干涉條紋之問題，另一方面，若欲達成較高水準之抗靜電性，則相反地存在抗白化性下降之問題，無法充分應對近年來更高品質之要求。
專利文獻1：日本特開2003-131007號公報
專利文獻2：日本特開2003-205563號公報
專利文獻3：日本特開2009-086660號公報
本發明鑒於上述現狀，目的在於提供一種具有極其優異之抗白化性能與抗靜電性能，並且亦可充分抑制干涉條紋之產生的抗靜電性硬塗膜，使用該抗反射膜而成之偏光板及影像顯示裝置。
本發明係一種抗靜電性硬塗膜，其具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層，上述硬塗層含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之聚合物，上述三乙醯纖維素基材具有滲透層，該滲透層係由上述(甲基)丙烯酸酯系單體自上述硬塗層側界面向與該硬塗層相反之側滲透而形成，設上述滲透層與硬塗層之合計厚度為T(μm)、且設上述滲透層之厚度為t(μm)時，上述(T)及(t)滿足下述式(1)、(2)及(3)：
3μm≦T≦18μm　(式1)
0.3T≦t≦0.9T　(式2)
2μm≦T-t≦11μm　(式3)。
於本發明之抗靜電性硬塗膜中，上述滲透層之厚度(t)較佳為2～8μm。
又，較佳為上述硬塗層為將含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之硬塗層形成用組成物塗佈於三乙醯纖維素基材上而形成之被膜的硬化物，滲透層為由上述硬塗層形成用組成物中之(甲基)丙烯酸酯系單體滲透至三乙醯纖維素基材而形成。
又，上述抗靜電劑較佳為含四級銨鹽低聚物。
又，上述(甲基)丙烯酸酯系單體較佳為重量平均分子量未達1000。
又，上述(甲基)丙烯酸酯系單體較佳為選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯構成之群中之至少1種。
另外，本發明亦係一種偏光板，其具備偏光元件而成，上述偏光板於偏光元件表面具備上述抗靜電性硬塗膜。
另外，本發明亦係一種影像顯示裝置，其於最表面具備上述抗靜電性硬塗膜或上述偏光板。
另外，本發明亦係一種抗靜電性硬塗膜之製造方法，該抗靜電性硬塗膜具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層，該製造方法具有以下步驟：於上述三乙醯纖維素基材上塗佈含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之硬塗層形成用組成物而形成被膜的步驟；於塗佈上述硬塗層形成用組成物後之20秒以內，以下述條件乾燥上述被膜的步驟；及使乾燥後之上述被膜硬化的步驟；
乾燥條件
乾燥溫度：40～80℃
乾燥時間：20～70sec
風速：5～20m/min。
以下，對本發明詳細地進行說明。
本發明係一種抗靜電性硬塗膜，其具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層，且上述硬塗層含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂，上述三乙醯纖維素基材具有(甲基)丙烯酸酯系單體自上述硬塗層側界面向內側區域滲透所成具有一定之厚度關係的滲透層。
本發明人等對上述構成之抗靜電性硬塗膜潛心進行研究，結果發現：藉由著眼於上述滲透層之厚度、與該滲透層與硬塗層之合計厚度之關係，使其等滿足特定之關係式，可同時實現極其優異之抗白化性能與抗靜電性能，而且亦可充分抑制干涉條紋之產生，從而完成本發明。
本發明之抗靜電性硬塗膜具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層。
上述三乙醯纖維素基材係具備透明性、耐熱性進一步光學性能優異者。
上述三乙醯纖維素基材之厚度較佳為20～300μm，更佳為30～200μm。
於本發明之抗靜電性硬塗膜中，上述三乙醯纖維素基材具有(甲基)丙烯酸酯系單體自後述之硬塗層側界面向與該硬塗層相反之側滲透而形成的滲透層。藉由具有該滲透層，本發明之抗靜電性硬塗膜可較佳地抑制干涉條紋之產生。
再者，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
又，本發明之抗靜電性硬塗膜，當設上述滲透層與硬塗層之合計厚度為T(μm)、且設上述滲透層之厚度為t(μm)時，上述(T)及(t)滿足下述式(1)及(2)。藉由滿足下述式(1)、(2)及(3)之全部，本發明之抗靜電性硬塗膜可以極高之水準達成抗白化性能與抗靜電性能。
3μm≦T≦18μm　(式1)
0.3T≦t≦0.9T　(式2)
2μm≦T-t≦11μm　(式3)
圖1係於將上述三乙醯纖維素基材中之滲透層與硬塗層之合計厚度T(μm)作為橫軸，將滲透層之厚度t(μm)作為縱軸的座標，描繪上述式(1)及(2)的圖。
即，本發明之抗靜電性硬塗膜，上述硬塗層與滲透層之合計厚度(T)、及滲透層之厚度(t)必須在圖1中由上述式(1)及(2)描繪之直線所形成的陰影區域內。
於偏離由上述式(1)及(2)描繪之直線所形成的區域之情形時，具體而言，於上述(T)未達3μm之情形時(圖1中之區域S1)，即便後述之硬塗層形成用組成物硬化收縮，仍會對三乙醯纖維素基材成分造成妨礙而交聯密度不易上升，因此硬塗層之硬度變得不充分。又，於上述(T)超過18μm之情形時(圖1中之區域S2)，相反地後述之硬塗層形成用組成物之硬化收縮力提高，因此本發明之抗靜電性硬塗膜產生裂痕或捲曲。
又，於上述(t)小於0.3T之情形時(圖1中之區域S3)，(甲基)丙烯酸酯系單體較多地存在於硬塗層內，阻礙後述之抗靜電劑之滲出(bleedout)，因此，本發明之抗靜電性硬塗膜之抗靜電性能變得不充分，又，於硬塗層與三乙醯纖維素基材產生界面，由於兩者之折射率不同，因此亦無法充分抑制干涉條紋之產生。又，亦產生本發明之抗靜電性硬塗膜之透光率下降的危險性升高，進而產生裂痕或捲曲之問題。於上述(t)超過0.9T之情形時(圖1中之區域S4)，三乙醯纖維素基材因溶劑而膨潤，從而於三乙醯纖維素基材表面產生微細之凹凸，因此本發明之抗靜電性硬塗膜之抗白化性能變差，而且硬塗層之硬度變得不充分。
形成上述滲透層之(甲基)丙烯酸酯系單體係形成後述之硬塗層時所使用的硬塗層形成用組成物中所含之單體成分。
此種滲透層係藉由如下方式形成：將上述硬塗層形成用組成物塗佈於三乙醯纖維素基材上時，上述(甲基)丙烯酸酯系單體滲透至三乙醯纖維素基材中，使滲透之(甲基)丙烯酸酯系單體硬化。
亦即，上述滲透層係上述(甲基)丙烯酸酯系單體之硬化物與三乙醯纖維素基材之材料混合存在之層。
於本發明之抗靜電性硬塗膜中，上述滲透層之厚度較佳為2～8μm。若未達2μm，則存在本發明之抗靜電性硬塗膜之抗靜電性變得不充分的情形，又，存在於三乙醯纖維素基材與硬塗層之界面產生干涉條紋的情形。另一方面，若超過8μm，則存在本發明之抗靜電性硬塗膜之抗白化性能變得不充分的情形。上述滲透層之厚度之更佳下限為4μm，更佳上限為5μm。藉由使上述滲透層之厚度之下限及上限在此範圍內，滿足上述式(1)及(2)的本發明之抗靜電性硬塗膜之抗白化性能與抗靜電性能變得極其優異，且亦可較佳地防止干涉條紋之產生。
上述滲透層之厚度例如可藉由使用掃描式電子顯微鏡(SEM)等觀察本發明之抗靜電性硬塗膜之剖面而測定。
具體而言，首先，以熱硬化性樹脂包埋本發明之抗靜電性硬塗膜，使用切片機製作超薄切片。將所製作之超薄切片於OsO4(氧化鋨)浸漬數分鐘而染色，進而蒸鍍碳，製作用以測定滲透層之樣品。
然後，使用掃描式電子顯微鏡(SEM)，於例如加速電壓30 kV、發射電流10μA、倍率50k之條件下對獲得之樣品進行測定，測定滲透層之厚度。
上述硬塗層係形成於上述三乙醯纖維素基材上之層，且係保證本發明之抗靜電性硬塗膜之抗靜電性及硬塗性之層。
此種硬塗層例如可藉由如下方式而形成：將含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之硬塗層形成用組成物塗佈於上述三乙醯纖維素基材上形成被膜，使所形成之被膜硬化。
又，本發明之抗靜電性硬塗膜滿足上述式(3)。
上述式(3)中，「T-t」表示上述硬塗層之厚度(μm)，若T-t未達2μm，則硬塗層之硬度變得不充分，另一方面，若超過11μm，則本發明之抗靜電性硬塗膜產生捲曲。上述T-t之較佳下限為3μm，較佳上限為9μm。
上述抗靜電劑係對上述硬塗層賦予抗靜電性之材料，可藉由使上述抗靜電劑滲出至上述硬塗層之與三乙醯纖維素基材相反之側之表面而對該硬塗層賦予抗靜電性。
關於此種抗靜電劑，於滲透層之厚度較小之情形時，由於(甲基)丙烯酸系單體較多地存在於硬塗層內，故而其難以滲出至硬塗層之表面，抗靜電性能下降。另一方面，於上述滲透層之厚度較大之情形時，由於殘留於硬塗層內之(甲基)丙烯酸系單體較少，故而上述抗靜電劑容易滲透至硬塗層之表面，其結果為抗靜電性能提高。
上述抗靜電劑，較佳為含四級銨鹽低聚物。藉由使上述抗靜電劑含四級銨鹽低聚物，可對硬塗層賦予特佳之抗靜電性。
上述四級銨鹽低聚物較佳為重量平均分子量為1000～5萬。若未達1000，則存在抗靜電劑本身向上述三乙醯纖維素基材滲透而含於滲透層中，本發明之抗靜電性硬塗膜之抗靜電性變得不充分的情況。若超過5萬，則存在上述硬塗層形成用組成物之黏度提高而塗敷性下降，本發明之抗靜電性硬塗膜之生產效率下降的情況。上述重量平均分子量之更佳下限為1500，更佳上限為3萬。
再者，上述四級銨鹽低聚物之重量平均分子量可利用凝膠滲透層析法(GPC)藉由聚苯乙烯換算而求得。GPC流動相之溶劑可使用四氫呋喃或氯仿。關於測定用管柱，將四氫呋喃用或氯仿用之管柱之市售品管柱組合使用即可。上述市售品管柱，例如可列舉：Shodex GPC KF-801、GPC KF-802、GPC KF-803、GPC KF-804、GPC KF-805、GPC KF-800D(均為商品名，昭和電工公司製造)等。檢測器使用RI(示差折射率)檢測器及UV檢測器即可。藉由使用上述溶劑、管柱、檢測器，例如藉由Shodex GPC-101(昭和電工公司製造)等GPC系統，可適宜測定上述重量平均分子量。
上述四級銨鹽低聚物較佳為具有光反應性不飽和鍵之化合物。藉由具有上述光反應性不飽和鍵，可使所形成之硬塗層具有高硬度。又，具有上述光反應性不飽和鍵之化合物，例如可列舉具有(甲基)丙烯酸基之化合物等。又，由於其具有抑制滲出之作用，故而可提高耐光性或耐皂化性。
上述四級銨鹽低聚物亦可使用市售品。上述四級銨鹽之市售品，例如可列舉：H6100、H6100M、H6500(均為商品名，三菱化學公司製造)，Uniresin AS-10/M、Uniresin AS-12/M、Uniresin AS-15/M、Uniresin ASH26(均為商品名，新中村化學工業公司製造)，UV-ASHC-01(商品名，日本化成公司製造)等。
上述硬塗層形成用組成物中的上述四級銨鹽低聚物之含量，較佳為全部固形物成分中之1～20質量%。若未達1質量%，則有所形成之硬塗層無法表現出所欲之抗靜電性之虞。若超過20質量%，則有本發明之抗靜電性硬塗膜之抗白化性能、硬度等下降之虞。又，於成本方面亦不佳。上述四級銨鹽低聚物之含量之更佳下限為1質量%，更佳上限為10質量%。
上述(甲基)丙烯酸酯系單體如上所述，係藉由滲透至上述三乙醯纖維素基材形成上述滲透層之材料。
此種(甲基)丙烯酸酯系單體，例如較佳為選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯構成之群中之至少1種。其中，更佳為新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯。
再者，於本說明書中，上述「(甲基)丙烯酸酯系單體」可形成上述滲透層且亦形成硬塗層，可提高硬塗層之硬度，亦可提高與三乙醯纖維素基材之密合性。
又，於本說明書中，所謂「單體」係指重量平均分子量未達1000之化合物。由於重量平均分子量未達1000，故而上述(甲基)丙烯酸系單體容易滲透至三乙醯纖維素基材。
再者，上述重量平均分子量可藉由與上述四級銨鹽低聚物之重量平均分子量相同之方式而求得。
上述(甲基)丙烯酸酯系樹脂係上述(甲基)丙烯酸酯系單體或具有反應性官能基之化合物等之聚合物或共聚物的重量平均分子量為1000以上的低聚物或聚合物。
此種(甲基)丙烯酸酯系樹脂，例如可列舉：環氧(甲基)丙烯酸酯、胺酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯系化合物。其中，就可對本發明之抗靜電性硬塗膜之硬塗層賦予合適之硬度方面而言，較佳為胺酯(甲基)丙烯酸酯。再者，該等(甲基)丙烯酸酯系樹脂可將2種以上併用，更佳為具有反應性官能基者。
又，上述(甲基)丙烯酸酯系樹脂亦可使用市售品。上述(甲基)丙烯酸酯系樹脂之市售品，例如可列舉：日本合成化學公司製造之紫光系列：UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B等；根上工業公司製造之Art Resin系列：Art Resin HDP、Art Resin UN3320HSBA、Art Resin UN9000H、Art Resin UN3320HA、Art Resin UN3320HB、Art Resin UN3320HC、Art Resin UN3320HS、Art Resin UN901M、Art Resin UN902MS、Art Resin UN903等；新中村化學工業公司製造之UA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI等；Daicel UCB公司製造之Ebecryl系列：1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450等；荒川化學工業公司製造之BEAMSET系列：371、577等；Mitsubishi Rayon公司製造之RQ系列；Dainippon Ink公司製造之UNIDIC系列等；DPHA40H(日本化藥公司製造)；CN9006(Sartomer公司製造)、CN968(Sartomer公司製造)等。其中，較佳為UV1700B(日本合成化學公司製造)、DPHA40H(日本化藥公司製造)、Art Resin HDP(根上工業公司製造)、BEAMSET 371(荒川化學工業公司製造)、BEAMSET 577(荒川化學工業公司製造)、U15HA(新中村化學工業公司製造)。
上述硬塗層形成用組成物中上述(甲基)丙烯酸酯系單體與上述(甲基)丙烯酸酯系樹脂之調配比(單體/樹脂)較佳為以質量比計為40/60～95/5。若未達40/60，則存在由於(甲基)丙烯酸酯系樹脂之比例較多，故而所製造的本發明之抗靜電硬塗膜之滲透層過薄(圖1中之區域S3)，硬塗層與三乙醯纖維素基材間產生界面，因兩者之折射率不同而有產生干涉條紋之虞，或者有三乙醯纖維素基材與硬塗層之密合性變差之虞。若超過95/5，則(甲基)丙烯酸酯系單體之比例較多，雖三乙醯纖維素基材與硬塗層之密合性提高，但三乙醯纖維素基材因溶劑而膨潤，從而於三乙醯纖維素基材表面產生微細之凹凸，因此滲透層過厚(圖1中之區域S4)而白化。又，若(甲基)丙烯酸酯系單體之比例較多，則有對形成硬塗層時塗佈硬塗層形成用組成物而獲得之被膜進行硬化時，藉由熱之產生而於三乙醯纖維素基材形成皺褶之虞。上述調配比(單體/樹脂)更佳為以質量比計為55/45～95/5。
上述硬塗層形成用組成物進而較佳為含有滲透性溶劑。
上述所謂滲透性溶劑，係指對於塗敷含有該溶劑之組成物之基材可表現出潤濕性、膨潤性的溶劑，或者可進而滲透至基材中且發揮使組成物亦一同滲透之輔助性作用的溶劑。
藉由使用上述滲透性溶劑，可於上述三乙醯纖維素基材高效率且確實地形成上述滲透層。
上述滲透性溶劑，例如可列舉：丙酮、甲基乙基酮、環己酮、二丙酮醇等酮類；甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯類；硝基甲烷、乙腈、N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺等含氮化合物；四氫呋喃、1,4-二烷、二氧戊環(dioxolane)、二異丙醚等醚類，二氯甲烷、氯仿、四氯甲烷等鹵化烴；甲基賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇、乙酸賽路蘇等二醇醚類；以及二甲基亞碸、碳酸丙烯酯。又，亦可為該等之混合物。其中，較佳為選自由乙酸甲酯、乙酸乙酯及甲基乙基酮構成之群之至少1種，尤佳為甲基乙基酮。
又，上述硬塗層形成用組成物較佳為除了上述滲透性溶劑以外，進而含有非滲透性溶劑。其原因在於：於硬塗層形成用組成物僅含有上述滲透性溶劑作為溶劑之情形時，極難高效率地製造抗白化性能優異之硬塗層，但藉由併用上述非滲透性溶劑，滲透層之厚度控制變得容易，可容易地高效率地製造抗白化性能優異之硬塗層。
上述所謂非滲透性溶劑，係指對於塗敷含有該溶劑之組成物之基材不表現出滲透性之溶劑。
此種非滲透性溶劑，具體可列舉選自由甲基異丁基酮、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯及異丙醇、正丁醇、甲甘醇(methyl glycol)、甲甘醇乙酸酯(Methyl glycol acetate)、二乙基酮構成之群中之至少1種，其中，可較佳地使用乙酸異丙酯。
再者，上述甲基異丁基酮有時分類為上述滲透性溶劑，但由於其與上述滲透性溶劑相比為對基材之滲透性較低，並且亦不易表現膨潤性之溶劑，故而本說明書將其分類為「非滲透性溶劑」。
上述硬塗層形成用組成物中之上述滲透性溶劑與非滲透性溶劑之調配比，較佳為非滲透性溶劑相對於滲透性溶劑100質量份為5～40質量份。若未達5質量份，則存在由於滲透層過厚(圖1中之區域S4)故而抗白化性能變得不充分的情況。若超過40質量份，則存在由於滲透層過薄(圖1中之區域S3)故而硬塗層與三乙醯纖維素基材之密合性較差，並且由於(甲基)丙烯酸酯系單體較多地存在於硬塗層內阻礙抗靜電劑之滲出，故而抗靜電性能變得不充分的情況，又，亦存在於三乙醯纖維素基材與硬塗層之界面產生干涉條紋的情況。
上述非滲透性溶劑之更佳下限為10質量份，更佳上限為20質量份。藉由使滲透性溶劑與非滲透性溶劑在該範圍內，可形成較佳之滲透層之厚度，故而可高效率地製造抗白化性能與抗靜電性能極其優異之硬塗層。
上述硬塗層形成用組成物，固形物成分濃度較佳為20～60質量%。若未達20質量%，則存在所形成之硬塗層之硬度變得不充分的情況，若超過60質量%，則存在無法高效率地形成硬塗層的情況。上述固形物成分濃度之更佳下限為30質量%，更佳上限為50質量%。藉由使其在該範圍內，可高效率地形成具有充分之硬度，且可發揮上述效果之硬塗層。
上述硬塗層形成用組成物，除了上述成分之外，亦可以不對本發明之效果造成影響之程度而視需要含有其他成分。
上述其他成分，可列舉：光聚合起始劑、調平劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、上述以外之樹脂等。
上述光聚合起始劑，例如可列舉：苯乙酮類(例如，商品名Irgacure 184，Ciba Specialty Chemicals公司製造之1-羥基環己基苯基酮；商品名Irgacure 907，Ciba Specialty Chemicals公司製造之2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基丙烷-1-酮)、二苯甲酮類、9-氧硫(thioxanthone)類、安息香、安息香甲醚、芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、金屬芳香類(metallocene)化合物、安息香磺酸酯(benzoin sulfonate)等。該等可單獨地使用，亦可將2種以上併用。
上述光聚合起始劑之添加量較佳為相對於上述硬塗層形成用組成物所含之樹脂固形物成分100質量份為0.1～10質量份。
上述調平劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、其他樹脂使用公知者即可。
又，上述硬塗層形成用組成物，亦可以不對本發明之效果造成影響之程度而視需要含防眩劑、低折射率劑、中折射率劑、防污劑等公知之添加劑。
製備上述硬塗層形成用組成物之方法，例如可列舉混合分散上述抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸酯單體、滲透性溶劑、非滲透性溶劑及其他成分之方法。
上述混合分散可使用塗料振盪器或珠磨機等公知之方法。
將上述硬塗層形成用組成物塗佈於三乙醯纖維素基材上之方法並無特別限定，例如可列舉：輥塗法、Meyer棒塗法、凹版印刷塗佈法、模塗法等塗佈方法。
上述硬塗層形成用組成物之塗佈量，以形成後述層厚之硬塗層之方式適當調整即可。
又，上述硬塗層形成用組成物之塗佈速度並無特別限定，較佳為10m/min以上。此種塗佈速度例如可藉由併用上述滲透性溶劑與非滲透性溶劑作為上述硬塗層用組成物之溶劑而實現，尤其是使用甲基乙基酮作為滲透性溶劑，使用乙酸異丙酯、甲基異丁基酮或異丙醇作為非滲透性溶劑之情形時，可較佳地達成上述塗佈速度。
使上述硬塗層形成用組成物塗佈於三乙醯纖維素基材上而獲得之被膜硬化的方法，例如可列舉對上述被膜照射活性能量射線之方法。
再者，藉由在照射上述活性能量之前，於塗佈後之20秒以內以如下條件乾燥該被膜，可獲得上述較佳之滲透層厚度。若塗佈後超過20秒後進行乾燥，則硬塗層形成用組成物過度滲透。
乾燥溫度：40～80℃
乾燥時間：20sec～70sec
風速：5～20m/min
再者，若上述乾燥溫度未達40℃，則硬塗層形成用組成物於三乙醯纖維素基材過度滲透，另一方面，若超過80℃，則硬塗層形成用組成物無法充分地滲透至三乙醯纖維素基材。藉由使乾燥溫度在上述範圍內，滲透層厚度不會產生不均勻，可獲得穩定之滲透層厚度。
再者，具有滿足上述條件之乾燥步驟的抗靜電性硬塗膜之製造方法亦係本發明之一。
上述活性能量射線照射，可列舉紫外線或電子束之照射。紫外線源之具體例子，可列舉：超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈、金屬鹵化物燈等光源。紫外線之波長，可使用190～380nm之波長區域。電子束源之具體例子，可列舉：柯克勞夫-沃耳吞(Cockcroft-Walton)型、凡德格拉夫(Van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型或直線型、高頻高壓加速器(dynamitron)型、高頻型等各種電子束加速器。
其中較佳為高壓水銀燈，藉由上述波長區域之範圍，可調整為較佳之滲透層厚度。
以此種方法形成的本發明之抗靜電性硬塗膜中之硬塗層之層厚，可根據與滲透層之厚度之關係，以滿足上述式(1)及(2)之方式適宜調整。
再者，上述硬塗層之層厚例如可藉由如下方式而求得：以電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察本發明之抗靜電性硬塗膜之剖面，對任意十點，測定自三乙醯纖維素基材之未形成硬塗層之面至硬塗層之上面為止的總厚度，並求出由所得之值減去三乙醯纖維素基材之厚度的值，計算十點之平均值。
本發明之抗靜電性硬塗膜係於上述三乙醯纖維素基材上具有上述硬塗層者，但亦可視需要而具有低折射率層、防眩層、高折射率層、中折射率層、防污層等任意層。
關於上述低折射率層、防眩層、高折射率層、中折射率層、防污層，可製備添加有通常使用之公知之低折射率劑、防眩劑、高折射率劑、中折射率劑、防污劑或樹脂等之組成物，利用公知之方法形成各層。
本發明之抗靜電性硬塗膜較佳為表面電阻值為1×1011 Ω/□以下。若超過1×1011 Ω/□，則有無法防止灰塵附著之虞。上述表面電阻值更佳為1×1010 Ω/□以下，更佳為1×109 Ω/□以下。
本發明之抗靜電性硬塗膜較佳為總透光率為90%以上。若未達90%，則將本發明之抗靜電性硬塗膜安裝於影像顯示裝置之表面之情形時，有可能會損害色再現性或辨識性。上述總透光率更佳為91%以上，再更佳佳為92%以上。
又，本發明之抗靜電性硬塗膜較佳為霧度未達1%，更佳為未達0.5%。此種低霧度值可藉由使用上述硬塗層用組成物形成滿足上述式(1)、(2)之硬塗層及滲透層而達成。
本發明之抗靜電性硬塗膜較佳為於依據JIS K5400之鉛筆硬度試驗(荷重4.9 N)中，硬度為2 H以上，更佳為3 H以上。又，依據JIS K5400之Taber試驗，試驗前後之測試片之磨耗量越少越佳。
本發明之抗靜電性硬塗膜可藉由於偏光元件之表面，設置該抗靜電性硬塗膜之與存在硬塗層之面相反之面而製成偏光板。此種偏光板亦係本發明之一。
上述偏光元件並無特別限定，例如可列舉利用碘等進行染色、拉伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。
於上述偏光元件與本發明之抗靜電性硬塗膜之積層處理中，較佳為對三乙醯纖維素基材進行皂化處理。藉由皂化處理，可使接著性變得良好且亦獲得抗靜電效果。
本發明亦係一種影像顯示裝置，其係於最表面具備上述抗靜電性硬塗膜或上述偏光板而成。上述影像顯示裝置可為LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、觸控面板、電子紙、平板PC等影像顯示裝置。
上述代表性之例的LCD係具備穿透性顯示體、及自背面照射該穿透性顯示體之光源裝置而成。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該穿透性顯示體之表面形成有本發明之抗靜電性硬塗膜或本發明之偏光板。又，亦可於其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述抗靜電性硬塗膜。
於本發明為具有上述抗靜電性硬塗膜之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源係自抗靜電性硬塗膜之下側照射。再者，於STN型液晶顯示裝置，亦可於液晶顯示元件與偏光板之間***相位差板。該液晶顯示裝置之各層間可視需要設置接著劑層。
上述影像顯示裝置之PDP係具備表面玻璃基板(表面形成有電極)，及配置成與該表\面玻璃基板相對向，並於其間封入有放電氣體的背面玻璃基板(表面形成電極及微小之槽，槽內形成紅、綠、藍之螢光體層)。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦係於上述表面玻璃基板之表面、或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述抗靜電性硬塗膜。
上述影像顯示裝置可為將施加電壓時會發光之硫化鋅、二胺類物質等發光體蒸鍍於玻璃基板，控制施加於基板之電壓而進行顯示的ELD裝置，或者將電訊號轉換為光，產生人眼可見之像的CRT等。於此情形時，係於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述抗靜電性硬塗膜。
本發明之影像顯示裝置之任一情形均可用於電視、電腦等顯示器顯示。尤其是可較佳地使用於CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED、觸控面板、電子紙、平板PC等高精細影像用顯示器之表面。
本發明之抗靜電性硬塗膜係於三乙醯纖維素基材上形成有硬塗層之構成，由於在該三乙醯纖維素基材之自硬塗層側界面至內側區域形成有均滿足上述式(1)、(2)之的滲透層，故而可以極高之水準達成抗白化性能與抗靜電性能。又，藉由具有此種滲透層，本發明之抗靜電性硬塗膜可較佳地防止於三乙醯纖維素基材與硬塗層之界面產生干涉條紋。
進而，於形成上述硬塗層時使用之硬塗層形成用組成物併用滲透性溶劑與非滲透性溶劑作溶劑之情形時，可使硬塗層形成用組成物之固形物成分濃度與先前相比較低，因此與先前相比可更高效率地形成硬塗層。
因此，本發明之抗靜電性硬塗膜可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、電子紙、平板PC等。
藉由下述實施例對本發明之內容進行說明，但本發明之內容並非限定於該等實施態樣而解釋。只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。進而，只要無特別說明，則各成分量為固形物成分之量。
(實施例1)
調配下述成分而製備硬塗層形成用組成物。
抗靜電劑(UV-ASHC-01，日本化成公司製造，重量平均分子量10000，固形物成分50%，四級銨鹽成分於固形物成分中約為15%，約90%為DPHA、溶劑MEK、醇)3質量份
二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA，日本化藥公司製造)87質量份
胺酯丙烯酸酯(UV1700B，日本合成化學公司製造，10官能，重量平均分子量2000)10質量份
Irgacure 184(Ciba Japan公司製造)4質量份
MEK(甲基乙基酮)88質量份
IPAC(乙酸異丙酯)12質量份
接著，準備厚度80μm之三乙醯纖維素基材(Fuji Film公司製造，TD80UL)，於該三乙醯纖維素基材之單面塗佈所獲得之硬塗層形成用組成物而形成塗膜。接著，8秒後將所形成之塗膜於溫度50℃之熱烘箱中以10m/min之風速乾燥60秒，使塗膜中之溶劑蒸發後，以累計光量達到50mJ之方式照射紫外線而使塗膜硬化，藉此製作抗靜電性硬塗膜。
(實施例2～10、比較例1～14)
除了使用表1記載之成分及配合以外，以與實施例1相同之方式製作抗靜電性硬塗膜。再者，表1所示之組成如下所述。
M-8030：多官能聚酯丙烯酸酯
MT3506：多官能聚酯丙烯酸酯，東亞合成公司製造
BS577：胺酯丙烯酸酯，荒川化學製造，6官能，重量平均分子量1000(固形物成分中含有60%之PETA)
IPA：異丙醇
n-BuOH：正丁醇
MIBK：甲基異丁基酮
(實施例11)
準備厚度80μm之三乙醯纖維素基材(Fuji Film公司製造，TD80UL)，於該三乙醯纖維素基材之單面上塗佈下述表1所示之組成之硬塗層形成用組成物而形成塗膜。
接著，8秒後將所形成之塗膜於溫度70℃之熱烘箱中以10m/min之風速乾燥60秒，使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量達到50mJ之方式照射紫外線使塗膜硬化，藉此製作抗靜電性硬塗膜。
藉由以下方法評價獲得之抗靜電性硬塗膜。結果示於表1。
(評價1：表面電阻值)
表面電阻值(Ω/□)係利用表面電阻值測定器(三菱化學公司製造，產品編號：Hiresta IP MCP-HT260)，於施加電壓500V進行測定。
(評價2：有無白化)
自抗靜電性硬塗膜之與硬塗層相反之面側照射光，藉由目視透過硬塗層之面進行觀察，評價有無白化。評價係將無白化之良好情形記為「○」，將產生白化之情形記為「×」。
(評價3：有無干涉條紋之產生)
於抗靜電性硬塗膜之與硬塗層相反之面，黏貼用以防止背面反射之黑色膠帶，藉由目視自硬塗層之面觀察抗靜電性硬塗膜，評價有無干涉條紋之產生。評價係將無干涉條紋之良好情形記為「○」，將產生干涉條紋之情形記為「×」。
(評價4：滲透層之厚度(t))
以厚度方向之剖面切斷抗靜電性硬塗膜，使用掃描式電子顯微鏡(SEM)觀察切斷面，測量滲透層之厚度(t)。又，同時亦測量硬塗層與滲透層之合計厚度T(μm)。
詳細而言，以熱硬化性樹脂包埋抗靜電性硬塗膜，使用切片機製作超薄切片。將所製作之超薄切片於OsO4(氧化鋨)中浸漬數分鐘進行染色，進而蒸鍍碳，製作用於測定滲透層之樣品。
然後，使用掃描式電子顯微鏡(SEM)，於加速電壓30kV、發射電流10μA、倍率50k之條件下對所獲得之樣品進行測定，測定滲透層之厚度。
(評價5：鉛筆硬度試驗)
將抗靜電性硬塗膜於溫度25℃、相對濕度60%之條件下進行2小時溼度控制後，使用JIS-S-6006所規定之試驗用鉛筆(硬度H～3H)，依據JIS K5600-5-4(1999)所規定之鉛筆硬度評價方法，以4.9 N之荷重實施評價。將2H以上記為良好。
(評價6：總透光率)
使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，產品編號：HM-150)，依據JIS K-7361測定總透光率(%)。
(評價7：霧度)
使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，產品編號：HM-150)，依據JIS K-7136測定霧度值(%)。
(評價8：捲曲)
將以100mm×100mm之大小裁剪抗靜電性硬塗膜而製作之樣品，以硬塗層側朝上之方式放置於水平之台上，觀察樣品之角之浮升狀態，測定四角距離台之高度之平均值。藉由下述評價而判斷。
浮升之高度未達40mm：○
浮升之高度為40mm以上：×
如表1所示，滲透層與硬塗層之合計厚度T(μm)、滲透層之厚度t(μm)滿足3μm≦T≦18μm(式1)、0.3T≦t≦0.9T(式2)及2μm≦T-t≦11μm(式3)的實施例之抗靜電性硬塗膜所有評價結果均良好。
另一方面，偏離式(2)之右邊及式(3)之左邊的比較例1～3之抗靜電性硬塗膜產生白化。又，偏離式(2)之左邊的比較例4～6及不含抗靜電劑的比較例7之抗靜電性硬塗膜表面電阻值升高，且亦產生干涉條紋。又，偏離式(1)之左邊及式(3)之左邊的比較例8、9之抗靜電性硬塗膜之鉛筆硬度較差，比較例8之抗靜電性硬塗膜進而亦產生白化。又，偏離式(1)之右邊及式(3)之右邊的比較例10、11之抗靜電性硬塗膜產生較大之捲曲。又，偏離式(2)之左邊的比較例12、13之抗靜電性硬塗膜產生干涉條紋，偏離式(2)之右邊的比較例14之抗靜電性硬塗膜產生白化。
再者，除了將使用硬塗層形成用組成物形成之塗膜之乾燥條件設為溫度100℃、時間80秒、風速30m/min以外，以與實施例1相同之方式獲得的抗靜電用硬塗膜係滲透層之厚度偏離式(2)之左邊。
本發明之抗靜電性硬塗膜由於具有上述構成之三乙醯纖維素基材、硬塗層及滲透層，故而具有極其優異之抗白化性能與抗靜電性能，又，亦可充分抑制干涉條紋之產生。因此，本發明之抗靜電性硬塗膜可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等。
圖1係於以本發明之抗靜電性硬塗膜的三乙醯纖維素基材中之滲透層與硬塗層之合計厚度(T)作為橫軸，以滲透層之厚度(t)作為縱軸的座標中，描繪式(1)、(2)之圖。

Claims (9)

  1. 一種抗靜電性硬塗膜，其具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層，該硬塗層含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之聚合物，該三乙醯纖維素基材具有滲透層，該滲透層係由該(甲基)丙烯酸酯系單體自該硬塗層側界面向與該硬塗層相反之側滲透而形成，設該滲透層與硬塗層之合計厚度為T(μm)、且設該滲透層之厚度為t(μm)時，該(T)及(t)滿足下述式(1)、(2)及(3)：3μm≦T≦18μm (式1) 0.3T≦t≦0.9T (式2) 2μm≦T-t≦11μm (式3)。
  2. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性硬塗膜，其中，滲透層之厚度(t)為2~8μm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗靜電性硬塗膜，其中，硬塗層係將含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之硬塗層形成用組成物塗佈於三乙醯纖維素基材上而形成之被膜的硬化物，滲透層係由該硬塗層形成用組成物中之(甲基)丙烯酸酯系單體滲透至三乙醯纖維素基材而形成。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗靜電性硬塗膜，其中，抗靜電劑含四級銨鹽低聚物。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗靜電性硬塗膜，其中，(甲基)丙烯酸酯系單體之重量平均分子量未達1000。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗靜電性硬塗膜，其中，(甲基)丙烯酸酯系單體係選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯構成之群中之至少1種。
  7. 一種偏光板，其具備偏光元件而成，該偏光板於偏光元件表面具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之抗靜電性硬塗膜。
  8. 一種影像顯示裝置，於最表面具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之抗靜電性硬塗膜，或申請專利範圍第7項之偏光板。
  9. 一種抗靜電性硬塗膜之製造方法，該抗靜電性硬塗膜具有三乙醯纖維素基材、與形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層，該製造方法具有以下步驟：於該三乙醯纖維素基材上塗佈含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之硬塗層形成用組成物而形成被膜的步驟；於塗佈該硬塗層形成用組成物後之20秒以內，以下述條件乾燥該被膜的步驟；及使乾燥後之該被膜硬化的步驟； 乾燥條件乾燥溫度：40~80℃乾燥時間：20~70sec風速：5~20m/min。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013091699A (ja) * 2011-10-25 2013-05-16 Nippon Kasei Chem Co Ltd 帯電防止ハードコート樹脂組成物、及び帯電防止ハードコート層を有するフィルム
JP6214127B2 (ja) * 2011-10-25 2017-10-18 日本化成株式会社 帯電防止ハードコート樹脂組成物、及び帯電防止ハードコート層を有するフィルム
JP2013222125A (ja) * 2012-04-18 2013-10-28 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、これを備えた光学機能部材および画像表示装置
KR20130141995A (ko) * 2012-06-18 2013-12-27 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름, 이를 포함하는 편광판 및 화상 표시 장치
JP6167090B2 (ja) * 2014-09-30 2017-07-19 富士フイルム株式会社 ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP6668605B2 (ja) * 2015-04-15 2020-03-18 大日本印刷株式会社 光学フィルム
JP6777384B2 (ja) * 2015-09-30 2020-10-28 日東電工株式会社 インセル液晶パネルおよび液晶表示装置
EP3384326B1 (en) * 2015-12-04 2022-02-02 Essilor International Structured film laminate with antistatic compositions embedded therein
JP6300128B2 (ja) * 2016-11-14 2018-03-28 大日本印刷株式会社 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、これを備えた光学機能部材および画像表示装置
KR102090810B1 (ko) 2016-12-16 2020-03-18 주식회사 엘지화학 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판
TW201945911A (zh) * 2017-03-28 2019-12-01 日商日東電工股份有限公司 內置型液晶面板及液晶顯示裝置
US11256129B2 (en) 2017-03-28 2022-02-22 Nitto Denko Corporation In-cell liquid crystal panel and liquid crystal display device
KR20200085946A (ko) 2017-03-28 2020-07-15 닛토덴코 가부시키가이샤 인셀형 액정 패널 및 액정 표시 장치
JP2023032450A (ja) * 2021-08-27 2023-03-09 住友化学株式会社 光学積層体

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003131007A (ja) 2001-10-29 2003-05-08 Toppan Printing Co Ltd 光学フィルム及びその製造方法
JP4135364B2 (ja) * 2002-01-16 2008-08-20 凸版印刷株式会社 光学フィルムの製造方法
JP4920179B2 (ja) 2004-07-23 2012-04-18 凸版印刷株式会社 帯電防止性を有する積層体
JP4756336B2 (ja) * 2004-09-29 2011-08-24 大日本印刷株式会社 光学積層体
KR101224241B1 (ko) 2005-03-30 2013-01-18 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체
JP2008012675A (ja) * 2006-06-30 2008-01-24 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、及びその製造方法
JP5047636B2 (ja) 2007-01-18 2012-10-10 リンテック株式会社 ハードコートフィルム
US8431219B2 (en) * 2007-01-22 2013-04-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body including an antiglare layer containing organic particles and nonspherical silica particles
JP5359137B2 (ja) 2007-09-12 2013-12-04 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP5203741B2 (ja) 2008-02-19 2013-06-05 富士フイルム株式会社 多層膜フィルム及びその製造方法
JP2010032795A (ja) * 2008-07-29 2010-02-12 Fujifilm Corp ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板および表示装置
JP5304111B2 (ja) 2008-09-01 2013-10-02 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP5659471B2 (ja) * 2008-09-04 2015-01-28 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP5136336B2 (ja) * 2008-09-30 2013-02-06 大日本印刷株式会社 ハードコートフィルム及びハードコートフィルムの製造方法
JP5206294B2 (ja) * 2008-10-02 2013-06-12 大日本印刷株式会社 ハードコートフィルムの製造方法及び光学機能部材の製造方法
JP5659494B2 (ja) * 2009-02-17 2015-01-28 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法、偏光板、透過型液晶ディスプレイ

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