TWI509307B - 鏡頭模組 - Google Patents

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TWI509307B TW100132141A TW100132141A TWI509307B TW I509307 B TWI509307 B TW I509307B TW 100132141 A TW100132141 A TW 100132141A TW 100132141 A TW100132141 A TW 100132141A TW I509307 B TWI509307 B TW I509307B
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    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
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Description

鏡頭模組
本發明涉及一種鏡頭模組,特別涉及一種能減少產生半月形雜散光線的鏡頭模組。
鏡頭模組包括一個鏡筒及至少一個收容在該鏡筒中的鏡片,當光線從該鏡筒的物側進入到鏡筒中時,絕大部分光線將直接穿透鏡片,而少部分光線將被鏡片的光學表面所反射。而這部分被反射的光線,在鏡筒內經過多次反射後形成雜散光線,導致成像的圖像中產生奇怪的光影。
傳統的鏡頭模組對波長700nm~740nm的長波的反射率較高,當鏡頭模組與光源成35度的夾角進行拍攝時,在圖像的角落會產生半月形雜散光,從而導致圖像異常。
有鑑於此,有必要提供一種能減少產生半月形雜散光的鏡頭模組。
一種鏡頭模組,其包括一個鏡筒及容置在該鏡筒中的一個第一鏡片、一個第二鏡片及一個第三鏡片。該鏡筒包括一個物側及一個與該物側相對的像側。該第一鏡片、第二鏡片及第三鏡片從該物側到該像側依次設置。該第二鏡片包括一個朝向物側的第二物端表面和一個朝向像側的第二像端表面。該第二像端表面上鍍設有 一層抗反射膜,該抗反射膜對波長為700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%。當光線投射至第二像端表面時,光線的入射角小於6.85度。
與先前技術相比,在第二鏡片的第二像端表面鍍設一層對波長為700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%的抗反射膜,有效減少半月形雜散光的產生。
100‧‧‧鏡頭模組
10‧‧‧鏡筒
11‧‧‧物側
12‧‧‧像側
13‧‧‧容置空間
14‧‧‧第一內壁
15‧‧‧第二內壁
16‧‧‧第三內壁
17‧‧‧第四內壁
20‧‧‧第一鏡片
21‧‧‧第一物側表面
22‧‧‧第一像側表面
30‧‧‧第二鏡片
31‧‧‧第二物側表面
32‧‧‧第二像側表面
321‧‧‧抗反射膜
40‧‧‧第三鏡片
41‧‧‧第三物側表面
42‧‧‧第三像側表面
50‧‧‧遮光片
60‧‧‧濾波片
圖1係本發明提供的成像鏡頭的結構示意圖。
圖2係傳統的鏡頭模組與光源成35度的夾角時所拍攝的圖像。
圖3係本發明實施方式提供的鏡頭模組與光源成35度的夾角時所拍攝的圖像。
下面將結合附圖與實施例對本技術方案作進一步詳細說明。
如圖1所示,為本發明實施方式提供的一種鏡頭模組100,其包括一鏡筒10及容置在所述鏡筒10中的一第一鏡片20、一第二鏡片30、一第三鏡片40、兩個遮光片50及一濾波片60。
所述鏡筒10呈圓筒狀,其包括一半封閉的物側11、一未封閉的像側12及一與所述物側11和像側12都相連通的容置空間13。所述容置空間13的直徑從所述物側11至所述像側12逐漸增大。所述鏡筒10內壁從所述物側11至所述像側12呈階梯狀分佈依次包括第一內壁14、第二內壁15、第三內壁16及第四內壁17。所述第一鏡片20、第二鏡片30及第三鏡片40從所述物側11到所述像側12依次收容在所述容置空間13中。所述第一鏡片20與所述第一內壁14相抵持 。所述第二鏡片30與所述第二內壁15相抵持。所述第三鏡片30與所述第三內壁相抵持40。其中,所述第一鏡片20與所述第二鏡片30相接觸。
所述第一鏡片20包括一第一物端面21及與所述第一物端面21相對的第一像端面22。所述第一物端面21朝向所述物側11凸出,所述第一像端面22朝向所述像側12凹陷。所述第二鏡片30包括一第二物端面31及與所述第二物端面31相對的第二像端面32。所述第二物端面31朝向所述物側11凹陷,所述第二像端面32朝向所述像側12凸出。所述第三鏡片40包括一第三物端面41及與所述第三物端面41相對的第三像端面42。所述第三物端面41的朝向所述物側11凸出,所述第二像端面32朝向所述像側12凹陷。
本實施方式中,所述第一鏡片20、第二鏡片30及第三鏡片40均由玻璃或由塑膠製成,且為球面透鏡或為非球面透鏡。可以理解,所述鏡頭模組100還可以包括第四鏡片、第五鏡片等。
所述第二鏡片30的第二像側面32鍍設有一層抗反射膜321,該抗反射膜321對波長700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%。所述抗反射膜321包括自該第二像端表面32至像側12方向交替堆疊的第1至第4膜層,其中奇數膜層的材料為二氧化鈦,偶數層膜的材料為二氧化矽,具體結構如表1所示。本實施方式中,所述抗反射膜321對波長700nm~740nm的長波的反射率小於2%。
可以理解,所述抗反射膜321也可以採用其他的材料和其他的膜系結構以對波長700nm~740nm的長波實現抗反射的作用,並不限於本實施方式所提供的技術方案。
所述兩個遮光片50分別間隔設置在所述第一鏡片20與第二鏡片30之間和第二鏡片30與第三鏡片40之間。所述遮光片50用於進一步吸收鏡頭模組100中的雜散光線。
所述濾波片60採用玻璃材料製成,其固定在第三鏡片40靠近鏡筒10的像側12的一側並與所述第四內壁17相抵持。所述濾波片60用於濾除經過所述第三鏡片40的光線中的紅外光線。
在使用過程中,從鏡筒10的物側11進入的光線並投射在第一鏡片20上,光線經過第一鏡片20後投射至第二鏡片30,當光線投射至第二鏡片30的第二像端表面32時,光線的入射角小於6.85度。由於光線的入射角度較小,有效降低了第二像端表面32對光線的反射。另外,由於鍍設在第二像端表面32的所述抗反射膜321具有 增加透射和減少反射的作用,使得投射在第二像端表面32的光線中波長為700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%,從而減少了經第二鏡片30反射的光線。經過第二鏡片30的光線在穿過第三鏡片40後投射在所述濾波片60上,所述濾波片60濾除光線中的近紅外光線。經過濾波片60的光線投射在一影像感測器(圖未示)以形成圖像。
圖2中的圖像為傳統的鏡頭模組100與一光源(圖未示)成35度的夾角時所拍攝的圖像,從圖像中可以看出,在圖像的右側形成有半月形雜散光。圖3中的圖像為本發明實施方式提供的鏡頭模組100與光源成35度的夾角時所拍攝的圖像,經過與圖2中的圖像對比可以明顯看出,經過本實施方式提供的鏡頭模組100所成像的圖像中半月形雜散光明顯減少。
本發明提供的鏡頭模組中的在第二鏡片的第二像端表面鍍設一層對波長為700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%的抗反射膜,有效減少半月形雜散光的產生。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100‧‧‧鏡頭模組
10‧‧‧鏡筒
11‧‧‧物側
12‧‧‧像側
13‧‧‧容置空間
14‧‧‧第一內壁
15‧‧‧第二內壁
16‧‧‧第三內壁
17‧‧‧第四內壁
20‧‧‧第一鏡片
21‧‧‧第一物側表面
22‧‧‧第一像側表面
30‧‧‧第二鏡片
31‧‧‧第二物側表面
32‧‧‧第二像側表面
321‧‧‧抗反射膜
40‧‧‧第三鏡片
41‧‧‧第三物側表面
42‧‧‧第三像側表面
50‧‧‧遮光片
60‧‧‧濾波片

Claims (9)

  1. 一種鏡頭模組,其包括一個鏡筒及容置在該鏡筒中的一個第一鏡片、一個第二鏡片及一個第三鏡片;該鏡筒包括一個物側及一個與該物側相對的像側;該第一鏡片、第二鏡片及第三鏡片從該物側到該像側依次設置;該第二鏡片包括一個朝向物側的第二物端表面和一個朝向像側的第二像端表面;該第二像端表面上鍍設有一層抗反射膜,該抗反射膜對波長為700nm~740nm的長波的反射率小於2.25%,當光線投射至第二像端表面時,光線的入射角小於6.85度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述第二物端表面朝向物側凹陷,所述第二像端表面朝向像側凸出。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述抗反射膜包括自該第二像端表面至像側方向交替堆疊的第1至第4膜層,其中奇數膜層的材料為二氧化鈦,偶數層膜的材料為二氧化矽。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的鏡頭模組,其特徵在於:該抗反射膜對波長700nm~740nm的光線的反射率小於2%。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述鏡頭模組還包括一個濾光片,所述濾光片設置在第三鏡片靠近像側的一側。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述第一鏡片與第二鏡片之間和第二鏡片與第三鏡片之間均設置有一個遮光片。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述鏡筒內壁從物側至像側呈階梯狀分佈依次為第一內壁、第二內壁、第三內壁及第四內壁。
  8. 如申請專利範圍第5項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述第一鏡片與所 述第一內壁相抵持,所述第二鏡片與所述第二內壁相抵持,所述第三鏡片與所述第三內壁相抵持,所述濾光片與所述第四內壁相抵持。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的鏡頭模組,其特徵在於:所述第一鏡片與所述第二鏡片相接觸。
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