TWI486409B - 聚酯系底漆組成物、光學膜及包含其之偏光板 - Google Patents

聚酯系底漆組成物、光學膜及包含其之偏光板 Download PDF

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Description

聚酯系底漆組成物、光學膜及包含其之偏光板
本發明係關於一種聚酯系底漆組成物,尤指一種具有高耐水性及耐溶劑性之聚酯系底漆組成物、一種使用該聚酯系底漆組成物之光學膜與一種包含該光學膜之偏光板。
一般而言,偏光板具有一堆疊結構,該結構係由聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)系樹脂形成之偏光片所組成,並以二色性染料或碘染色,且使用接著劑將保護膜貼附於該偏光片之一側或兩側。在所屬技術領域中,用於偏光板之保護膜主要係使用三醋酸纖維素(triacetyl cellulose,TAC)系薄膜。然而,TAC薄膜在高溫或高濕的環境中容易變形,因此,近來發展出由不同材質製成的保護膜來取代TAC薄膜,例如:建議使用聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、環烯烴聚合物(cycloolefin polymer,COP)、丙烯酸膜(acrylic film)或其組合之方法。
用來保護偏光片之該些薄膜可包含不同功能之塗佈層,例如,在偏光片相對的表面上形成之抗反射層 (reflection preventing layer)與硬被覆層(hard coating layer),用來防止反射、改善耐久性(durability)、防止刮傷與改善可視性(visibility)。這些功能塗佈層通常係將包含基本樹脂、溶劑與添加劑之塗佈組成物塗敷於保護膜上而成形,然後對該些塗佈組成物進行硬化處理(curing)。然而,該些功能塗佈層對某些種類的保護膜沒有足夠的附著力,在這些案例中,該些功能塗佈層可能會從該些保護膜上分離或破損,因而降低偏光板之性能。
雖然已經有操作表面處理(如在保護膜上進行 電漿處理與電暈處理)或在保護膜上形成底漆層的方法可用來解決該些問題,但是,該些方法依然不足以確保功能塗佈層與保護膜(特別是丙烯酸保護膜)有可靠的接著,例如,在所屬技術領域中,胺基甲酸乙脂底漆(urethane primer)一般用於保護膜之底漆層,顯示具有低耐水性與耐溶劑性。 因此,若胺基甲酸乙脂底漆長時間儲存於高濕條件下,該胺基甲酸乙脂底漆之接著強度可能會因水的滲入而降低,且若含有機溶劑之塗佈組成物塗敷於底漆層上,該底漆層可能會因包含於該塗佈組成物中之該溶劑而膨脹,或可能會在溶於該塗佈組成物的過程中與保護膜分離。
因此,在偏光板保護膜方面,需要具有高耐水 性與耐溶劑性之底漆組成物。
本發明之目的係在提供一種具有高耐水性與 耐溶劑性之底漆組成物,同時,充分地改善保護膜與功能 塗佈層間之接著強度且長期維持在高接著強度,以及提供包含該底漆組成物之光學膜與偏光板。
依本發明所揭露之內容,一聚酯系底漆組成物可包含100重量分之聚酯樹脂、1至20重量分之水可分散粒子與剩餘部分之水。
此時,該聚酯樹脂可包含以下列化學式1表示之重複單元: 其中,R1 與R2 各自獨立為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基(alkyl)、經取代或未經取代之C1-20 芳香基(aryl)或經取代或未經取代之C3-20 環烷基(cycloalkyl);R3 與R4 各自獨立為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基、經取代或未經取代之C1-20 芳香基、經取代或未經取代之C3-20 環烷基、羧基(carboxyl group)、羥基(hydroxyl group)或磺酸鹽基(sulfonate group);且R3 與R4 中至少一個為羧基、羥基或磺酸鹽基。
依本發明另一目的,提供一光學膜可包含一基底膜(base film)與一底漆層,該底漆層係使用該聚酯系底漆組成物而形成在該基底膜之至少一側上,其中,一功能塗佈層(例如硬被覆層或抗反射層)可形成於該底漆層上。
再者,該基底膜可為丙烯酸膜,該丙烯酸膜可 包含一共聚合物,該共聚合物含一烷基(甲基)丙烯酸酯(alkyl(meth)acrylate)單元與一經至少一羰基(carbonyl group)取代之3至6員雜環單元,不過,該丙烯酸膜不以此為限。 若因環境所需,該丙烯酸膜可更包含一芳香族樹脂(aromatic resin),其主鏈上具有一碳酸酯部分(carbonate part)。
依本發明再一目的,提供一偏光板可包含一偏 光片與前述之該光學膜,該光學膜係設置於該偏光片之至少一側上。
由於本發明所揭露之該聚酯系底漆組成物與胺基甲酸乙脂底漆組成物不同,具有高耐水性與耐溶劑性。即使沒有添加劑(如交聯劑)的輔助,該聚酯系底漆組成物可保證保護膜與功能塗佈層間具有充足的接著強度,而且長時間維持穩定之接著強度。
以下將舉例詳細描述本發明之實施例。
透過反覆地研究改善光學膜與功能塗佈層(設置於該光學膜之至少一側上)間之接著力之技術發展,本發明之發明人實現了本發明所揭露之該聚酯系底漆組成物,其包含一作為基本樹脂之聚酯樹脂。
更具體而言,該聚酯系底漆組成物可包含100重量分之聚酯樹脂、1至20重量分之水可分散粒子與剩餘部分之水,其中該「剩餘部分」係指在該底漆組成物中, 除了固成分之外的剩餘成分。
在本發明所揭露之內容中,該聚酯樹脂係一種 樹脂,其包含一透過羧酸與醇之反應而形成於主鏈上之酯基。該聚酯樹脂可為水可分散之聚酯樹脂,且可更包含一聚酯乙二醇(polyester glycol),其係透過多元酸(polybasic acid)與多元醇(polyol)之反應所形成。
例如,該多元酸之成分可包括:芳香族二羧酸 (dicarboxylic acid),如鄰苯二甲酸(ortho-phthalic acid)、異苯二甲酸(isophthalic acid)、對苯二甲酸(terephthalic acid)、1,4-萘二羧酸(1,4-naphthalene dicarboxylic acid)、2,5-萘二羧酸(2,5-naphthalene dicarboxylic acid)、2,6-萘二羧酸(2,6-naphthalene dicarboxylic acid)、聯苯二羧酸(biphenyl dicarboxylic acid)與四氫苯二甲酸(tetrahydro phthalic acid);脂肪族二羧酸(aliphatic dicarboxylic acid),如草酸(oxalic acid)、丁二酸(succinic acid)、丙二酸(malonic acid)、戊二酸(glutaric acid)、己二酸(adipic acid)、庚二酸(pimelic acid)、辛二酸(suberic acid)、壬二酸(azelaic acid)、癸二酸(sebacic acid)、亞麻仁油酸(linoleic acid)、丁烯二酸(maleic acid)、丁烯二酸(fumaric acid)、甲基反丁烯二酸(mesaconic acid)與亞甲基丁二酸(itaconic acid);脂環族二羧酸(alicyclic dicarboxylic acid),如六氫酞酸(hexahydrophthalic acid)、四氫酞酸(tetrahydrophthalic acid)、1,3-環己烷二羧酸(1,3-cyclohexane dicarboxylic acid)與1,4-環己烷二羧酸(1,4-cyclohexane dicarboxylic acid);或其反應之衍生物,如 酸酐(acid anhydride)、烷基酯(alkyl ester)與酸鹵化物(acid halide)。該些多元酸之成分可單獨使用或組合其兩種以上之方式來使用。特別是可以使用異苯二甲酸、對苯二甲酸與丁二酸,此外,就考量水可分散性而言,特別可使用經磺酸鹽取代之異苯二甲酸當作基本酸。
同時,若多元醇之成分在其分子中具有兩個以 上之羥基,該多元醇之成分不特別加以限制,且任意的一個多元醇可被用來當作一個多元醇之該些成分之一,例如:該多元醇可包括至少一選自由乙二醇(ethylene glycol)、1,2-丙二醇(1,2-propanediol)、1,3-丙二醇(1,3-propanediol)、1,3-丁二醇(1,3-butanediol)、1,4-丁二醇(1,4-butanediol)、新戊二醇(neopentyl glycol)、戊二醇(pentanediol)、1,6-己二醇(1,6-hexanediol)、1,8-辛二醇(1,8-octanediol)、1,10-癸二醇(1,10-decanediol)、4,4’-二羥基苯基丙烷(4,4’-dihydroxyphenylpropane)、4,4’-二羥基甲基甲烷(4,4’-dihydroxymethylmethane)、二乙二醇(diethylene glycol)、參乙二醇(triethylene glycol)、聚乙二醇(polyethylene glycol,PEG)、二丙烯甘醇(dipropylene glycol)、聚四亞甲基二醇(polytetramethylene glycol,PTMG)、聚丙烯乙二醇(polypropylene glycol,PPG)、1,4-環己烷二甲醇(1,4-cyclohexanedimethanol)、1,4-環己二醇(1,4-cyclohexanediol)、雙酚A(bisphenol A)、雙酚F(bisphenol F)、甘油(glycerin)、1,1,1-三羥甲丙烷(1,1,1-trimethylolpropane)、1,2,5-己三醇(1,2,5-hexatriol)、季 戊四醇(pentaerythritol)、葡萄糖(glucose)、蔗糖(sucrose)與山梨醇(sorbitol)所組成之群組。特別是就水可分散性而言,該多元醇可包括一個以上之二羥甲基烷酸(dimethylol alkanoic acids)、二羥甲基乙酸(dimethylol acetic acid)、二羥甲基丙酸(dimethylol propionic acid)、二羥甲基丁酸(dimethylol butanoic acid)與前述化合物之組合。
同時,該上述之聚酯乙二醇可由一多元酸與一 多元醇反應而得,其反應莫耳比率為2.5:1至1:2.5,較佳為2.3:1至1:2.3,更佳為2:1至1:2。若該反應之莫耳比率偏離上述之範圍,未反應之單體會產生氣味或造成塗佈的缺陷。
必要時,該聚酯樹脂可為一聚酯丙烯酸樹脂, 其包含酯基單元與丙烯醯基單元,以及外加共聚合之丙烯酸單體。在本例中,該酯基單元可扮演增加基底膜之接著力的角色,且該丙烯酸單元更可改善耐溶劑性。
例如,本發明中所使用之該丙烯酸單體可為一 個以上選自由烷基(甲基)丙烯酸酯(alkyl(meth)acrylate)、烷基丙烯酸酯(alkyl acrylate)、環氧(甲基)丙烯酸酯(epoxy(meth)acrylate)、羥烷基丙烯酸酯(hydroxyalkyl acrylate)、含烷基(甲基)丙烯酸之羰基(carbonyl group-including alkyl(meth)acrylic acids)、烷基丙烯酸(alkyl acrylic acid)與含丙烯酸酯之磺酸鹽(sulfonate-including acrylate)所組成之群組。例如,該含丙烯酸酯之磺酸鹽可為含2-甲基-2-丙烯-1-磺酸鈉(sodium 2-methyl-2-propene-1-sulfonate)之丙烯酸酯、含芳香 基磺酸鈉(sodium aryl sulfonate)之丙烯酸酯與含2-丙烯-1-磺酸鹽(2-propene-1-sulfonate)。同時,若該聚酯樹脂與含環氧基之環氧丙烯酸酯單體(列舉在該丙烯酸單體範例中)共聚合,該聚酯樹脂之高溫穩定性可被提升,其係因為該含環氧基之環氧丙烯酸酯單體中之環氧環,在高溫時解離,且藉由彼此間額外的聚合反應而交聯,進而提升該聚酯樹脂之主鏈的高溫耐久性。
再者,必要時,該聚酯樹脂除了與該丙烯酸單 體共聚合外,也可與其他單體共聚合。該其他單體的例子可包括:未飽和之腈類(nitriles),如(甲基)丙烯腈((meth)acrylonitrile);未飽和之醯胺類(amides),如(甲基)丙烯醯胺((meth)acrylamide);烯類(olefins),如乙烯(ethylene)與丙烯(propylene);β-未飽和之脂肪族單體(aliphatic monomers),如鹵化的氯乙烯(halogenated vinyl chloride)與二氯亞乙烯(vinylidene chloride);β-未飽和之芳香族單體(aromatic monomers),如苯乙烯(styrene)與甲基苯乙烯(methyl styrene);以及兩個以上前述物質之組合。
在本發明所揭露之該聚酯樹脂中可包含兩個 以上之丙烯酸單體,例如:烷基(甲基)丙烯酸酯單體與環氧(甲基)丙烯酸酯單體,如環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)可額外地包含在本發明所揭露之該聚酯樹脂中。
如前所述,當該丙烯酸單體係額外地包含在該 聚酯樹脂中時,該聚酯乙二醇與該丙烯酸單體之重量比率 可為從約1:9至約9:1,較佳從約2:8至約8:2,更佳從約3:7至約7:3。若該聚酯樹脂與該丙烯酸單體之含量滿足上述之數值範圍,可改善該聚酯樹脂的性質,如耐溶劑性及與基底膜之接著性。
製備該聚酯樹脂之方法可使用所屬技術領域 中已知之任何方法,例如:製備本發明所揭露之該聚酯樹脂可使用進行一多元酸與一多元醇之酯化反應,然後將該酯化後的產物進行聚縮合反應(polycondensation)之方法;或使用進行一多元酸酐(polybasic acid anhydride)與一多元醇之酯化反應,然後將該酯化後的產物進行縮合聚合反應的方法。更具體地說,該前述之方法可包括:(1)一原物料混合步驟,將該聚酯聚合反應之聚合反應原物料混合,以得到一原物料混合物;(2)一酯化步驟,將該原物料混合物酯化;與(3)一聚縮合反應步驟,將該酯化後的原物料混合物進行聚縮合反應,來得到聚酯。
例如,透過該前述之方法製備用於本發明之該 聚酯樹脂,可包括以下列化學式1所表示之重複單元: 其中,R1 與R2 係各自獨立地為氫、經取代或未經取代之C1-20 芳香基或經取代或未經取代之C3-20 環烷基;R3 與R4 係各自 獨立地為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基、經取代或未經取代之C1-20 芳香基、經取代或未經取代之C3-20 環烷基、羧基、羥基或磺酸鹽基;而且R3 與R4 中至少一個為羧基、羥基或磺酸鹽基。
例如,用於本發明所揭露之該聚酯樹脂可包括 以下列化學式2所表示之重複單元: 其中,R、R’、R”係各自獨立地為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基、經取代或未經取代之C1-20 芳香基或經取代或未經取代之C3-20 環烷基。
另一方面,除了上述成分外,在不破壞本發明 所揭露該聚酯樹脂之物理性質的範圍內,該聚酯樹脂可更包括額外的成分。
若本發明所揭露之該底漆組成物相對於100重 量分之聚酯樹脂包含1至20重量分之水可分散粒子,可改善該底漆組成物之加工性(workability)、可撓性(winding properties)、滑動性(slip properties)與通透性(transparency)。
任何粒子均可用來當作本發明所揭露該前述 之水可分散粒子,例如,該任何粒子可包括:複數個無機粒子、複數個有機粒子或前述粒子之組合。該複數個無機 粒子之實例可包括:二氧化矽、二氧化鈦(titania)、氧化鋁(alumina)、氧化鋯(zirconia)與銻系無機氧化物(antimony-based inorganic oxides)。該複數個有機粒子之實例可包括:矽氧烷系樹脂(silicone-based resins)、氟系樹脂(fluorine-based resins)、(甲基)丙烯酸樹脂((meth)acrylic resins)、經交聯之聚乙烯醇(polyvinyl alcohols)與三聚氰胺系樹脂(melamine-based resins)。
在該前述之水可分散粒子中,因為二氧化矽具 優良之阻障抑制能力;由於其優良之通透性,不會產生霧化(haze);以及沒有任何顏色,故尤佳為二氧化矽,使得偏光板之光學性質幾乎不受二氧化矽之影響。再者,因為膠狀之二氧化矽利於底漆組成物之可分散性與分散穩定性,使得在一底漆層成形的過程中,加工性也更優良。
同時,該水可分散粒子可較佳地具有平均直徑 (主要粒子之平均直徑)從約10nm至約200nm且更佳地從約20nm至約70nm。在底漆組成物中,當該水可分散粒子之平均直徑小於10nm時,由於高表面能量,使該水可分散粒子會發生凝聚(coagulation)與沉澱(sedimentation)現象,該溶液的穩定性會受到阻礙。在該底漆溶液中,當該水可分散粒子之平均直徑大於200nm時,因為不會引發該水可分散粒子之均勻分散,而且在該些粒子聚團聚時尺寸會增加,當照射在該些粒子上之散射光的波長在400nm以上(如從約400nm至約800nm之可見光波長範圍),會增加該些粒子之霧化程度。使用具有顆粒直徑在前述範圍內之粒子, 在該底漆層表面上形成之不規則性,使得在丙烯酸膜與底漆層間,以及/或該底漆層間的接觸面上,特別是摩擦力可被有效地減少。如此一來,該些粒子可具有更優良之阻障抑制能力。
由於本發明所揭露之該底漆組成物係水系底 漆組成物,該些粒子可混入一水性分散物中。具體來說,當二氧化矽用來當作該些粒子時,該些粒子可混入膠狀二氧化矽中。在所屬技術領域中,可利用市場上可取得的膠狀二氧化矽產品,而膠狀二氧化矽之實例可包括Snowtex(由日產(Nissan)化學公司製造)、AEROSIL(由艾爾(Air)產品及化學公司製造)、Epostar與Soliostar(由日本觸媒(Nippon Shokubai)股份有限公司製造)、以及LSH(由蘭柯(Ranco)公司製造)。
本發明所揭露之該底漆組成物包含水,用來控 制該底漆組成物的黏度。較佳地,本發明所揭露之該底漆組成物可包含重量百分比約1%至約30%之固成分。倘若本發明所揭露之該底漆組成物,包含重量百分比約小於1%之固成分,會產生該底漆組成物之塗佈性降低的問題,使得它難以形成一底漆層;倘若本發明所揭露之該底漆組成物,包含重量百分比約30%以上之固成分,該底漆組成物的高黏度會降低該底漆組成物的均塗性質(leveling property),使得在該底漆組成物塗佈過程中,容易產生外部的缺陷。
由於本發明所揭露之該前述底漆組成物具有優良之耐水性與耐溶劑性,即使將有機溶劑之塗佈組成物 塗佈於一底漆層上,該底漆層不易分層或溶解,而且可長時間維持優良的接著強度。
接著描述本發明所揭露之光學膜。
本發明所揭露之該光學膜可包括:一基底膜(base film);以及一底漆層,該底漆層係藉由使用前述本發明所揭露之底漆組成物而形成於該基底膜之至少一側上。因為該底漆組成物與上述之該底漆組成物相同,故該底漆組成物的詳細描述,在此予以省略。
同時,該基底膜可以單層的方式成形或以積層兩層以上薄膜的結構來成形,若以積層兩層以上薄膜的結構來成形,可使用彼此相同或彼此不同之材料形成該積層膜。
例如,該基底膜可為丙烯酸膜。這裡的該丙烯酸膜係指包含樹脂作為主要成分之薄膜,該樹脂含丙烯酸酯系單元以及/或(甲基)丙烯酸酯系單元,而且該丙烯酸膜原則上為包含共聚合物樹脂作為主要成分之薄膜,在該共聚合樹脂中,除了丙烯酸酯系單元及/或(甲基)丙烯酸酯系單元外的其他單體單元可與同元聚合物樹脂共聚合,該同元聚合物樹脂包含丙烯酸酯系單元或(甲基)丙烯酸酯系單元;以及由拌合樹脂(blend resin)所形成之薄膜,在該拌合樹脂中,其他樹脂被混入前述之丙烯酸樹脂中。
被共聚合到該丙烯酸樹脂中的單體單元可包括:芳香族乙烯系單元(aromatic vinyl based units)、經羰基取代之3至6員雜環單元、丙烯酸單元與環氧丙基單元。 該芳香族乙烯系單元之實例可包括由苯乙烯、α-甲基苯乙烯等所衍生之單元。該經羰基取代之3至6員雜環單元之實例可包括由內酯環(lactone rings)、戊二酸酐(glutaric anhydrides)、戊二醯亞胺(glutarimides)、順丁烯二亞醯胺(maleimides)、順丁烯二酐(maleic anhydrides)等所衍生之單元。
例如,該丙烯酸膜可為包含共聚合物之薄膜, 該共聚合物包含烷基(甲基)丙烯酸酯系單元與經至少一羰基取代之3至10員雜環單元。這裡的經該羰基取代之3至10員雜環單元可為內酯環、戊二酸酐、戊二醯亞胺、順丁烯二酐與順丁烯二亞醯胺等。
該丙烯酸膜之其他實例可包括含拌合樹脂之 薄膜,在該拌合樹脂中,在其主鏈上形成有碳酸酯部分之芳香族樹脂被拌入一丙烯酸樹脂中,其中,該在其主鏈上形成有碳酸酯部分之芳香族樹脂的例子可包括聚碳酸酯樹脂、苯氧基樹脂(phenoxy resin)等。
生產丙烯酸樹脂膜的方法沒有特別限制。例如, 該生產丙烯酸樹脂膜的方法可包括以任何一種混合方法,充分地混合丙烯酸樹脂、其他聚合物與添加劑,以製備一熱塑性樹脂組成物,然後將該熱塑性樹脂組成物成形為一丙烯酸樹脂膜,或者可包括製備一另外的溶液,以該溶液混合丙烯酸樹脂、其他聚合物及添加劑,形成一均勻混合的溶液,然後將該混合後的溶液成形為一丙烯酸樹脂膜。
例如,在用於該薄膜之原物料,以任何一種攪 拌器,如全方位攪拌器(omni mixer),預拌合獲得一混合物後,該混合物經推揉(kneaded)與擠壓(extruded),以製備該熱塑性樹脂組成物。在本例中,用於推揉與擠壓之該攪拌機沒有特別限制。該攪拌機之實例可為擠壓機,如單軸擠壓機(single-screw extruder)與雙軸擠壓機(twin-screw extruder)或任何攪拌機,如壓捏機(pressing kneader)。
該薄膜成形方法之實例可包括:溶液鑄造法 (solution casting method)、熔化擠出成型法(melt extrusion method)、壓延法(calendaring method)與壓縮成形法(compression molding method),特別是可以使用溶液鑄造法與熔化擠出成型法。
可使用於該溶液鑄造法中之溶劑實例可包括: 芳香族碳氫化合物,如苯、甲苯、二甲苯等;脂肪族碳氫化合物,如環己烷、萘烷(decaline)等;酯類,如乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)等;酮類,如丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等;醇類,如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇(isobutanol)、甲基賽路蘇(methyl cellosolve)、乙基賽路蘇(ethyl cellosolve)、丁基賽路蘇(butyl cellosolve)等;醚類,如四氫呋喃(tetrahydrofuran)、二氧陸圜(dioxane)等;鹵化的碳氫化合物,如二氯甲烷(dichloromethane)、氯仿(chloroform)、四氯化碳(carbon tetrachloride)等;二甲基甲醯胺(dimethyl formamide);以及二甲基亞碸(dimethyl sulfoxide)。該些溶劑可單獨地或以兩種以上前述溶劑之組合的方式使用。
關於操作該溶液鑄造法之裝置實例可包括:鼓 式鑄造機(drum type casting machine)、帶式鑄造機(band type casting machine)與旋轉塗佈機(spin coater)等。該熔化擠出成型法之實例可包括:T字模法(T-die method)與充氣法(inflation method)。該成形方法係於某一溫度範圍內操作,較佳的溫度範圍係從150℃至350℃,且更佳係從200℃至300℃。
當薄膜係以該T字模法成形時,一T字模固定 於一熟知之單軸或雙軸擠壓機之前端部分,以薄膜的方式擠出之薄膜經捲繞,以獲得一捲狀薄膜。調整捲繞滾筒之溫度,使得在擠壓方向上拉伸該該薄膜能夠單軸地拉伸該薄膜。再者,可在垂直於擠壓方向的方向上拉伸該薄膜,以進行同時雙軸拉伸、連續雙軸拉伸等。
該丙烯酸膜可為未經拉伸之薄膜或經拉伸之 薄膜。當該丙烯酸膜為該經拉伸之薄膜時,該丙烯酸膜可為經單軸拉伸之薄膜或經雙軸拉伸之薄膜。當該丙烯酸膜為該經雙軸拉伸之薄膜時,該丙烯酸膜可為經同時雙軸拉伸之薄膜或連續雙軸拉伸之薄膜。當該丙烯酸膜經雙軸拉伸時,可改善該薄膜之機械強度,使得該薄膜之性能獲得改善。即使當丙烯酸樹脂與其他熱塑性樹脂混合,該混合物被塑造成薄膜,且該薄膜經拉伸時,該丙烯酸膜可抑制延遲現象(retardation)的增加,以及維持光學等方向性(optical isotropy)。
拉伸溫度可為靠近作為薄膜原物料之熱塑性 樹脂組成物之玻璃轉換溫度之範圍內,較佳溫度範圍從玻璃轉換溫度-30℃至玻璃轉換溫度+100℃,且更佳從玻璃轉換溫度-20℃至玻璃轉換溫度+80℃。可理解的是,當該拉伸溫度大約低於玻璃轉換溫度-30℃時,無法獲得充分的拉伸倍率(stretching magnification)。反之,當該拉伸溫度大約超過玻璃轉換溫度+100℃時,可理解的是,會引發該樹脂組成物的流動,使得無法進行穩定的拉伸。
拉伸倍率定義為一面積比率,較佳為從1.1倍 至25倍,且更佳為從1.3倍至10倍。可理解的是,拉伸倍率小於1.1倍可能不會改善韌性(toughness)。可理解的是,當該拉伸倍率超過約25倍時,該拉伸倍率增加愈高,其影響可能無法辨認。
在某一方向上,拉伸速率較佳為從10%min至 20000%/min且更佳為從100%/min至10000%/min。當該拉伸速率低於10%min時,可理解的是,會增加製造成本,其係因為要獲得充分的拉伸倍率,需要花相當長的時間。當該拉伸速率超過20000%/min時,可理解的是,在經拉伸過的薄膜中,會有一些裂痕。
為了穩定丙烯酸膜之光學等方向性與機械性 質,該丙烯酸膜可經熱處理(回火)與其他程序。熱處理條件不特別限制,且相關技術領域熟知之任何條件,都可用來當作該熱處理的條件。
同時,如上所述,本發明所揭露之該底漆組成 物可塗佈於一基底膜之至少一側上,以形成一底漆層,使 得可製造出本發明所揭露之該光學膜。在此,該塗佈製程可利用所屬技術領域中熟知的方法才操作,例如,塗佈該底漆組成物於該基底膜上之方法,使用棒塗製程(bar coating process)、凹板塗模製程(gravure coating process)與狹縫式塗佈製程(slot die coating process)等,與乾燥塗佈於該基底膜上之該底漆組成物。雖然該乾燥製程可利用對流烘箱等來操作,但是該乾燥製程不限於此。該乾燥製程較佳地可在溫度從100℃至120℃下進行約1分鐘至約5分鐘,該乾燥溫度可根據塗佈該底漆組成物的步驟來改變。在經完全拉伸之薄膜的例子中,該乾燥製程可於某一溫度範圍內進行,其中該乾燥溫度不超過該薄膜之玻璃轉換溫度(Tg)。在包含該拉伸製程的例子中,在該拉伸製程操作之同時,該乾燥製程在一拉伸溫度下進行,且該乾燥製程可於不超過該薄膜之分解溫度(Td)的條件下進行。
另一方面,以前述之方法形成之該底漆層,較 佳厚度可為從50nm至2000nm,更佳從100nm至1500nm,且再更佳從300nm至1000nm。當該底漆層的厚度小於50nm時,會有接著力不足的問題。當該底漆層的厚度大於2000nm時,會有該底漆組成物乾燥不足或水可分散粒子被埋入該底漆層中,使得無法產生適當的滑動性。
再者,必要時,為了改善接著強度,可在該光 學膜之至少一側上進行表面處理程序,該表面處理程序可為一種以上選自由鹼處理(alkali treatment)、電暈處理(corona treatment)與電漿處理(plasma treatment)所組成之群 組。當用於本發明之光學膜為不包含內酯環之丙烯酸膜時,可操作該表面處理製程。
同時,如上所述,在底漆層在基底膜之至少一 側上成形後,可於該底漆層之頂部上積層功能塗佈層,如硬被覆層、反射防止層等。
於此,該功能塗佈層可依據賦予該功能塗佈層 之功能,以各種組成物來形成,例如,該功能塗佈層可由包含黏結劑樹脂、複數個粒子與溶劑等之形成功能塗佈層之組成物來成形。
例如,在本發明所揭露之內容中,形成該功能 塗佈層之組成物可包括所屬技術領域中所熟知之黏結劑樹脂當作該黏結劑樹脂,如丙烯酸黏結劑樹脂、胺基甲酸乙脂黏結劑樹脂或前述物質之混合物。
該丙烯酸黏結劑樹脂的種類不特別限制,且任 何一種在所屬技術領域中,已為人所熟知之丙烯酸黏結劑樹脂,均可以選擇與使用,沒有特別限制。該丙烯酸黏結劑樹脂的實例可包括:丙烯酸酯單體、丙烯酸酯寡聚物(acrylate oligomers)或前述物質之混合物。在此,該丙烯酸酯單體或丙烯酸酯寡聚物可包含一個以上丙烯酸酯官能基,該官能基能在硬化反應中參與反應。
該丙烯酸酯單體與丙烯酸酯寡聚物的種類沒 有特別限制,而且可沒有限制地選擇與使用常用於本發明所揭露內容之所屬技術領域中之該丙烯酸酯單體與丙烯酸酯寡聚物。
再者,該丙烯酸酯寡聚物之實例可包括:胺基 甲酸乙脂丙烯酸酯寡聚物、環氧丙烯酸酯寡聚物、聚酯丙烯酸酯(polyester acrylates)、聚醚丙烯酸酯(polyether acrylates)或前述物質之混合物。該丙烯酸酯單體之實例可包括:二新戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate)、二新戊四醇羥基五丙烯酸酯(dipentaerythritol hydroxy pentaacrylate)、新戊四醇四丙烯酸酯(pentaerythritol tetraacrylate)、新戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate)、三亞甲基丙基三丙烯酸酯(trimethylene propyl triacrylate)、經丙氧酸鹽化之丙三醇三丙烯酸酯(propoxylated glycerol triacrylate)、三羥甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯(trimethylolpropane ethoxy triacrylate)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(1,6-hexandiol diacrylate)、三丙烯丙三醇二丙烯酸酯(tripropylene glycol diacrylate)、乙烯丙三醇二丙烯酸酯(ethylene glycol diacrylate)或前述物質之組合。不過,該些丙烯酸酯寡聚物與該些丙烯酸酯單體不需要局限於該些實例。
同時,該複數個粒子之實例可包括:複數個有 機粒子、複數個無機粒子或前述物質之混合物。該複數個粒子之含量沒有限制,且該複數個粒子相對於100重量分之該黏結劑樹脂,可包含之含量範圍從約0.1重量分至約10重量分。當該複數個粒子之含量滿足該數值範圍時,產生充分實現霧化值(haze values)與改善塗佈性質的優點。
另一方面,當使用該複數個有機粒子與無機粒 子之混合物當作該複數個粒子時,相對於100重量分之該複數個有機粒子,該複數個無機粒子可包含於從約20重量分至約80重量分之數量範圍內。當該複數個無機粒子之含量滿足該數值範圍時,會產生優良的刮痕抗性與獲得好的塗佈表面的優點。
再者,該複數個無機粒子之實例可包括一種物 質,係選自於二氧化矽、矽粒子(silicon particles)、氫氧化鋁(aluminum hydroxide)、氫氧化鎂(magnesium hydroxide)、氧化鋁、氧化鋯與二氧化鈦或兩種以上前述物質之組合。
該複數個有機粒子之實例可包括一種以上之 聚合物,係選自於聚苯乙烯(polystyrene)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate))、聚丙烯酸甲酯(poly(methyl acrylate))、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚丙烯酸酯-共-苯乙烯(polyacrylate-co-styrene)、聚丙烯酸甲酯-共-苯乙烯(polymethylacrylate-co-styrene)、聚甲基丙烯酸甲酯-共-苯乙烯(polymethylmethacrylate-co-styrene)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride)、聚對苯二甲酸丁二酯(polybutylene terephthalate)、聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate)、聚醯胺(polyamides)、聚亞醯胺(polyimides)、聚碸(polysulfone)、聚氧化二甲苯(polyphenylene oxide)、聚縮醛(polyacetal)、環氧樹脂(epoxy resin)、酚樹脂(phenolic resin)、矽氧樹脂(silicone resin)、三聚氰胺樹脂(melamine resin)、苯胍胺(benzoguanamine)、聚乙二烯基苯(polydivinylbenzene)、聚乙二烯基苯-共-苯乙烯 (polydivinylbenzene-co-styrene)、聚乙二烯基苯-共-丙烯酸酯(polydivinylbenzene-co-acrylate)、聚酞酸二烯丙酯(poly(diallyl phthalate))與三烯丙基異氰脲酸酯聚合物(triallyl isocyanurate polymer)或兩種以上前述物質之共聚合物。
同時,雖然該溶劑沒有限於該數量,但是相對 於100重量分之該黏結劑樹脂,該溶劑可包含之數量範圍從約50重量分至約500重量分。當該溶劑之含量滿足該數值範圍時,該功能塗佈層具有優良的塗佈性質,且該塗佈膜具有優良的薄膜強度,以及該塗佈膜易於製造以形成一厚膜。
在本發明所揭露之內容中,所使用的溶劑種類 沒有特別限制,可以正常地使用有機溶劑,該有機溶劑之實例可包括:一種以上的溶劑,係選自於由C1 -C6 低分子量醇類、乙酸酯類(acetates)、酮類(ketones)、賽珞蘇類(cellosolves)、二甲基甲醯胺(dimethylformamide)、四氫呋喃(tetrahydrofuran)、丙二醇單甲醚(propylene glycol monomethyl ether)、甲苯與二甲苯所組成之群組。
該低分子量醇類之實例可包括:一種醇,係選 自於甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇及二丙酮醇(diacetone alcohol);該乙酸酯類之實例可包括:一種乙酸酯,係選自於乙酸甲酯(methyl acetate)、乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸異丙酯(isopropyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)及溶纖劑醋酸酯(cellosolve acetate);以及該酮類之實例可包括:一種 酮,係選自於甲乙酮、乙基異丁基酮(ethyl isobutyl ketone)、乙醯丙酮(acetyl acetone)及丙酮(acetone)。但本發明不限於該些實例。
同時,倘若必要時,依本發明所揭露,用於形 成功能塗佈層之該組成物可額外地包括:為了透過UV照射來達成硬化目的而添加的UV硬化起始劑。雖然該UV硬化起始劑之實例可包括一種選自於1-羥基環己基苯基酮(1-hydroxy cyclohexylphenyl ketone)、苯甲基二甲機縮酮(benzyl dimethyl ketal)、羥基二甲基苯乙酮(hydroxyl dimethyl acetophenone)、安息香(benzoin)、安息香甲基醚(benzoin methyl ether)、安息香乙基醚(benzoin ethyl ether)、安息香異丙基醚(benzoin isopropyl ether)與安息香丁基醚(benzoin butyl ether)或兩種以上前述物質之組合。該UV硬化起始劑不限於該些實例。
相對於100重量分之該黏結劑樹脂,可較佳地 添加從0.1重量分至10重量分之數量範圍內之該UV硬化起始劑。當該UV硬化起始劑之含量滿足該數值範圍,可引發該黏結劑樹脂之充分硬化,且改善薄膜的強度。
再者,當環境需要時,依本發明所揭露之內容, 用於形成功能塗佈層之該組成物可更包括一種以上的添加劑,係選自於平整劑(leveling agent)、濕潤劑(wetting agent)、及消泡劑(defoaming agent)。相對於100重量分之該黏結劑樹脂,可添加該些添加劑之數量範圍從0.01重量分至10重量分。
雖然,在本發明所揭露之內容中,該功能塗佈 層之厚度沒有限制,但是,該厚度可為從約1μm至約20μm之範圍,較佳從約1μm至約4μm。當該功能塗佈層之該厚度滿足該數值範圍,實現充分的功能性時,可防止如裂痕之缺陷產生。
另一方面,可由將用於形成功能塗佈層之組成 物塗佈於一底漆層上之方法,來形成該功能塗佈層,然後乾燥及/或硬化形成該功能塗佈層之組成物(塗佈於該底漆層上),該塗佈製程可藉由所屬技術領域中所熟知之塗佈方法來操作,例如,濕式塗佈製程,包括滾軸塗布製程(roll coating process)、棒塗製程、噴塗製程(spray coating process)、深塗製程(deep coating process)及旋轉塗佈製程。雖然該些塗佈方法不限於濕式塗佈製程,但是可包括其他使用於所屬技術領域中的各種塗佈製程。
另一方面,該乾燥製程與/或硬化製程可以照 射熱與/或光於形成該功能塗佈層之組成物(塗佈於該底漆層上)之方法來操作。該乾燥製程與該硬化製程可依序或同時操作。不過,考量製程便利性,較佳地,該硬化製程為透過照射光(如UV光)之方法來操作。
同時,硬化條件可根據形成該功能塗佈層之組 成物之成分或混合比率來加以調整,例如,在電子束硬化或UV硬化的例子中,可於形成該功能塗佈層之組成物之表面上,以從約200mJ/cm2 至約1000mJ/cm2 之數量範圍,照射電子束或UV光約1秒至約10分鐘,來硬化該形成功能 塗佈層之組成物。在該電子束或UV光硬化的例子中,當硬化時間滿足該前述之數值範圍時,可充分地硬化該黏結劑樹脂,因此,該黏結劑樹脂具有優良的機械性質(如耐磨性),並改善了透明基材層的耐久性。
本發明所揭露之該偏光板,除了該功能塗佈層 外,可更包括一其他目的之獨立層,例如,本發明所揭露之該偏光板,為了防止顯示表面受到沾汙,可更包括一防沾汙層,而且除了該防沾汙層外,可沒有限制地更包括各種目的之層次。
根據本發明所揭露之內容,本發明所揭露之該 光學膜可具有一底漆層(為了方便起見,稱為第一底漆層),係由該前述之底漆組成物所製成且形成於該光學膜之一側上,而且可具有一底漆層(為了方便起見,稱為第二底漆層),係由前面使用之胺基甲酸乙脂底漆組成物所製成,且形成於該光學膜之另一側上。在本例中,功能塗佈層,如硬被覆層,可貼附於該第一底漆層,而且為了使該第二底漆層貼附於偏光片,一接著層可形成於該第二底漆層上,該接著層可包括在所屬技術領域中常用於將該偏光片貼附於保護膜之水系接著劑或非水系接著劑。該接著層之實例可包括聚乙烯醇系接著劑、丙烯酸系接著劑、環氧系接著劑、胺基甲酸乙脂系接著劑等,沒有特別限制。當考量該保護膜與該偏光片之接著強度時,在實例中,較佳選擇該聚乙烯醇系接著劑,而且在該聚乙烯醇系接著劑中,更佳為選擇包含乙醯乙醯基等取代基之經改質之聚乙烯醇系接著劑。 雖然該聚乙烯醇系接著劑之特定實例可包括由日本合成化學工業股份有限公司(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.)製造之Gohsefiner Z-100、Z-200、Z-200H、Z-210、Z-220與、Z-230,該聚乙烯醇系接著劑不限於該些實例。
同時,雖然該非水系接著劑係UV可硬化之接 著劑,而且不特別限制,但是該非水系接著劑可包括:利用光自由基聚合反應之接著劑,如(甲基)丙烯酸酯系接著劑、烯/硫醇類接著劑(en/thiol adhesives)與未飽和聚酯系接著劑;以及利用光陽離子聚合反應之接著劑,如環氧系接著劑、環氧丙烷系接著劑(oxetane-based adhesives)、環氧/環氧丙烷系接著劑(epoxy/oxetane-based adhesives)與乙烯醚系接著劑(vinyl ether-based adhesives)。
於此,使用該非水系接著劑來接著該偏光片與 該保護膜層,可以使用塗佈接著組成物以形成接著層,壓合保護膜與該偏光片,然後透過照光硬化該接著組成物的方法來操作。
本發明所揭露之該前述光學膜可設置於偏光 片之至少一側上,使得該光學膜可有效地用來當作偏光片保護膜,即,本發明所揭露之該偏光板可包括:一偏光片,且本發明所揭露之該光學膜係設置於該偏光片之至少一側上。
更具體而言,本發明所揭露之該偏光板可包括 一偏光片;一保護膜,設置於該偏光片之至少一側上;以及一接著層,夾置於該偏光片與該保護膜間,其中,該保 護膜可為一本發明所揭露之光學膜,該光學膜包括一基底膜與一底漆層,該底漆層係於該基底膜之至少一側上,由聚酯系底漆組成物所形成。關於該聚酯系底漆組成物與光學膜之詳細描述,與上述的內容相同。
如前所述,依本發明所揭露之內容,該偏光板 在保護膜與功能塗佈層間,具有優良接著強度,以及優良光學性質,如透光度(transmittancy)、偏光程度(polarization degree)與色彩之優點。
此外,依本發明所揭露,如前所述生產之該偏 光板可用於各種用途。具體而言,依本發明所揭露之該偏光板可用於影像顯示裝置,包括用於液晶顯示器(LCDs)之偏光板與用於有機電致發光顯示裝置(organic electroluminescence display devices)之防止反射之偏光板。再者,依本發明所揭露之該偏光板可應用於複合式偏光板,其中,組合各種功能薄膜,例如,各種光學層,包括:阻滯板(retardation plate),如λ/4板與λ/2板;光擴散板;視角擴大板(viewing angle-expanding plates);亮度改善板(luminance improving plates);反射板等。
再者,本發明所揭露之該前述之光學膜與偏光 板,可有效地應用於各種影像顯示裝置,如液晶顯示裝置等。
以下透過實例,更詳細地敘述本發明所揭露之 內容。不過,下述之實例僅做為說明本發明所揭露之示例,下述實例不侷限本發明所揭露內容之範圍。
製備例1-製備用於功能塗布層之組成物
將當作黏結樹脂的10g胺基甲酸乙脂丙烯酸酯 寡聚合物、當作多官能基單體之20g二新戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate,DPHA)、當作複數個有機粒子之2g具有3.5μm平均顆粒直徑與折射率1.59之聚丙烯酸酯-共-苯乙烯(polyacrylate-co-styrene)、當作複數個無機粒子之2g具有4μm平均顆粒直徑與折射率1.43之二氧化矽粒子、當作有機溶劑之30g乙醇與30g 2-丁醇,以及2g之UV硬化起始劑均勻地混合,以製備用於生產防眩層(antiglare layer)之組成物,其中,該黏結劑樹脂具有折射率範圍從約1.51至約1.53。
製備例2
(1)聚酯樹脂A之合成例
在一個500ml圓底燒瓶經氮氣充氣替換後,將 乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇(2-methyl-1,3 propanediol)、磺醯基異苯二甲酸鈉(sodium sulfonyl isophthalic acid)與異苯二甲酸(isophthalic acid),以莫耳數比0.5:0.5:0.5:0.5之比率注入該經充氣替換之圓底燒瓶中,使乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇、磺醯基異苯二甲酸鈉與異苯二甲酸在該圓底燒瓶中於200℃進行2小時之酯化反應,來移除理論上產生的水。 在當作催化劑之四甲基鈦酸酯(tetramethyl titanate)、乙酸銻(antimony acetate)及二丁基氧化錫(dibutyltin oxide)與當作穩定劑之三甲基磷酸鹽(trimethyl phosphate)被加到該產物中,使得水被持續地移除後,在255℃的溫度與2.5Torr以下的 減壓條件下,對該混合物進行縮合聚合反應150分鐘,來製備聚酯樹脂A。
(2)聚酯丙烯酸樹脂B之合成例
在一個500ml圓底燒瓶經氮氣充氣替換後,將 乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇(2-methyl-1,3 propanediol)、磺醯基異苯二甲酸鈉(sodium sulfonyl isophthalic acid)與異苯二甲酸(isophthalic acid),以莫耳數比0.5:0.5:0.5:0.5之比率注入該經充氣替換之圓底燒瓶中,使乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇、磺醯基異苯二甲酸鈉與異苯二甲酸在該圓底燒瓶中於200℃進行2小時之酯化反應,來移除理論上產生的水。 在當作催化劑之四甲基鈦酸酯(tetramethyl titanate)、乙酸銻(antimony acetate)及二丁基氧化錫(dibutyltin oxide)被注入該產物中,以及當作穩定劑之三甲基磷酸鹽(trimethyl phosphate)被加到該產物中,使得水被持續地移除後,在2.5Torr以下的減壓條件下,對該混合物進行縮合聚合反應50分鐘,在該縮合聚合反應操作完成後,將環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯(methyl(meth)acrylate),以重量比2:1之比率注入到該產物中,將該產物、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯冷卻,並且在水浴中高速攪拌,將一反應物與一熱起始劑注入到該經攪拌之材料中,然後將溫度升高到80℃,持溫2小時來製備聚酯丙烯酸樹脂B。
(3)聚酯丙烯酸樹脂C之合成例
在一個500ml圓底燒瓶經氮氣充氣替換後,將 乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇(2-methyl-1,3 propanediol)、磺醯基異苯二甲酸鈉(sodium sulfonyl isophthalic acid)與己二酸(adipic acid),以莫耳數比0.5:0.5:0.5:0.5之比率注入該經充氣替換之圓底燒瓶中,使乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇、磺醯基異苯二甲酸鈉與己二酸在該圓底燒瓶中於200℃進行2小時之酯化反應,來移除理論上產生的水。在當作催化劑之四甲基鈦酸酯(tetramethyl titanate)、乙酸銻(antimony acetate)及二丁基氧化錫(dibutyltin oxide)被注入該產物中,以及當作穩定劑之三甲基磷酸鹽(trimethyl phosphate)被加到該產物中,使得水被持續地移除後,在2.5Torr以下的減壓條件下,對該混合物進行縮合聚合反應50分鐘,在該縮合聚合反應操作完成後,將環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯(methyl (meth)acrylate),以重量比2:1之比率注入到該產物中,將該產物、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯冷卻,並且在水浴中高速攪拌,將一反應物與一熱起始劑注入到該經攪拌之材料中,然後將溫度升高到80℃,持溫2小時來製備聚酯丙烯酸樹脂C。
(4)聚酯丙烯酸樹脂D之合成例
在一個500ml圓底燒瓶經氮氣充氣替換後,將 乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇(2-methyl-1,3 propanediol)、磺醯基異苯二甲酸鈉(sodium sulfonyl isophthalic acid)與環己烷二羧酸(cyclohexane dicarboxylic acid),以莫耳數比0.5:0.5: 0.5:0.5之比率,注入該經充氣替換之圓底燒瓶中,使乙二醇、2-甲基-1,3丙二醇、磺醯基異苯二甲酸鈉與環己烷二羧酸在該圓底燒瓶中於200℃進行2小時之酯化反應,來移除理論上產生的水。在當作催化劑之四甲基鈦酸酯(tetramethyl titanate)、乙酸銻(antimony acetate)及二丁基氧化錫(dibutyltin oxide)被注入該產物中,以及當作穩定劑之三甲基磷酸鹽(trimethyl phosphate)被加到該產物中,使得水被持續地移除後,在2.5Torr以下的減壓條件下,對該混合物進行縮合聚合反應50分鐘,在該縮合聚合反應操作完成後,將環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯(methyl(meth)acrylate),以重量比2:1之比率注入到該產物中,將該產物、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯(glycidyl(meth)acrylate)與甲基(甲基)丙烯酸酯冷卻,並且在水浴中高速攪拌,將一反應物與一熱起始劑注入到該經攪拌之材料中,然後將溫度升高到80℃,持溫2小時來製備聚酯丙烯酸樹脂D。
(5)聚胺酯樹脂E之合成例
在48g聚酯樹脂A中加入60g甲乙酮後,該聚 酯樹脂A與甲乙酮經充分攪拌,使該聚酯樹脂A溶於甲乙酮中,在該溶解後之溶液中再加入40g異佛爾酮二異氰酸酯,使該溶解後之溶液與異佛爾酮二異氰酸酯在75℃反應1小時。當反應完成後,將產物冷卻到60℃,將12g二羥甲基丙酸加到該經冷卻之產物中,使該經冷卻之產物與二羥甲基丙酸在75℃反應,可獲得一預聚合物溶液。
在獲得該預聚合物溶液之後,將該預聚合物溶 液冷卻至40℃,將233g的水加到該預聚合物溶液中,以對流攪拌機(Homo mixer)高速攪拌預聚合物溶液與水,以進行攪拌材料之乳化程序,該乳化材料以三乙胺(triethylamine)中和,該中和後材料之分子鏈利用異佛爾酮二胺(isophoron diamine)來擴展,以得到一乳液,該乳液經加熱與減壓移除甲乙酮,獲得一水性聚胺酯樹脂E溶液。
(6)聚胺酯樹脂F的合成例
在48g的聚碳酸酯二醇(polycarbonate diol)(分 子量=2000,由旭化成(Asahi Kasei)化學公司製造)中加入60g甲乙酮(methyl ethyl ketone)後,將該聚碳酸酯二醇與該甲乙酮充分攪拌,使該聚碳酸酯二醇溶於甲乙酮,然後,在該溶解後的溶液中加入40g的異佛爾酮二異氰酸酯(isophoron diisocyanate),使該溶解後的溶液與異佛爾酮二異氰酸酯在75℃反應1小時。反應完成之後,將產物冷卻至60℃,在該冷卻的產物中加入12g的二羥甲基丙酸,使該冷卻的產物與該二羥甲基丙酸在75℃反應,得到一預聚合物溶液。
在得到該預聚合物溶液之後,將該預聚合物溶 液冷卻至40℃,在該預聚合物溶液中加入233g的水,以對流攪拌機高速攪拌預聚合物溶液與水,以進行攪拌材料之乳化程序,該乳化材料以三乙胺中和,該中和後材料之分子鏈利用異佛爾酮二胺來擴展,以得到一乳液,該乳液經加熱與減壓移除甲乙酮,獲得一水性聚胺酯樹脂F溶液。
實施例1
將40重量分之該已製備之聚酯樹脂A與3重 量分之二氧化矽及57重量分之水混合後,配製成一底漆組成物,將該底漆組成物塗佈於一經電暈處理(使用No.7棒)過的丙烯酸膜之一側上,且該丙烯酸膜組成物在135℃經雙軸拉伸,以製造一丙烯酸膜,於其上形成一厚度為600nm之底漆層。在該丙烯酸膜之表面上,電暈處理的操作條件為50W/m2 /min。
利用棒塗法,在該形成功能塗佈層之組成物 (由製備例1製備而得)塗佈於該丙烯酸膜之經底漆層塗佈之側面上後,可得該形成功能塗佈層之組成物之乾燥後厚度為4μm,利用280mJ/cm2 之UV光照射該形成功能塗佈層之組成物,使該形成功能塗佈層之組成物硬化,得到一具有功能塗佈層成形於其上之薄膜。
實施例2
分別將40重量分之該已製備之聚酯樹脂A及 40重量分之該已製備之聚胺酯樹脂E與3重量分之二氧化矽及57重量分之水混合,以配製底漆組成物A與E,然後,該底漆組成物A被塗佈於一經電暈處理(以No.7棒)過之丙烯酸膜之一側上,該經塗佈於該經電暈處理過之丙烯酸膜上之底漆組成物A,在100℃乾燥3分鐘;該底漆組成物E被塗佈於一經電暈處理(以No.7棒)過之丙烯酸膜之另一側上,且該丙烯酸膜係經雙軸拉伸,以製造一具有厚度為600nm之底漆層形成於其兩側之丙烯酸膜。在該薄膜之表面上,電暈處理之操作條件為50W/m2 /min。
利用棒塗法,在該形成功能塗佈層之組成物 (由製備例1製備而得)塗佈於該丙烯酸膜之經該底漆組成物A塗佈之側面上後,可得該形成功能塗佈層之組成物之乾燥後厚度為4μm,利用280mJ/cm2 之UV光照射該形成功能塗佈層之組成物,使該形成功能塗佈層之組成物硬化,得到一具有功能塗佈層成形於其上之薄膜。
在得到該具有功能塗佈層成形於其上之薄膜 後,將聚乙烯醇系之接著劑塗佈於一偏光片之兩側上,將一形成功能塗佈層之丙烯酸膜與一經鹼處理過(alkalitreated)之TAC膜設置於該偏光片之兩側上,使用一壓合輥,將該形成功能塗佈層之丙烯酸膜與該經鹼處理過之TAC膜壓製於該偏光片上,且已壓製於該偏光片上之該形成功能塗佈層之丙烯酸膜與該經鹼處理過之TAC膜,利用熱風在80℃乾燥5分鐘,以製造一偏光板。以此方式製造之該丙烯酸膜,在該丙烯酸膜之一側之相對側具有該功能塗佈層成形於其上,即具有該底漆組成物E塗佈於其上之該丙烯酸膜之該側朝向該偏光片設置。
實施例3
分別將40重量分之該已製備之聚酯樹脂A及 40重量分之該已製備之聚酯丙烯酸樹脂B與3重量分之二氧化矽及57重量分之水混合,以配製底漆組成物A與B,然後,該底漆組成物A被塗佈於一經電暈處理(以No.7棒)過之丙烯酸膜之一側上,該經塗佈於該經電暈處理過之丙烯酸膜上之底漆組成物A,在100℃乾燥3分鐘;該底漆組 成物B被塗佈於一經電暈處理(以No.7棒)過之丙烯酸膜之另一側上,且該丙烯酸膜係經雙軸拉伸,以製造一具有厚度為600nm之底漆層形成於其兩側之丙烯酸膜。在該薄膜之表面上,電暈處理之操作條件為50W/m2 /min。
利用棒塗法,在該形成功能塗佈層之組成物 (由製備例1製備而得)塗佈於該丙烯酸膜之經該底漆組成物A塗佈之側面上後,可得該形成功能塗佈層之組成物之乾燥後厚度為4μm,利用280mJ/cm2 之UV光照射該形成功能塗佈層之組成物,使該形成功能塗佈層之組成物硬化,得到一具有功能塗佈層成形於其上之薄膜。
在得到該具有功能塗佈層成形於其上之薄膜 後,以滴量管(dropping pipette)將UV接著劑塗佈於一PVA偏光片之兩側上,將丙烯酸膜貼附於該偏光片之兩側上,將條件設定獲得一厚度為1至2μm之最終接著層,然後將貼附於該PVA偏光片之兩側上之該丙烯酸膜,以5m/min之速率通過層疊機。在貼附於該PVA偏光片上之該丙烯酸膜通過該層疊機後,利用UV照射裝置(金屬鹵化物燈)對壓合於該PVA偏光片上之該丙烯酸膜照射500mJ/cm2 之UV光,以製備偏光板。以此方式製造之該丙烯酸膜,在該丙烯酸膜側之相對側具有該功能塗佈層成形於其上,即該丙烯酸膜之具有該底漆組成物B塗佈於其上之該側朝向該偏光片設置。
實施例4
除了使用該聚酯丙烯酸樹脂B取代該聚酯樹 脂A外,使用與實施例1相同之方法來獲得形成功能塗佈層之薄膜。
實施例5
除了使用該聚酯丙烯酸樹脂C取代該聚酯樹 脂A外,使用與實施例1相同之方法來獲得形成功能塗佈層之薄膜。
實施例6
除了使用該聚酯丙烯酸樹脂D取代該聚酯樹 脂A外,使用與實施例1相同之方法來獲得形成功能塗佈層之薄膜。
實施例7
除了在用於該功能塗佈層之該底漆層中使用 該聚酯丙烯酸樹脂B,以及在用於該UV接著劑之該底漆層中使用該聚酯丙烯酸樹脂C外,使用與實施例3相同的方法製造偏光板。
比較例1
除了使用該聚胺酯樹脂E取代該聚酯樹脂A外, 使用與實施例1相同之方法來獲得形成功能塗佈層之薄膜。
比較例2
除了使用該聚胺酯樹脂F取代該聚酯樹脂A外, 使用與實施例1相同之方法來獲得形成功能塗佈層之薄膜。
測試例
由該實施例1至7與比較例1至2所製造之偏 光板或薄膜之接著層的接著力、功能塗佈層之接著力與耐 溶劑性,利用下述的方法測試,測量結果如下列表1所示。
<測量功能塗佈層接著力的方法>
在面積10x10之功能塗佈層上,以1mm的距離, 分別割出水平與垂直的切痕,在該些切痕上貼上膠帶,撕去該些膠帶,利用該功能塗佈層被移除的程度,來估計接著值。當該功能塗佈層被移除的面積從0%至20%時,該接著值被評定為OK,當該功能塗佈層被移除的面積大於20%時,該接著值被評定為NG。
<測量耐溶劑性的方法>
在形成上述實施例1至7與比較例1至2之功 能塗布層前,將1滴醇類(如IPA、EtOH或2-BuOH)滴於底漆層上,在滴完該醇類後,用衛生紙在20秒內摩擦該底漆層10次,然後,當該底漆層沒有被擦掉時,該耐溶劑性被評估為OK,而當該底漆層被擦掉,變得模糊時,該耐溶劑性被評估為NG。
<測量接著層接著力的方法>
90度接著剝離強度試驗係實施於由實施例2 與3所製造之偏光板上,使用機台為穩定的微系統TA.XT加外觀分析儀(Stable Micro Systems’ TA.XT Plus texture analyzer)。樣本做成長8cm、寬2cm,丙烯酸膜的那一面固定於該測量儀器之底面,而且該樣本之90度接著剝離強度的測量距離為5cm。如該樣本之測量該接著剝離強度的結果可得,當剝離強度為2N以上時,關於接著層之接著力被評定為OK,而當該接著強度小於2N時,關於接著層之 接著力被評定為NG。
如該表1中所列,可看出本發明所揭露之該聚 酯系底漆組成物,與比較例1與2使用聚胺酯樹脂來比較,顯示出與該功能塗布層的優良接著力。

Claims (16)

  1. 一種聚酯系底漆組成物,包括:一聚酯樹脂,為100重量分;複數個水可分散粒子,為1至20重量分;以及水,為剩餘部分。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該聚酯樹脂包含複數個以下列化學式1表示之重複單元: 其中,R1 與R2 各自獨立為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基、經取代或未經取代之C1-20 芳香基、經取代或未經取代之C3-20 環烷基;R3 與R4 各自獨立為氫、經取代或未經取代之C1-20 烷基、經取代或未經取代之C1-20 芳香基、經取代或未經取代之C3-20 環烷基、羧基、羥基或磺酸鹽基;且R3 與R4 中至少一為羧基、羥基或磺酸鹽基。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該聚酯樹脂包含一透過多元酸與多元醇反應所形成之聚酯乙二醇。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該多元酸包含一選自由芳香族羧酸、脂肪族羧酸、脂環族羧酸、其酸酐、其烷基酯及其酸鹵化物所組成之群組。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該多元醇包含至少一選自由乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,10-癸二醇、4,4’-二羥基苯基丙烷、4,4’-二羥基甲基甲烷、二乙二醇、參乙二醇、聚乙二醇(PEG)、二丙烯甘醇、聚四亞甲基二醇(PTMG)、聚丙烯乙二醇(PPG)、1,4-環己烷二甲醇、1,4-環己二醇、雙酚A、雙酚F、甘油、1,1,1-三羥甲丙烷、1,2,5-己三醇、季戊四醇、葡萄糖、蔗糖與山梨醇所組成之群組。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該聚酯樹脂更包含一丙烯酸單體。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該丙烯酸單體係至少一選自由烷基(甲基)丙烯酸酯、烷基丙烯酸酯、烷基(甲基)丙烯酸、烷基丙烯酸、環氧丙烯酸酯及羥烷基丙烯酸酯所組成之群組。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該聚酯樹脂包含該聚酯乙二醇與該丙烯酸單體之重量比率範圍係從1:9至9:1。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該些水可分散粒子之平均直徑從10nm至200nm。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之聚酯系底漆組成物,其中,該些水可分散粒子包含:複數個無機粒子,其至少一選自由二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯與銻系粒子所組成之群組;複數個有機粒子,其至少一選自由矽系樹脂、氟 系樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、經交聯之聚乙烯醇與三聚氰胺系樹脂所組成之群組;或其組合物。
  11. 一種光學膜,包括:一基底膜;以及一底漆層,其係使用如申請專利範圍第1至10項中任一項所述之聚酯系底漆組成物,形成於該基底膜之至少一側上。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之光學膜,其中,一功能塗佈層係成形於該底漆層上。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之光學膜,其中,該基底膜係一丙烯酸膜。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之光學膜,其中,該丙烯酸膜包含一共聚合物,其包括一烷基(甲基)丙烯酸酯系單元與經至少一羰基取代之一3至6員雜環單元。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之光學膜,其中,該丙烯酸膜更包含一在其主鏈上具有一碳酸酯部分之芳香族樹脂。
  16. 一種偏光板,包括:一偏光片;以及如申請專利範圍第11至15項中任一項所述之光學膜,設置於該偏光片之至少一側上。
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