TWI472822B - 平行度檢測裝置及其方法 - Google Patents

Description

平行度檢測裝置及其方法

本發明是有關於一種平行度檢測裝置及其方法，特別是有關於一種具有基準面以檢測光纖端面與光纖耦合器平行度之一種平行度檢測裝置及其方法。

光纖通訊是近代通訊的重要關鍵與技術，具有頻寬大、低衰減、不受電磁波干擾、體積小、重量輕、耐高溫並且突破距離限制等優點，已是近代通訊傳輸上非常熱門的技術。

西元2009年英特爾公司(Intel Corporation)發表名為Light Peak的光纖技術，欲以單一光纖纜線取代目前所有外接線，並整合於USB(Universal Serial Bus)纜線中。換句話說，USB纜線可傳輸電訊號及光訊號，為了使光纖在傳統的USB接頭可以相互連接，Intel開發了一種新型式的連接方式，稱為匯集式輸入/輸出(Converged input/output)介面模組，在此簡稱為CIO模組。整個CIO模組包含了三種連接頭，其中一種即為光/電連接部份(O/E part)。光/電連接部份的主要功用為連接光電收發模組(O/E module)與光纖的連接器，光纖經由導引孔直接***光/電連接部份中，接著注膠固化，再送進雷射機台切割，切割後的光纖將高出光/電連接部份之基準面約75μm。因此，如何確認雷射切割後的光纖端面 仍與光/電連接部份之基準面平行將是個重要課題，其平行度將嚴重地影響生產良率。

針對光纖端面與光電耦合器之連結檢測技術，一般可分為以下四種方法：

1.被動式對位法：將光纖固定於光學平台之V型或U型對位槽內，再經由高精密度驅動馬達調整位置，使光纖兩端可精確的對位。然而，此方法製程以及機械的構造複雜，製造成本相對較高，如台灣專利公告第I323354號以及第I230811號。

2.雷射微調之方法：將兩端面融拉後，以雷射光進行微調後，得到其折射率並判斷其差異率，取得較高的耦合比例。

3.利用平面光波導與光纖進行耦合：以單一光纖與單通道平面光波導進行耦合，光源由光纖端面進入光波導與其光波導輸出之位置，入射光與端面垂直使其與端面產生反射。但是，當光波導與光纖端面耦合時容易造成較高的光損耗，造成光損失，如台灣專利公告第M393693號。

4.以光學干涉原理量測光纖端面：針對光纖端面所產生之反射光程與參考光所干涉出的條紋進行解析；或者，利用光學平板檢測法，針對光學平板與檢測表面差異產生光學干涉條紋。然而，此方法針對光纖端面與光纖耦合器的基準面無法同時進行檢測與分析其干涉條紋。

因此，以需求來說，設計一個具有基準面且可針對光纖端面與耦合器的平行度檢測裝置及其方法，有效地檢驗測試光纖端面與連結器(connector)、耦合器(coupler)是否平行，以減少光纖耦合損失並達到較高的製造良率等功效，已成市場應用上之一個刻不容緩的議題。

有鑑於上述習知技藝之問題，本發明之目的就是在提供一種平行度檢測裝置及其方法，以解決無法同時檢測與分析干涉條紋之光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係及反射光點平行度偏移量之問題。

根據本發明之目的，提出一種平行度檢測裝置，其包含一光源模組、一待測模組、一擷取模組以及一處理模組。光源模組發射光源，達到干涉之條件。待測模組包含複數個光纖端面以及光纖耦合器，複數個光纖端面與光纖耦合器固定於移動平台上，且光纖耦合器之表面設置基準面，該光纖耦合器內有複數個光纖***孔，該基準面與該複數個光纖***孔之方向互相垂直，光學平板架設於複數個光纖端面以及光纖耦合器上並顯示干涉條紋，其中，光學平板預先調整角度，且光源通過基準面之干涉條紋為整齊且平行之條紋，係為校準參考面。擷取模組利用光之干涉特性擷取光源通過複數個光纖端 面與光纖耦合器之基準面之干涉條紋。處理模組電性連結擷取模組及移動平台，處理模組根據光源通過複數個光纖端面與基準面所產生之干涉條紋，計算複數個光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。

其中，平行度檢測裝置更包含標準模組，標準模組包含複數個標準光纖端面及標準光纖耦合器，標準光纖耦合器之表面設置標準基準面，且複數個標準光纖端面平行於標準基準面，光源通過標準光學平板、標準光纖端面及標準基準面，光纖端面與標準基準面之干涉條紋之條紋方向與間隔係為相同。

其中，光源可為氦氖雷射光。

根據本發明之目的，再提出一種平行度檢測方法，其包含下列步驟：開啟光源模組發射光源；提供光纖耦合器預先設置基準面，光纖耦合器內有複數個光纖***孔，基準面與複數個光纖***孔之方向互相垂直；透過待測模組將複數個光纖穿過光纖耦合器；提供待測模組固定光纖耦合器於移動平台上；架設光學平板於複數個光纖端面及光纖耦合器上；利用光源通過基準面與光學平板干涉並產生干涉條紋；開啟擷取模組擷取光源通過光纖端面與光纖耦合器基準面之干涉條紋；以及利用處理模組根據光源通過光纖端面與基準面所產生之干涉條紋，計算複數個光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。

其中，此方法更包含提供標準光纖耦合器設置標準 基準面；將複數個標準光纖端面平行於標準基準面；設置標準光學平板於標準光纖耦合器之上方；以及當光源通過標準光學平板、標準光纖端面以及標準基準面時，光纖端面與標準基準面之干涉條紋之條紋方向與間隔係為相同。

其中，此方法更包含一光源為氦氖雷射光。

根據本發明之目的，再提出一種平行度檢測裝置，適用於干涉條紋影像無法清楚顯現，其包含一光源模組、一待測模組、一屏幕以及一處理模組。光源模組發射光源，達到反射之條件。待測模組包含複數個光纖端面以及光纖耦合器。屏幕根據光源投射於複數個標準光纖端面，光源反射至屏幕且記錄光點位置做為基礎歸零點，並且光源投射於複數個光纖端面，光源反射至屏幕且記錄複數個反射光點位置。處理模組根據基礎歸零點及複數個反射光點位置計算複數個光纖端面之平行度偏移量。

綜上所述，本發明之平行度檢測裝置及其方法，克服先前技藝無法針對光纖端面與光纖耦合器之基準面同時檢測與分析干涉條紋等問題，藉由處理模組根據干涉條紋及反射光點，計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係及平行度偏移量，可有效地降低成本、簡易操作，且提升檢測光纖端面與光纖耦合器是否平行之精準度，以減少光纖耦合損失並達到較高的製造良率等功效。

為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

以下將參照相關圖式，說明依本發明之平行度檢測裝置及其方法之實施例，為使便於理解，下述實施例中之相同元件係以相同之符號標示來說明。

第1圖為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之示意圖。請參閱第1圖，平行度檢測裝置10包含一光源模組11、一待測模組12、一擷取模組13以及一處理模組14。光源模組11發射一光源110，其光源110可包含氦氖雷射光、二氧化碳雷射、紫外線雷射或可見光雷射等，為便於更瞭解本發明之技術特徵，底下是以氦氖雷射光為實施例，但並不以此為限。待測模組12包含光纖端面以及光纖耦合器，光纖耦合器設有光纖***孔，光纖經由光纖***孔直接***光纖耦合器。並且，光纖耦合器上設置基準面，基準面是根據光纖耦合器上的一區塊經過研磨及拋光所形成的，使光源110通過基準面與光學平板15可產生干涉及其干涉條紋。同時，待測模組12之光纖端面與光纖耦合器可固定於移動平台16上。

承接上述，擷取模組13擷取光源110通過光纖端面與光纖耦合器發生干涉現象所產生的干涉條紋。擷取模組13可為電荷耦合元件(CCD，Charge-coupled Device) 或互補式金屬氧化物半導體(CMOS，Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，簡稱互補式金氧半)等影像擷取裝置，為便於了解本發明之技術特徵，底下以電荷耦合元件作為實施例，但不以此為限。處理模組14電性連結擷取模組13及移動平台16，處理模組14根據光源110通過光纖端面與基準面所產生之干涉條紋，計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係，而處理模組14控制移動平台16根據光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係移動適當的水平位置。

附帶一提的是，在第1圖的平行度檢測裝置10中，其平行度檢測裝置10還包含分光鏡17以及光學平板15。分光鏡17可以讓光源一分為二，控制光源110穿透率及反射率。光學平板15可架設於光纖端面以及光纖耦合器上，並高於待測模組12，利用光的干涉原理形成明暗相間的條紋。

第2圖為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之流程圖。請參閱第2圖，首先如步驟S11所示，S11：開啟光源模組發射光源。其中，光源可包含氦氖雷射光、二氧化碳雷射、紫外線雷射或可見光雷射等，為便於更瞭解本發明之技術特徵，底下是以氦氖雷射光為實施例，但並不以此為限。接著如步驟S12及步驟S13所示，S12：提供光纖耦合器設置基準面；S13：透過待測模組將光纖穿過光纖耦合器；以及S14：提供待測模組固定光纖耦合器於移動平台上。在步驟S12中，於光纖耦合 器上基準面可經由研磨及拋光所形成。而步驟S14中，可利用夾治具將待測模組固定於移動平台上方。接著，如步驟S15及步驟S16所示，步驟S15：架設光學平板於複數個光纖端面及光纖耦合器上；以及步驟S16：利用光源通過基準面與光學平板干涉並產生干涉條紋。

承上所述，如步驟S17及步驟S18所述，S17：開啟擷取模組擷取光源通過光纖端面與光纖耦合器之基準面之干涉條紋；以及S18：利用處理模組根據光源通過光纖端面與基準面所產生之干涉條紋，計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。在步驟S17中，擷取模組可擷取干涉的亮暗條紋並藉由步驟S18完成計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。

第3A圖與第3B圖分別為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之待測模組剖面示意圖與俯視示意圖。請參閱第3A圖及第3B圖，光纖***孔123的數量可依設計而做調整，例如：兩孔、四孔或六孔等光纖***孔123，為便於更瞭解本發明之技術特徵，以下以四根光纖***四孔之光纖***孔123，露出四根光纖端面121作為實施例，但並不以此為限。

特別注意的是，第3B圖之光纖耦合器122上包含一基準面120，基準面120垂直於光纖***孔123，且此基準面120可經由研磨及拋光形成檢測平行度時所需之光學平滑面，具有大幅減少檢測成本之優點。

接著，第4A圖與第4B圖分別為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之光學平板干涉第一示意圖與第二示意圖。請參閱第4A圖以及第4B圖，並請搭配參閱第1圖。光的基本特性是當光行進時必定是直線前進且波長不變，若兩道具有相同波長且相位相同的光循同一方向行進時，光波將會重疊使振幅增大且亮度增強，形成明條紋。若兩道光相位相差180°或λ/2，則兩道光波重疊後振幅互相抵消，形成暗條紋。因此，在第4B圖中，光學平板15利用光學干涉原理形成明暗相間的干涉條紋。

如第4A圖以及第4B圖所示，光學平板15與待測模組12表面的空氣楔間隔為d，其待測模組12表面可為光纖端面121或光纖耦合器122之表面。光學平板15的作用面150與待測模組12表面分別會反射光源110，由於待測模組12所反射的光線比光學平板15的作用面150所反射的光線多2d的光程差，因此，造成了兩道光線干涉之相位差，而形成干涉條紋。干涉條紋可由肉眼觀察，亦可由電荷耦合元件擷取其干涉條紋之影像。干涉條紋數與空氣楔間隔d大小的關係，可由以下公式求出：考慮光源110從疏介質進入密介質之波前相位改變180°，F1：2d=(n+1/2)λ，其中，n為暗條紋數，d為空氣楔間隔，λ為光源的波長。由公式F1可知，若空氣楔間隔d為λ/4的奇數倍時，會產生180°相位差，且呈現暗條紋；若空氣楔間隔d為λ/2的倍數時，會產生360°相位差，且呈現明條紋。由此可知，每條明暗條紋間相差 λ/2的高度。

附帶一提的是，光學平板15架設於待測模組12之上方，無需接觸光纖端面121亦可觀察到干涉條紋，以降低光纖端面121的磨損程度，具有提高產品效能之優點。

另外，光學平板15可以干涉條紋之數目和傾度來判斷光纖端面121及光纖耦合器122間的平行度，底下以四個實施例舉例說明。

第5A圖與第5B圖分別為本發明之平行度檢測裝置之第二實施例之標準模組側視示意圖與俯視示意圖。請一併參閱第1圖及第5A圖，標準光學平板25架設於標準光纖端面221及標準光纖耦合器222之上方，當光源射入時可產生干涉條紋。再者，請參閱第5B圖，標準光纖端面221與標準基準面220的干涉條紋平行、分布均勻且條紋數量相同，表示標準光纖端面221與標準基準面220縱向及橫向皆為平行。

第6A圖、第6B圖以及第6C圖分別為本發明之平行度檢測裝置之第三實施例之待測模組側視示意圖、立體示意圖以及俯視示意圖。請一併參閱第1圖、第6A圖及第6B圖，當光源110射入光學平板15、光纖端面121及光纖耦合器122時，會發生干涉現象並產生干涉條紋。接著，請一併參閱第6A圖、第6B圖以及第6C圖，光纖端面121與基準面120之橫向方向平行，但縱向方向不平行。在第6C圖中，當光纖端面121與基準 面120橫向方向平行時，干涉條紋數目相同。然而，由於縱向方向不平行，光纖端面121上的干涉條紋以同一角度偏轉，利用處理模組14根據光源110通過光纖端面121與基準面120所產生之干涉條紋，可計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係為1/2條條紋的距離，即為F2：(1/2)*λ/2=λ/4μm。

請參閱第7A圖、第7B圖以及第7C圖，其分別為本發明之平行度檢測裝置之第四實施例之待測模組側視示意圖、立體示意圖以及俯視示意圖。請一併參閱第1圖、第7A圖、第7B圖以及第7C圖，光纖端面121與基準面120之干涉條紋縱向皆平行，由此可知光纖端面121與光纖耦合器122之基準面120在縱向為平行。但是，光纖端面121上的條紋數目比基準面120上的條紋數目多，且呈現左密右疏。因此，透過處理模組14根據干涉條紋計算條紋偏差為兩條條紋的距離，故平行度偏移量為F3：(5-3)*λ/2=λμm。

值得一提的是，如第7C圖，根據光源110通過光纖端面121與基準面120所產生之干涉條紋呈現左密右疏，可知光纖端面之表面右側較為平緩、左側較為陡峭，具有同步檢測光纖端面121之表面平整度之功效。

請參閱第8A圖、第8B圖以及第8C圖，其分別為本發明之平行度檢測裝置之第五實施例之待測模組側視示意圖、立體示意圖以及俯視示意圖。請一併參閱第1圖、第8A圖及第8B圖，光纖端面121與光纖耦合器122 之基準面120在縱向及橫向皆不平行。因此，參閱第8C圖可發現光纖端面121上的條紋數目比基準面120上的條紋數目多，且光纖端面121上的干涉條紋以同一角度偏轉。

如此一來，使用處理模組14計算縱向平行度偏差為一條條紋的距離，其光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係為F4：(4-3)*λ/2=λ/2μm。

橫向方向之平行度偏差為一條條紋的距離，其光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係為F5：1*λ/2=λ/2μm。

依據第一實施例至第五實施例，本發明更提出第六實施例至第九實施例作更進一步之舉例說明。

第9圖為本發明之平行度檢測裝置第六實施例之示意圖。請參閱第9圖，平行度檢測裝置20包含一光源模組11、一待測模組12、一處理模組14以及一屏幕18。光源模組11發射光源110，其光源110可包含氦氖雷射光、二氧化碳雷射、紫外線雷射或可見光雷射等，為便於更瞭解本發明之技術特徵，底下是以氦氖雷射光為實施例，但並不以此為限。待測模組12包含光纖端面121以及光纖耦合器122，光纖耦合器122設有光纖***孔，光纖可經由光纖***孔直接***光纖耦合器122。再者，光纖耦合器122上設置基準面，基準面是根據光纖耦合器122上的一區塊經過研磨及拋光所形成的，且基準面垂直於光纖***孔。

承接上述，處理模組14可根據反射光點之位置計算光纖端面121以及光纖耦合器122之平行度偏移量。因此，平行度檢測裝置20可針對大範圍檢測其平行度，並具有同時檢測與分析光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係或平行度偏移量之功效。

另外，由於雷射光具有高強度、單色性以及低發散性等特性，為便於更瞭解本發明之技術特徵，底下之光源模組11所發射之光源110以氦氖雷射光作為實施例，但並不以此為限。

第10圖為本發明之平行度檢測裝置第六實施例之流程圖。請參閱第10圖，首先，如步驟S21所示，S21：開啟光源模組發射光源。為便於更瞭解本發明之技術特徵，底下是以氦氖雷射光為實施例，但並不以此為限。接著，如步驟S22及步驟S23所示，S22：提供光纖耦合器設置基準面；以及S23：使用屏幕根據光源投射於光纖端面，經由反射投影至屏幕產生反射光點。其中，在步驟S23中，若光源射入基準面，其入射的角度為基準角度，投影至屏幕之光點為基準光點。最後，如步驟S24所示，利用處理模組根據反射光點之位置計算光纖端面以及光纖耦合器之平行度偏移量。

當光纖端面與基準面不平行，基準面之光線與光源於光纖端面反射的光線路徑方向移動位移△X時，屏幕上的光點也會在屏幕上移動位移△H。特別注意的是，位移△X與位移△H成正比。換句話說，藉由屏幕上反射光點的 位移可以量測出待測模組表面的平行度偏移量。如此一來，運用雷射光之特性及光學應用之原理，平行度檢測裝置適用於大範圍檢測平行度，並可利用四道光源檢測光纖耦合器上四個光纖端面之平行度偏移量。其中，光源可為氦氖雷射光，光源與光纖端面之數量底下以四個為實施例，但皆不以此為限。四道光源以相同的入射角度射入待測模組之四個光纖端面上，經光纖端面反射之光源會投影至屏幕產生四個反射光點。透過處理模組根據四個反射光點的間距以及偏移量計算平行度偏移量，底下以三個實施例舉例說明。

第11圖為本發明之平行度檢測裝置標準模組之第七實施例示意圖。請一併參閱第9圖及第11圖，光源110經標準光纖端面221反射到屏幕18上之反射光點為基礎歸零點，其入射之基準角度與反射角度相同且屏幕18上之四個反射光點間隔距離相同，故可藉由處理模組14計算平行度偏移量以檢測出四個標準光纖端面221皆平行，並將光點位置設為基礎歸零點。

第12圖為本發明之平行度檢測裝置之第八實施例示意圖。請一併參閱第9圖及第12圖，光源110通過光纖端面O1及光纖端面O2反射至屏幕18上之反射光路徑為平行，而光源110通過光纖端面O3及光纖端面O4反射至屏幕18上之反射光路徑亦為平行，但光纖端面O1、光纖端面O2與光纖端面O3、光纖端面O4互不平行。進而，使用處理模組14可計算平行度偏移量，可得到四個光纖端面121不完全平行之結果。

第13圖為本發明之平行度檢測裝置之第九實施例示意圖。請一併參閱第9圖及第13圖，光源110經光纖端面121反射到屏幕18上之反射光點其光點間隔距離相同，且四道光源110之入射角度亦相同，但反射光點與基準光點有相同的偏移量，透過處理模組14計算平行度偏移量，可得道四個光纖端面121之平行度相同，但光纖端面121與光纖耦合器122不平行。

綜上所述，因依本發明之鏡片設計系統及其方法，其可具有一或多個下述優點：

(1)此發明克服先前技藝無法針對光纖端面與光纖耦合器之基準面同時檢測與分析干涉條紋等問題。

(2)此發明之平行度檢測裝置及其方法可有效地降低成本、簡易操作，且提升檢測光纖端面與連結器、耦合器是否平行之精準度，以減少光纖耦合損失並達到較高的製造良率等功效。

(3)此發明之平行度檢測裝置及其方法可藉由處理模組根據光源通過光纖端面與基準面所產生之干涉條紋及反射光點，計算光纖端面與基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係及平行度偏移量。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申 請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧光纖

10、20‧‧‧平行度檢測裝置

11‧‧‧光源模組

110‧‧‧光源

12‧‧‧待測模組

120‧‧‧基準面

121‧‧‧光纖端面

122‧‧‧光纖耦合器

123‧‧‧光纖***孔

13‧‧‧擷取模組

14‧‧‧處理模組

15‧‧‧光學平板

150‧‧‧作用面

16‧‧‧移動平台

17‧‧‧分光鏡

18‧‧‧屏幕

25‧‧‧標準光學平板

220‧‧‧標準基準面

221‧‧‧標準光纖端面

222‧‧‧標準光纖耦合器

d‧‧‧空氣楔間隔

n‧‧‧暗條紋數

λ‧‧‧光源的波長

△X、△H‧‧‧位移

O1~O4‧‧‧端面

S11~S18、S21~S24‧‧‧步驟

F1~F5‧‧‧公式

第1圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之示意圖；第2圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之流程圖；第3A圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之待測模組剖面示意圖；第3B圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之待測模組俯視示意圖；第4A圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之光學平板干涉第一示意圖；第4B圖 係為本發明之平行度檢測裝置第一實施例之光學平板干涉第二示意圖；第5A圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第二實施例之標準模組側視示意圖；第5B圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第二實施例之標準模組俯視示意圖；第6A圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第三實施例之待測模組側視示意圖；第6B圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第三實施例之待測模組立體示意圖； 第6C圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第三實施例之待測模組俯視示意圖；第7A圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第四實施例之待測模組側視示意圖；第7B圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第四實施例之待測模組立體示意圖；第7C圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第四實施例之待測模組俯視示意圖；第8A圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第五實施例之待測模組側視示意圖；第8B圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第五實施例之待測模組立體示意圖；第8C圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第五實施例之待測模組俯視示意圖；第9圖 係為本發明之平行度檢測裝置第六實施例之示意圖；第10圖 係為本發明之平行度檢測裝置第六實施例之流程圖；第11圖 係為本發明之平行度檢測裝置標準模組之第七實施例示意圖；第12圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第八實施例示意圖；以及第13圖 係為本發明之平行度檢測裝置之第九實施例 示意圖。

1‧‧‧光纖

10‧‧‧平行度檢測裝置

11‧‧‧光源模組

110‧‧‧光源

12‧‧‧待測模組

13‧‧‧擷取模組

14‧‧‧處理模組

15‧‧‧光學平板

16‧‧‧移動平台

17‧‧‧分光鏡

Claims (6)

1. 一種平行度檢測裝置，其包含：一光源模組，係發射一單色光源；一待測模組，包含複數個光纖端面以及一光纖耦合器，該複數個光纖端面與該光纖耦合器係固定於一移動平台上，且該光纖耦合器之表面係設置一基準面，該光纖耦合器內有複數個光纖***孔，該基準面與該複數個光纖***孔之方向互相垂直，一光學平板係架設於該複數個光纖端面以及該光纖耦合器上並顯示干涉條紋，其中，該光學平板預先調整角度，且該光源通過該基準面之干涉條紋為整齊且平行之條紋，係為一校準參考面；一擷取模組，係利用光之干涉特性擷取該光源通過該複數個光纖端面與該光纖耦合器之該基準面之干涉條紋；以及一處理模組，電性連結該擷取模組及該移動平台，係根據該光源通過該複數個光纖端面與該基準面所產生之干涉條紋，計算該複數個光纖端面與該基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。
2. 如申請專利範圍第1項所述之平行度檢測裝置，更包含一標準模組，該標準模組包含複數個標準光纖端面及一標準光纖耦合器，該標準光纖耦合器之表 面係設置一標準基準面，且該複數個標準光纖端面平行於該標準基準面，該光源通過一標準光學平板、該標準光纖端面及該標準基準面，該光纖端面與該標準基準面之干涉條紋之條紋方向與間隔係為相同。
3. 如申請專利範圍第1項所述之平行度檢測裝置，其中該光源係為氦氖雷射光。
4. 一種平行度檢測方法，適用於一平行度檢測裝置，其包含下列步驟：開啟一光源模組發射一光源；提供一光纖耦合器預先設置一基準面，該光纖耦合器內有複數個光纖***孔，該基準面與該複數個光纖***孔之方向互相垂直；透過一待測模組將複數個光纖穿過該光纖耦合器；提供該待測模組固定該光纖耦合器於一移動平台上；架設一光學平板於複數個光纖端面及該光纖耦合器上；利用該光源通過該基準面與該光學平板干涉並產生干涉條紋；開啟一擷取模組擷取該光源通過該複數個光纖端面與光纖耦合器基準面之干涉條紋；以及利用一處理模組根據該光源通過該光纖端面與該 基準面所產生之干涉條紋，計算該複數個光纖端面與該基準面之干涉條紋數與空氣楔間隔大小之關係。
5. 如申請專利範圍第4項所述之平行度檢測方法，更包含下列步驟：提供一標準光纖耦合器設置一標準基準面；將複數個標準光纖端面平行於該標準基準面；設置一標準光學平板於該標準光纖耦合器之上方；以及當該光源通過該標準光學平板、該標準光纖端面以及該標準基準面時，該光纖端面與該標準基準面之干涉條紋之條紋方向與間隔係為相同。
6. 如申請專利範圍第4項所述之平行度檢測方法，其中該光源係為氦氖雷射光。