TWI458557B - 噴塗遮蔽結構及採用該結構之噴塗遮蔽方法 - Google Patents

Description

噴塗遮蔽結構及採用該結構之噴塗遮蔽方法

本發明涉及一種噴塗遮蔽結構及採用該結構之噴塗遮蔽方法。

一般消費型電子產品如行動電話或電腦等外殼通常進行外表面之噴塗以達到美化外殼之裝飾目的。電子產品之外殼通常會設有凹槽以安裝其他元件或用於劃分出不同噴漆區域。當凹槽之底部無需噴塗時，需採用對應之遮蔽件加以遮蔽，以便於噴塗。

常用噴塗遮蔽方法採用與凹槽底面形狀相同之遮蔽件放置於凹槽內，遮蔽件覆蓋於凹槽底面以防止噴塗時將塗料噴至凹槽底面。然而，由於加工精度之限制，遮蔽件和凹槽不可能完全貼合，必然存在微小之縫隙。噴塗時，當工件表面之塗層厚度較大時，單位面積之噴塗量也較大，此時會有較多塗料噴塗至遮蔽件上，而遮蔽件和凹槽側壁之間之縫隙由於毛細現象而對塗料產生吸附力，從而將塗料沿凹槽之側壁吸附至凹槽底面，使凹槽之底面被塗覆上塗料，降低了產品之噴塗質量。

有鑑於此，有必要提供一種可提高噴塗質量之噴塗遮蔽結構及採用該結構之噴塗遮蔽方法。

一種噴塗遮蔽結構，用於對工件之非噴塗面進行遮蔽，工件包括 自噴塗面凹陷之凹槽，凹槽之底面為非噴塗面，噴塗遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面相對之遮蔽面，遮蔽面之形狀與凹槽之底面之形狀相吻合，第一遮蔽件可收容於凹槽並使遮蔽面朝向凹槽之底面，第二遮蔽件具有與第一遮蔽件之抵持面配合之抵頂面，抵持面及抵頂面邊緣之輪廓形狀與凹槽之底面邊緣之輪廓形狀相同，且抵持面及抵頂面之間形成縫隙。

一種噴塗遮蔽方法，用於對工件噴塗時的非噴塗面進行遮蔽，包括以下步驟：提供一工件，工件包括自噴塗面凹陷之凹槽，凹槽具有底面，底面為非噴塗面；提供一噴塗遮蔽結構，噴塗遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面相對之遮蔽面，所述遮蔽面之形狀與所述凹槽之底面之形狀相吻合，第一遮蔽件可收容於凹槽並使遮蔽面朝向凹槽之底面，第二遮蔽件具有與抵持面配合之抵頂面，抵持面及抵頂面邊緣之輪廓形狀與底面邊緣之輪廓形狀相同；將第一遮蔽件放置於工件之凹槽，使遮蔽面朝向凹槽之底面，抵持面邊緣與凹槽底面之邊緣平齊；將第二遮蔽件放置於第一遮蔽件上，使抵頂面與抵持面貼合，並使得所述抵持面及所述抵頂面之間形成縫隙，且抵頂面邊緣與抵持面邊緣平齊。

當噴塗量較大時，有較多的塗料進入第一遮蔽件、第二遮蔽件與凹槽之間的微小縫隙。由於抵持面及抵頂面形成縫隙亦對塗料產生吸附作用，會吸附部分塗料。這樣，就減少或避免塗料自凹槽與第一遮蔽件、第二遮蔽件之間縫隙而流至底面，從而提高噴塗質量。

100、200、300‧‧‧噴塗遮蔽結構

110‧‧‧工件

111‧‧‧噴塗面

112‧‧‧凹槽

1121‧‧‧底面

1122‧‧‧側壁

120、220、320‧‧‧第一遮蔽件

121‧‧‧抵持面

122、222、322‧‧‧側面

123‧‧‧遮蔽面

130、230、330‧‧‧第二遮蔽件

131、231、331‧‧‧抵頂面

132、232、332‧‧‧導流面

133、233、333‧‧‧頂面

3331‧‧‧傾斜面

3332‧‧‧平坦面

334‧‧‧收容槽

圖1係本發明實施例一之噴塗遮蔽結構示意圖。

圖2係圖1的噴塗遮蔽結構部分放大圖。

圖3係圖1的噴塗遮蔽結構使用示意圖。

圖4係本發明實施例二之噴塗遮蔽結構的部分放大圖。

圖5係本發明實施例三之噴塗遮蔽結構的部分放大圖。

圖6係圖5所示噴塗遮蔽結構之使用示意圖。

下面結合實施方式對本發明之噴塗遮蔽結構及採用該結構之噴塗遮蔽方法作進一步詳細說明。

請參閱圖1，本發明實施例一之噴塗遮蔽結構100用於工件110進行噴塗時對非噴塗面進行遮蔽，其包括第一遮蔽件120及第二遮蔽件130。

請參閱圖2，工件110包括待噴塗面111及自待噴塗面111凹陷之凹槽112。凹槽112具有底面1121及自底面1121垂直延伸之側壁1122，側壁1122與噴塗面111相交。在本實施方式中，凹槽112的底面1121為非噴塗面。

第一遮蔽件120大體為片狀，其形狀與凹槽112之形狀相對應，且包括抵持面121、與抵持面121相鄰之側面122及與抵持面121相對之遮蔽面123。遮蔽面123之形狀與凹槽112之底面1121之形狀相吻合。抵持面121邊緣輪廓與底面1121邊緣輪廓相同，側面122垂直於抵持面121。本實施例中，抵持面121為平面。

第二遮蔽件130大體為片狀，其包括抵頂面131、與抵頂面131相鄰之導流面132及與抵頂面131相對之頂面133。抵頂面131邊緣輪廓與抵持面121邊緣輪廓相同。本實施例中，抵頂面131與頂面133均為平面且相互平行。導流面132與抵頂面131之間之夾角小於90度。

採用噴塗遮蔽結構100對工件110進行遮蔽時，將第一遮蔽件120放置凹槽112，使第一遮蔽件120之遮蔽面123與凹槽112之底面1121貼合，且抵持面121之邊緣與底面1121之邊緣平齊。

將第二遮蔽件130放置於第一遮蔽件120，使抵頂面131抵持抵持面121且抵頂面131之邊緣與抵持面121之邊緣平齊。

請一併參閱圖3，由於加工精度之限制，第一遮蔽件120、第二遮蔽件130及凹槽112之間必然存在微小之縫隙。當噴塗量較大時，側壁1122及側面122形成之縫隙中之塗料受到抵持面121及抵頂面131形成之縫隙吸附力作用，會有部分塗料進入抵持面121及抵頂面131形成之縫隙。導流面132傾斜設置，使得沿導流面132流下之塗料首先流至抵持面121及抵頂面131形成之縫隙而被吸附，同時抵持面121及抵頂面131形成之縫隙會吸附部分流入側壁1122及側面122形成之縫隙中之塗料。這樣，就減少或避免塗料自側壁1122及側面122形成之縫隙而流至底面1121，從而提高噴塗質量。

請參閱圖4，本發明實施例二之噴塗遮蔽結構200與實施例一之噴塗遮蔽結構100大體相同，其不同在於：導流面232垂直於抵頂面231，此時塗料不容易沿導流面232流下，減少流入側壁1122及側面222形成之縫隙中之塗料。

請同時參閱圖5及圖6，本發明實施例三之噴塗遮蔽結構300與實施例一之噴塗遮蔽結構100大體相同，其不同在於：導流面332垂直於抵頂面331，頂面333包括傾斜面3331及自傾斜面3331延伸之平坦面3332。傾斜面3331與導流面332之夾角小於90度，從而使得傾斜面3331與平坦面3332形成之收容槽334可收集噴塗至頂面333之塗料，避免頂面333之塗料流入側壁1122及側面322形成之縫隙中。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，爰依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，本發明之範圍並不以上述實施方式為限，舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

110‧‧‧工件

111‧‧‧噴塗面

112‧‧‧凹槽

1121‧‧‧底面

1122‧‧‧側壁

120‧‧‧第一遮蔽件

121‧‧‧抵持面

122‧‧‧側面

123‧‧‧遮蔽面

130‧‧‧第二遮蔽件

131‧‧‧抵頂面

132‧‧‧導流面

133‧‧‧頂面

Claims (10)

1. 一種噴塗遮蔽結構，用於對工件之非噴塗面進行遮蔽，工件包括自噴塗面凹陷之凹槽，所述凹槽之底面為非噴塗面，所述噴塗遮蔽結構包括第一遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面相對之遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容於所述凹槽並使所述遮蔽面朝向所述凹槽之底面，其改良在於：所述遮蔽面之形狀與所述凹槽之底面之形狀相吻合，所述噴塗遮蔽結構還包括第二遮蔽件，所述第二遮蔽件具有與第一遮蔽件之抵持面配合之抵頂面，所述抵持面及抵頂面邊緣之輪廓形狀與所述凹槽之底面邊緣之輪廓形狀相同，且所述抵持面及所述抵頂面之間形成縫隙。
2. 如申請專利範圍第1項所述之噴塗遮蔽結構，其中所述抵持面與抵頂面為平面。
3. 如申請專利範圍第1項所述之噴塗遮蔽結構，其中所述第二遮蔽件還包括自抵頂面邊緣垂直延伸之導流面。
4. 如申請專利範圍第1項所述之噴塗遮蔽結構，其中所述第二遮蔽件自抵頂面邊緣延伸之導流面，所述側壁與所述抵頂面之夾角小於90度。
5. 如申請專利範圍第1項所述之噴塗遮蔽結構，其中所述第二遮蔽件還包括自抵頂面邊緣延伸之導流面及與抵頂面相對之頂面，所述頂面部分凹陷形成有收容槽。
6. 一種噴塗遮蔽方法，用於對工件噴塗時的非噴塗面進行遮蔽，包括以下步驟：提供一工件，工件包括自噴塗面凹陷之凹槽，凹槽具有底面，所述底面為非噴塗面； 提供一噴塗遮蔽結構，所述噴塗遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面相對之遮蔽面，所述遮蔽面之形狀與所述凹槽之底面之形狀相吻合，所述第一遮蔽件可收容於所述凹槽並使所述遮蔽面朝向所述凹槽之底面，所述第二遮蔽件具有與抵持面配合之抵頂面，所述抵持面及抵頂面邊緣之輪廓形狀與所述底面邊緣之輪廓形狀相同；將第一遮蔽件放置於工件之凹槽，使所述遮蔽面朝向該凹槽之底面，抵持面邊緣與凹槽底面之邊緣平齊；將第二遮蔽件放置於第一遮蔽件上，使抵頂面與抵持面貼合，並使得所述抵持面及所述抵頂面之間形成縫隙，且抵頂面邊緣與抵持面邊緣平齊。
7. 如申請專利範圍第6項所述之噴塗遮蔽方法，其中所述抵持面與抵頂面為平面。
8. 如申請專利範圍第6項所述之噴塗遮蔽方法，其中所述第二遮蔽件還包括自抵頂面邊緣垂直延伸之導流面。
9. 如申請專利範圍第6項所述之噴塗遮蔽方法，其中所述第二遮蔽件自抵頂面邊緣延伸之導流面，所述側壁與所述抵頂面之夾角小於90度。
10. 如申請專利範圍第6項所述之噴塗遮蔽方法，其中所述第二遮蔽件還包括自抵頂面邊緣延伸之導流面及與抵頂面相對之頂面，所述頂面部分凹陷形成有收容槽。