TWI452553B - 製作可撓式顯示裝置之方法 - Google Patents

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Description

製作可撓式顯示裝置之方法
本發明係關於一種製作可撓式顯示裝置之方法，尤指一種可減少貼合阻障層時產生殘留氣體之製作可撓式顯示裝置之方法。
可撓式顯示裝置例如可撓式有機發光二極體顯示裝置，由於具有可撓式特性，未來可望被應用在例如電子紙等電子產品上。一般而言，為了增加可撓式顯示裝置的阻水性與結構強度，會在可撓式顯示面板的表面貼附一層阻障層。然而，可撓式顯示面板的基板與設置於其上的顯示元件會具有落差而會形成不平坦表面，而在貼附阻障層時此不平坦表面容易造成氣體殘留而產生氣泡。在可撓式顯示裝置被撓曲時，氣泡會導致應力不均而容易造成顯示元件的損傷。
本發明之目的之一在於提供一種製作可撓式顯示裝置之方法，以避免在可撓式顯示面板上貼附阻障層時因氣體殘留而產生氣體的問題。
本發明之一較佳實施例提供一種製作可撓式顯示裝置之方法，包括下列步驟。提供一可撓式顯示面板，其中可撓式顯示面板具有一不平坦表面。於可撓式顯示面板之不平坦表面形成至少一前驅物 層。進行一聚合製程，使前驅物層聚合成至少一填充層。
本發明之另一較佳實施例提供一種製作可撓式顯示裝置之方法，包括下列步驟。提供一可撓式顯示面板，其中可撓式顯示面板具有一不平坦表面。於可撓式顯示面板之不平坦表面形成至少一填充層，其中填充層包括複數個奈米碳管、奈米碳顆粒或奈米碳線。
為使熟習本發明所屬技術領域之一般技藝者能更進一步了解本發明，下文特列舉本發明之較佳實施例，並配合所附圖式，詳細說明本發明的構成內容及所欲達成之功效。
請參考第1圖至第3圖。第1圖至第3圖繪示了本發明之第一較佳實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。如第1圖所示，首先提供一可撓式顯示面板10。在本發明中，可撓式顯示面板10可為一可撓式電致發光顯示面板例如一可撓式有機發光二極體顯示面板，但不以此為限亦可為其它各種類型的可撓式顯示面板，例如電泳顯示面板。可撓式顯示面板10主要包括一基板12與複數個顯示元件14設置於基板12上。基板12可包括例如一塑膠基板。顯示元件14則可包括有機發光二極體、開關薄膜電晶體元件、驅動薄膜電晶體元件與電容元件等有機發光二極體顯示面板所必須具備的元件。可撓式顯示面板10具有一不平坦表面10S，且不平坦表面10S係由顯示元件14之表面與基板12之表面之落差所造成。舉例而言，顯示元件14之表面與基板12之表面之落差約介於0.5微米至數微米之間。隨後，於可撓式顯示面板10之不平坦表面10S形成至少一前驅物層16。在本實施例中，前驅物層16可為小分子前驅物層，且前驅物層16可包括一壓克力基(acrylic-based)前驅物層。例如，本實施例之壓克力基前驅物層可如下列式(1)所示之前驅物：
。
在本發明中，前驅物層16並不限定為壓克力基前驅物層，例如亦可為聚對二甲苯基(parylene-based)前驅物層，或其它適合的小分子前驅物。
在本實施例中，前驅物層16可利用例如一真空熱蒸鍍製程形成於可撓式顯示面板10之不平坦表面10S。在真空熱蒸鍍製程中，基板12的溫度大體上較佳可控制在例如小於90℃的溫度，而蒸鍍源的溫度大體上較佳可控制在大於160℃的溫度，但不以此為限。前驅物層16不限於利用真空熱蒸鍍製程加以製作。在一變化實施例中，前驅物層亦可利用一印刷製程如噴墨製程加以製作，且在利用噴墨製程形成前驅物層16之後，可另包括對前驅物層16進行一平坦化(leveling)製程。
如第2圖所示，接著進行一聚合製程，使前驅物層16聚合成具有大分子的至少一填充層18。在本實施例中，若前驅物層16係為壓克力基前驅物層且使用真空熱蒸鍍製程加以形成，則聚合製程可包括進行一紫外光照射製程或以小於420nm之藍光光源進行照射，其中紫外光光源之波長例如為365nm，但不以此為限，而紫外光光源之能量大體上較佳係大於例如1000mJ/cm2，但不以此為限。在本實施例中，當前驅物層16係選用如式(1)所示之小分子前驅物時，在聚合製程後填充層18會含有如下列式(2)所示之丙烯酸十二酯(Lauryl acrylate)：
。
此外，若前驅物層16選用聚對二甲苯基前驅物層並利用真空熱蒸鍍製程加以形成，則前驅物層16在真空熱蒸鍍製程中會直接產生聚合反應，而不需進行額外的紫外光照射製程。另外，若前驅物層16係使用印刷製程加以形成，不論前驅物層16係選用壓克力基前驅物層或聚對二甲苯基前驅物層，則聚合製程除可包括進行一紫外光照射製程外，聚合製程係在氮氣環境下進行，此氮氣環境控制水氣與氧氣濃度於10ppm以下，但不以此為限。
在本實施例中，填充層18之厚度大體上可約介於0.5微米至1.5微米之間，較佳介於0.5微米至1微米之間，且填充層18會填入顯示元件14之表面與基板12之表面形成的落差內而具有一平坦表面18S。
如第3圖所示，隨後利用一黏著層20，將一阻障層22黏著於填充層18之平坦表面18S上，即製作出本實施例之可撓式顯示裝置。阻障層22可為例如有機阻障層、無機阻障層或有機/無機複合層阻障層，且阻障層22之抗透濕能力值(WVTR)大體上大於10-3 g/m2 /day，且較佳介於10-5 g/m2 /day與10-6 g/m2 /day之間，但不以此為限。
本發明之製作可撓式顯示裝置之方法並不以上述實施例為限。下文將依序介紹本發明之其它較佳實施例或變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法，且為了便於比較各實施例之相異處並簡化說明，在下文之各實施例中使用相同的符號標注相同的元件，且主要針對各實施例之相異處進行說明，而不再對重覆部分進行贅述。
請參考第4圖。第4圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第一變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。如第4圖所示，與第一較佳實施例之差異在於，根據本第一變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法，於形成填充層18之前，另包括先於可撓式顯示面板10上形成至少一助著層(adhesion-enhanced layer)15，用以提升填充層18與可撓式顯示面板10接著能力。助著層15可利用一物理氣相沉積製程、一化學氣相沉積製程或一原子層沉積製程加以形成，但不以此為限。填充層18具有一平坦表面18S，而助著層15的厚度大體上係介於0.5微米至1.5微米，且較佳介於0.5微米至1微米之間，但不以此為限。另外，助著層15與填充層18的厚度和大體上較佳係小於2微米，但不以此為限。助著層15可包括一金屬層、一金屬氧化物層、一金屬氮化物層、一半導體氧化物層或一半導體氮化物層，且值得說明的是，若助著層15的材料選用一導電材料例如金屬時，為了避免助著層15與顯示元件14的電極電性連接而產生短路，需於顯示元件14上先形成一絕緣層(圖未示)後，再於絕緣層上形成助著層15。隨後利用一黏著層20，將一阻障層22黏著於填充層18之平坦表面18S上，即製作出本第一變化實施例之可撓式顯示裝置。
請參考第5圖。第5圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第二變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。如第5圖所示，與第一變化實施例之差異在於，根據本第二變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法，助著層15包括一第一助著層151與一第二助著層152，其中第一助著層151係形成於可撓式顯示面板10與填充層18之間，而第二助著層152係形成於填充層18上。第二助著層152亦具有一平坦表面152S。在本第二變化實施例中，第一助著層151、填充層18與第二助著層152的厚度和大體上較佳係小於2微米，但不以此為限。隨後利用一黏著層20，將一阻障層22黏著於第二助著層152上，即製作出本第二變化實施例之可撓式顯示裝置。
請參考第6圖。第6圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第三變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。如第5圖所示，與第二變化實施例之差異在於，根據本第三變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法，助著層15包括一第一助著層151、一第二助著層152與一第三助著層153，而填充層18包括一第一填充層181與一第二填充層182，且助著層15與填充層18係以交替層疊方式排列。也就是說，第一填充層181係形成於第一助著層151與第二助著層152之間，第二填充層182係形成於第二助著層152與第三助著層153之間。第三助著層153具有一平坦表面153S。在本第三變化實施例中，第一助著層151、第一填充層181、第二助著層152、第二填充層182與第三助著層153的厚度和大體上較佳係小於5微米，但不以此為限。隨後利用一黏著層20，將一阻障層22黏著於第三助著層153上，即製作出本第三變化實施例之可撓式顯示裝置。
請再參考第7圖與第8圖。第7圖與第8圖繪示了本發明之第二較佳實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。如第7圖所示，提供一可撓式顯示面板10，其中可撓式顯示面板10包括一基板12與複數個顯示元件14設置於基板12上，可撓式顯示面板10具有一不平坦表面10S，且不平坦表面10S係由顯示元件14之表面與基板12之表面之落差所造成。接著，於可撓式顯示面板10之不平坦表面10S形成至少一填充層30，其中填充層30具有一平坦表面30S。不同於第一較佳實施例之填充層18係為利用前驅物層16所聚合而成的有機填充層，本第二較佳實施例之填充層30係為一無機填充 層，其可包括奈米等級的碳結構層，例如奈米碳管、奈米碳顆粒或奈米碳線等。在本實施例中，填充層30可利用一化學氣相沉積製程加以形成，但不以此為限。如第8圖所示，隨後利用一黏著層20，將一阻障層22黏著於填充層30之平坦表面30S上，即製作出本實施例之可撓式顯示裝置。
本發明之第一較佳實施例與第二較佳實施例之差異在於：第一較佳實施例係使用前驅物層聚合成之有機填充層，而第二較佳實施例使用無機填充層(例如奈米碳管、奈米碳顆粒或奈米碳線等)。在第二較佳實施例中，填充層30之厚度亦可如第一實施例所述，在此不再贅述。此外，第二較佳實施例之製作可撓式顯示裝置之方法亦可包括其它變化實施例，例如第4圖至第6圖所述之變化實施例，在此不再贅述。
綜上所述，本發明之製作可撓式顯示裝置之方法於利用黏著層將阻障層黏著於可撓式顯示面板之前，先於可撓式顯示面板的表面形成具有平坦化效果的填充層，藉此可避免於貼附阻障層時造成氣體殘留而導致可撓式顯示裝置的可靠度與耐用性降低。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。
10．．．可撓式顯示面板
10S．．．不平坦表面
12．．．基板
14．．．顯示元件
16．．．前驅物層
18．．．填充層
18S．．．平坦表面
20．．．黏著層
22．．．阻障層
15．．．助著層
151．．．第一助著層
152．．．第二助著層
153．．．第三助著層
181．．．第一填充層
182．．．第二填充層
152S．．．平坦表面
153S．．．平坦表面
30．．．填充層
30S．．．平坦表面
第1圖至第3圖繪示了本發明之第一較佳實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。
第4圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第一變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。
第5圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第二變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。
第6圖繪示了本發明之第一較佳實施例的第三變化實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。
第7圖與第8圖繪示了本發明之第二較佳實施例之製作可撓式顯示裝置之方法示意圖。
10．．．可撓式顯示面板
10S．．．不平坦表面
12．．．基板
14．．．顯示元件
18．．．填充層
18S．．．平坦表面
20．．．黏著層
22．．．阻障層

Claims (15)

  1. 一種製作可撓式顯示裝置之方法，包括：提供一可撓式顯示面板，其中該可撓式顯示面板具有一不平坦表面；於該可撓式顯示面板之該不平坦表面形成至少一前驅物層；進行一聚合製程，使該前驅物層聚合成至少一填充層，該填充層包括一第一填充層與一第二填充層；於該可撓式顯示面板上形成至少一助著層(adhesion-enhanced layer)，該助著層包括一第一助著層、一第二助著層與一第三助著層，其中該第一填充層係形成於該第一助著層與該第二助著層之間，該第二填充層係形成於該第二助著層與該第三助著層之間；以及利用一黏著層，將一阻障層黏著於該第三助著層上，其中該第三助著層具有一平坦表面。
  2. 如請求項1所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該前驅物層係利用一真空熱蒸鍍製程或一印刷製程形成於該可撓式顯示面板之該不平坦表面。
  3. 如請求項1所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該前驅物層包括一壓克力基(acrylic-based)前驅物層或一聚對二甲苯基(parylene-based)前驅物層。
  4. 如請求項1所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層係利用一物理氣相沉積製程、一化學氣相沉積製程或一原子層沉積製程加以形成。
  5. 如請求項1所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層包括一金屬層、一金屬氧化物層、一金屬氮化物層、一半導體氧化物層或一半導體氮化物層。
  6. 如請求項1所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該可撓式顯示面板包括一基板與複數個顯示元件設置於該基板上，且該不平坦表面係由該等顯示元件之一表面與該基板之一表面之落差所造成。
  7. 一種製作可撓式顯示裝置之方法，包括：提供一可撓式顯示面板，其中該可撓式顯示面板具有一不平坦表面；以及於該可撓式顯示面板之該不平坦表面形成至少一無機填充層，其中該無機填充層包括複數個奈米碳管、奈米碳顆粒或奈米碳線。
  8. 如請求項7所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該無機填充層係利用一化學氣相沉積製程所形成。
  9. 如請求項7所述之製作可撓式顯示裝置之方法，另包括利用一黏著層，將一阻障層黏著於該無機填充層上，其中該無機填充層具有一平坦表面。
  10. 如請求項7所述之製作可撓式顯示裝置之方法，另包括於該可撓式顯示面板上形成至少一助著層(adhesion-enhanced layer)。
  11. 如請求項10所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層包括一金屬層、一金屬氧化物層、一金屬氮化物層、一半導體氧化物層或一半導體氮化物層。
  12. 如請求項10所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層形成於該可撓式顯示面板與該無機填充層之間。
  13. 如請求項10所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層包括一第一助著層與一第二助著層，該第一助著層形成於該可撓式顯示面板與該無機填充層之間以及該第二助著層形成於該無機填充層上。
  14. 如請求項13所述之製作可撓式顯示裝置之方法，另包括利用一黏著層，將一阻障層黏著於該第二助著層上，其中該第二助著層具有一平坦表面。
  15. 如請求項10所述之製作可撓式顯示裝置之方法，其中該助著層包括一第一助著層、一第二助著層與一第三助著層，該無機填充層包括一第一填充層與一第二填充層，該第一填充層係形成於該第一助著層與該第二助著層之間，該第二填充層係形成於該第二助著層與該第三助著層之間，且該方法另包括利用一黏著層，將一阻障層黏著於該第三助著層上，其中該第三助著層具有一平坦表面。
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