TWI451116B - 光學膜組合及應用該光學膜組合的電子裝置 - Google Patents

Description

光學膜組合及應用該光學膜組合的電子裝置

本發明係關於一種光學膜組合及應用該光學膜組合的電子裝置，尤其關於一種具有鏡面效果的光學膜組合及應用該光學膜組合的電子裝置。

習知電子產品(如手機、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或具有金屬效果的膜層而使產品外觀具有金屬光澤或金屬鏡面效果，從而吸引消費者眼球。然而隨著消費者對美的追求越來越高，單一的僅殼體具有金屬光澤的效果已不能滿足消費者的需求。由於人們在使用電子產品時常接觸的介面為光學膜組合，若使電子產品的光學膜組合亦具有金屬光澤或金屬鏡面效果，則會大大提升產品的外觀競爭力及附加價值。作為應用於電子產品的光學膜組合，首先要滿足不能遮罩電磁波的條件，以保持產品的正常功能；且由於光學膜組合為人機交流的介面，又要求其在使用狀態時具有高透光性。然而在所述光學膜組合上鍍覆金屬層或具金屬效果的膜層時必定會降低光學膜組合的透光性。如何使電子產品的光學膜組合在不遮罩電磁波的條件下，既具有金屬鏡面效果又具有高透光性，一直為電子產品製造界的一個挑戰。

鑒於以上情況，有必要提供一種不遮罩電磁波、且具有金屬鏡面效果及高透光性的光學膜組合。

另，還有必要提供一種應用上述光學膜組合的電子裝置。

一種光學膜組合，其包括一透明基體，該光學膜組合還包括形成於透明基體二相對表面的光透增強層及一不導電金屬層，該不導電金屬層形成於其中一光透增強層的表面，每一所述光透增強層為二氧化矽或二氧化鈦膜，其厚度為80-200nm。

一種電子裝置，其包括一本體及一光學膜組合，所述本體設置有一顯示器，該光學膜組合蓋設於本體的顯示器上；所述光學膜組合包括一透明基體，該光學膜組合還包括形成於透明基體二相對表面的光透增強層及一不導電金屬層，每一所述光透增強層為二氧化矽或二氧化鈦膜，其厚度為80-200nm，該不導電金屬層形成於其中一光透增強層的表面，所述光學膜組合形成有不導電金屬層的一面遠離所述顯示器，該顯示器發出的光線依次經過一光透增強層、透明基體、另一光透增強層及不導電金屬層透射出來。

相較於習知技術，本發明光學膜組合在透明基體上設置一不導電金屬層，當所述電子裝置在未使用狀態時，該光學膜組合的不導電金屬層對光線具有高反射性，從而呈現出金屬鏡面效果，增強了光學膜組合的外觀性；當電子裝置在使用狀態時，所述光學膜組合的不導電金屬層又具有光穿透性，且藉由透明基體二相對表面光透增強層的設置來增強不導電金屬層對光線的穿透，使人眼更易於閱讀和觀覽資訊。且由於光學膜組合的不導電金屬層不導電，其對不會遮罩電磁波，不影響電子裝置的正常使用功能。

10‧‧‧光學膜組合

11‧‧‧基體

12‧‧‧第一光透增強層

13‧‧‧底漆層

15‧‧‧第二光透增強層

17‧‧‧不導電金屬層

19‧‧‧面漆層

20‧‧‧電子裝置

21‧‧‧本體

圖1為本發明一較佳實施方式光學膜組合的剖視示意圖。

圖2為本發明一較佳實施方式電子裝置的示意圖。

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖與實施例對本發明進行進一步詳細說明。

請參閱圖1所示，本發明較佳實施方式的光學膜組合10包括一基體11、形成於基體11二相對表面的第一光透增強層12及一底漆層13、結合於底漆層13上的第二光透增強層15、結合於第二光透增強層15上的不導電金屬層17及塗覆於不導電金屬層17上的面漆層19。

基體11為透明的塑膠基體，其可以注塑成型的方式製成。注塑該基體11的塑膠可選自為聚丙烯(PP)、聚醯胺(PA)、聚碳酸酯(PC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中的任一種。基體11亦可為玻璃基體。

第一光透增強層12為二氧化矽或二氧化鈦膜，其可以由真空蒸鍍的方法製成。蒸鍍時，使用二氧化矽或二氧化鈦作為靶材。該第一光透增強層12的厚度可為80-200nm。所述第一光透增強層12亦可為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層。所述低折射率材料可為二氧化矽或三氧化氯，高折射率材料可為五氧化三鈦、氧化鋯或五氧化二鉭。

底漆層13可為透明的紫外光固化漆膜，也可以為丙烯酸樹脂漆膜。該底漆層13可增強第二光透增強層15與基體11的結合力及不導 電金屬層17的光亮度，其厚度可在1-30μm之間。

第二光透增強層15的結構及厚度可與第一光透增強層12相同。當本發明光學膜組合10應用於所述電子裝置並在使用狀態時，所述第一光透增強層12及第二光透增強層15可增強電子裝置的顯示器所發出的光線對不導電金屬層17的透過率(其光透過率在15-65%之間)，從而使人眼能夠清晰的閱讀和觀覽咨訊。

不導電金屬層17為以真空蒸鍍的方式形成的膜層。形成不導電金屬層17的材料可選自銦、錫、鋁、鈦、碳化鈦、鋁矽及不銹鋼等材料中的任意一種。該不導電金屬層17具有金屬質感外觀，其厚度在0.01-10μm之間。由於不導電金屬層17的不導電性，其對無線射頻的傳輸或接收不會產生干擾(即不遮罩電磁波或具有良好的電磁波穿透性能)。當本發明光學膜組合10在未使用狀態時，該不導電金屬層17對外部光線具有較高的反射性(其反射率在20-75%之間)，從而使其呈現出金屬鏡面的效果；而當光學膜組合10在使用狀態時，該不導電金屬層17具有光線可穿透性。

所述第一光透增強層13、第二光透增強層15、不導電金屬層17的設置及其厚度的選擇可藉由光學膜系的數值計算軟體計算出光譜曲線後而確定。

面漆層19為一透明的保護漆膜，其厚度可為10-50μm。該面漆層19可以為透明的紫外光固化漆，其具有較高的硬度以起到較好的表面保護作用。所述面漆層19中亦可添加彩色顏料，以使光學膜組合10的外觀更美觀。

可以理解的，所述底漆層13可以省略，即第二光透增強層15直接 形成於透明基體11相對於第一光透增強層12的表面。

可以理解的，當所述不導電金屬層17具有較高硬度時，所述面漆層19亦可以省略。

請參閱圖2所示，本發明較佳實施方式的電子裝置20包括一本體21及蓋設於本體21上的光學膜組合10。所述本體21上設置有一顯示器(圖未示)。所述光學膜組合10包括一基體11、形成於基體11二相對表面的第一光透增強層12及一底漆層13、結合於底漆層13上的第二光透增強層15、結合於第二光透增強層15上的不導電金屬層17及塗覆於不導電金屬層17上的面漆層19。該光學膜組合10蓋設於本體21的顯示器上，且光學膜組合10上形成有不導電金屬層17的一面遠離該顯示器。所述本體21的顯示器發出的光線依次經過光學膜組合10的第一光透增強層12、透明基體11、底漆層13、第二光透增強層15、不導電金屬層17及面漆層19透射出來。所述本體21可為手機、PDA、MP3或MP4的本體。

本發明較佳實施方式的光學膜組合10在透明基體11上設置一不導電金屬層17，當所述電子裝置20在未使用狀態時，該光學膜組合10的不導電金屬層17對光線具有高反射性，從而呈現出金屬鏡面效果，增強了光學膜組合10的外觀性；當所述電子裝置20在使用狀態時，所述光學膜組合10的不導電金屬層17又具有光穿透性，且藉由第一光透增強層13及第二光透增強層15的設置來增強不導電金屬層17對電子裝置20的顯示器所發出的光線的穿透，使人眼更易於閱讀和觀覽資訊。且由於光學膜組合10的不導電金屬層17不導電，其不會遮罩電磁波，不影響電子裝置20的正常使用功能。

綜上所述，本發明符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，舉凡熟悉本案技藝之人士，於爰依本發明精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下之申請專利範圍內。

10‧‧‧光學膜組合

11‧‧‧基體

12‧‧‧第一光透增強層

13‧‧‧底漆層

15‧‧‧第二光透增強層

17‧‧‧不導電金屬層

19‧‧‧面漆層

Claims (9)

1. 一種光學膜組合，其包括一透明基體，其中該光學膜組合還包括形成於透明基體二相對表面的光透增強層及一不導電金屬層，該不導電金屬層形成於其中一光透增強層的表面，每一所述光透增強層為二氧化矽或二氧化鈦膜，其厚度為80-200nm。
2. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜組合，其中每一所述光透增強層為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層。
3. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜組合，其中所述不導電金屬層以真空蒸鍍的方式形成，該不導電金屬層的材料選自於銦、錫、鋁、鈦、碳化鈦、鋁矽及不銹鋼中的任一種。
4. 如申請專利範圍第3項所述的光學膜組合，其中所述不導電金屬層的厚度為0.01-10μm。
5. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜組合，其中所述透明基體的一表面形成有一底漆層，所述其中一光透增強層結合於該底漆層。
6. 如申請專利範圍第5項所述的光學膜組合，其中所述底漆層為透明的紫外光固化漆膜或丙烯酸樹脂漆膜，該底漆層的厚度在1-30μm之間。
7. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜組合，其中所述不導電金屬層上形成有一面漆層，該面漆層的厚度為10-50μm。
8. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜組合，其中所述透明基體的材料為塑膠或玻璃。
9. 一種電子裝置，其包括一本體及一光學膜組合，所述本體設置有一顯示器，該光學膜組合蓋設於本體的顯示器上；所述光學膜組合包括一透明基體，其中該光學膜組合還包括形成於透明基體二相對表面的光透增強 層及一不導電金屬層，每一所述光透增強層為二氧化矽或二氧化鈦膜，其厚度為80-200nm，該不導電金屬層形成於其中一光透增強層的表面，所述光學膜組合形成有不導電金屬層的一面遠離所述顯示器，該顯示器發出的光線依次經過一光透增強層、透明基體、另一光透增強層及不導電金屬層透射出來。