TWI439764B - 液晶顯示裝置及濾光基板 - Google Patents

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Description

液晶顯示裝置及濾光基板
本揭示內容是有關於一種液晶顯示裝置，且特別是有關一種用於廣視角之液晶顯示裝置。
目前的市場上，液晶顯示螢幕因為成本低、顯示效果佳且技術穩定成為主流的數位顯示裝置。隨著液晶顯示技術的發展，各種形式的顯示技術不斷推出，例如扭轉式向列場效應式(Twisted Nematic,TN)與多區域垂直配向式(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)的液晶顯示器。
在液晶顯示模組中，由於液晶盒(LC Cell)夾在上下的透明導電膜之間，其液晶的運動型態，受到上下透明導電膜之間電場與電力線所控制，配合上下偏光膜片，可使來自背光源的光線具有透過性的變化。
但是在高解析度的廣視角液晶顯示器，其像素單元非常小，例如，一個具有800 x 480解析度的3.5吋液晶顯示器，其單一個像素單元大小僅有34.5um x 103.5um，使得光線能透過像素單元的比例(即開口率)很低，以傳統的五道光罩製程來說，開口率約僅有38%。
在MVA技術中，透明導電膜上會設置有彎曲波浪狀的突起物，然而，上述突起物會造成面板其透過率上的損失。為了提高像素的透過率，目前，廣視角顯示方式可採用圖案垂直配向式(Patterned Vertical Alignment,PVA)，而避免使用具備彎曲波浪狀的突起物的MVA技術。主要原因是MVA技術中的突起物會損失透過率，且其外型尺寸受限於光阻與曝光製程而無法微小化(最小寬度約為16um)。相較之下，PVA技術採用具有狹縫或圓洞等狹縫結構(ITO slit)的透明導電膜，其寬度可以達到10um以下。
舉實例來說，採用圓形突起物的MVA技術與採用狹縫或圓洞的PVA技術，在4吋具有800x480解析度的液晶顯示器上的透過率之差異可能超過10%。
但是在PVA製程中，對彩色濾光片基板的透明導電膜進行圖案化(開設狹縫或圓洞)製程後，這些圓洞或狹縫會讓外界的電場或電力線，進入液晶層內，干擾液晶層當中的液晶行為。尤其是平面切換式(In-Plane Switching,IPS)或邊界電場切換(Fringe Field Switching,FFS)等水平電場廣視角液晶顯示器，其彩色濾光片上並沒有透明導電膜，液晶盒非常容易受到外界的電場、電力線的干擾。例如手指觸摸該液晶顯示器時，手指上的靜電荷會殘留在液晶顯示器表面，而這些靜電荷會持續性干擾液晶顯示器的正常顯示，使該區面板偏白或不均。
也就是說，在濾光基板之透明導電膜上開設有狹縫或圓洞(ITO slit)的各種顯示面板，雖然可能具有較高透過率且厚度較薄的優點，但液晶層的顯示效果容易因為外部進入之電場或表面上靜電荷累積而受到影響。
為了解決上述問題，部份廠商提出在彩色濾光片基板的外部表面增加一透明導電膜並連接至一電位，上述方法雖然可以具有導散靜電與電場屏蔽的效果，但是此背面製程方式，往往無法由現有設備機台完成，需要另外進行設備投資與改造。此外，在彩色濾光片基板的外部表面上設置透明導電膜(例如銦錫氧化物ITO導電膜)很可能在製造過程中或使用者操作時發生刮傷或損壞，影響產品的良率與使用壽命。
為解決上述問題，本揭示文件所提出的一種濾光基板及其製造方法，其在濾光基板的內側進行屏蔽設計，可對應多種具有狹縫或圓洞等狹縫結構(ITO slit)設計的顯示面板，例如圖案垂直配向式(Patterned Vertical Alignment,PVA)、平面切換式(In-Plane Switching,IPS)或邊界電場切換(Fringe Field Switching,FFS)等，用以解決顯示面板上的靜電荷干擾顯示問題，且不需採用濾光基板的背面製程，故不需額外進行設備投資與改造，可節省成本。
本揭示內容之一態樣是在提供一種濾光基板，其用於液晶顯示裝置中。該濾光基板包含玻璃基板、遮光矩陣、彩色層、第一透明導電膜以及第二透明導電膜。其中，遮光矩陣設置於該玻璃基板與該彩色層之間。第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，狹縫結構分別對應該彩色層。第二透明導電膜與第一透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側。
根據本揭示內容之一實施例，液晶顯示裝置另包含下基板以及液晶層，液晶層設置於濾光基板與下基板之間，該第二透明導電膜用以對應該液晶層形成完整屏蔽面。於此實施例中，其中該第二透明導電膜設置於該彩色層與該液晶層之間。
根據本揭示內容之一實施例，其中該第二透明導電膜設置於該玻璃基板與該遮光矩陣之間。
根據本揭示內容之一實施例，其中該第二透明導電膜設置於該遮光矩陣與該彩色層之間。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種濾光基板製造方法，其包含下列步驟：於一玻璃基板上沉積一第二透明導電膜；於該第二透明導電膜上沉積一遮光矩陣；製作一彩色層於該第二透明導電膜與該遮光矩陣上；製作一平坦層以覆蓋該彩色層與該遮光矩陣；以及，製作圖案化之一第一透明導電膜於該平坦層上，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種濾光基板製造方法，其包含下列步驟：於一玻璃基板上沉積一遮光矩陣；於該玻璃基板與該遮光矩陣上沉積一第二透明導電膜；製作一彩色層於該第二透明導電膜與該遮光矩陣上；製作一平坦層以覆蓋該彩色層與該第二透明導電膜；以及，製作圖案化之一第一透明導電膜於該平坦層上，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種濾光基板製造方法，其包含下列步驟：於一玻璃基板上沉積一遮光矩陣；製作一彩色層於該玻璃基板與該遮光矩陣上；於該遮光矩陣與該彩色層上沉積一第二透明導電膜；製作一平坦層以覆蓋該第二透明導電膜；以及，製作圖案化之一第一透明導電膜於該平坦層上，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種濾光基板，其用於一液晶顯示裝置中，該濾光基板包含玻璃基板、遮光矩陣、彩色層以及透明導電膜。遮光矩陣設置於該玻璃基板與該彩色層之間，該彩色層採用一高導電率材料。透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層，於該濾光基板之一邊框區域內該透明導電膜電性連接至該彩色層，該彩色層與該透明導電膜共同形成一完整屏蔽面。
根據本揭示內容之一實施例，其中該彩色層所採用之該高導電率材料之電阻率小於105 歐姆-公分。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種液晶顯示裝置，其包含下基板、濾光基板以及液晶層。其中，濾光基板包含玻璃基板、彩色層、遮光矩陣、第一透明導電膜以及第二透明導電膜。遮光矩陣設置於該玻璃基板與該彩色層之間。第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。第二透明導電膜與該第一透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側。液晶層設置於該濾光基板與該下基板之間，該第二透明導電膜用以對應該液晶層形成一完整屏蔽面。
根據本揭示內容之一實施例，其中該第二透明導電膜設置於該彩色層與該液晶層之間。
根據本揭示內容之一實施例，其中該第二透明導電膜設置於該玻璃基板與該遮光矩陣之間。
根據本揭示內容之一實施例，其中該第二透明導電膜設置於該遮光矩陣與該彩色層之間。
本揭示內容之另一態樣是在提供一種液晶顯示裝置，其包含下基板、濾光基板以及液晶層。濾光基板包含玻璃基板、彩色層、遮光矩陣以及透明導電膜。彩色層採用一高導電率材料。遮光矩陣設置於該玻璃基板與該彩色層之間。透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層，於該濾光基板之一邊框區域內該透明導電膜電性連接至該彩色層。液晶層設置於該濾光基板與該下基板之間，該彩色層與該透明導電膜共同形成一完整屏蔽面對應該液晶層。
根據本揭示內容之一實施例，其中該彩色層所採用之該高導電率材料之一電阻率小於105 歐姆-公分。
請參閱第1圖，其繪示根據本揭示文件之第一實施例中一種液晶顯示裝置200及其濾光基板100的剖面示意圖。於此實施例中，液晶顯示裝置200包含濾光基板100、液晶層220以及下基板240。
如第1圖所示，濾光基板100可配合用於液晶顯示裝置200的畫素結構設計中，實際應用中，下基板240可用來設置顯示驅動電路所需要的薄膜電晶體電路，但本發明並不以此為限。液晶層220設置於濾光基板100與下基板240之間。
於此實施例中，如第1圖所示，濾光基板100在液晶顯示裝置200的顯示區域202內包含玻璃基板120、遮光矩陣122、彩色層124R,124G,124B、第一透明導電膜140以及第二透明導電膜160。
此外，濾光基板100在液晶顯示裝置200的邊框區域204內可透過特定的封裝結構206與下基板240連接，其為習知技藝之人所熟知，在此不另贅述，本實施例中主要針對濾光基板100於顯示區域202的部份進行設計。
實際應用中，濾光基板100通常為液晶顯示裝置200中的上基板，也就是說，濾光基板100經常位為顯示器的外部表面上。於第1圖中，濾光基板100的上方即為液晶顯示裝置200的外部表面，使用者可能以手指或其他物體碰觸濾光基板100之玻璃基板120的外側(於此圖式中為上方)表面。
其中，遮光矩陣122設置於玻璃基板120之內側(於此圖式中為下方)，遮光矩陣122用以區隔不同像素之間或不同顏色的顯示區間，並可防止非預期的光線洩露。彩色層124R,124G,124B設置於玻璃基板120之內側(於此圖式中為下方)，並且彩色層124R,124G,124B的一部份係分別介於兩遮光矩陣122之間，藉此形成紅色、綠份、藍色等不同顏色顯示區域，配合不同的灰階亮度，以組成像素顯示。
於此實施例中，第一透明導電膜140上具有至少一個狹縫結構142，狹縫結構142分別對應彩色層124R,124G,124B，於此實施例中，狹縫結構142可為長形狹縫或圓洞形狀，本發明並不以特定形狀為限。
舉例來說，實際應用中，圖案垂直配向式(Patterned Vertical Alignment,PVA)的液晶顯示裝置200中的透明導電膜即具有上述狹縫結構142，藉此，以形成較快速的畫素反應效果及高對比，關於PVA顯示技術的細節為習知技藝之人所熟知，在此不另贅述。
然而，手指觸摸該液晶顯示裝置200(即玻璃基板120的外側表面)時，手指上的靜電荷可能會殘留在玻璃基板120上，而在傳統的設計中，這些靜電荷產生之電場可能會通過第一透明導電膜140上的狹縫結構142，進而持續性干擾液晶顯示裝置200的正常顯示，使該區面板偏白或不均。
於本揭示文件中，濾光基板100中包含第二透明導電膜160，第二透明導電膜160設置於玻璃基板120之內側(於此圖式中為下方)以及遮光矩陣122與彩色層124R,124G,124B之外側(於此圖式中為上方)。
第二透明導電膜160本身具有導電特性，可用以對應液晶層220形成完整屏蔽面，藉此，屏蔽外界的電場對液晶顯示裝置200的液晶層220發生干擾。
須補充的是，於本揭示文件中，第二透明導電膜160與第一透明導電膜140皆位於玻璃基板120之內側。因此，本揭示文件之作法不需採用濾光基板100的背面製程，故不需額外進行設備投資與改造，可節省成本。
此外，在實際應用的製程中，濾光基板100可更包含平坦層126，於此實施例中，平坦層126設置於遮光矩陣122與彩色層124R,124G,124B之內側，且位於第一透明導電膜140的外側。
請一併參閱第2圖，其繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖，此濾光基板製造方法可用以製造先前第一實施例中濾光基板100(如第1圖所示)。
如第2圖所示(請同時參照第1圖)，本揭示文件之濾光基板製造方法首先執行步驟S102，於玻璃基板上沉積第二透明導電膜。接著，執行步驟S104，於第二透明導電膜上沉積遮光矩陣，藉以隔開不同像素或不同顏色之顯示區間。接著，執行步驟S106，製作彩色層於該第二透明導電膜與該遮光矩陣上，例如，以黃光製程分別製作紅色、綠色、藍色等彩色層。
接著，執行步驟S108，製作平坦層以覆蓋彩色層與遮光矩陣。最後，執行步驟S110，製作圖案化之第一透明導電膜於平坦層上，圖案化之第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，上述狹縫結構分別對應彩色層。
如本揭示文件所提出的第一實施例中的一種濾光基板及其製造方法，其在濾光基板的內側設置第二透明導電膜以進行屏蔽設計，可對應多種具有狹縫或圓洞等狹縫結構(ITO slit)設計的顯示面板，例如PVA、平面切換式(In-Plane Switching,IPS)或邊界電場切換(Fringe Field Switching,FFS)等，用以解決顯示面板上的靜電荷干擾顯示問題，且不需採用濾光基板的背面製程，故不需額外進行設備投資與改造，可節省成本。
於上述第一實施例中，第二透明導電膜160係設置於玻璃基板120之內側以及遮光矩陣122與彩色層124R,124G,124B之外側，但本發明並不以此為限。
請參閱第3圖與第4圖，第3圖繪示根據本揭示文件之第二實施例中一種濾光基板102設置於液晶顯示裝置200中的剖面示意圖。第4圖繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖，此濾光基板製造方法可用以製造第二實施例中濾光基板102(如第3圖所示)。
如第3圖所示，濾光基板102在液晶顯示裝置200的顯示區域202內包含玻璃基板120、遮光矩陣122、彩色層124R,124G,124B、第一透明導電膜140以及第二透明導電膜160。
須特別說明的是，在第二實施例中濾光基板102的第二透明導電膜160設置於玻璃基板120與遮光矩陣122之內側以及彩色層124R,124G,124B之外側，如第3圖所示。第二透明導電膜160本身具有導電特性，可用以對應液晶層220形成完整屏蔽面，藉此，屏蔽外界的電場對液晶顯示裝置200的液晶層220發生干擾。
關於第二實施例中濾光基板102的其他結構上的設計與用途，大致與第一實施例相同，可參考第一實施例，在此不另贅述。
如第4圖所示(請同時參照第3圖)，本揭示文件之濾光基板製造方法首先執行步驟S202，於玻璃基板上沉積遮光矩陣，藉以隔開不同像素或不同顏色之顯示區間。接著，執行步驟S204，於玻璃基板與遮光矩陣上沉積第二透明導電膜。接著，執行步驟S206，製作彩色層於第二透明導電膜與遮光矩陣上，例如，以黃光製程分別製作紅色、綠色、藍色等彩色層。接著，執行步驟S208，製作平坦層以覆蓋該彩色層與該第二透明導電膜。最後，執行步驟S210，製作圖案化之第一透明導電膜於該平坦層上，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。
此外，請參閱第5圖與第6圖，第5圖繪示根據本揭示文件之第三實施例中一種濾光基板104設置於液晶顯示裝置200中的剖面示意圖。第6圖繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖，此濾光基板製造方法可用以製造第三實施例中濾光基板104(如第5圖所示)。
如第5圖所示，濾光基板104在液晶顯示裝置200的顯示區域202內包含玻璃基板120、遮光矩陣122、彩色層124R,124G,124B、第一透明導電膜140以及第二透明導電膜160。
須特別說明的是，在第二實施例中濾光基板104的第二透明導電膜160設置於玻璃基板120、遮光矩陣122以及彩色層124R,124G,124B之內側，如第5圖所示。第二透明導電膜160本身具有導電特性，可用以對應液晶層220形成完整屏蔽面，藉此，屏蔽外界的電場對液晶顯示裝置200的液晶層220發生干擾。
關於第三實施例中濾光基板104的其他結構上的設計與用途，大致與第一實施例相同，可參考第一實施例，在此不另贅述。
如第6圖所示(請同時參照第5圖)，本揭示文件之濾光基板製造方法首先執行步驟S302，於玻璃基板上沉積遮光矩陣，藉以隔開不同像素或不同顏色之顯示區間。接著，執行步驟S304，製作一彩色層於該玻璃基板與該遮光矩陣上，例如，以黃光製程分別製作紅色、綠色、藍色等彩色層。接著，執行步驟S306，於該遮光矩陣與該彩色層上沉積一第二透明導電膜。接著，執行步驟S308，製作一平坦層以覆蓋該第二透明導電膜。最後，執行步驟S310，製作圖案化之第一透明導電膜於該平坦層上，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層。
如上述的第一、第二與第三實施例中的一種濾光基板及其製造方法，其在濾光基板的內側設置第二透明導電膜以進行屏蔽設計，可對應多種具有狹縫或圓洞等狹縫結構(ITO slit)設計的顯示面板，例如PVA、平面切換式(In-Plane Switching,IPS)或邊界電場切換(Fringe Field Switching,FFS)等，用以解決顯示面板上的靜電荷干擾顯示問題，且不需採用濾光基板的背面製程。然而，本揭示文件並不以設置第二透明導電膜為限。
請參照第7圖，第7圖繪示根據本揭示文件之第四實施例中一種液晶顯示裝置200及其濾光基板106的剖面示意圖。第8圖繪示根據本揭示文件之第四實施例中一種濾光基板106設置於液晶顯示裝置200中的於另一方向的剖面示意圖。於此實施例中，第7圖與第8圖可分別為水平方向與垂直方向的剖面圖。
如第7圖所示，第四實施例中濾光基板106可用於液晶顯示裝置200中，濾光基板106包含玻璃基板120、遮光矩陣122、彩色層124R,124G,124B以及透明導電膜140。遮光矩陣122設置於玻璃基板120之內側。彩色層124R,124G,124B設置於該玻璃基板120之內側且部份設置於遮光矩陣122之間，彩色層124R,124G,124B採用高導電率材料。透明導電膜140上具有至少一個狹縫結構142，狹縫結構142分別對應彩色層124R,124G,124B。
須注意的是，第四實施例中並未設置兩層透明導電膜，而是利用透明導電膜140與彩色層124R,124G,124B配合共同形成完整屏蔽面，以避免外界對液晶層220發生干擾。
於第四實施例中，彩色層124R,124G,124B採用高導電率材料，即低電阻率之材料，於一較佳的實施例中，彩色層124R,124G,124B所採用之該高導電率材料之一電阻率小於105 歐姆-公分，甚至更進一步小於104 或103 歐姆-公分。舉例來說，彩色層124R,124G,124B採用高導電率材料可為有機高導電材料(如五環素材料)或掺雜導電元素(如鉻或鎢)的半導體材料等。
此外，舉例來說，第8圖可為垂直方向的剖面圖，而第8圖中左側的邊框區域204可示意為液晶顯示裝置200上方的邊框區域204。如第8圖所示，於第四實施例中，在濾光基板106於邊框區域204內不設置平坦層126，藉此使透明導電膜140可以直接接觸具有高導電率的彩色層124R,124G,124B，如此一來，如此一來，透明導電膜140可與高導電率的彩色層124R,124G,124B電性連接，彩色層124R,124G,124B與透明導電膜140共同形成完整屏蔽面。
如此一來，第四實施例中的一種濾光基板其內側利用原有的透明導電膜與彩色層配合以進行屏蔽設計，可對應多種具有狹縫或圓洞等狹縫結構(ITO slit)設計的顯示面板，例如PVA、平面切換式(In-Plane Switching,IPS)或邊界電場切換(Fringe Field Switching,FFS)等，用以解決顯示面板上的靜電荷干擾顯示問題，且不需採用濾光基板的背面製程。
雖然本揭示內容已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭示內容之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭示內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100、102、104、106．．．濾光基板
124R、124G、124B．．．彩色層
120．．．玻璃基板
122．．．遮光矩陣
140．．．第一透明導電膜
160．．．第二透明導電膜
126．．．平坦層
142．．．狹縫結構
200．．．液晶顯示裝置
206．．．封裝結構
202．．．顯示區域
204．．．邊框區域
220．．．液晶層
240．．．下基板
S102~S110．．．步驟
S302~S310．．．步驟
S202~S210．．．步驟
為讓本揭示內容之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：
第1圖繪示根據本揭示文件之第一實施例中一種液晶顯示裝置及其濾光基板的剖面示意圖；
第2圖繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖；
第3圖繪示根據本揭示文件之第二實施例中一種濾光基板設置於液晶顯示裝置中的剖面示意圖；
第4圖繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖；
第5圖繪示根據本揭示文件之第三實施例中一種濾光基板設置於液晶顯示裝置中的剖面示意圖；
第6圖繪示根據本揭示文件之一實施例中一種濾光基板製造方法的方法流程圖；
第7圖繪示根據本揭示文件之第四實施例中一種液晶顯示裝置及其濾光基板的剖面示意圖；以及
第8圖繪示根據本揭示文件之第四實施例中一種濾光基板設置於液晶顯示裝置中的於另一方向的剖面示意圖。
100．．．濾光基板
124R、124G、124B．．．彩色層
120．．．玻璃基板
122．．．遮光矩陣
140．．．第一透明導電膜
160．．．第二透明導電膜
126．．．平坦層
142．．．狹縫結構
200．．．液晶顯示裝置
206．．．封裝結構
202．．．顯示區域
204．．．邊框區域
220．．．液晶層
240．．．下基板

Claims (7)

  1. 一種濾光基板，其用於一液晶顯示裝置中，該濾光基板包含：一玻璃基板；一彩色層；一遮光矩陣，設置於該玻璃基板與該彩色層之間；一第一透明導電膜，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層；以及一第二透明導電膜，其中該彩色層、該遮光矩陣、該第二透明導電膜與該第一透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側，該第二透明導電膜用以對應該液晶層形成一完整屏蔽面，該第二透明導電膜設置於該遮光矩陣與該彩色層之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之濾光基板，其中該液晶顯示裝置另包含一下基板以及一液晶層，該液晶層設置於該濾光基板與該下基板之間。
  3. 一種濾光基板，其用於一液晶顯示裝置中，該濾光基板包含：一玻璃基板； 一彩色層，該彩色層採用一高導電率材料；一遮光矩陣，設置於該玻璃基板與該彩色層之間；一透明導電膜，該透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層，於該濾光基板之一邊框區域內該透明導電膜電性連接至該彩色層，該彩色層與該透明導電膜共同形成一完整屏蔽面，該彩色層、該遮光矩陣與該透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之濾光基板，其中該彩色層所採用之該高導電率材料之一電阻率小於105 歐姆-公分。
  5. 一種液晶顯示裝置，包含：一下基板；一濾光基板，其包含：一玻璃基板；一彩色層；一遮光矩陣，設置於該玻璃基板與該彩色層之間；一第一透明導電膜，該第一透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層；以及 一第二透明導電膜，其中該彩色層、該遮光矩陣、該第二透明導電膜與該第一透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側，該第二透明導電膜設置於該遮光矩陣與該彩色層之間；一液晶層，該液晶層設置於該濾光基板與該下基板之間，該第二透明導電膜用以對應該液晶層形成一完整屏蔽面。
  6. 一種液晶顯示裝置，包含：一下基板；一濾光基板，其包含：一玻璃基板；一彩色層，該彩色層採用一高導電率材料；一遮光矩陣，設置於該玻璃基板與該彩色層之間；一透明導電膜，該透明導電膜上具有至少一個狹縫結構，該至少一個狹縫結構分別對應該彩色層，於該濾光基板之一邊框區域內該透明導電膜電性連接至該彩色層，該彩色層、該遮光矩陣與該透明導電膜皆位於該玻璃基板之同一側；一液晶層，該液晶層設置於該濾光基板與該下基板 之間，該彩色層與該透明導電膜共同形成一完整屏蔽面對應該液晶層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之液晶顯示裝置，其中該彩色層所採用之該高導電率材料之一電阻率小於105 歐姆-公分。
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