TWI410969B - 包括奈米管交換單元之隨機存取記憶體 - Google Patents

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Description

包括奈米管交換單元之隨機存取記憶體 【相關申請案之交互參考】
本申請案按照35U.S.C.§119(e)主張美國臨時專利申請案第60/612,300號的優先權，其係於2004年9月22日提出申請，標題為包括奈米管交換元件的隨機存取記憶體，在此以參考的方式併入本文。
本申請案係為部份連續案，按照35U.S.C.§120，主張美國專利申請案第10/918,085號之優先權，其係於2004年8月13日提出申請，標題為具有複數個控制之以奈米管為基礎的切換元件，在此以引用的方式併入本文。
本申請案一般係關於奈米管切換電路，尤其係關於可被使用來提供非揮發性儲存功能到其它習知隨機存取記憶體(RAM)的奈米管切換電路。
數位邏輯電路被使用於個人電腦、譬如個人電腦記事簿與計算機的可攜式電子裝置、電子娛樂裝置、以及於應用控制電路、電話切換系統、汽車、航空器與其它製造項目。早期的數位邏輯是從個別雙極性電晶體組成的分離式切換元件所構成。由於本發明的雙極性積體電路，大多數的個別切換元件可被合併在單一矽基板上，以產生完整的數位邏輯電路，譬如反相器、反及閘(NAND gate)、反或閘(NOR gate)、正反器(flip－flop)、加法器(adder)等等。不過，雙極性數位積體電路的密度會受到其高功率消耗與封裝技術能力的限制，以消耗在電路操作時所產生的熱能。使用場效電晶體(〝FET〞)切換元件之金屬氧化半導(〝MOS〞)積體電路明顯降低數位邏輯的功率耗損，並使得使用於現有技術中之高密度、複雜的數位電路能夠被建造。金屬氧化半導數位電路的密度與操作速度仍舊會受到消耗該裝置操作時產生之熱能的必要性限制。
從雙極性或MOS裝置建立的數位邏輯積體電路並不在高熱或極端環境的情況下正確地運行。現有數位積體電路正常下被設計成在小於攝氏100度以及些微超過攝氏200度的溫度下操作。在習知的積體電路中，呈〝關閉〞狀態之個別切換元件的漏電流會隨著溫度快速地增加。隨著漏電流的增加，該裝置的操作溫度會上升，該電路的耗損功率會增加，且區分關閉狀態與開啟狀態的困難度會降低電路可靠度。因為電流產生於半導體材料裡面，所以當習知數位邏輯電路處於某些極端環境時，其內部亦會短路。可能可用特殊裝置與絕緣技術來製造積體電路，以致使當它們暴露到此些環境時還能操作，但是這些裝置的高成本會限制住其有效性與與實用性。此外，此數位電路呈現出與其標準配對物的時序差，其係需要額外的設計證明以添加保護到現存設計。
從雙極性或FET切換元件任一者所構成的積體電路是具揮發性的。它們僅僅在供電到裝置時維持其內部邏輯狀態。當電力移除時，內部狀態會耗損，除了譬如EEPROM(電性可拭除可程式唯讀記憶體)的某種非揮發性記憶體電路被添加到該裝置內部或外部以維持邏輯狀態以外。即使非揮發性記憶體可被使用來維持邏輯狀態，但是在電力耗損以前額外的電路必須將數位邏輯狀態轉換成記憶體，並在將電力儲存到裝置時，儲存個別邏輯電路的狀態。避免在揮發性數位電路中遺失資訊的替代性方法，譬如電池備份，亦同樣地增加數位設計的成本與複雜性。
在電子裝置中邏輯電路的重要特徵係為低成本、高密度、低功率與高速度。習知的邏輯辦法受限於矽基板，但是在單一步驟中，建立在其它基板上的邏輯電路將允許邏輯裝置直接被整合入許多製造產品內，以進一步降低成本。
使用奈米層級(nanoscopic)佈線的裝置已經被提出，譬如單壁奈米碳管，以形成縱橫閂接合(crossbar junction)來當作記憶胞。(見WO01/03208，以奈米層級佈線為基礎的裝置、陣列與其製造方法；以及Thomas Rueckes等人的〝用於分子計算之以碳奈米管為基礎的非揮發性隨機存取記憶體〞科學，2000年7月7日，第289冊，第94－97頁。)在下文，這些裝置稱為奈米管佈線縱橫閂記憶體(NTWCMs)。在這些提案下，懸置在其它佈線上的個別單壁奈米管佈線定義出記憶胞。電信號被寫到一或兩佈線，以使它們實質上彼此相吸或互斥。每一實質狀態(亦即，相吸或相斥佈線)對應一電性狀態。相斥的佈線是一開路接合。相吸的佈線是形成整流接合的關閉狀態。當從該接合移除電功率時，該些佈線會保留住其實質(與電性)狀態，從而形成一非揮發性記憶胞。
除了別的以外，美國專利公告號2003－0021966揭露出機電電路，譬如記憶胞，其中電路包括一具有從基板表面延伸之導電軌道與支撐的結構。可機電性變形或切換的奈米管帶是由越過導電軌道的支撐物所懸置。每一條帶子包含一或更多奈米管。該些帶子基本上由選擇性地從一層或纏結組織的奈米管移除材料。
例如，如在美國專利申請公告號2003－0021966中所揭露的，一奈米組織可被圖案化成諸帶子，且該些帶子可被使用當作產生非揮發性機電記憶胞的成分。該帶子應控制軌道與/或帶子的電性刺激機電性地偏斜。該帶子的偏斜實質狀態可代表相對應的資訊狀態。偏斜、實質狀態具有非揮發性特性，其係意味著雖然到記憶胞的功率被移除，但是帶子仍維持其實質(以及資訊)狀態。如在美國專利公告號2003－0124325中所解釋的，三軌道架構可被使用於機電性記憶胞，其中的兩軌道係為控制帶子偏斜的電極。
數位資訊儲存的機電性雙穩定裝置之使用已經被建立(c.f.US4979149：包括微機械儲存元件的非揮發性記憶體裝置)。
基於碳奈米管(包括其所構成的單層)與金屬電極的雙穩定、奈米電機切換的產生與操作已被詳述於Nantero公司的先前專利申請案中(美國專利案號6574130、6643165、6706402、6784028、6835591、6911682、6919592與6924538；以及美國專利申請案號10/341005、10/341055、10/341054、10/341130與10/776059，其內容在此以引用方式併入本文)。
本發明提供包括奈米管切換元件的隨機存取記憶體。
在本發明的一態樣下，一種記憶胞包括第一與第二奈米管切換元件與電子記憶體。每一奈米管切換元件包括一輸出節點、一具有至少一導電奈米管的奈米管通道元件以及一控制結構，該控制結構具有一設定電極與一釋放電極，配置成相關於奈米管通道元件，以可控制方式形成與不形成該通道電極與該輸出節點之間的導電通道。該電子記憶體具有交叉耦合的第一與第二反相器。第一反相器的輸入節點係耦合到第一奈米管切換元件的設定電極與第二奈米管切換元件的輸出節點。第二反相器的輸入節點係耦合到第二奈米管切換元件的設定電極以及第一奈米管切換元件的輸出節點；而且通道電極耦合到通道電壓線。
在本發明的另一態樣下，第一奈米管切換元件的釋放電極係耦合到第二奈米管切換元件的釋放電極，且其中兩釋放電極係耦合到一釋放線。
在本發明的另一態樣下，第一與第二反相器係為化學金屬氧化半導體反相器。
在本發明的另一態樣下，第一與第二奈米管切換元件係為非揮發性狀態裝置。
在本發明的另一態樣下，第一與第二奈米管切換元件是在使用以製造電子記憶體之電路層上的電路層中被製造。
在本發明的另一態樣下，當電路於電子記憶體模式操作時，通道電壓線被設定成電子記憶體所使用之供應電壓的一半。當電路呈映像記憶體模式操作時，通道電壓線係被設定成奈米管通道切換電壓。在映像記憶體模式(shadow memory mode)中，電子記憶體狀態會轉換成奈米管切換狀態。
在本發明的另一態樣下，當電路呈恢復模式操作時，通道電壓線會被設定成由電子記憶體所使用的供應電壓。在恢復模式中，奈米管切換元件狀態會轉換成電子記憶體狀態。
在本發明的另一態樣下，第一奈米管切換元件的釋放電極係被耦合到第二奈米管切換元件的釋放電極，且兩者會被耦合到一釋放線。在恢復模式將奈米管切換元件狀態轉換成電子記憶體狀態後，該釋放線會被啟動，以重設奈米管切換元件狀態。
本發明的較佳實施例提供切換元件，其中以奈米管為基礎的切換元件包括具有別的習知RAM胞。該奈米管切換元件隨後可被使用來提供非揮發性儲存功能，例如，以當作一映像撞杆。更者，奈米管切換元件之較佳實施例的設計可被包括，以當作已經形成RAM胞頂部上的額外層。
首先，描述奈米管切換元件。第二，解釋此一具有RAM胞元件的整合。
奈米管切換元件
圖1A係為較佳奈米管切換元件100的截面圖。奈米管切換元件包括一具有絕緣層117、控制電極111、輸出電極113c、d的下部份。奈米管切換元件進一步包括一具有釋放電極112、相對輸出電極113a、b、與信號電極114a、b的上部份。奈米管通道元件115放置上部與下部之間，並由其固持。
釋放電極112由導電材料製成，其係並且與奈米管通道元件115相隔一絕緣材料119。通道元件115與絕緣體119的接觸面相隔一間隙高度G102。
相對輸出電極113a、b是由導電材料製成，其係並且藉由絕緣材料119與奈米管通道元件115隔開。
輸出電極113c、d同樣地由導電材料製成，其係並且與奈米管通道元件115相隔一間隙高度G103。要注意的是，該輸出電極113c、d並不由絕緣體覆蓋。
控制電極111係由導電材料製成，並與奈米管通道元件115相隔一絕緣層(或薄膜)118。通道元件115與絕緣體118的接觸面相隔一間隙高度G104。
各接觸奈米管通道元件115與信號電極114a、b接觸，因此可將在信號電極上的任何信號供應到通道元件115。此信號可以是固定參考信號(例如，VD D 或接地)或具變化性的(例如，可改變的布林分離值信號)。電極114a、b中只有一電極需要被連接，但兩者均可被使用來降低有效電阻。
奈米管通道元件115是由多孔組織奈米管製成之微影技術(lithographically)所界定的物件(下文更多)。它被電性連接到信號電極114a、b。電極114a、b與支撐物116將通道元件115擠壓或固持或釘住於任一端，而且它被懸置於輸出電極113a－d與控制電極111與釋放電極112之相關空間的中間。該空間關係是由上述確認的間隙高度G102－G104所界定。就某些實施例而言，通道元件115之懸置部分的長度大約300至350nm。
在某些實施例下，間隙G103、G104、G102的範圍是5－30nm。在末端112、111與113a與113b上的介質例如是在5－30nm的範圍。碳奈米管組織密度例如大約每0.2×0.2 μ m面積10奈米管。奈米管通道元件的懸置長度範圍例如是300至350nm。例如就非揮發性裝置而言，懸置長度對間隙比率大約是比15比，就揮發性操作而言，則小於5。
圖1B係為奈米管切換元件100的平面圖或設計。如此圖所示，電極113b、d係如標記‘X’與項目102所描述地電性互連。同樣地，相對的輸出電極113a、c係如‘X’所描述的互連。在較佳實施例中，電極進一步藉由互連件120互連。全部的輸出電極共同地形成切換元件100的輸出節點113。
根據較佳實施例，圖1A與1B的奈米管切換元件100如圖1C與1D所示地操作。當奈米管通道元件是在圖1C位置122時，奈米管切換元件100明確地呈開啟(關閉)狀態。在此狀態中，經由電極112與通道元件115之間電位差所產生的靜電力，通道元件115被拖入與介質層119機械性地接觸。相對的輸出電極113a、b與通道元件115機械性接觸(但非電性接觸)。當如圖1D所示，通道元件115被延長到位置124時，奈米管切換元件100是呈關閉(開啟)狀態。在此狀態中，經由電極111與通道元件115之間電位差所產生的靜電力，通道元件115被拖入與介質層118機械性地接觸。在區域126，輸出電極113c、d與通道元件115機械性接觸與電性接觸。結果，當通道元件115在位置124時，信號電極114a與114b經由通道元件115與輸出端113c、d電性連接，且在電極114a、b上的信號可經由通道(包括通道元件115)傳送到輸出電極113c、d。
藉由適當地修改奈米管切換元件100的幾何結構，可使奈米管切換元件100起非揮發性或揮發性切換元件的作用。藉由實例，藉由適當地選擇與間隙G104有關的通道元件長度，可使圖1D裝置狀態呈非揮發性(在延長、偏斜通道元件115之回復力中，長度與間隙係為兩參數)。大於5且小於15的長度對間隙比率較佳用於非揮發性裝置；小於5的長度對間隙比率較佳用於揮發性裝置。
奈米管切換元件100係以以下的方式操作。假如信號電極114與控制電極111(或112)的電位差足夠大的話(經由電極上的個別信號)，那麼信號的關係將產生足夠大到使懸置、奈米管通道元件115能偏斜成機械性接觸電極111(或112)的一靜電力。(此操作態樣說明於被併入的專利案參考中。)此偏斜描述於圖1D(與圖1C)中。吸引力將通道元件115奈米管組織拉長且偏斜，直到它接觸電極111的絕緣區域118為止。奈米管通道元件因而被拉緊，並且產生一復原張力，除了別的以外，其係取決於電路的幾何關係。
藉由使用適當的成分幾何結構，該切換元件100隨後會得到圖1D的關閉、導電狀態，在該狀態中，奈米管通道115機械性地接觸控制電極111並且輸出電極113c、d。因為控制電極111覆蓋以絕緣體118，所以電極114上的任何信號會經由奈米管通道成分115，從電極114傳送到輸出電極113。電極114上的信號可以是一變化信號、一固定信號、一參考信號、一供電線或接地線。通道的組成是經由供應到電極111(或112)的信號所控制。施加到控制電極111的信號必須關於電極114上的信號而明確充分不同，以產生靜電力，將奈米管通道元件偏斜，以使得通道元件115偏斜並形成通道於電極114與輸出電極113之間，以致於切換元件100能夠呈關閉(開啟)狀態。
相對之下，假如電極114與控制電極111上之信號關係不夠充分不同的話，那麼奈米管通道元件115就不會偏斜，且沒有任何導電通道被形成到輸出電極113。取而代之地，通道元件115反而被吸引到且實質地接觸釋放電極112上的絕緣層。此開啟(關閉)狀態顯示於圖1C中。奈米管通道元件115具有來自電極114的信號，但此信號並不被傳送到輸出節點113。取而代之地，輸出節點113的狀態取決於其所連接的任何電路以及此電路狀態。當切換元件100呈開啟(關閉)狀態時，在此關係上的輸出節點113狀態不依賴來自信號電極114與奈米管通道元件115的通道元件電壓。
假如控制電極111(或112)與通道元件115之間的電壓差被移除的話，通道元件115則在假設切換元件100被設計為呈揮發性模式來操作的情形下回到非延長狀態，且到輸出節點113之電極115之間的電性連接或路徑會被開啟。
較佳地，假如切換元件100被設計為呈非揮發性模式操作的話，那通道元件則不會以得到圖1A狀態的方式操作。取而代之地，電極111與112會被希望操作，以致於通道元件115將是在圖1C或1D的狀態。
輸出節點113被建構成包括一絕緣結構，其中通道元件115之操作以及該通道之形成對該輸出節點狀態而言是不變的。因為在較佳實施例中，該通道元件應靜電吸引力而機電性地偏斜，所以原則上浮動輸出節點113會具有任何電位。結果，在一輸出節點上的電位係關於通道元件115狀態充分地不同，其係將造成通道元件115的偏斜並且干擾切換元件100與其通道形成的操作；亦即是，通道形成將取決於未知浮動節點狀態。在較佳實施例中，此問題以一輸出節點應付，該輸出節點包括一避免此些干擾形成的絕緣結構。
該奈米管通道元件115明確地配置於相等電位的兩相對配置電極113b、d(以及同樣地113a、c)之間。結果，會有起因於輸出節點上之電壓的相等但相反靜電力。由於該相等與相反靜電力，輸出節點113的狀態無法不顧輸出節點113與奈米管通道元件115上的電壓而造成奈米管通道元件115偏斜。因此，對該輸出節點的狀態而言，該通道的操作與形成是不變的。
上述奈米管切換元件，連同種種替代物，其係更詳細地被解釋於美國專利申請案第10/918,085號，其係於2004年8月13日提出申請，標題為具有複數控制之以奈米管為基礎的切換元件，其係在此以引用方式併入文中。
具有奈米管切換元件的Ram
在較佳的說法中，儲存元件是從例如使用化學金屬氧化半導電晶體的習知儲存胞設計構成，其係具有類似上述之以額外奈米管為基礎的非揮發性切換元件。在較佳說法中，儲存電路使用奈米管的非揮發性切換來操作。
不過，四終端裝置100係為非揮發性，其係同樣地包括一釋放節點R。該輸出具有相反電極。輸入電極I具有一介質層覆蓋於上，如此碳奈米管會與輸入電極實質地接觸但非電性接觸。釋放電極R具有一介質層於下，如此碳奈米管會與釋放電極實質地接觸但非電性接觸。
例如，在靜態隨機存取記憶胞的每一正反器節點上，四終端非揮發性碳奈米管裝置可被當作一映像裝置。這些四終端裝置會於靜態隨機存取記憶體製程結束時或附近被添加，其係並且當電力耗損或被移除時，被使用來儲存資訊。
圖2顯示一具有以正反器為基礎之非揮發性RAM胞的記憶胞200，其具有靜態隨機存取記憶體結構202與各用於正反器胞202之每一節點N1與N2的兩CNT四終端結構204與206。見美國專利申請案第10/918,085號，其係於2004年8月13日提出，標題為具有複數控制之以奈米管為基礎的切換元件。因為碳奈米管可被添加到現存的靜態隨機存取記憶體產品並添加到現存晶圓，所以此實施過程會提供上述的種種優點。以下說明操作情形。此實施過程的操作討論係假定如下：．在儲存操作以前，在靜態隨機存取記憶體操作期間內，碳奈米管(CNT)切換元件204與206係呈釋放狀態(碳奈米管接觸釋放面板R的絕緣體)．供應到碳奈米管通道元件N的碳奈米管電壓VC N T 為VDD/2，以致於FF202不會在儲存操作以前啟動碳奈米管。最初將資料儲存在胞內用的儲存操作係如下：．儲存：．靜態快速存取記憶體操作停止．碳奈米管電壓VC N T 從VD D /2轉換成VS W ，該電壓是切換碳奈米管所必須的。
．碳奈米管切換元件啟動發生於藉由正反器固持於地面的輸入I與轉換成VC N T ＝VS W 的碳奈米管通道元件N之間。碳奈米管切換元件開啟，且電壓VC N T 藉由接觸碳奈米管通道元件N而供應到碳奈米管裝置的輸出電極。該輸出電極被連接到是正的正反器相反側。
．具有輸入電壓＝0的碳奈米管切換元件切換，碳奈米管切換元件輸出是正的，並因此不會干擾正反器狀態。其它的碳奈米管切換元件則仍維持於釋放(OFF)位置。
．供電VD D 變為零奈米管切換元件保留正反器胞的邏輯狀態，尤其例如在假如儲存元件不予以供電或者電力被干擾的情形下。回復來自儲存元件之儲存資料的程序係如下：．回復：將碳奈米管切換元件204與206供電。VC N T ＝VD D 。
靜態隨機存取記憶體會被供電到VD D 。
正反器假定狀態對應非揮發性碳奈米管切換元件的邏輯狀態。
碳奈米管切換元件會被重設到拭除位置(接觸釋放面板上的氧化物)。此乃藉由提高釋放線電壓VR L 到足夠高電壓以克服輸入端與奈米管之間的靜電力來完成。此電壓會大於VD D 。
恢復靜態隨機存取記憶體操作本發明人依據明確施加、速度、電力需求與預期密度來想像揮發性與非揮發性或混合奈米機電設計的額外架構。此外，本發明人預知多壁碳奈米管或奈米佈線被使用當作切換器內接觸點的切換元件。因為該技術節點的尺寸從90nm降到65nm，並降到個別奈米管或奈米佈線尺寸以下，所以發明人預知以伴隨此尺寸降低的可定標性能特徵來改造基本電機切換元件與其操作。
在先前實施例中所示的裝置與物件僅僅為了說明，而其它技術則可被使用來生產相同物或等同物。再者，在仍另一實施例中，所示的物件可替代其它種類的材料與幾何結構。例如，本發明的一些實施例可使用奈米管，而非使用金屬電極。事實上，包含替代上述電極之奈米管與奈米組織物件的裝置亦可被建構。
以上實施例使用以非揮發性方式操作的奈米管切換元件。不管怎樣，奈米組織切換的揮發性操作是在本發明某些說法的範圍內。此外，揮發性與非揮發性元件的協調有利於同時產生邏輯與記憶體功能或者作為總邏輯功能的一部份，或者改善電性特徵；例如，揮發性奈米管切換元件(像非揮發性元件)的上述或合併實施例並不一定會引出直流(DC)電流，並只有當它們切換時消耗電力。
數種裝置的揮發性與非揮發性切換器與切換元件因而可被產生。在某些較佳實施例中，該些物件實質包括單層碳奈米管。在某些實施例中，該些碳奈米管較佳作為單壁碳奈米管。此些奈米管可被調整具有0.2－1000千歐姆/□的電阻，或在一些情形中，從100千歐姆/□至十億歐姆/□。
以下的專利參考適用於產生奈米管組織物件與切換器的種種技術，其係並且讓渡給本申請案的受讓人。全部在此以引用的方式併入文中：美國專利申請案6,919,592號，標題使用奈米管帶的機電記憶體陣列與其製造方法；美國專利申請案6,784,028號，標題製造機電三軌道接合裝置的方法；美國專利申請案6,706,402號，標題奈米管薄膜與物件；美國專利申請案10/341,005號，2003年1月13日提出申請，標題製造碳奈米管薄膜、層、組織、帶子、元件與物件的方法；美國專利申請案10/776,059號，2004年2月11日提出申請，標題具有水平配置奈米組織物件的裝置及其製造方法；以及美國專利6,924,538，標題具有垂直配置奈米組織物件的裝置及其製造方法。
本發明可以其它具體形式來實施，而沒有背離其精神或實質特徵。在諸態樣中，本實施例因此可被視為說明性而非限制性，本發明範圍係由附加申請專利範圍而非上述說明指出，在申請專利範圍等同物之意義與範圍內的所有改變因此傾向於包含於其中。
100．．．奈米管切換元件
111．．．控制電極
112．．．釋放電極
113．．．輸出節點
113a、b．．．相對輸出電極
113c、d．．．輸出電極
114a、b．．．信號電極
115．．．奈米管通道元件
116．．．支撐物
117．．．絕緣層
118．．．絕緣層/薄膜
119．．．絕緣材料
120．．．互連件
122．．．奈米管通道元件
124．．．位置
126．．．區域
200．．．記憶胞
202．．．靜態隨機存取記憶體結構
204．．．碳奈米管切換元件
206．．．碳奈米管切換元件
在圖式中，圖1A－1D說明在兩不同狀態之某些實施例的奈米管切換元件的截面圖與平面圖，其並且包括此元件的一平面圖；圖2係為根據本發明某些實施例之非揮發性隨機存取儲存元件的概要圖。
100．．．奈米管切換元件
111．．．控制電極
112．．．釋放電極
113a．．．相對輸出電極
113b．．．相對輸出電極
113c．．．輸出電極
113d．．．輸出電極
114a．．．信號電極
114b．．．信號電極
115．．．奈米管通道元件
116．．．支撐物
118．．．絕緣層/薄膜
119．．．絕緣材料

Claims (8)

  1. 一種記憶胞(memory cell)，包含一第一與第二奈米管切換元件(element)，每一奈米管切換元件包括：一輸出節點；一奈米管通道元件，具有至少一導電奈米管與一通道電極；一控制結構，具有一設定電極與一釋放電極，配置成相關於奈米管通道元件，以可控制方式形成與不形成(unform)介於該通道電極與該輸出節點間之導電通道，其中該導電通道至少包括該奈米管通道元件；以及一電子記憶體，具有交叉耦合的第一與第二反相器，其中第一反相器的輸入節點被耦合到第二反相器的輸出節點，且第二反相器的輸入節點被耦合到第一反相器的輸出節點；其中第一反相器的輸入節點耦合到第一奈米管切換元件的設定電極與第二奈米管切換元件的輸出節點；以及其中第二反相器的輸入節點耦合到第二奈米管切換元件的設定電極與第一奈米管切換元件的輸出節點；以及其中通道電極耦合到一通道電壓線。
  2. 如申請專利範圍第1項之記憶胞，其中第一奈米管切換 元件的釋放電極耦合到第二奈米管切換元件的釋放電極，其中兩釋放電極耦合到一釋放線。
  3. 如申請專利範圍第1項之記憶胞，其中第一與第二反相器是互補式金屬氧化半導體(CMOS)反相器。
  4. 如申請專利範圍第1項之記憶胞，其中第一與第二奈米管切換元件是非揮發性狀態裝置。
  5. 如申請專利範圍第1項之記憶胞，其中第一與第二奈米管切換元件是在用以製造電子記憶體之電路層上的電路層中被製造。
  6. 如申請專利範圍第1項之記憶胞，其中當記憶胞於電子記憶體模式操作時，通道電壓線被設定成電子記憶體所使用之供應電壓的一半，且其中當記憶胞於映像記憶體模式(shadow memory mode)操作時，通道電壓線係被設定成奈米管通道切換電壓，其中映像記憶體模式將電子記憶體狀態轉換成奈米管切換元件狀態。
  7. 如申請專利範圍第6項之記憶胞，其中當記憶胞於恢復模式操作時，通道電壓線會被設定成由電子記憶體所使用的供應電壓，其中恢復模式會將奈米管切換元件狀態轉換成電子記憶體狀態。
  8. 如申請專利範圍第7項之記憶胞，其中第一奈米管切換元件的釋放電極耦合到第二奈米管切換元件的釋放電極，且其中兩釋放電極被耦合到一釋放線，且其中恢復模式將奈米管切換元件狀態轉換成電子記憶體狀態後，該釋放線會被啟動，以重設奈米管切換元件的狀態。
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