TWI297307B - Apparatus for ejecting liquid droplet, work to be applied thereto, method of manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic equipment - Google Patents
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Description
1297307 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於利用功能液滴噴出頭在長條之工件施行描 繪之液滴喷出裝置、其所適用之工件及光電裝置之製造方 法、光電裝置、以及電子機器。 【先前技術】
液滴喷出裝置係包含使安置葉片之基板(工件)之吸附台 (安置台)向X軸方向移動之X軸台、使搭載功能液滴喷出頭 之喷頭單元向Y轴方向移動之Y軸台,一面使噴頭單元及 基板相對地移動,一面喷出驅動功能液滴喷出頭時,可將 特定之描繪圖案描繪在所安置之基板上。 又,在液滴喷出裝置,設有接受由功能液滴喷出頭(之 所有喷嘴)之沖洗之一對沖洗箱。一對沖洗箱係被移動自 如地支持於X軸台,並被配設成可在X軸方向夾著吸附 台。因此,驅動X軸台時,可依照沖洗箱、安置台(工件) 之順序使喷頭單元面臨此等位置,接續於沖洗動作後,連 續地施行㈣動作。如此,在描繪動作之前,施行沖洗動 作時’可使功能液滴噴出頭之功能液滴噴出狀態保持穩 疋對工件施行良好精度之描繪處理(例如參照日本特開 2003-26673號公報)。 而 ’為提高對卫件之描繪效率’可考慮將長度方向設有 多數描繪描繪圖案之眚_ # - p1 <貫際描、繪區域之滾湾狀工件導入液滴 噴出裝置,一面將:^技技山 品,、丨_ _ 了工件捲出,一面以實際描繪區域單位施 行描繪處理’並遂攻接老π風夕 * 人捲取處理畢之工件之滾筒進出式之液 116700.doc 1297307 滴喷出裝置。但’此情形,為連續輸送工件,如以往之液 ,喷出裝置般不能在工件之輸送方向之X轴方向配設沖洗 缺…法在對貝際描繪區域之描繪動作之前施行沖洗動 作。 (發明所欲解決之間題)
本發明之課題在於提供可在對設於滾筒狀卫件之實際描 繪區域施行㈣動作之前转沖洗動作,俾可穩定地在實 際描繪區域施行描繪之滾筒進出式之液滴噴出裝置、其所 適用之工件及光電裝置之製造方法、光電裝置、以及電子 機器。 【發明内容】
本發明之液时出裝置之特徵在於錢對長度方向設有 多數描繪區域之工件施行描㈣,包含吸附台,其係配設 於描緣空間1於吸附安置工件者;㈣機構,其係間歇 地捲出工件,在彎曲之狀態將卫件導人吸附台纟;描緣機 構,其係具有功能液滴噴出頭,對料空間,—面使功能 液滴喷出頭相對地移動,—面喷出驅動功能液滴喷出頭, Μ在被㈣安置之前以件施行輯者;卫件接受機 構,其係在彎曲之狀態由吸附台接受已描、♦之卫件者;及 沖洗單元,其係將接受由功能液滴噴出頭之喷出之沖洗箱 配設成收容於工件之彎曲部分之至少一方者。 依據此㈣’在捲出機構與吸附台間之工件 及吸附台與工件接受機椹門夕丁从 口 钱又機構間之工件之彎曲部分之至少一方 配設沖洗箱。因此,在描緣處理時,使功能液滴嘴出頭對 116700.doc •1297307 ¥ 描繪空間相對地移動,可藉此使功能液滴喷出頭面臨沖洗 箱,以施行沖洗動作。此情形,由於吸附台與沖洗箱相鄰 接,故功能液滴喷出頭可在對吸附台上之工件(描繪區域) 施行描繪之前施行沖洗動作。因此,在描繪動作中,可由 功能液滴喷出頭穩定地喷出機能液,對描繪區域高精度地 施行描繪。 此情形,最好在工件設有對應於各描繪區域而施行各描 繪區域之位置修正用之對準標記,且進一步包含攝像對準 籲 標記而辨識圖像之圖像辨識機構、及可轉動地支持吸附台 而依據圖像辨識機構之圖像辨識,修正對功能液滴喷出頭 之描繪區域之水平面内之位置之e台。 . 依據此構成,由於設有對應於各描繪區域之對準標記, 故可依據圖像辨識施行描緣區域之0修正(位置修正),對 工件施行高精度之描繪。 此情形,沖洗箱最好被支持於θ台。 Φ 依據此構成’ θ修正吸附台時,沖洗箱亦可與吸附台一 起施行θ旋轉。藉此,可對應地使沖洗箱適切地面臨被位 置修正後之實際描繪區域。 此it形,沖洗箱最好對應於彎曲部分之吸附台側之傾斜 被形成。 依據此構成,可在不會使吸附台之底部干擾到工件之情 況下,將沖洗箱配置於儘可能地接近於吸附台之位置。且 在考曲較小之情形,也可將沖洗箱配設於彎曲部分。 此情形’最好工件接受機構可捲取工件。 H6700.doc 1297307 依據此構成,料處理後之卫件會被捲繞成滚筒狀,故 可使描繪處理後之工件之處理更為容易。 本發明之卫件之特徵在於可被上述中之—種液滴喷 置所描繪。 、 依據此構成,由於可被上述中之一種液滴喷出裝置所描 緣’故可在工件施行精度良好之描繪。 此情形,工件最好為安裝有電子零件之可撓性基板。 依據此構成,將滾筒狀工件導入液滴噴出裝置而施行描 繪處理時,可高效率地製造可撓性基板。 本發明之光電裝置之製造方法之特徵在於利用上述記載 之液滴噴出裝置’在工件上形成功能液滴構成之成膜部。 又’本發明之光電裝置之特徵在於利用上述記載之液滴喷 出裝置,在工件上形成功能液滴構成之成膜部。 依據此等之構成,由於用上述之液滴喷出裝置,故可對 實際描繪區域穩定地喷出功能液。因此,可高精度地形成 成膜部,有效地製造高精度之光電裝置。又,作為光電裝 置(元件),可考慮液晶顯示裝置、有機EL(Electro-Luminescence ;電致發光)裝置、電子釋放裝置、 PDP(Plasma Display Panel ;電漿型顯示面板)裝置及電泳 顯示裝置等。又,電子釋放裝置係包含所謂FED(Field Emission Display ;電場發射顯示器)或 SED(Surface-Conduction Electron-Emitter Display ;表面傳導電子發射 器顯示器)裝置之概念。另外’作為光電裝置,可考慮包 含金屬配線形成、透鏡形成、光阻形成及光學擴散形成等 116700.doc -10- 1297307 之裝置。 本發明之電子機器之特徵在於搭载利用上述記載之光電 裝置之製造方法所製造之光電裝置、或搭載上述記載之光 電裝置。 此情形,作為電子機器’除了搭載所謂平面面板顯示器 之手機、個人電腦之外,各種電氣製品均符合於此。 【實施方式】 以下,參照附圖說明有關適用本發明之液滴噴出裝置。 此液时出裝置係用於製造裝人使用於小型相機及=機等 之可撓性基板之裝置,可藉使用功能液时出頭之液滴喷 出法,將溶解功能材料之功能液噴出於可撓性之基體膜 (工件)上,以形成電阻、線圈、電容器等之元件(晶片零 件;面安裝零件)及金屬配線等。 如圖1A及圖2A-2B所示,液滴喷出裝£1係包含具有功 能液滴噴出頭42而可在工件w施行利用功能液滴之描繪之 描繪裝置2、捲出捲繞成滾筒狀之長條之工件臂之捲出裝 置3、沿著特定輸送路徑輸送被捲出之工件臀用之輸送裝 置4、及捲取工件w之捲取裝置5。即,此液滴噴出裝置1 係以滾筒進出方式施行處理,首先,利用輸送裝置4沿著 輸送路徑將捲出裝置3所捲出之工件w送至描繪裝置2。 而,利用描繪裝置2在工件臀施行描繪處理後,藉輸送裝 置4由描繪裝置2送出卫件觀已處理之部分,將所送出之 已處理之工件W逐次捲繞在捲取裝置.5。此時,在由捲出 裝置3至輸送裝置4之間、及由輸送裝置4至捲取裝置5之 116700.doc 11 1297307 ]工件W係以具有鬆弛之狀態被輸送。又,雖省略圖 不,但在液滴嘴出裝置U,設有統轄控制各裝置之控制 裝置6,上述一連串之動作係依據控制裝置6之控制執行。 另一方面,如圖1B所示,在被導入液滴噴出裝置工之工 件W,在長度方向隔著特定間隔連續地設有被描繪處理描 繪特定之描繪圖案(單位描繪圖案)之多數實際描繪區域a。 而,在實際描緣區域a與實際描緣區域a之間,設有對應於 _ 各實際描繪區域a之一對(2個)工件對準標記b。此一對工件 對準§己b係用來㊀修正吸附安置於後述之吸附台31之實際 描繪區域a,並施行X · γ軸方向之資料修正。又,工件w 最後係在形成工件對準標記b之各實際描繪區域a間之區域 被切除。而’藉由在對依照各實際描繪區域a被切離之工 件W施行特定之步驟,以製造多數可撓性基板。 又,在使用於本實施型態之工件W,已經形成有晶片零 件(或金屬配線)。而,捲繞工件W時,為防止形成之晶片 > 零件受到損傷,在工件W上疊合施行壓花加工之長條隔膜 S ’工件W上係在疊層隔膜之狀態下被捲繞成滾筒狀,以 供搬入•搬出。 其次,說明有關液滴喷出裝置1之各裝置。如圖1A及圖 2A-2B所示,描繪裝置2係包含機台η、廣泛載置於機台11 之全域而具有功能液滴喷出頭42之描繪機構12、及以附設 於描緣機構12之方式載置於機台η上之喷頭保養機構13。 描繪機構12具有安置被輸送裝置4導入描繪空間之工件 W之安置台21、搭載多數功能液滴喷出頭42之喷頭單元 116700.doc -12- 1297307 ,22、垂設喷頭單元22之支架23、及介著支架23在描繪空間 内使喷頭單元22向X軸方向及γ軸方向移動之χ· γ移動機 構24。又,在此,係以工件W之輸送方向(工件霤之長度方 向)為X軸方向,水平地正交於X軸方向之方向為γ轴方向 加以說明。 安置台21係配置於臨設於工件w之輸送路徑之描繪空 間,具有吸附女置工件W之吸附台3 1、及可0旋轉地支持 吸附台31,且被支持於機台丨丨之㊀台32。在吸附台31之表 ,面(女置面),形成多數用於吸附工件W之吸附孔(省略圖 示)。詳見後述,在本實施型態中,可以實際描繪區域施 行描繪處理,吸附台31係構成可吸附安置丨個實際描繪區 域a之大小。 如圖3所示,喷頭單元22係在喷頭板41搭載多數功能液 滴喷出頭42所構成。如圖4A-4B所示,功能液滴喷出頭42 係所謂2連式構造,包含具有2連式連接針52之功能液導入 • 部51、連接於功能液導入部51之2連式喷頭基板53、及連 接於功能液導入部5 1之下方而形成内部充滿功能液之喷頭 内流路之喷頭本體54。連接針52係連接於圖外之功能液 相’用於將功能液供應至功能液導入部5丨。喷頭本體54係 由空腔55(壓電元件)、具有多數喷嘴58開口之喷嘴面57之 喷噶板56所構成。噴出驅動功能液滴喷出頭42(電壓被施 加至壓電元件)時,可藉空腔55之系作用由喷嘴58喷出功 能液滴。 又,多數喷嘴58係以等間距(2點間距間隔)整齊排列而 116700.doc -13- ζ S ) 1297307 形成2列之分割噴嘴列,2列之分割喷嘴列彼此係互相錯開 1點間距伤之位置。即,在功能液滴噴出頭42,利用2列之 分割噴嘴列形成丨點間距間隔之喷嘴列,可施行丨點間距 (高解像度)之描緣。 在喷頭板41,將多數功能液滴噴出頭42之各喷嘴列配置 成連續於γ軸方向(局部重複),利用所有之功能液滴喷出 頭42之噴嗔列形成丨描繪線。丨描繪線之長度對應於上述之 工件w之實際描繪區域&之寬長度,故可對工件w有效地施 行描繪。 支架23具有支持喷頭單元22之支架本體61、介著支架本 體61而施行對喷頭單元22之0方向(水平面内之)之位置修 正用之Θ旋轉機構62、及介著θ旋轉機構62將支架本體 61(喷頭單元22)支持於X · γ移動機構24之略〗字狀之吊設 構件63。 為對工件W(實際描繪區域a)施行位置修正,在支架本體 61,;|著相機支持臂72搭載著可將其攝像之一對(2個)工件 對準相機71。在本實施型態中,使用位於鄰接於被吸附安 置於吸附台3 1之實際描繪區域&之一方側(在本實施型態 中,為捲出裝置3侧)之一對工件對準標記b作為對準之基 準。而,依據工件對準相機71之攝像結果,可以使作為基 準之一對工件對準標記!^處於特定位置方式,施行工件w 之位置修正。 X· Y移動機構24係包含向又轴方向延伸之χ軸台81 '及 介著支架23而將喷頭單元22滑動自如地支持於γ轴方向, 116700.doc -14- 1297307 •並被支持於X軸台81而構成可向X軸方向滑動自如之γ軸台 82 ° X軸口 81係由一對Χ軸移動機構91所構成,各X軸移動機 構91係被懸架於立設於機^之多數支支柱92上,且分別 設置於炎著工件W之輸送路徑而配設之一對支持基台(省略 圖示)上。另外,雖省略圖示,但各X轴移動機構91具有構 成X軸方向之驅動系統之χ軸馬達驅動之χ轴滑塊,在各X 軸滑塊,滑動自如地支持Υ軸台82之端。 瞻 Υ轴台82係在將兩端支持於χ軸台81之―對χ軸滑塊之γ 轴支持板93,搭載構成γ軸方向之驅動系統之γ軸馬達(省 略圖不)、及Υ轴馬達驅動之γ軸滑塊(省略圖示)所構成, 在各Υ軸α塊,可向γ軸方向移動自如地支持支架(吊設 構件63)。 茲說明有關描繪處理之一連串之動作。首先,驅動又軸 台81,而使支架23(喷頭單元22)面臨特定位置,利用工件 ,對準相機71攝像工件貿。而,依據攝像結果,驅動㊀台“ 以施行實際描繪區域&之0修正,並施行χ軸方向及¥轴方 向之資料修正。 接著,驅動X軸台81,而使噴頭單元22向又軸方向往 動,並與此同步地喷出驅動功能液滴喷出頭42,以施行功 能液滴之選擇的喷出。噴頭單元22之往動結束時,驅動γ 轴台82,使喷頭單元22向丫軸方向移動特定距離。而,再 度施行X轴台81之驅動、及與此同步之功能液滴喷出頭42 之喷出驅動,並施行喷頭單元22iX軸方向之復動與對工 116700.doc -15- 1297307 .件w之功能液滴之選擇的喷出。在描緣處理中,交互地重 複施仃噴頭單几22之對X軸方向之移動及與此同步之功能 液滴喷出頭42之喷出驅動(主掃描)、與噴頭單元?!之對γ 轴方向之移動(副掃描),藉以使功能液滴噴出頭42在描繪 空間内移動,而將單位描繪圖案描緣在安置於吸附台此 工件W之實際描繪區域a。又,對w實際描繪區域&,由 描繪開始後至單位描綠圖案描緣結束之動作為ι流水作業 流程。 八尺β兒明有關噴頭保養機構。喷頭保養機構13係用來 謀求功能液滴噴出頭42之功能維持•恢復,包含沖洗單元 101、吸引單元1〇2、到除單元103及喷出不良檢查單元 104。而,此等單元係被臨接配置於喷頭單元22之移動軌 跡上,由下侧面對著搭載於喷頭單元22之功能液滴喷出頭 42,以施行保養動作。 又,如圖2Α-2Β所示,吸引單元1〇2、刮除單元1〇3、及 ,喷出不良檢查單元1〇4係設置於立設在機台u上之共通支 持架105上。共通支持架1〇5係由支持吸引單元ι〇2、刮除 早兀103及噴出不良檢查單元104之共通支持板105a及排列 配設於Y軸方向而支持共通支持板1〇5&兩端之支柱構件(省 略圖示)所構成。在機台n及共通支持板1〇5a之間產生間 隙工件W係鑽過此間隙而被送至吸附台3丨(參照圖2 A_ 2B) 〇 沖洗單70 101係用於接受由功能液滴噴出頭42之所有喷 嘴58之沖洗(flushing)所喷出之功能液滴,被配置於上述之 116700.doc -16- 1297307 描繪空間,由接受功能液之一對沖洗箱111、與將一對沖 洗箱111支持於吸附台31(或Θ台32)之一對箱支持構件112所 構成。 各沖洗箱111係形成平面視呈長方形之細長箱狀,在其 底部敷設吸收功能液之吸收材料(省略圖示)。詳見後述, 被輸送裝置4輸送之工件W係以夾著吸附台3 1之前後而向 下侧彎曲之狀態被輸送,各沖洗箱111係位於接近吸附台 31而被配設(參照圖2A-2B)。而,各沖洗箱ill之側面視形 狀係模仿所配置之工件W在吸附台3 1侧之形狀所形成。因 此,可在各沖洗箱111之底部不會干擾到之情況下,將各 沖洗箱111配置於吸附台3 1之附近。又,位於比吸附台3 1 更接近捲取裝置5側之工件W為防止描繪畢之功能液之下 滴’不能大幅彎曲,但如本實施型態之沖洗箱n丨般,採 用對應於工件W之彎曲形狀而形成其側面視形狀時,也可 將沖洗箱111配設於較小之空間(彎曲部分)。又,吸附台3 i 之捲出裝置3侧之工件W之彎曲形狀與捲取裝置5侧之工件 w之彎曲形狀各異,各沖洗箱U1之側面視形狀也各異(參 照圖 2A-2B)。 各箱支持構件112係以使各沖洗箱1丨丨位於工件w之彎曲 部分且其上端面與吸附台31之安置面同一面方式,且使各 沖洗箱111沿著向吸附台31之¥軸延伸之一對邊(周緣)(工件 w之外側)方式,將沖洗箱lu支持成由吸附台31突出(參照 圖1A及圖2A-2B)。各箱支持構件112係將各沖洗箱U1支持 於Θ台32,故對吸附台31施行θ修正而使其旋轉時,各沖洗 116700.doc -17- 1297307 • 箱也會與此同時θ旋轉。 在本實施型態中,將包括吸附台3 1與夾著此而配設之一 對沖洗箱111之區域設定作為描繪空間,為施行描繪處理 而使工件W在描繪空間内往復移動時,喷頭單元22之功能 液滴喷出頭42在面臨工件w之前,可逐次面臨沖洗箱111 而施行沖洗動作(描繪前沖洗)。 又’在本實施型態中,以夾著吸附台3丨方式設有一對沖 ^ 洗箱m,但也可僅設置其中一方。而在將沖洗箱設於捲 出裝置3側之弯曲之情形,也可將其設置於上述之共通支 持架105上。 如圖1A及圖2A_2B所示,吸引單元1〇2係藉由吸引功能 ' 液滴喷出頭42(喷嘴58)而強制地由喷嘴58排出功能液,具 有密接於功能液滴噴出頭42之喷嘴面57之多數蓋(省略圖 示)、使蓋對功能液滴喷出頭42(喷嘴面57)接離之蓋接離機 構(省略圖示)、及介著蓋而可吸引功能液滴喷出頭42之單 • 一吸引機構(喷射器或吸引泵)。功能液之吸引除了用來施 打消除/防止功能液滴喷出頭42之阻塞以外,也在新設液 滴喷出裝置1之情形或更換功能液滴喷出頭42之喷頭之情 形等時,供將功能液充填至由功能液供應機構至功能液滴 喷出頭42之功能液流路之用。 又,蓋具有作為接受在如輸送工件w時等,暫時停止對 工件W之㈣處理時所施行之功能液滴喷出頭42之沖洗(定 期沖洗)所喷出之功能液之(定期)沖洗箱之機能。而,透 水作業流程之描繪處理結束時,噴頭單元22在吸引單元 116700.doc 1297307 102上移動’以施行定期沖洗。藉此,可有效防止工件輸 送時之功能液滴喷出頭42之阻塞。此情形,蓋可藉蓋接離 冓移動至使其上面務微離開功能液濟喷出頭a之喷嘴面 57之位置。 、 又,蓋在液滴噴出裝置丨之非運轉時,也可用來保管功 能液滴噴出頭42。此情形,可藉使喷頭單元22面臨吸引單 兀102 ,並使蓋密接於功能液滴喷出頭42之喷嘴面57而將 喷嘴面57封閉,防止功能液滴喷出頭42(噴嘴58)之乾燥。 刮除單元103係利用喷上洗淨液之刮除膜121拭去(刮除) 功能液滴喷出頭42之噴嘴面57,具有一面捲出捲繞成滾筒 狀之到除膜121,一面將其捲取之捲取單元122將洗淨液喷 灑在捲出之刮除膜12ι之洗淨液供應單元(省略圖示)、及利 用噴灑洗淨液之刮除膜121拭去喷嘴面57之拭除單元124。 對功能液滴喷出頭42之刮除動作係在吸引單元1〇2吸引 功月b液滴喷出頭42後等施行,可擦拭掉附著於喷嘴面57之 污染物。而,刮除單元1〇3係在χ轴方向被設置於吸附台31 與吸引單元102之間,在利用吸引單元1〇2吸引後,為施行 描繪處理,可使面臨移動至描繪空間之功能液滴喷出頭42 而有效地施行刮除動作(參照圖1A及圖2A_2B)。 喷出不良檢查單元104係用來檢查搭載於喷頭單元22之 所有功能液滴噴出頭42(喷嘴58)是否適切地喷出功能液, 包含有接X喷頭單元22之所有功能液滴喷出頭42之所有喷 嘴58所檢查喷出之功能液,以描繪特定之檢查圖案用之被 描緣單元131及將描繪在被描繪單元ι31之檢查圖案攝像而 116700.doc -19- 1297307 加以檢查之攝像單元(省略圖示)。所攝像之檢查圖案之攝 像結果被發送至控制裝置6,以施行圖像辨識,依據此圖 像辨識,由控制裝置6判斷各功能液滴喷出頭42之各喷嘴 58是正常喷出功能液(無阻塞?)。 又’喷出不良檢查單元104也被設置於吸附台31與吸引 單元102之間(參照圖1A及圖2A-2B)。因此,可使喷出不良 檢查單元104面臨為施行定期沖洗而移動至吸附台3丨之途 中之喷頭單元22 ’以施行喷出不良檢查(未必要移動喷頭 單元22),可有效地檢查功能液滴喷出頭42是否喷出不 良。 其次,依序說明有關捲出裝置3、輸送裝置4、捲取裝置 5。如圖1A及圖2A-2B所示,捲出裝置3係配置於附設在機 台11之上流側之捲出機台141,具有被旋轉自如地轴支於 圖外之捲出支持架,並安裝有滾筒狀之工件W之捲出捲軸 142及使捲出捲轴142正反旋轉之捲出馬達143。而,當正 轉驅動捲出馬達143而使捲出捲軸142正旋轉時,可將工件 W由捲出捲轴142捲出至輸送裝置4。 又,位於捲出捲轴142之上方,在捲出機台141設有捲取 與工件W同時捲繞於捲出捲轴142之隔膜S之隔膜捲取捲轴 151。隔膜捲取捲轴151係可與來自捲出捲軸142之工件W 之捲出同步地捲取隔膜S,並可僅將工件W供應至輸送裝 置4。又,也可將捲出馬達143兼用作為隔膜捲取捲轴151 之驅動源。 工件W之捲出可與上述描繪處理並行地進行,在描繪處 116700.doc -20- Ϊ297307 理時’至少可捲出實際描繪區域&之χ軸方向之長度部分, 即捲出供作其次之描緣處理用之工件W之輸送量部分G流 水作業流程份)。此情形,被捲出之工件w會在捲出捲轴 142與輸送裝置4(捲出側輸送滾筒171 :後述)間發生鬆弛。 即’捲出捲軸142與捲出侧輸送滾筒171之間會成為工件w 之緩衝區域(空間)。而,在本實施型態中,在此緩衝區 域,設有可藉檢測捲出側鬆弛之下端位置以檢測工件塚之 捲出量之捲出量感應器161,依據捲出量感應器ι61之檢測 結果,控制捲出馬達143之驅動。具體上,捲出量感應器 161係配置於對應於捲出丨流水作業流程份之工件|時所生 之捲出側鬆弛之下端位置之位置,當捲出量感應器161檢 測到捲出侧鬆弛之下端位置時,停止捲出馬達143之驅 動。如此,在本實施型態中,可依據工件W之捲出側鬆弛 之鬆弛量控制捲出馬達143,故可施行(特定量之)工件墀之 捲出而不受捲出捲轴142之滾筒徑之影響。 又,使工件W鬆弛之情形,已形成於工件w上之晶片零 件等有可能受到破壞,故需以使捲出側鬆弛不超過特定之 曲率R1之方式設定捲出捲軸142與捲出侧輸送滾筒m之距 離’並設置可檢測捲出側鬆弛之下端位置之下限位置之捲 出侧下限位置感應器162。 如圖1A及圖2A-2B所示,輸送裝置4係包含配設於捲出 機台141上,且接受由捲出捲軸142被捲出之工件w之捲出 側輸送滚筒171、配設於機台11上,且變更路徑而使由捲 出側輸送滾筒171被捲出之工件W鑽過上述之共通支持架 116700.doc •21- 1297307 ι〇5(共通支持板105a之下方)之第1路徑變更滾輪ι72再度變 更路徑而使被第1路徑變更滾輪m變更路徑之工件冒於吸 附台3 1被水平地輸送之第2路徑變更滚輪173配設於設置有 捲取裝置5之捲取機台181(後述)上,用於將描繪畢之工件 W送至捲取裝置5(捲取捲轴182;後述)之捲取側輸送滾筒 174及使捲取側輸送滾筒ι74正反旋轉之捲取側輸送馬達 (省略圖示)。捲取側輸送馬達係由附編碼器之伺服馬達或 步進馬達所構成,可利用控制裝置6由其旋轉量掌握工件 ⑩ W之輸送量。 上述一對沖洗箱111中之一方係配設於被第2路徑變更滾 輪173變更路徑之工件w之向上傾斜部分,他方係配設於 - 由及附台31向下方傾斜被輸送之工件w之傾斜部分D又, 在由吸附台31向下方傾斜被輸送之工件w,利用描繪處理 施行利用功能液滴之描繪,故將其傾斜角度設定於不會使 已描繪在工件W之功能液因傾斜而下滴之角度。捲取侧輸 Φ 送馬達係由附編碼器之伺服馬達或步進馬達所構成,可利 用控制裝置6由其旋轉量掌握工件W之輸送量。 利用輸送裝置4輸送工件W之動作係在上述丨流水作業流 程之描繪處理結束後施行,在1流水作業流程之描繪處理 結束時,驅動捲取側輸送馬達。藉此,在作為驅動滾輪之 捲取側輸送滾筒174旋轉之同肖,作為從動滚輪之捲出侧 輸送滾筒171、第i路徑變更滾輪172、第2路徑變更滾輪 173會從動地旋轉。而,在施行丨流水作業流程份之工件之 輸送’由安Ϊ台21送出描緣畢之工件w之同時,可將新的 116700.doc -22- 1297307 部分(實際描繪區域a)送入安置台21。如上所述,在實施型 態中’在開始工件W之輸送前,會預先捲出丨流水作業流 程份之工件W,故可迅速而高精度地施行工件輸送而不影 響捲出裝置3捲出工件w之動作。 如圖1A及圖2 A所示,捲取裝置5係配置於附設在機台11 之下流側之捲取機台181,具有被旋轉自如地轴支於圖外 之捲取支持架,用於捲取由輸送裝置4送來之描繪畢之工 件W之捲取捲軸182及使捲取捲轴182正反旋轉之捲取馬達 183。而,當正轉驅動捲取馬達ι83而使捲取捲轴ι82正旋 轉時’可將來自捲取側輸送滚筒174之工件W捲取至捲取 捲軸182。 工件W之捲取動作與工件w之捲出動作同樣地,係與描 繪處理並行地進行。由輸送裝置4(捲取側輸送滾筒174)送 來之(1流水作業流程份之)工件W暫且以鬆弛狀態被送至捲 取裝置5。而在工件W之輸送結束,開始描繪處理時,驅 動捲取馬達183而將鬆弛之工件W捲取至捲取捲軸182。此 情形,亦藉檢測鬆弛量(捲取侧鬆弛量)施行捲取馬達183之 控制。具體上,對應於捲取1流水作業流程份之工件臀時 之捲取侧鬆弛之下端位置而配置捲取量檢測感應器191, 在捲取量檢測感應器191檢測捲取側鬆弛之下端位置時, 可停止捲取馬達183之驅動。又,在輸送裝置4,為檢測工 件W之捲取過量,設有檢測捲取側鬆弛之下端位置之上限 位置之捲取側上限感應器192。 又’同圖所示之符號201係供應隔膜S之隔膜供應捲軸,用 116700.doc •23- 1297307 於將隔膜s供應至被捲取之描繪畢之工件臂上。所供應之隔 膜S係與工件|同時被捲取至捲取捲軸182,以防止藉描繪處 理形成在工件w之晶片零件及已形成之元件等受到破壞。 又,請求項中所稱之工件接受機構係由輸送裝置4之一 部分(捲取側輸送滾筒174、捲取侧輸送馬達)與捲取裝置5 所構成。又,在本實施型態中,係採用利用捲取裝置以滾 筒狀捲取藉捲取側輸送滾筒174由吸附台3 1所送交之描繪 畢之工件冒之構成,但接續在描繪裝置2之描繪處理之 後,連續地施行利用其他裝置之處理之情形,則不施行描
繪畢之工件W之捲取而由捲取側輸送滾筒174直接將工件W 送出至其他裝置。 其次’一面參照圖5,一面說明有關液滴喷出裝置1之主 控制系。液滴噴出裝置丨係包含具有描繪機構12之描繪部 211、具有喷頭保養機構丨3之喷頭保養部212、具有捲出裝 置3之工件捲出部213、具有輸送裝置4之工件輸送部214、 具有捲取裝置5之工件捲取部215、具有各裝置之各種感應 器類(捲出量感應器161、捲出侧下限位置感應器162 '捲 取量檢測感應器191、捲取側上限感應器192)等而施行各 種檢測之檢測部216、具有驅動各部之各種驅動器之驅動 部217、及連接於各部以施行整個液滴喷出裝置控制之 控制部218(控制裝置6)。 控制部218係包含連接各裝置用之介面221、具有可暫時 記憶之記憶區域而被使用作為控制處理用之作業區域之 RAM 222、具有各種記憶區域而記憶控制程式或控制資料 116700.doc -24- 1297307 之ROM 223、記憶在工件W施行描纟會用之描緣資料及來自 各裝置之各種資料等’並記憶處理各種資料用之程式等之 硬碟224、依照§己憶於ROM 223、及硬碟224之程式等施行 各種資料之運算處理之CPU 225、及將此等互相連接之匯 流排226。 控制部218係將各裝置送來之各種資料,經由介面221輸 入,並依照s己憶於硬碟224(或由CD-ROM驅動器等外部輸 入裝置被依序讀出)之程式使CPU 225施行運算處理,將其 處理結果,經由介面221輸出至各裝置。藉此,統轄控制 各裝置,施行對上述工件W之一連串之處理。 如上所述,在本實施型態之液滴喷出裝置丨中,在工件 w之輸送方向之X軸方向,在吸附台31之前後使工件w彎 曲,在此彎曲部分配設沖洗箱lu,故在描繪處理時,可 使搭載於喷頭單7022之所有功能液滴喷出頭42施行描繪前 沖洗,且穩定地在工件W之實際描繪區域&施行描繪。 又,本實施型態之液滴噴出裝置可供形成電阻、線圈、 電容器等之元件及金屬配線等之用,但形成此等元件之步 驟分別個別獨立。@,可將配合各目的之專用之功能液導 入對應於各步驟之多數液滴喷出裝置,並以特定之順序將 工件逐次導入對應於各步驟之多數液滴噴出裝置使其施行 描緣處理,藉讀序在卫㈣上形成此等元件及配線。 其次,作為利用本實施型態之液滴喷出裝置丨所製造之 光電裝置(平面面板顯示器)’以彩色濾光片、液晶顯示裝 置、有機EL裝置、電漿顯示器(pDp裝置)、電子释放裝置 116700.doc -25- 1297307 (刚裝置、_裝置)以及形成於此等顯示裝置所構成之 主動矩陣基板等為例,說明有關此等之構造及盆製造方 法。又,所謂主動矩陣基板,係指形成有薄膜電晶體及電 性連接於薄膜電晶體之源極線、資料線之基板。
首先’說明有關裝入於液晶顯示裝置或有機肛裝置之彩 色滤光片之製造方法。圖12係表示彩色遽光片之製程之流 程,圖7A.E係依製程順序所示之本實施㈣之彩色滤光片 6〇〇(濾光片基體600A)之模式剖面圖。 首先,在黑矩陣形成步驟(S101),如圖7A所示,在基板 (W)601上形成黑矩陣602。黑矩陣6〇2係利用金屬鉻、金屬 鉻與氧化鉻之疊層體或樹脂黑等所形成。為形成金屬薄膜 構成之黑矩陣602,可使用濺射法或蒸鍍法。又,形成樹 月曰薄膜構成之黑矩陣602之情形,可使用凹版印刷法、光 阻法、熱轉印法等。 接著,在堤岸形成步驟(S102),以重疊於黑矩陣602上 之狀態形成堤岸603。即,首先,如圖7B所示,以覆蓋基 板601及黑矩陣602方式形成負型之透明感光性樹脂構成之 光阻層604。而,以形成為矩陣圖案之形狀之遮罩膜6〇5覆 蓋其上面之狀態施行曝光處理。 另外’如圖7C所示,將光阻層604之未曝光部分蝕刻處 理而將光阻層604圖案化,以形成堤岸603。又,利用樹脂 黑形成黑矩陣之情形,也可將黑矩陣與堤岸兼併使用。 此堤岸603與其下之黑矩陣602係構成劃分各畫素區域 607a之劃分壁部607b,在後面之著色層形成步驟中,利用 116700.doc -26- 1297307 功能液滴噴出頭42形成著色層(成膜部)608R、608G、608B 之際’用來規定功能液滴之命中區域。 經由以上之黑矩陣形成步驟及堤岸形成步驟,可獲得上 述濾光片基體600A。 又’在本實施型態中,使用塗膜表面呈現疏液(疏水)性 之樹脂材料作為堤岸603之材料。而,基板(玻璃基板)6〇1 表面為親液(親水)性,故在後述之著色層形成步驟中,可 提高對堤岸603(劃分壁部607b)所包圍之各畫素區域607&之 液滴之命中位置精度。 其次,在著色層形成步驟(S103)中,如圖7D所示,利用 功能液滴喷出頭42喷出功能液滴而使其命中劃分壁部6〇7b 所圍成之各晝素區域6 0 7 a内。此情形,係利用功能液滴喷 出頭42導入R· G· B之3色功能液(濾光片材料),以施行功 能液滴之喷出。又,作為R· G · B之3色之排列圖案,有 條狀排列、鑲嵌排列及三角排列等。 其後,經烘乾處理(加熱等之處理)而將功能液固定,以 形成3色之著色層608R、608G、608B。形成著色層608R、 608G、608B後,移至保護膜形成步驟(S104),如圖巧所 示’以覆蓋基板601、劃分壁部607b、及著色層608R、 608G、608B方式形成保護膜609。 即,將保護膜用之塗敷液喷出於形成基板6〇 1之著色層 608R、608G、608B之全面後,經烘乾處理而形成保護膜 609 〇 而’形成保護膜609後’彩色渡光片600轉移至次步驟之 116700.doc -27- 1297307 作為透明電極之IT〇(Indium Tin 〇xide:銦錫氧化物)等之 附膜步驟。 圖8係表示作為使用上述彩色濾光片6〇〇之液晶顯示裝置 之一例被動矩陣型液晶裝置(液晶裝置)之概略構成之要部 剖面圖。在此液晶裝置620安裝液晶驅動用ic、背光源、 支持體等附帶元件時,可獲得作為最終製品之穿透型液晶 顯示裝置。又,彩色濾光片600因與圖7A_7E所示相同,故 在對應之部位附以同一符號而省略其說明。 此液晶裝置620係由彩色濾光片600、玻璃基板等構成之 相向基板621及挾持於此等之間之STN(Super Twisted Nematic :超扭轉向列)液晶組成物構成之液晶層622所概 略構成,將彩色濾光片600配置於圖中上側(觀察者側)。 又’雖未圖示,但在相向基板621及彩色濾光片600之外 面(與液晶層622側相反側之面),分別配設有偏光板,且在 位於相向基板621侧之偏光板之外侧配設有背光源。 在彩色濾光片600之保護膜609上(液晶層侧),於圖8之 左右方向以特定間隔形成多數長條之長方形狀之第1電極 623,以覆蓋此第1電極623之彩色濾光片600侧之相反側之 面方式形成第1定向膜624。 另一方面,在相向基板621朝向彩色濾光片600之面,於 正交於彩色濾光片600之第1電極623之方向,以特定間隔 形成多數長條之長方形狀之第2電極626,以覆蓋此第2電 極626之液晶層622側之面方式形成第2定向膜627。此等第 1電極623及第2電極626係利用ITO等透明導電材料所形 116700.doc -28- 1297307 • 成。 設於液晶層622内之隔層628係用於將液晶層622之厚度 (π件間隙)保持於一定用之構件。又,密封材料629係用來 防止液晶層622内之液晶組成物漏出外部之構件。又,第工 電極623之一端部係延伸至密封材料629之外侧,作為外環 配線623a。 而,第1電極623與第2電極626交叉之部分為畫素,並構 成使彩色濾、光片600之著色層608R、608G、608B位於作為 > 此畫素之部分。 在通吊之I程中,在彩色濾、光片6〇〇,施行第1電極623 之圖案化及第1定向膜624之塗敷而形成彩色濾光片6〇〇側 之部份,並與此個別獨立地在相向基板621,施行第2電極 626之圖案化及第2定向膜627之塗敷而形成相向基板621側 之部份。其後,在相向基板621側之部分形成隔層628及密 封材料629,在此狀態下,貼合彩色濾光片6〇〇側之部份。 .接著,由密封材料629之注入口注入構成液晶層622之液 晶,並將注入口封閉。其後,疊層兩偏光板及背光源。 實施型態之液滴喷出裝置1例如係在塗敷構成上述元件 間隙之隔層材料(功能液),並在相向基板621侧之部份貼合 彩色濾光片600側之部份之前,可將液滴(功能液)均勻地塗 敷於密封材料629所圍成之區域。又,上述密封材料629之 印刷也可利用功能液滴喷出頭42施行。另外,第1 ·第2兩 定向膜624、627之塗敷也可利用功能液滴喷出頭42施行。 圖9係表示使用在本實施型態中製造之彩色濾光片6〇〇之 116700.doc -29- 1297307 液晶裝置之第2例之概略構成之要部剖面圖。 此液晶裝置630與上述液晶裝置620大不相同之點在於將彩 色濾光片600配置於圖中下側(與觀察者侧相反之侧)之點上。 此液晶裝置630係在彩色濾光片600與玻璃基板等構成之 相向基板631之間挾持STN液晶構成之液晶層632所概略構 成。又’雖未圖示’但在相向基板631及彩色濾光片600之 外面分別配設偏光板等。 在彩色濾光片600之保護膜609上(液晶層632侧),於圖 中之縱深方向以特定間隔形成多數長條之長方形狀之第i 電極633,以覆蓋此第1電極633之液晶層632侧之面方式形 成第1定向膜634。 在相向基板631朝向彩色濾光片600之面上,於正交於彩 色濾光片600侧之第1電極633之方向,以特定間隔形成多 數長條之長方形狀之第2電極636,以覆蓋此第2電極636之 液晶層632側之面方式形成第2定向膜637。 在液晶層632内,形成將此液晶層632之厚度保持於一定 用之隔層638、與防止液晶層632内之液晶組成物漏出外部 用之密封材料639。 而’與上述液晶裝置620同樣地,第1電極633與第2電極 636交叉之部分為晝素,並構成使彩色濾光片6〇〇之著色層 608R、608G、608B位於作為此畫素之部分。 圖10係表示使用適用本發明之彩色濾光片600構成液晶 裝置之第3例,表示穿透型之TFT(Thin Film Transistor :薄 膜電晶體)型液晶裝置之概略構成之分解立體圖。 116700.doc -30- !2973〇7 此液晶裝置650係將彩色濾光片600配置於圖中上侧(觀 察者側)。 此液晶裝置650係利用彩色濾光片600、配置成與此相向 之相向基板65 1、挾持於此等之間之未圖示之液晶層、配 置於彩色濾光片600之上面側(觀察者側)之偏光板655及配 置於相向基板651之下面側之偏光板(省略圖示)所概略構 成。 在彩色濾光片600之保護膜609表面(相向基板651側之 _ 面)形成液晶驅動用電極656。此電極656係由ITO等透明導 電材料所構成,成為覆蓋形成後述晝素電極660之全區域 之全面電極。又,在覆蓋電極656與晝素電極660相反側之 . 面之狀態設有定向膜657。 在相向基板651朝向彩色濾光片600之面形成有絕緣層 658,在此絕緣層658上以互相正交狀態形成掃描線661及 信號線662。在此等掃描線661與信號線662圍成之區域内 _ 形成畫素電極660。又,在實際之液晶裝置中,在畫素電 極660上設有定向膜,唯在此省略其圖示。 又’在畫素電極660之缺口部及掃描線661與信號線662 圍成之《卩伤’裝入具備源極電極、沒極電極、半導體及閘 極電極之薄膜電晶體663而構成液晶裝置。又,可藉對掃 描線661與信號線662施加電壓,而構成可使薄膜電晶體 663通電•斷電以施行對晝素電極66〇之通電控制。 又’上述液晶裝置620、630、650雖採用穿透型之構 成,但亦可設置反射層或半穿透反射層而構成反射型之液 116700.doc -31- 1297307 晶裝置或半穿透反射型之液晶裝置。 其次’圖11係有機EL裝置之顯示區域(以下僅稱液晶裝 置700)之要部剖面圖。 此液晶裝置700係在基板(w)701上以疊層電路元件部 702、發光元件部7〇3及陰極7〇4之狀態所概略構成。 在此液晶裝置700中,由發光元件部703向基板701側發 射之光係穿透電路元件部7〇2及基板701而向觀察者侧出 射’且由發光元件部703向基板7〇1之相反侧發射之光經陰 極704反射後,穿透電路元件部702及基板701而向觀察者 側出射。 在電路元件部702與基板701間形成矽氧化膜構成之底層 保護膜706,在此底層保護膜706上(發光元件部703側)形成 多晶矽膜構成之島狀之半導體膜707。在此半導體膜707之 左右區域,利用高濃度陽離子植入分別形成源極區域707a 及汲極區域707b。而,未被陽離子植入之中央部則成為通 道區域707c。 又,在電路元件部702,形成覆蓋底層保護膜706及半導 體膜707之透明之閘極絕緣膜708。在對應於此閘極絕緣膜 708上之半導體膜707之通道區域707c之位置,形成例如由 A卜Mo、Ta、Ti、W等構成之閘極電極709。在此閘極電 極709及閘極絕緣膜708上,形成透明之第1層間絕緣膜 711a、第2層間絕緣膜711b。又,貫通第1、第2層間絕緣 膜711a、711b而形成分別連通半導體膜707之源極區域 707a、汲極區域707b之接觸孔712a、712b。 116700.doc -32- 1297307 ' 而,在第2層間絕緣膜711b上,以圖案化成特定形狀而 形成ITO等構成透明之畫素電極713,此晝素電極713係通 過接觸孔712a而連接於源極區域707a。 又,在第1層間絕緣膜711a上配設電源線714,此電源線 714係通過接觸孔712b而連接於汲極區域707b。 如此,在電路元件部702分別形成連接於晝素電極713之 驅動用之薄膜電晶體715。 上述發光元件部703係由分別疊層於各晝素電極713之功 > 能層717、設於各晝素電極713及功能層717間而劃分各功 能層717之堤岸部718所概略構成。 利用畫素電極713、功能層717、及配設於功能層717上 之陰極704構成發光元件。又,晝素電極713係被圖案化成 平面視呈略矩形所形成,在各晝素電極713間形成堤岸部 718 〇 堤岸部718例如係由SiO、Si〇2、Ti02等無機材料形成之 > 無機物堤岸層718a(第1堤岸層)、及疊層於此無機物堤岸層 718a上而由丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等耐熱性、耐溶劑 性優異之光阻形成之剖面梯形之有機物堤岸層71 (第2堤 厗層)所構成。此丨疋厗部718之一部分係以搭在畫素電極 713之週緣部上之狀態形成。 而,在各埏岸部718之間,形成對晝素電極713向上逐漸 擴開之開口部719。 上述功能層717係由在開口部719内以疊 -上之狀態形成之電洞注入/輸送層717a、及形-成= 116700.doc -33 - 1297307 洞注入/輸送層717a上之發光層717b所構成。又,也可鄰 接於此發光層717b而形成具有其他功能之其他功能層。例 如也可形成電子輸送層。 電洞注入/輸送層717a具有由晝素電極713側輸送電洞而 將其注入發光層717b之機能。此電洞注入/輸送層717a係 利用喷出含電洞注入/輸送層形成材料之第丨組成物(功能 液)所形成。作為電洞注入/輸送層形成材料,使用習知之 材料。 春 發光層71几可發射紅色(R)、綠色(G)或藍色(B)中之一種 色光,係利用喷出含發光層形成材料(發光材料)之第2組成 物(功能液)所形成。作為第2組成物之溶劑(非極性溶劑), , 最好使用不溶於電洞注入/輸送層717a之習知之材料。在 發光層717b之第2組成物使用此種非極性溶劑,可形成發 光層717b而不會使其再溶解電洞注入/輸送層717a。 而,構成在發光層717b,使由電洞注入/輸送層717&注 φ 入之電洞與由陰極704注入之電子在發光層再耦合而發 光。 陰極704係以覆蓋發光元件部7〇3之全面之狀態形成,與 晝素電極713成對而發揮使電流流至功能層7丨7之作用。 又,在此陰極704上部配置有未圖示之封閉構件。 其次,一面參照圖12〜圖20, 一面說明上述顯示裝置7〇〇 之製程。此顯示裝置700如圖12所示,係經由堤岸部形成 步驟(sm)、表面處理步驟(S112)、電洞注入/輸送層形成 步驟(S113)、發光層形成步驟(S114)及相向電極形成步驟 116700.doc -34- 1297307 (i5)所製成。又,製程並不限定於例示之製程,可依照 需要而有排除其他步驟之情形,及追加之情形。 首先,在堤岸部形成步驟(S111),如圖13所示,在第2層 間絕緣膜71 lb上形成無機物堤岸層718a。此無機物堤岸層 718a係在形成位置形成無機物膜後,利用光微影照相技術 專將此無機物膜圖案化所形成。此時,無機物堤岸層71 h 之一部分係形成與畫素電極713之周緣部重疊。 形成無機物堤岸層718a後,如圖14所示,在無機物堤岸 ►層718a上形成有機物堤岸層71讣。此有機物堤岸層71扑也 與無機物堤岸層718a同樣利用光微影照相技術等將其圖案 化所形成。 以如此方式形成堤岸部7丨8。又,與此同時,在各堤岸 部718間形成對晝素電極713向上方開口之開口部719。此 開口部719規定畫素區域。 在表面處理步驟(S112),施行親液化處理及撥液化處 _ 理施彳亍親液化處理之區域為無機物堤岸層718a之第1疊 層部718aa及畫素電極713之電極面713a,此等區域例如係 利用以氧為處理氣體之電漿處理將表面處理成親液性。此 電漿處理也兼施行畫素電極713之ITO之洗淨等。 又,撥液化處理係在有機物堤岸層718b之壁面718s及有 機物i疋厗層718 b之上面7181施行’例如利用以4氟化甲烧 為處理氣體之電漿處理將表面氟化處理(處理成撥液性)。 藉施行此表面處理步驟’在利用功能液滴喷出頭42形成 功能層717之際,可使功能液滴更確實命中畫素區域,且 116700.doc -35- 1297307 ^ 可防止命中畫素區域之功能液滴由開口部719溢出。 而’經由以上之步驟,可獲得液晶裝置基體700a。此液 曰曰裝置基體7 0 0 A係被載置於圖1 a所示之液滴喷出裝置1之 安置台21,被施行以下之電洞注入/輸送層形成步驟(S113) 及發光層形成步驟(S114)。 如圖15所示,在電洞注入/輸送層形成步驟(S113)中,利 用功能液滴喷出頭42向晝素區域之各開口部719内喷出含 電洞注入/輸送層形成材料之第1組成物。其後,如圖丨6所 _ 示,施行烘乾處理及熱處理,蒸發第丨組成物所含之極性 溶劑,在畫素電極(電極面713a)713上形成電洞注入/輸送 層 717a。 其次,說明有關發光層形成步驟(S114)。在此發光層形 成步驟中,如上所述,為防止電洞注入/輸送層717a之再 溶解’作為發光層形成之際使用之第2組成物之溶劑,使 用不溶於電洞注入/輸送層717a之非極性溶劑。 _ 但’另一方面,電洞注入/輸送層717 a對非極性溶劑之 親和性較低,故即使將含非極性溶劑之第2組成物噴出於 電洞注入/輸送層717a上,也會有不能使電洞注入/輸送層 717a與發光層717b密接或不能均勻地塗敷發光層71几之 虞。 因此’為提南對非極性溶劑及發光層形成材料之電洞注 入/輸送層717a之表面之親和性,最好在發光層形成前施 行表面處理(表面改性處理)。此表面處理係利用將與發光 層形成之際使用之第2組成物之非極性溶劑同一溶劑或類 116700.doc -36 - 1297307 似溶劑之表面改性材料塗敷於電洞注入/輸送層717a上, 將其烘乾之方式施行。 施行此種處理時,電洞注入/輸送層717a之表面容易與 非極性溶劑親和,在其後之步驟中,可將含發光層形成材 料之第2組成物均勻地塗敷於電洞注入/輸送層717a上。 而,其次,如圖17所示,將含對應於各色中之一色(在 圖17之例中為藍色(B))之發光層形成材料之第2組成物特定 量喷入畫素區域(開口部719)内作為功能液滴。喷入晝素區 域之第2組成物會在電洞注入/輸送層717a上擴散而充滿開 口部719内。又,萬一第2組成物超出晝素區域而命中於堤 岸部718之上面718t之情形,也由於此上面718t如上所述已 被施行撥液處理,故容易使第2組成物滾入開口部719内。 其後,藉施行烘乾處理等,將喷出後之第2組成物烘乾 處理,蒸發第2組成物所含之非極性溶劑,如圖18所示, 在電洞注入/輸送層717a上形成發光層717b。本圖之情 形,形成對應於藍色(B)之發光層717b。 同樣地’使用功能液滴喷出頭42,如圖19所示,逐次施 行與對應於上述藍色(B)之發光層717b之情形同樣之步 驟’形成對應於其他色(紅色(R)及綠色(B))之發光層 717b。又,發光層717b之形成順序並不限定於例示之順 序’可以任何順序形成。例如,也可依照發光層形成材料 決定形成之順序。又,作為r· G · B之3色之排列圖案, 有條狀排列、鑲嵌排列及三角排列等。 利用如上方式,可在晝素電極713上形成功能層717,即 116700.doc -37- 1297307 , 形成電洞注入/輪送層717a及發光層717b。而後,轉移至 相向電極形成步驟(s 115)。 在相向電極形成步驟(S115)中,如圖2〇所示,在發光層 717b及有機物堤岸層718b之全面例如以蒸鍍法、濺射法、 CVD法等形成陰極704(相向電極)。此陰極7〇4在本實施型 態中,例如利用疊層鈣層與鋁層所構成。 在此陰極704之上部,適宜地設置作為電極之A〗膜、Ag 膜、及其氧化防止用之Si〇2、SiN等保護層。 _ 如此,形成陰極704後,藉施行利用封閉構件封閉此陰 極704之上部之封閉處理及配線處理等之其他處理等,而 獲得顯示裝置700。 其次,圖21係電漿型顯示裝置(PDP裝置;以下僅稱顯示 裝置800)之要部分解立體圖。又,在同圖中,將顯示裝置 800以局部切剖狀態予以表示。 此顯示裝置800係由互相相向地配置之第1基板8〇1 '第2 _ 基板802、及形成於此等之間之放電顯示部803所概略構 成。放電顯示部803係由多數放電室805所構成。此等多數 放電室805中,紅色放電室805R、綠色放電室805G、藍色 放電室805B之3個放電室805成組被配置構成1個畫素。 在第1基板801之上面以特定間形成條狀之位址電極 8〇6,以覆蓋此位址電極806與第1基板801上面方式形成有 電介質層807。在電介質層807上,以位於各位址電極806 間且沿著各位址電極806方式立設隔牆808。此隔墙808包 含如圖所示向位址電極806之寬方向兩側延伸之隔墙、與 116700.doc •38- 1297307 向正交於位址電極806之方向延伸之未圖示之隔墻。 而,被此隔墙808所分隔之區域則成為放電室8〇5。 在放電室805内配置螢光體8〇9。螢光體8〇9係用於發出 紅(R)、綠(G)、藍(B)中之一色螢光’在紅色放電室⑽化 之底部配置著紅色螢光體809R,在綠色放電室8〇5G之底 部配置著綠色螢光體809G,在藍色放電室8〇53之底部配 置著藍色螢光體809B。 在第2基板802之圖中下侧之面,於正交於上述位址電極 806之方向,以特定間形成條狀之多數顯示電極以卜而, 以復蓋此等之方式形成電介質層812、及Mg〇等構成之保 護膜813。 第1基板801與第2基板802係以使位址電極8〇6與顯示電 極811互相正交狀態相向地被貼合。又,上述位址電極 與顯示電極8 11係被連接於未圖示之交流電源。 而,藉使各電極806、8U通電,可在放電顯示部8〇3中 激發螢光體809使其發光,以施行彩色顯示。 在本實施型態中,可利用圖1A所示之液滴噴出裝置 成上述位址電極806、顯示電極811及螢光體8〇9。以下, 舉例說明第1基板801之位址電極8〇6之形成步驟。 此情形,係在將第1基板801載置於液滴喷出裝置丨之安 置台21之狀態下施行以下之步驟。 首先,作為功能液滴喷出頭42,使含有導電膜配線形成 用材料之液體材料(功能液)命中位址電極形成區域。此液 體材料係使金屬等導電性微粒子分散於分散媒中,以作為 116700.doc -39- 1297307 導電膜配線形成用材料。作為此導電性微粒子,使用含有 金銀、銅、鈀或鎳之金屬微粒子、或導電性聚合物等。 對作為補充對象之所有位址電極形成區域,完成液體材 料之補充後,將噴出後之液體材料烘乾處理,藉蒸發液體 材料所含之分散媒,以形成位址電極806。 而’在上述中’雖舉列說明位址電極8〇6之形成情形, 但上述顯示電極811及螢光體809也可經由上述各步驟形 成。 形成顯不電極811之情形,與位址電極806之情形同樣 地,使含有導電膜配線形成用材料之液體材料(功能液)命 中顯示電極形成區域,以作為功能液滴。 又,形成螢光體809之情形,由功能液滴喷出頭42喷出 含有對應於各色(R、G、B)之螢光材料之液體材料(功能 液)以作為液滴’使其命中對應色之放電室8 〇 5内。 其次,圖22係電子釋放装置(又稱FED裝置或SED裝置, 以下僅稱顯示裝置900)之要部剖面圖。又,在同圖中,以 剖面表示顯示裝置900之一部分。 此顯示裝置900係由互相相向地配置之第1基板9〇ι、第2 基板902及形成於此等之間之電場釋放顯示部9〇3所概略構 成。電場釋放顯示部903係由配置成矩陣狀之多數電子釋 放部905所構成。 在第1基板901之上面,構成陰極電極9〇6之第1元件電極 906a及第2元件電極906b係以相互正交方式形成。又,在 被第1元件電極906a及第2元件電極9〇6b所分隔之部份,形 116700.doc -40- 1297307 .成有形成間隙908之導電性膜907。即,利用第丄元件電極 9〇6a、第2元件電極906b及導電性膜9〇7構成多數之電子釋 放部905。導電性膜907例如係由氧化鈀(pd〇)等所構成, 又,間隙908係在導電性膜907成膜後,以成型模等形成。 在第2基板902之下面,形成與陰極電極9〇6對峙之陽極 電極909。在陽極電極909之下面形成格子狀之堤岸部 911,在此堤岸部911所包圍之向下之各開口部912,以對 應於電子釋放部905方式配置螢光體913。螢光體913係用 ►於發出紅(R)、綠(G)、藍(B)中之一色螢光,在各開口部 912 ’以上述特定圖案配置著紅色螢光體913R、綠色榮光 體913G及藍色螢光體913B。 而,如此所構成之第1基板901與第2基板902係隔著微小 之間隙相貼合。在此顯示裝置900中,可介著導電性膜(門 隙908)907,由陰極之第1元件電極906a或第2元件電極 906b迸出之電子碰撞到形成於陽極之陽極電極9〇9之榮光 體913而激發發光,並施行彩色顯示。 I 此情形,也與其他實施型態同樣地,可利用液滴噴出裝 置1形成第1元件電極906a、第2元件電極906b、導電性膜 907及陽極電極909,並可利用液滴喷出裝置1形成各色榮 光體 913R、913G、913B。 第1元件電極906a、第2元件電極906b及導電性膜9〇7具 有如圖23 A所示之平面形狀,欲將此等成膜之情形,如圖 23B所示,事先留下形成第1元件電極906a、第2元件電極 906b及導電性膜907之部份,而形成(利用光微影照相法)堤 116700.doc -41 - 1297307 岸部BB。其次,在堤岸部BB所構成之溝部分形成(利用液 滴喷出裝置1之噴墨法)第1元件電極9〇6a及第2元件電極 906b ’烘乾其溶劑而成膜後,形成(利用液滴喷出裝置1之 喷墨法)導電性膜907。而,在導電性膜907成膜後,除去 堤岸部BB(灰化剝離處理),並轉移至上述之成型模處理。 又,與上述有機EL裝置之情形同樣地,最好施行對第1基 板901及第2基板902之親液化處理及對堤岸部911、BB之撥 液化處理。 又,作為其他光電裝置,可考慮金屬配線形成、透鏡形 成、光阻形成及光擴散形成等之裝置。可藉將上述液滴喷 出裝置1使用於各種光電裝置(元件)之製造,而有效地製造 各種光電裝置。 【圖式簡單說明】 圖1A-B係本發明之實施型態之液滴喷出裝置之說明圖, 1A係液滴喷出裝置之平面圖,iB係工件之放大平面圖。 圖2A-B係本發明之實施型態之液滴喷出裝置之說明圖, 2A係液滴喷出裝置之侧面圖,2B係工件之安置台周圍之 放大側面圖。 圖3係喷頭板周圍之平面圖。 圖4A-B係功能液滴喷出頭之外觀立體圖。 圖5係說明有關液滴喷出裝置之主控制系之區塊圖。 圖6係說明彩色濾光片製程之流程圖。 圖7A-E係依製程順序所示之彩色濾光片之模式剖面圖。 圖8係表示使用適用本發明之彩色濾光片之液晶裝置之 116700.doc -42- 1297307 概略構成之要部剖面圖。 圖9係表示使用適用本發明之彩色濾光片之第2例之液晶 裝置之概略構成之要部剖面圖。 圖10係表示使用適用本發明之彩色濾光片之第3例之液 晶裝置之概略構成之要部剖面圖。 圖11係有機EL裝置之顯示裝置之要部剖面圖。 圖12係說明有機EL裝置之顯示裝置之製程之流程圖。 圖13係說明無機物堤岸層之形成之步驟圖。 圖14係說明有機物堤岸層之形成之步驟圖。 圖15係說明電洞注入/輸送層之形成過程之步驟圖。 圖16係說明電洞注入/輸送層之形成狀態之步驟圖。 圖17係說明藍色發光層之形成過程之步驟圖。 圖18係說明藍色發光層之形成狀態之步驟圖。 圖19係說明各色發光層之形成狀態之步驟圖。 圖20係說明陰極之形成之步驟圖。 圖21係電漿型顯示裝置(PDP裝置)之顯示裝置之要部分 解立體圖。 圖22係電子释放裝置(FED裝置)之顯示裝置之要部剖面 圖。 圖23A-B係表示顯示裝置之電子釋放部周圍之平面圖 (23 A)及其形成方法之平面圖(23B)。 【主要元件符號說明】 1 液滴喷出裝置 2 描繪裝置 116700.doc -43- 1297307
3 捲出裝置 4 輸送裝置 5 捲取裝置 6 控制裝置 21 安置台 31 吸附台 32 Θ台 42 功能液滴喷出頭 71 工件對準相機 101 沖洗單元 111 沖洗箱 142 捲出捲軸 182 捲取捲軸 W 工件 a 實際描繪區域 b 對準標記 116700.doc -44
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1297307 十申清專利範圍: 1 _ 一種液滴嗜屮雖m 鱼工作置’其特徵在於其係-面使液滴噴出頭 與^作相對移動,—㈣行功賓出項 述==;機構’前述噴頭保養機構係配置於前 2.如請求項1之液滴嘴出裝置,其中 前述噴頭保養機 噴出之沖洗單元。 朿自前述液滴嗔出頭之 3·如請求項1之液滴噴出裝置,JL中 前述噴㈣錢㈣含有則^ 藉由吸引前述液滴嘖屮㈤^ .ψ „ ^ . 、出頭,以強制性排出來自前述液滴 喷出頭之喷出噴嘴之功能液。 d离 4·如請求項1之液滴噴出裝置,其中 。 陈片材擦取前述液滴喷出頭之噴嘴 面。 5.如請求項1之液滴噴出裝置,其中 前述喷頭保養機構係 以檢查功能液是否…:嘴出不良檢查早-,其係用 序J途液滴噴出頭適當地喷出。 116700.doc
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JP4371037B2 (ja) * | 2004-10-21 | 2009-11-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法 |
JP4042737B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2008-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成システム |
JP4086878B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2008-05-14 | シャープ株式会社 | 液滴塗布装置 |
JP4086879B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2008-05-14 | シャープ株式会社 | 液滴塗布装置 |
JP5593740B2 (ja) * | 2010-03-05 | 2014-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録装置 |
KR101181196B1 (ko) | 2010-03-25 | 2012-09-18 | 엘지이노텍 주식회사 | 유연성 필름용 인쇄 장치 |
JP6070084B2 (ja) * | 2012-11-07 | 2017-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
CN111989164B (zh) * | 2018-03-28 | 2022-02-25 | 马西莫·伯托拉的电动比姆公司 | 用液体产品对刚性面板的主要表面进行涂覆、特别是涂漆的装置 |
CN111421968B (zh) * | 2019-01-10 | 2023-06-09 | 松下知识产权经营株式会社 | 搬运台以及使用该搬运台的喷墨装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69923483T2 (de) * | 1998-07-08 | 2006-01-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma | Verfahren zur Herstellung einer Plasma-Anzeigetafel mit ausgezeichneter Bildqualität |
US6261012B1 (en) | 1999-05-10 | 2001-07-17 | Fargo Electronics, Inc. | Printer having an intermediate transfer film |
JP2001071521A (ja) | 1999-09-08 | 2001-03-21 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットプリンタ |
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JP2001293852A (ja) | 2000-04-17 | 2001-10-23 | Canon Inc | インクジェットプリント装置 |
US6682171B2 (en) * | 2001-02-13 | 2004-01-27 | Seiko Epson Corporation | Ink jet head unit and ink jet printing apparatus incorporating the same |
CN2472928Y (zh) * | 2001-04-14 | 2002-01-23 | 谢远生 | 数码喷印机 |
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