TWI254307B - Spin-coating device and method of producing disk-like recording medium - Google Patents
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- 238000004528 spin coating Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 56
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 55
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 50
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims description 15
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/266—Sputtering or spin-coating layers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
- B05D1/005—Spin coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/10—Digital recording or reproducing
- G11B20/12—Formatting, e.g. arrangement of data block or words on the record carriers
- G11B2020/1264—Formatting, e.g. arrangement of data block or words on the record carriers wherein the formatting concerns a specific kind of data
- G11B2020/1288—Formatting by padding empty spaces with dummy data, e.g. writing zeroes or random data when de-icing optical discs
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B2220/00—Record carriers by type
- G11B2220/20—Disc-shaped record carriers
- G11B2220/25—Disc-shaped record carriers characterised in that the disc is based on a specific recording technology
- G11B2220/2537—Optical discs
- G11B2220/2541—Blu-ray discs; Blue laser DVR discs
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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- Materials For Photolithography (AREA)
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Description
1254307 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】
本發明是關於一種在大致圓板形狀所構成的磁碟體上 利用旋轉塗佈法形成塗膜的裝置。詳言之,是關於一種在 製造CD、CD-R、CD-RW等的CD系磁碟或DVD-ROM、 DVD-R、DVD-RW、DVD-RAM等的DVD系磁碟或是近年 來逐漸開發的藍激光(blue laser)對應磁碟等的光碟、或是 MO、MD等的光磁碟時,用來供應·排出及洗淨利用旋轉 塗佈法進行成膜時所使用的遮罩的裝置。 【先前技術】
旋轉塗佈是將液狀材料供應至磁碟體的中心附近,並 且使磁碟體旋轉以利用旋轉所產生的離心力使該液狀材料 延展,而在磁碟體表面形成該液狀材料之被膜的技術。旋 轉塗佈被廣爲利用在例如光碟、DVD系磁碟等之保護層 的形成等。 這些磁碟由於形成有安裝於磁碟驅動裝置時爲使盤芯 露出的孔(例如1 5 0 ),而且有進行擠出成形時用來保持 壓模(stamper)的凹槽等,因此不會在磁碟基板的中心部形 成膜(層)。所以要在這些磁碟上利用旋轉塗佈的手法進行 膜形成(塗膜)時是從上述凹槽等的外周部分開始進行塗佈 。如果要求更均一的塗膜,則是設置用來覆蓋磁碟基板之 中心部的遮罩,然後從其上方供應塗佈劑以形成塗膜,藉 此避免在基板中心部施以塗佈。 -5- (2) 1254307 第6圖顯示磁碟之旋轉塗佈裝置當中的遮罩的 。第6圖是設置於旋轉塗佈裝置之旋轉裝置上的磁 放置於其上的遮罩的剖視圖。在連接於未圖示之電 受到旋轉驅動的旋轉軸200上固定有旋轉台202。 台2 02上固定有間隔件203,且在其上方放置有磁 。磁碟204是藉由未圖示的手段真空吸附在間隔件 在磁碟204上放置有用來覆蓋磁碟之中心部的遮罩 此時,設在旋轉台202之上面中央部附近的環狀突 與遮罩206的環狀凹槽206a是相互嵌合的狀態。 旋轉塗佈時是經由路徑2 1 0使旋轉台2 0 2之中央部 2 1 2形成真空狀悲’藉此吸附並保持遮罩2 0 6。 進行塗佈時是在遮罩的中央部附近從上方供應 塗佈材料。然後使旋轉台以高速旋轉,並藉由旋轉 力使供應至遮罩上的塗佈材料延展至磁碟上未被遮 蓋的部分全面。藉此即可在磁碟的整個上述部分以 一的厚度形成塗佈材料的膜(層)。當以上的旋轉塗 結束時,解除遮罩的真空吸附,然後卸下遮罩。 如以上所述,在磁碟上進行膜形成之後,爲了 硬化’可對於磁碟表面進行紫外線照射或磁碟的加 理。此外’近年來逐漸開發的藍激光對應的DVR ’由於是將波長較短的藍激光使用在資訊的讀取等 必須以更均一的厚度來進行塗佈材的塗佈。本案申 案一種使塗佈材在磁碟上保持高的均一性,同時進 ,而且大致連續進行直到塗膜硬化爲止的方式,以 使用例 碟以及 動機而 在旋轉 碟2 0 4 203 〇 206 ° 起205 要進行 的空間 液狀的 的離心 罩所覆 大致均 佈作業 使該膜 熱等處 磁碟等 ,因此 請人提 行塗佈 作爲用 1254307 (3) 來製造這種DVR磁碟等的裝置。 在迨種方式當中’通常是事先準備有多數個遮罩,然 後在各個磁碟依序供應這些遮罩,並且進行膜形成步驟。 遮罩在其表面殘留有塗佈材料的情況下,如果在其表面又 供應塗佈材料’則在碟上要獲得均一塗膜的條件可能會 有所不同。而且’在遮罩206與磁碟204的交界部(第6 圖中A所示的部分。)若殘留有塗佈材料,則使遮罩2 〇 6 從磁碟2 0 4剝離時,將會污染遮罩2 〇 6的背面。若連續使 用同一遮罩’則接下來使用此遮罩來形成塗膜的磁碟也可 能會因爲此污染而受到污染。因此,在結束各個膜形成步 驟之後必須丟棄遮罩,或是必須去除在其表面所存在的塗 佈材料,通常在塗佈材附著後的遮罩累積到某程度以上之 數量時,就會將這些集中在洗淨溶劑等來浸泡,並且進行 爲去除塗佈材的處理。 如前面所述,在進行塗佈材料的塗佈時,遮罩2 〇 6與 磁碟204的交界部分(第6圖中a所示的部分)也是由塗佈 材料所覆蓋。在此交界部分通常存在有遮罩206端部所導 致的段差。但是,想要使塗膜的均一部分盡量靠近此交界 部分時’遮罩206端部必須盡量使其厚度變薄,而且爲了 確實密接於磁碟1 0 4表面還必須有充分的平面度。亦即, 遮罩206的周圍前端是加工成薄且前端尖銳的形狀。 然而’如上所述,將多數個遮罩集中起來洗淨的情況 下’由於會使這些相互接觸,因此可能會使此前端部受損 ’並且產生無法在下一個步驟使用的遮罩。因此,這種洗 -7- (4) 1254307 淨遮罩並使其乾燥等的步驟需要很多時間,從磁碟作成的 成本削減及產品管理等的觀點來看,還有許多尙待改善的 地方。 【發明內容】 本發明是鑒於上述課題而硏創者,其目的在於提供一 種不會發生遮罩之破損而可進行遮罩之洗淨等的方法及裝 置。而且,本發明提供一種可反覆使用該狀態受到充分管 理的遮罩以連續進行磁碟等之生產的旋轉塗佈裝置及磁記 錄媒體的製造方法。 爲了解決上述課題,本發明的旋轉塗佈裝置是將液狀 材料供應至磁碟體的中央附近,並且使磁碟體旋轉以利用 離心力使該液狀材料延展,而在磁碟體上進行爲形成液狀 材料之塗膜的旋轉塗佈者,其特徵爲具有:保持磁碟體而 使其旋轉的旋轉機構;在旋轉機構當中,當磁碟體旋轉時 將用來覆蓋磁碟體之中心及其附近的遮罩供應至磁碟體上 ’並且在磁碟的旋轉結束後從磁碟體上去除遮罩的遮罩供 應排除機構;在旋轉機構當中,當磁碟體及遮罩受到保持 #且旋轉時,將前述液狀材料供應至磁碟體及/或遮罩上 的給料機構;以及從遮罩供應排除機構接收附著有液狀材 料的遮罩,並且洗淨去除所接收之遮罩上所附著的液狀材 料’再將洗淨完畢的遮罩交給遮罩供應排除機構的洗淨機 構。 此外,前述旋轉塗佈裝置當中,遮罩供應排除機構最 1254307 (5) 好具有:本身具有用來握持及釋放遮罩之夾頭機構的遮罩 供應臂部;以及在與遮罩供應臂部之間進行遮罩之授受, 並且每次以預定角度間斷性旋轉的遮罩台。 而且,洗淨機構最好具有:本身具有用來洗淨遮罩之 洗淨劑的至少一個洗淨部;用來沖洗遮罩上所附著之洗淨 劑的沖洗部;用來使沖洗後的遮罩乾燥的乾燥部;以及握 持住遮罩,並且將前述遮罩***洗淨部、沖洗部及乾燥部 的搬送用臂部。再者,洗淨部、沖洗部及乾燥部最好是在 具有預定半徑的大致圓周上相隔預定角度而配置,搬送用 臂部最好是以圓周的中心爲旋轉中心每次以預定角度間斷 性旋轉,並且在旋轉停止時將遮罩***洗淨部、沖洗部及 乾燥部。 再者,本發明之目的也是爲了提供一種使用前述旋轉 塗佈裝置經進行過塗佈的磁碟體。 另外,爲了解決上述課題,本發明的製造方法是在磁 碟體上至少藉由旋轉塗佈來形成塗膜,並製造碟狀記錄媒 體的方法,其特徵爲具有以下步驟:將前述磁碟體載置於 能以特定軸爲中心而旋轉的旋轉裝置上,並且從具有遮罩 之供應及接收用位置至少一個遮罩之待機位置的遮罩台上 ’將遮罩載置於磁碟體上的大致中央部,將塗佈材供應至 磁碟體及遮罩上,並且使旋轉裝置旋轉之後,從磁碟體上 去除遮罩’使遮罩回到遮罩台之供應及接收用位置,並且 使磁碟體上的塗佈劑固化的步驟,對於從磁碟體上去除的 遮罩是立刻依序進行以下各處理:爲洗淨遮罩上所附著之 1254307 (6) 塗佈劑之***至少一個洗淨部、爲沖洗遮罩上所附著之洗 淨劑之***沖洗部、以及爲使遮罩乾燥之***乾燥部的各 處理,並且將經過各處理的遮罩依序載置於下一個磁碟體 上。 【實施方式】 以下,參照圖面來說明本發明的較佳實施形態。第1 圖是本發明實施形態之旋轉塗佈裝置當中的旋轉塗佈機及 遮罩供應部等本發明之要部構成的槪略俯視圖。未圖示的 基板是保持在構成旋轉機構之一部分的旋轉裝置4 0的中 央部,可進行基板的旋轉及塗佈材的塗佈。本身爲遮罩供 應排除機構的遮罩供應排出部5 0是由遮罩台5 5、遮罩移 動用臂部5 1、及臂部驅動機構5 2所構成。 遮罩台5 5是以軸A爲中心,在對應於圖面中5 5 a至 5 5 d四個位置的各預定角度停止預定時間,如此朝圖面中 箭頭D所示的方向間斷性進行旋轉動作。 第2圖是從位置55c方向觀看遮罩移動用臂部51等 時的側面槪略構成。在遮罩台5 5上的位置5 5 a上載置有 本身具有上部突起56b的遮罩56。遮罩移動用臂部51可 透過配置於臂部驅動機構5 2的汽缸5 7而上下驅動。配置 於遮罩移動用臂部5 1之前端部的夾頭機構5 3藉由汽缸 57,會與臂部51 —同下降至可握持住上述突起56b的高 度。再從外部將驅動用氣體等供應至夾頭機構52而關閉 夾頭,並握持住上部突起5 6b。然後,遮罩移動用臂部5 1 -10- (7) 1254307 會與保持有遮罩5 6的夾頭機構5 3 —同上升至預定高度, 並且由臂部驅動機構5 2驅動直到該遮罩5 6位於旋轉裝置 4〇之中央正上方。在該位置當中,進行遮罩移動用臂部 等之下降、遮罩上部突起5 6 b之藉由夾頭機構5 3的握持 釋放,並且將遮罩載置於基板上。 塗佈材附著後的遮罩56是使遮罩移動用臂部51及夾 頭機構5 3進行與先前所述之遮罩5 6載置相反的動作,藉 此從未圖示的基板上去除。另外,該遮罩56可藉由夾頭 機構53等回到遮罩台55上的位置55a,並且載置於遮罩 台5 5上。該遮罩5 6會隨著遮罩台5 5以軸A爲中心的間 斷性旋轉被搬運至位置55b然後停止,並且在此位置被搬 運至第1圖所示的洗淨部1 2 0。遮罩洗淨部1 2 0是構成遮 罩洗淨機構。 遮罩洗淨部120是由第1及第2洗淨部121、122、 沖洗部1 23、及乾燥部1 24之各處理部;以及用來將遮罩 搬送至這些各處理部及形成遮罩取出供應位置的位置5 5 b 的搬送用臂部1 2 5等所構成。該搬送用臂部〗2 5是在對應 於各處理部及位置55b的各個預定角度(在此情況下爲60 度)停止預定時間,如此以其中央部的軸B爲中心朝圖面 中箭頭C所示的方向進行間斷性旋轉動作。另外,搬送用 臂部1 2 5是藉由未圖示的上下驅動機構,在停止預定時間 時進行一定量之下降、一定時間之在下降位置的停止、以 及上升至通常位置的各動作。而且,搬送用臂部125具有 以軸B爲中心’相隔前述預定角度設置成放射狀的複數個 -11 - 1254307 (8) 臂部1 2 5 a至1 2 5 f,且在其前端部配置有洗淨部夾頭機構 126。 第3圖是在位置5 5 b,從側面觀看保持有遮罩5 6之 上部突起5 6 b的洗淨部夾頭機構1 2 6時的槪略構成。該夾 頭機構1 26通常是形成握持狀態,且是藉由外部操作進行 夾頭部之開閉的形式。本實施例是使用汽缸作爲外部操作 機構,並且將可藉由未圖示之驅動機構而上下驅動的洗淨 部用的汽缸1 3 1配置在位置5 5b的正上方。當搬送用臂部 1 25下降而可藉由夾頭機構126握持住位於位置55b的遮 罩之上部突起5 6b時,或是當握持有突起56b的夾頭機構 126下降而將遮罩載置於位置55b上的狀態時,使洗淨部 用汽缸1 3 1下降而與夾頭機構1 26連接,並且使夾頭機構 1 26進行握持或釋放之各動作。 以下,參照分別顯示第1及第2洗淨部當中的遮罩之 洗淨處理、及乾燥部當中的遮罩之乾燥處理之槪略的第3 、4及5圖,並且針對洗淨處理等的步驟加以詳述。在位 置55b當中握持有遮罩的夾頭機構126隨著搬送用臂部 1 2 5的上升動作上升至通常位置之後,會以軸b爲中心旋 轉預定角度,在使其停止、下降、一定時間之停止、上升 之後,再旋轉預定角度。遮罩56可藉由此下降操作而插 入各處理部。本實施形態當中,雖存在有在遮罩洗淨部 1 20之配置關係上與這種實際之洗淨處理沒有關係之遮罩 及夾頭機構1 2 6的上下動作等,但藉由處理部的配置等, 亦可使此動作對於洗淨處理也有幫助。 -12- 1254307 Ο) 夾頭機構1 26會再旋轉預定角度’並且停在第1洗淨 部1 2 1。第1洗淨部1 2 1是由槽內儲存有洗淨溶劑1 2 1 a 的超音波洗淨槽所構成。藉由下降在該停止位置’夾5貝機 構1 26之握持住遮罩的部分及遮罩5 6即可浸泡在施加有 超音波區域之振動的洗淨溶劑1 2 1 a內,而可進行該表面 所附著之塗佈材之溶解等的處理。遮罩5 6在此狀態下保 持一定時間之後,會隨著搬送用臂部1 2 5而上升,然後旋 轉移動至第2洗淨部上方並且停止。 第2洗淨部1 22是由槽內儲存有成分與洗淨溶劑 121a相同之洗淨溶劑122a的超音波洗淨槽所構成,基本 構成與第1洗淨部121相同。藉由使用該洗淨溶劑122a ’對於遮罩5 6表面再度進行超音波洗淨,即可完去溶解 、去除表面上之塗佈材的殘渣。遮罩5 6在保持於第2洗 淨部1 22 —定時間之後,與第丨洗淨部1 2〗的情況同樣會 從該洗淨槽內被取出,並且浸泡在配置於搬送用臂部之下 一個停止位置的沖洗部1 2 3內。 沖洗部1 2 3是由槽內儲存有沖洗劑1 2 3 a的超音波洗 淨槽所構成’基本構成與第1洗淨部〗2 1相同。藉由在該 沖洗劑12Sa內進行遮罩56的沖洗,即可去除遮罩表靣所 殘留的洗淨溶劑1 2 2 a等。因此,沖洗劑1 2 3 a最好是與洗 淨劑1 2 1 a等搭配使用的材料,又最好是比洗淨劑〗2〗&等 谷易蒸發的材料。遮罩5 6在該沖洗部丨2 3內保持一定時 間之後’與第〗洗淨部121的情況同樣會從該洗淨槽內被 取出,並且被移送至配置於搬送用臂部之下一個停止位置 -13- 1254307 (10) 的乾燥部124內。 乾燥部1 24是由用來供應爲去除遮罩表面所附著之沖 洗劑123a的乾燥用氣體的噴嘴127;用來防止所去除之 沖洗劑123a飛散至周邊的覆蓋物128 ;用來排出覆蓋物 1 28內所滯留之沖洗劑的排水管1 29 ;以及用來排出在覆 蓋物內氣化之沖洗劑124a的吸氣管128a所構成。在乾燥 部125當中,附著於遮罩56等之表面上的沖洗劑124a可 藉由吹送從噴嘴127所導入之高淸淨乾燥氮等的乾燥用氣 體而去除,使遮罩5 6的表面上能在淸淨的狀態下乾燥。 結束一定時間之乾燥用氣體的吹送,使遮罩5 6表面 乾燥時,該遮罩56會從乾燥部124以與之前相同的順序 被取出,並且旋轉搬送至位置55b。乾燥結束後的遮罩在 位置5 5 b會被交給遮罩台5 5,並且經由位置5 5 c及5 5 d 而到達位置5 5 a。在該位置5 5 a,洗淨、乾燥後的遮罩5 6 可再度使用在相對於基板的成膜步驟,遮罩5 6與用來握 持遮罩的夾頭機構5 3會一同由臂部移動機構5 2驅動至旋 轉裝置40的中央正上方。以下便反覆執行上述操作。 由於是將以上所述的遮罩洗淨部1 20附加在旋轉塗佈 裝置,並且在每次對於基板進行塗佈材之塗佈時進行遮罩 洗淨的構成,因此不用擔心遮罩之破損而可進行旋轉塗佈 。而且,由於是個別處理遮罩並加以洗淨的構成,因此在 進行旋轉塗佈的同時也可同時進行遮罩管理。因此,可使 用所需最小數量的遮罩來進行旋轉塗佈,且可減少精度較 高的加工步驟及要求確實之管理的遮罩,亦可減少旋轉塗 -14- (11) 1254307 佈的作業成本等。 此外,本實施形態當中,遮罩台的停止位置是設定爲 四個位置,洗淨部當中的搬送用臂部是設定爲6個系統, 但本發明並不限定於此,最好是考慮對於各個基板所要求 的處理時間等、或是更有效率的洗淨處理步驟等來適當進 行變更。亦即,對於一片基板的塗佈時間較短的情況下, 亦可增加遮罩台的停止位置來對應。另外,在洗淨步驟當 中需要較多溶劑等的情況下,則最好增加搬送用臂部及洗 淨部的數量。 而且,本實施例是使洗淨劑121a與122a由同一成分 構成,但亦可因應洗淨的條件等使這些由不同成分構成。 關於各個洗淨部,並不一定需要超音波洗淨,亦可省略此 步驟。反之,亦可在同一洗淨部改變時間而加上頻率不同 之超音波的振動,亦可在使用同一洗淨溶劑等的不同洗淨 部個別獨立加上頻率不同之超音波的振動。另外,使塗佈 劑溶解的藥劑並不限於洗淨溶劑,而可使用有機溶劑、無 機溶劑、酸、鹼等各種藥劑。 另外’本實施形態並未特別提及洗淨溶劑等的溫度, 但洗淨彳谷劑等的溫度最好保持一定。而且,亦可考慮處理 時間等而保持在該沸點以下的預定恆溫下。在此情況下, 在超音波槽等最好附加可進行溫度調節的加熱器以及用來 避免氣化的洗淨溶劑蔓延至周圍的覆蓋物以及吸氣管等。 再者’夾頭機構是使用外部操作型的夾頭機構,但如 果具有更簡單的構造,則不限於本形式,而且,驅動機構 -15- 1254307 (12) 也不限於本實施形態所不的汽缸_。關於臂部移動機構’ 由於可使用各種形式,因此未特別提及’但從停止精度及 簡便性等方面來看,最好是使用由滾珠絲扛等所構成者。 以上所述本發明的遮罩洗淨部是爲了附加在以旋轉裝 置40爲主要構成之旋轉塗佈裝置而提案者。因此,作爲 附加對象的旋轉塗佈裝置並不特別定於該形式等,只要可 確保能附加該遮罩洗淨部之空間等,則可附加於各種形式 的旋轉塗佈裝置。 根據本發明,由於是將以上所述的遮罩洗淨部1 20附 加在旋轉塗佈裝置,並且在每次對於基板進行塗佈材之塗 佈時進行遮罩洗淨的構成,因此不用擔心遮罩之破損而可 進行旋轉塗佈。而且,由於是個別處理遮罩並且加以洗淨 的構成,因此在進行旋轉塗佈的同時也可同時進行遮罩管 理。因此,可使用所需最小數量的遮罩來進行旋轉塗佈, 且可減少精度較高的加工步驟以及要求確實之管理的遮罩 ,亦可減少旋轉塗佈的作業成本等。 【圖式簡單說明】 第1圖是本發明實施形態之旋轉塗佈裝置當中主要部 分之遮罩洗淨部等的槪略構成俯視圖。 第2圖是從側面觀看第1圖所示之遮罩供應排出部 (55a)時的槪略構成圖。 第3圖是從側面觀看第1圖所示之遮罩供應排出部 (55b)時的槪略構成圖。 -16- 1254307 (13) 第4圖是從側面觀看第1圖所示之洗淨部等時的槪略 構成圖。 第5圖是從側面觀看第1圖所示之乾燥部等時的槪略 構成圖。 第6圖是習知旋轉塗佈裝置當中的遮罩之使用例的說 明圖,且是放置於旋轉裝置上的磁碟及遮罩的剖視圖。 【主要元件對照表 ] 40 旋 轉 裝 置 50 遮 罩 供 應 排 出 部 5 1 遮 罩 移 動 用 臂 部 52 臂 部 驅 動 機 構 53 夾 頭 機 構 55 遮 罩 台 56 遮 罩 56b 上 部 突 起 57 汽 缸 120 遮 罩 洗 淨 部 12 1 第 1 洗 淨 部 12 1a 洗 淨 溶 劑 122 第 2 洗 淨 部 122a 洗 淨 溶 劑 123 沖 洗 部 123a 沖 洗 劑
•17- 1254307 (14) 124 乾燥部 125 搬送用臂部 125a 至 125f 臂部 126 夾頭機構 127 噴嘴 128 覆蓋物 128a 吸氣管 129 排水管 13 1 汽缸 200 旋轉軸 202 旋轉台 203 間隔件 204 磁碟 205 環狀突起 206 遮罩 206a 環狀凹槽 2 10 路徑 2 12 空間
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Claims (1)
1254307 (1) 拾、申請專利範圍 1 · 一種旋轉塗佈裝置,是將液狀材料供應至磁碟體的 中央附近,並且使磁碟體旋轉以利用離心力使該液狀材料 延展’而在磁碟體上進行爲形成前述液狀材料之塗膜的旋 轉塗佈者,其特徵爲具有: 保持磁碟體而使其旋轉的旋轉機構; 在前述旋轉機構當中,當前述磁碟體旋轉時將用來覆 蓋前述磁碟體之中心及其附近的遮罩供應至磁碟體上,並 且在前述磁碟的旋轉結束後從前述磁碟體上去除前述遮罩 的遮罩供應排除機構; 在前述旋轉機構當中,當前述磁碟體及遮罩受到保持 並且旋轉時,將前述液狀材料供應至前述磁碟體及/或遮 罩之至少一方的上面的給料機構;以及 從前述遮罩供應排除機構接收附著有前述液狀材料的 遮罩,並且洗淨去除前述所接收之遮罩上所附著的液狀材 料,再將前述洗淨完畢的遮罩交給前述遮罩供應排除機構 的洗淨機構。 2 .如申請專利範圍第1項所記載的旋轉塗佈裝置,其 中,前述遮罩供應排除機構具有:本身具有用來握持及釋 放前述遮罩之夾頭機構的遮罩供應臂部;以及在與前述遮 罩供應臂部之間進行前述遮罩之授受,並且每次以預定角 度間斷性旋轉的遮罩台。 3 .如申請專利範圍第1項所記載的旋轉塗佈裝置,其 中,前述洗淨機構具有:本身具有用來洗淨前述遮罩之洗 -19· 1254307 (2) 淨劑的至少一個洗淨部;用來沖洗前述遮罩上所附著之洗 淨劑的沖洗部;用來使沖洗後的前述遮罩乾燥的乾燥部; 以及握持住前述遮罩,並且將前述遮罩***前述洗淨部、 沖洗部及乾燥部的搬送用臂部。 4·如申請專利範圍第3項所記載的旋轉塗佈裝置,其 中,前述洗淨部、沖洗部及乾燥部是在具有預定半徑的大 致圓周上相隔預定角度而配置,前述搬送用臂部是以前述 圓周的中心爲旋轉中心每次以預定角度間斷性旋轉,並且 在旋轉停止時將前述遮罩***前述洗淨部、沖洗部及乾燥 部。 5 . —種磁碟體,是使用申請專利範圍第1項至第4項 任一項所記載的旋轉塗佈裝置進行過塗佈者。 6 · —種碟狀記錄媒體的製造方法,是在磁碟體上至少 藉由旋轉塗佈來形成塗膜,並製造碟狀記錄媒體的方法, 其特徵爲具有以下步驟: 將前述磁碟體載置於能以特定軸爲中心而旋轉的旋轉 裝置上, 並且從具有遮罩之供應及接收用位置至少一個遮罩之 待機位置的遮罩台上,將前述遮罩載置於前述磁碟體上的 大致中央部, 將前述塗佈材供應至前述磁碟體及遮罩之至少一方的 上面,並且使前述旋轉裝置旋轉,使前述塗佈劑延展而形 成前述塗膜, 從前述磁碟體上去除前述遮罩,使前述遮罩回到前述 -20- 1254307 (3) 遮罩台之供應及接收用位置, 並且使刖述磁碟體上的前述塗佈劑固化的步驟,
對於從則述磁碟體上去除而移到前述遮罩台上的前述 遮罩是依序進行以下各處理:與前述遮罩台一同使其位置 旋轉移動,並且爲了從旋轉移動後的位置洗淨前述遮罩上 所附著之前述塗佈劑之***至少一個洗淨部、爲沖洗前述 遮罩上所附著之洗淨劑之***沖洗部、以及爲使前述遮罩 乾燥之***乾燥部的各處理,並且將經過前述各處理的遮 罩依序載置於下一個磁碟體上。
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002200925A JP2004046945A (ja) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | スピンコーティング装置およびディスク状記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200402720A TW200402720A (en) | 2004-02-16 |
TWI254307B true TWI254307B (en) | 2006-05-01 |
Family
ID=30112544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092118894A TWI254307B (en) | 2002-07-10 | 2003-07-10 | Spin-coating device and method of producing disk-like recording medium |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1553580A4 (zh) |
JP (1) | JP2004046945A (zh) |
KR (1) | KR100616021B1 (zh) |
CN (1) | CN1320543C (zh) |
TW (1) | TWI254307B (zh) |
WO (1) | WO2004008452A1 (zh) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10320850A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-04 | Sony Corp | 光記録媒体の製造方法 |
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JPH11195251A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-21 | Sony Corp | 光記録媒体の製造装置及び製造方法 |
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JPH11213459A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-06 | Sony Corp | 光記録媒体の製造方法及び製造装置 |
JP4342087B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2009-10-14 | Tdk株式会社 | 光情報媒体の製造方法および製造装置 |
US6731591B2 (en) * | 2000-08-01 | 2004-05-04 | Tdk Corporation | Optical information medium |
JP2002184047A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Pioneer Electronic Corp | 成膜装置および成膜方法 |
-
2002
- 2002-07-10 JP JP2002200925A patent/JP2004046945A/ja active Pending
-
2003
- 2003-07-09 EP EP03764143A patent/EP1553580A4/en not_active Withdrawn
- 2003-07-09 CN CNB038163144A patent/CN1320543C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-09 WO PCT/JP2003/008703 patent/WO2004008452A1/ja active IP Right Grant
- 2003-07-09 KR KR1020057000278A patent/KR100616021B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-07-10 TW TW092118894A patent/TWI254307B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004046945A (ja) | 2004-02-12 |
KR100616021B1 (ko) | 2006-08-25 |
EP1553580A4 (en) | 2007-07-25 |
CN1669081A (zh) | 2005-09-14 |
WO2004008452A1 (ja) | 2004-01-22 |
EP1553580A1 (en) | 2005-07-13 |
KR20050025596A (ko) | 2005-03-14 |
CN1320543C (zh) | 2007-06-06 |
TW200402720A (en) | 2004-02-16 |
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