TW567338B - Antireflection film, polarizing plate, and apparatus for displaying an image - Google Patents

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67338 五、發明說明（1) 技藝範圍 本發明係關於一種抗反射薄膜、使用此之偏光板及使用 此抗反射薄膜或偏光板之顯示影像裝置。 技藝背景 抗反射薄膜可使用在不同的顯示影像裝置中，諸如液晶 顯示器（LCDs)、電漿顯示板（PDPs)、場致發光顯示器 (ELDs)及陰極射線管顯示器（CRTs)。抗反射薄膜亦可使用 在眼鏡及照相機。 通常使用具有薄的透明金屬氧化物層堆疊的多層抗反射 薄膜。數層透明層之用途爲防止於可見範圍儘可能寬廣的 波長範圍中之光反射。薄的透明金屬氧化物薄膜可利用化 學氣相沈積（CVD)或物理氣相沈積（PVD)形成，特別是分類 爲PVD技術的真空沉積或濺鍍。雖然薄的透明金屬氧化物 薄膜擁有作爲抗反射被覆的優良光學性質，但是用來形成 這些薄膜的真空沉積及濺鍍之產率低且不合適於大量製造 〇 已建議使用溼式塗佈法以無機粒子形成抗反射薄膜來代 替蒸氣沉積技術。例如，JP-B- 60 - 59250揭示一種包含微 粒無機物質且具有微空洞的抗反射層（其可利用塗佈法獲 得）。該具有微空洞的抗反射層可藉由塗佈一被覆組成物 並以活化的氣體處理該被覆層而獲得。 JP-A- 59 - 5040 1揭示出一種包含一基材的抗反射薄膜， 於該基材上具有已形成的一高折射層及一低折射層（以此 567338 五、發明說明（2) 順序）。該抗反射薄膜可進一步在基材及高折射層間包含 一中折射層。低折射層可利用溼式塗佈法塗佈聚合物或無 機粒子而形成。 JP-A- 2-24 5 702揭示出一種包含二種或多種超細粒子（例 如，MgF2及Si 02)之抗反射薄膜，這該些粒子的混合比率 在薄膜厚度方向上不同以變化折射率，因此可獲得類似於 具有高折射層/低折射層組合之抗反射薄膜UP-A-59-5 040 1 )的那些之光學性質。這些超細粒子經由自矽酸乙酯 熱分解所產生之Si02鍵結。矽酸乙酯的熱分解伴隨著燃燒 掉乙基部分而會產生二氧化碳及蒸氣，此會從被覆層中釋 放而在該些超細粒子中留下空隙，如顯示在公告的第1圖 中〇 JP-A- 5 - 1 302 1提出以黏著劑塡入在上述描述的超細粒子 中之空隙。JP-A- 7 - 48527揭示出一種含多孔二氧化矽及黏 著劑的微粒無機物質之抗反射薄膜。 JP-A- 1 1 - 6902教導一種全溼式塗佈技術以於低成本下製 造具有高薄膜強度及低反射的抗反射薄膜，其揭示出一種 利用溼式塗佈法形成的具有三層抗反射層之薄膜，其中在 低折射層上堆疊至少二種無機粒子以形成一含微空洞的層 〇 另一方面，熟知的授予抗反射薄膜（利用溼式塗佈技術 形成）具防眩性質的方法包括對一不均勻表面的基材塗佈 一抗反射層、將產生表面不均勻用的表面粗糙粒子摻入該 567338 五、發明說明（3) 抗反射層且壓印上一平滑的抗反射薄膜以形成一不均勻的 表面，如在 JP-A-2000-275401 及 JP-A-2000-275404 中所 描述。 利用真空沉積或濺鍍形成的抗反射薄膜（其在4 5 0至6 5 0 奈米的波長區域中具有0.4 %或較低的平均反射係數）在淡 紅色至淡藍紫色中會有強的淡色反射光。若此光源在觀看 者背面時，此淡色反射光會損害顯示品質。另一方面，利 用溼式塗佈法形成的抗反射薄膜（雖然具有幾乎無色的反 射光）之平均反射係數大於1 %，此對外部光直接射入顯示 面上之應用中特別不足。從前述JP-A- 1 1 - 6902之實例24 中得知，利用溼式塗佈法形成的薄膜具有〇 . 3 5%的平均反 射係數。但是，從該薄膜來的反射光証明會呈現一強的淡 紅紫色，如從反射光譜計算一般。實際上，由本發明家根 據此公告製備的樣品當其以裸眼觀察時會發現在反射光中 強烈呈現淡紅紫色，此會毀壞顯示品質。 本發明之目標爲提供一種具有低反射係數及提供無淡色 反射光的抗反射薄膜。 本發明的另一個目標爲提供一種具有該抗反射薄膜之偏 光鏡及一種使用該抗反射薄膜或偏光鏡的顯示影像裝置。 發明公告 本發明之上述目標可由下列之抗反射薄膜、偏光板及顯 示影像裝置而達成。 (1) 一種抗反射薄膜，其包含： 567338 五、發明說明（4) 一透明基材；及 一低折射層，其折射率比該透明基材低， 其中該抗反射薄膜在450至650奈米的波長區域中 於5°的入射角處具有0.5%或較少的平均鏡面反射率 ，且當CIE標準光源D65在380至780奈米的波長區 域中於5°的入射角處射入該抗反射薄膜時，該規則反 射光之顏色在CIE 1 976 L*a*b*彩色空間中的a*及 b*値在指定之- 7Sa*S7及-10Sb*S10範圍內。 (2) 根據上述項目（1)之抗反射薄膜，其中該規則反射光之 a*及b*値在指定的0Sa*S5及-10Sb*S10範圍內。 (3) 根據上述項目（1)或（2)之抗反射薄膜，其中於450至 650奈米的波長區域中在5°的入射角處之平均鏡面反 射率爲0.4%或較少。 (4) 根據上述項目（1)至（3)中任何一項之抗反射薄膜，其 中於450至650奈米的波長區域中在5°的入射角處之 平均鏡面反射率爲0 . 3%或較少。 (5 )根據上述項目（1 )至（4 )中任何一項之抗反射薄膜，其 中構成該抗反射薄膜的層之形成可藉由塗佈一包含一 種形成薄膜的溶質及至少一種溶劑之被覆組成物、乾 燥該被覆薄膜以移除溶劑且藉由施加熱及離子輻射的 至少一種來硬化該被覆薄膜。 (6)根據上述項目（5)之抗反射薄膜，其實質上具有三層結 構，包括一中折射層、一高折射層及一低折射層（從基 、發明說明（5) 材邊的順序來看），其中該高折射層的折射率比透明基 材高，該中折射層的折射率高於透明基材而低於高折 射層。 (7)根據上述項目（6)之抗反射薄膜，其中在設計的波長λ (=500奈米）下，該中折射層、該高折射層及該低折射 層各別地滿足式（I )、（ II )及（111 ): 1 λ /4x0 · 80 < ηΑ < 1 λ /4x1 · 00 ( I ) m λ /4χ〇 . 75 < n2d2 < m λ /4χ〇 . 95 (II) η λ /4χ〇.95 < n3d3 < η Λ /4x1.05 (III) 其中1爲1 ; ih爲中折射層的折射率；di爲中折射層 的厚度（奈米）；m爲2 ; n2爲高折射層的折射率；d2爲 高折射層的厚度（奈米）；η爲1 ; n3爲低折射層的折射 率；d3爲低折射層的厚度（奈米）。 (8 )根據上述項目（5 )至（7 )中任何一項之抗反射薄膜，其 中該低折射層包含一能藉由加熱及照射離子輻射的至 少一種來硬化之含氟樹脂。 (9)根據上述項目（6)或（7)之抗反射薄膜，其中該高折射 層之形成可藉由_· 塗佈一被覆組成物，其包含： 一超細粒子，其包含至少一種選自於鈦、鉻、銦、 鋅、錫及銻的氧化物之金屬氧化物； 一陰離子分散劑； 567338 五、發明說明（6) 一聚合反應起始劑；及 一溶劑， 乾燥該被覆薄膜以移除溶劑；及 藉由施加熱及離子輻射的至少一種硬化該被覆薄膜。 (10)根據上述項目（8)之抗反射薄膜，其中該低折射層之 動摩擦係數爲0.15或較小且與水的接觸角度爲10(Γ 或較大。 (1 1 )根據上述項目（1 )至（1 0 )中任何一項之抗反射薄膜， 其進一步在該低折射層及該透明基材間包含至少一層 硬被覆層。 (1 2 )根據上述項目（1 )至（1 1 )中任何一項之抗反射薄膜， 其進一步在該低折射層及該透明基材間包含至少一層 前向散射層。 (1 3 )根據上述項目（1 )至（1 2 )中任何一項之抗反射薄膜， 其中當CIE標準光源D65在380至780奈米波長區域 中以5°的入射角射入該抗反射薄膜時，該規則反射光 在機器方向（MD)及橫軸方向（TD)之一中於任意分開10 公分的二點間之顏色差異，就CIE 1 976 L*a*b*彩色 空間中之AEab*値而論少於2。 (14) 一種包含一片偏光鏡和至少二片表面保護薄膜的偏光 板，其中該至少二片保護薄膜的每片黏附至該偏光鏡 的二邊，其中該保護薄膜的至少一片爲在上述描述的 項目（1 )至（1 3 )中任何一項之抗反射薄膜，在低折射 567338 五、發明說明（7) 層形成後，將該抗反射薄膜浸入強鹼溶液至少一次， 以皂化該抗反射薄膜的背面表面。 (1 5 ) —種包含一片偏光鏡及至少二片表面保護薄膜的偏光 板，其中該至少二片保護薄膜的每片黏附至該偏光鏡 的二邊，其中該保護薄膜的至少一片爲在上述描述的 項目（1 )至（1 4)中任何一項之抗反射薄膜，該抗反射 薄膜之製備可藉由：在該低折射層形成之前或之後， 以強鹼溶液塗佈該抗反射薄膜的背面邊（相對於形成 低折射層的那邊）；加熱該塗佈的抗反射薄膜，接著 以水洗滌至少一次及中和，因此僅在該抗反射薄膜的 背面邊皂化。 (16)根據上述項目（14)或（15)之偏光板，其中抗反射薄膜 以外的表面保護薄膜爲一種包含光學異向層的光學補 償薄膜（其在相對於該偏光鏡的那邊），該光學異向層 包含具有碟狀結構單元的化合物之負雙折射層，其中 該碟狀結構單元盤在該光學異向層的厚度方向中變化 之角度上傾斜（與該保護薄膜的平面有關）。 (1 7 ) —種在扭轉向列模式、超扭轉向列模式、垂直配向模 式、面內開關模式或光學補償彎曲單元模式中之穿透 、反射或半穿透型式液晶顯示器，其包含至少一種在 上述描述的項目（1 4 )至（1 6 )中任何一項之偏光板。 (18)—種穿透或半穿透型式液晶顯示器，其包含至少一種 在上述描述的項目（1 4 )至（1 6 )中任何一項之偏光板， 567338 五、發明說明（8) 其中在背光及偏光板（其配置在與觀看者相對的那邊） 間配置一具有偏光選擇層的偏光分光薄膜。 (1 9 )根據上述的項目（1 )至（Π )中任何一項之抗反射薄膜 ，其中該透明基材可爲聚對苯二甲酸乙酯薄膜、聚乙 烯苯二甲酸酯薄膜及纖維素三醋酸酯薄膜之一種。 (20)—種有機場致發光顯示器用之表面保護板，其包含在 上述描述的項目（14)至（16)中任何一項之偏光板及一 λ /4板，其中該λ /4板配置在與抗反射薄膜邊相對 的透明保護薄膜上。 本發明的另一個較佳具體實施例則在下列提出。 (2 1 )根據上述的項目（1 )至（1 3 )中任何一項之抗反射薄膜 ’其進一步包含一與該低折射層的下邊接觸之黏著劑 層，其中該黏著劑層的表面具有0.001至0.030微米 的算術平均粗糙度（Ra)。 (22) 根據上述項目（21)之抗反射薄膜，其中該黏著劑層的 表面具有0.005至0.020微米的算術平均粗糙度（Ra) 〇 (23) 根據上述項目（21)或（22)之抗反射薄膜，其中該黏著 劑層包含：平均粒子尺寸爲0.001至0.2微米的無機 粒子及一有機黏著劑，且該黏著劑層的粒子具有空洞 〇 (24) 根據上述項目（1)至（13)之抗反射薄膜，其進一步包 含一與低折射層接觸的黏著劑層，其中該黏著劑層包 -10- 567338 五、發明說明（9) 含：平均粒子尺寸0.001至0.2微米之無機粒子；及 一有機黏著劑，及該黏著劑層的粒子中具有空洞。 (25) 根據上述項目（23)或（24)之抗反射薄膜，其中該無機 粒子在其表面上具有可聚合的官能基，且該有機黏著 劑爲一種可與無機粒子上的可聚合官能基共聚合之單 mm 體。 (26) 根據上述的項目（21)至（25)中任何一項之抗反射薄膜 ，其進一步在該黏著劑層及該透明基材間包含一厚度 1微米或較大的硬被覆層，其中該黏著劑層爲一黏著 劑及比該透明基材的折射率高之高折射層。 (27) 根據上述項目（26)之抗反射薄膜，其進一步在該黏著 劑及高折射層和該硬被覆層間包含一中折射層，其中 該中折射層之折射率高於該低折射層且低於該黏著劑 及高折射層。 (28) 根據上述項目（26)或（27)之抗反射薄膜，其爲一種防 眩的抗反射薄膜，其中該硬被覆層之折射率爲1 . 57 至2.00且包含平均粒子尺寸爲0.3至20微米之表面 粗糙的粒子。 (29) 根據上述的項目（21)至（28)中任何一項之抗反射薄膜 ，其爲一種防眩的抗反射薄膜，其中該黏著劑層之厚 度爲1微米或較大且折射率爲1.57至2.00，而包含 平均粒子尺寸爲0.3至20微米之表面粗糙的粒子。 (30) 根據上述的項目（21 )至（29)中任何一項之抗反射薄膜 -11- 567338 五、發明說明（1〇) ，其中該低折射層包含一種能藉由加熱及照射離子輻 射中之一者而交聯的含氟化合物，且該低折射層具有 :1 .35至1 .49的折射率、0.03至0. 15的動摩擦係 數且與水的接觸角度爲90至120°。 (31) 根據上述的項目（21)至（30)中任何一項之抗反射薄膜 ，其中該透明基材爲一種纖維素三醋酸酯薄膜。 (32) —種偏光板，在其至少一邊上具有於（21)至（31)中任 何一項描述的抗反射薄膜。 (33) —種顯示影像裝置，其包含至少一片在（21)至（31)中 任何一項描述的抗反射薄膜及在項目（32)中描述之偏 光板。 (34) 根據項目（33)之顯示影像裝置，其中提供至少一種抗反 射薄膜及偏光板，所以該低折射層爲顯示器的最外層。 圖形簡述 第1圖爲本發明之抗反射薄膜的基本層結構之截面圖。 第2圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第3圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第4圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第5圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第6圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第7圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第8圖爲另一種結構的抗反射薄膜之截面圖。 第9圖爲在實例1及比較例1中製備的抗反射薄膜於 -12- 567338 五、發明說明（11) 380至780奈米的波長區域處之反射光譜。 圖中的參考數字如下。 0 :黏著劑層 1 :透明基材 2 :低折射層 4 :硬被覆層 5 :高折射層 6 :中折射層 40 :黏著劑及硬被覆層 50 :黏著劑及高折射層 根據本發明之抗反射薄膜的基本層結構顯示在第1圖。 顯示在第1圖的結構具有一透明基材（1)、一硬被覆層（4) 、一中折射層（6 )、一高折射層（5 )及一低折射層（2 )(以此 順序）。在此具三層抗反射層之實例中，於JP-A- 59 - 5040 1 中教導每層的光學厚度（即，產物之折射率及薄膜厚度）較 佳地約ηλ /4，其中λ爲設計的波長或約η λ /4的倍數。 第2圖之抗反射薄膜（其爲本發明的另一個具體實施例） 具有一透明基材（1 )、一黏著劑層（0 )及一低折射層（2 )(以 此順序）。 第3圖中顯示的抗反射薄膜（其爲本發明的另一個具體 實施例）具有一透明基材（1 )、一硬被覆層（4 )、一黏著劑 層（0 )及一低折射層（2 )(以此順序）。第4圖之抗反射薄膜 (其爲本發明的另一個具體實施例）具有一透明基材（1)、 -13- 567338 五、發明說明（12) 一硬被覆層（4)、一高折射層（5)、一黏著劑層（0)及一低 折射層（2 )(以此順序）。第5圖之抗反射薄膜（其爲本發明 的另一個具體實施例）具有一透明基材（1)、一硬被覆層（4) 、一中折射層（6 )、一高折射層（5 )、一黏著劑層（0 )及一 低折射層（2 )(以此順序）。 第6圖的抗反射薄膜（其爲本發明的另一個具體實施例） 具有一透明基材（1)、一黏著劑及一硬被覆層（40)及一低 折射層（2 )(以此順序）。第7圖之抗反射薄膜（其爲本發明 的另一個具體實施例）具有一透明基材（1)、一硬被覆層（4) 、一黏著劑及一高折射層（50 )及一低折射層（2 )(以此順序） 。第8圖的抗反射薄膜（其爲本發明的另一個具體實施例） 具有一透明基材（1)、一硬被覆層（4)、一中折射層（6)、 一黏著劑及一高折射層（50 )及一低折射層（2 )(以此順序） 〇 上述提及的層結構能夠達成低反射且減低反射光呈色二 者。結果，將本發明之抗反射薄膜應用作爲顯示器最外層 可提供一種具有迄今爲止無法獲得的高視野之顯示器（諸 如LCD)。在450奈米至650奈米的波長區域中於5°入射 角處之平均鏡面反射率不多於0.5%，該抗反射薄膜可令人 滿意地防止視野減低（由於在顯示面板上的外部光反射）。 因爲在380奈米至780奈米的波長區域中於5°入射角處 CIE標準來源光源D65的規則反射光之顏色（根據CIE 1976 L*a*b*彩色空間系統）在指定的- 7Sa*S7及-10Sb*S10 -14- 567338 五、發明說明（13) 中，本發明之抗反射薄膜並無呈淡紅色至淡藍紫色的反射 光（此爲一與習知的多層抗反射薄膜有關之問題）。若反射 光的a*及b*値在指定的0Sa*S5及-10Sb*S10範圍中 ，反射光的呈色可大大地減低。在應用至LCDs中，由具 有高亮度的外部光（諸如從室內的螢光管來之光）之反射造 成的反射光顏色爲無色的且可忽略。 於450奈米至650奈米的波長區域中於5°入射角處的平 均鏡面反射率及在380奈米至780奈米波長區域中於5°入 射角處CIE標準光源D65的規則反射光之顏色可利用習知 的方法測量。 a*値大於7時反射光會呈強的紅色，且a*値小於-7時 則呈強的膪綠色。在b*値小於-7或大於0時’反射光各 別地呈強的淡藍色或強的淡黃色。 本發明家已顯示出欲獲得更有效的低反射及減低反射光 呈色二者時，需要該中折射層、高折射層及低折射層在設 計的波長（=500奈米）下各別地滿足在下列顯示的式（I ) ' (II)及（ΙΠ)。 1 λ /4x〇 . 80<n1d1<l λ /4^1.00 ........( I) m λ / 4 x 0 · 7 5<n2d2<m λ / 4 χ 0 · 9 5 ........(II) ηλ /4χ0 . 95<n3d3<n λ /4x1.05 ........(Ill) 其中1爲1 ; h爲中折射層的折射率；d i爲中折射層的 厚度（奈米）；m爲2; n2爲高折射層的折射率；d2爲高折 射層的厚度（奈米）；n爲1 ; n3爲低折射層的折射率；及 -15- 567338 五、發明說明（14) d3爲低折射層的厚度（奈米）。 若這三層提供在折射率爲1.45至1.55之透明基材上（ 諸如纖維素三醋酸酯基材（折射率：1 . 49 ))，所需要的是 nl 應該爲 1.60 至 1.65、n2 爲 1.85 至 1.95 及 n3 爲 1.35 至1 . 45。若它們提供在折射率爲1 · 55至1 · 70之透明基材 上（諸如聚對苯二甲酸乙酯基材（折射率：1 · 66 ))，所需要 的是 nl 爲 1.65 至 1.75、n2 爲 1.85 至 2.05 及 n3 爲 1.35 至1.45。在無法獲得具有想要的折射率（如中或高折射層 材料）或該折射率並不合適的情況中，可使用包含一層折 射率高於所欲及一層折射率低於所欲之數層組合來達成實 質上光學等效於如於技藝中熟知的經設計之中或高折射層 。如使用於抗反射層的名稱“實質上三層結構”意指著包含 此一光學等效層的抗反射層，因此其可具有四或五層結構 〇 由於上述描述之反射光呈色大大減低，歸因於抗反射層 厚度變化之反射光呈色不均勻亦可大大地減低。換句話說 ，此可讓厚度變化的範圍變大，而可使製造產率增加且進 一步減低製造成本。在380奈米及780奈米間之波長區域 中於5°的入射角處之反射光呈色不均勻度，可以CIE標準 光源D65在機器方向（MD ;基材的縱方向）或橫軸方向（TD ; 垂直於MD的方向）上，於分開1〇公分的任意二點間定量 地測量該規則反射光的顏色差異來表示；該顏色差異可由 在CIE 1976 L*a*b*彩色空間中的AEab*値表示。AEab* -16- 567338 五、發明說明（15) 値較佳地小於2，然而較佳地小於1.5。顏色差異AEab* 少於1 . 5則人類的眼睛不會察覺出。 可使用在本發明之抗反射薄膜的透明基材較佳地包括一 塑膠薄膜。可合適地製造塑膠薄膜的聚合物包括纖維素酯 類（例如，纖維素三醋酸酯、纖維素二醋酸酯、纖維素丙 烯酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素醋酸酯丙酸酯及硝基纖維 素）、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯類（例如，聚對苯二甲酸乙 酯、聚乙烯苯二甲酸酯、聚對苯二甲酸1,4 -二亞甲基環己 酯、聚1，2-二苯氧基乙烷-4,4’-二羧酸乙酯及聚對苯二甲 酸丁酯）、聚苯乙烯（例如，對排聚苯乙烯）、聚烯烴類（例 如，聚丙烯、聚乙烯及聚甲基戊烯）、聚楓、聚醚碾、聚 芳基化合物、聚醚-醯亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮 。若將該抗反射薄膜使用作爲偏光鏡（其可應用至LCDs、 有機ELDs等等）的保護薄膜之一時，纖維素三醋酸酯較佳 。纖維素三醋酸酯基材較佳地利用在工藝公告公報 (Technical Disclosure Bulletin)2001 - 1745 中揭示的方 法來製備。在將抗反射薄膜黏附至由玻璃或其類似物製得 的面板（如在平面CRTs、PDPs等等中）之應用中，較佳地 使用聚對苯二甲酸乙酯或聚苯二甲酸乙烯酯。 對透明基材來說，想要的是至少80%的光穿透率（特別是 86%或較高）、不多於2.0%的白色霧狀（特別是1 .〇%或較少） 及1 · 4至1 · 7的折射率。 透明基材的厚度較佳地（但是非爲限制）爲30至150微 -17- 567338 五、發明說明（16) 米，仍然較佳地爲70至120微米。 中折射及高折射層之形成可藉由塗佈一包含具有高折射 率的無機粒子、可加熱或離子輻射硬化的單體、聚合反應 起始劑及溶劑之被覆組成物，乾燥該被覆薄膜以移除溶劑 ，及利用加熱及/或施加離子輻射硬化該被覆薄膜。該無 機粒子較佳地爲至少一種選自於鈦、鍩、銦、鋅、錫及銻 的氧化物之金屬氧化物粒子。因此形成的中及高折射層具 有優秀的耐擦傷性，且對藉由塗佈一具有高折射率的聚合 物溶液及乾燥該被覆薄膜而形成的那些具有優秀的黏著性 。如在JP-A- 1 1 - 1 53703及美國專利6,2 1 0,858中教導般 ，較佳的是將多官能基（甲基）丙烯酸酯單體及含陰離子基 團的（甲基）丙烯酸酯分散劑加入被覆組成物，以改善分散 安定性及硬化薄膜的強度。 無機粒子較佳地具有1至100奈米的平均粒子尺寸，如 以庫爾特（C 〇 u 1 t e r )計數器測量。小於1奈米的粒子具有 太大的比表面積而難以保証有足夠的分散安定性。大於 1 00奈米的粒子會造成可見光散射（由於與黏著劑在折射率 上的差異）。中及高折射層的白色霧狀較佳地爲3%或較少 ，仍然較佳地爲1%或較少。 低折射層較佳地包括可在加熱或施加離子輻射時硬化的 含氟化合物。該低折射層較佳地具有0.03至0 . 1 5的動摩 擦係數，且與水的接觸角度爲100至120°。若動摩擦係數 大於0 . 1 5，則當該層磨擦時容易受刮傷。若水接觸角度小 -18- 567338 五、發明說明（17) 於100°時，該層具有差的抗指印或油污之污染性。 該可加熱-或離子輻射-硬化的含氟化合物包括含全氟烷 基的矽烷化合物（例如，（十七氟-1，1，2，2 -十四烷基）三乙 氧基矽烷））及包括一含氟單體及一提供可交聯基團的單體 之含氟共聚物。 可提供該含氟聚合物的含氟單體包括氟烯烴類，例如， 氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯及 全氟-2,2-二甲基-1，3-二乙口琴啉二醇（(1丨〇^:〇11〇1);部分或 完全氟化的（甲基）丙烯酸烷酯類，例如，可從大阪有機化 學工業有限公司（Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)購得的維斯寇特（Vi scot e)6FM，及可從大金工業有 限公司（Daikin Industries，Ltd.)購得的 M-2020;及部 分或完全氟化的乙烯醚類。對所產生的聚合物之低折射率 及容易處理來說，六氟丙烯較佳。 能提供可交聯基團的單體包括在其分子中具有可交聯基 團的（甲基）丙烯酸酯單體，諸如甲基丙烯酸縮水甘油酯； 及具有羧基、羥基、胺基、磺酸基等等的（甲基）丙烯酸酯 單體，諸如（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸羥甲酯、（甲基） 丙烯酸羥烷酯類及丙烯酸烯丙酯。後者已熟知能在共聚合 後引進交聯結構的單體族群其特別佳（參見JP-A-10_ 25388 及 JP-A-10-147739)。 可使用不含氟的共單體與含氟單體組合。此共單體包括 (但是非爲限制）烯烴類（例如，乙烯、丙烯、異戊二烯、 -19- 567338 五、發明說明（18) 氯乙烯及偏二氯乙烯）、丙烯酸酯類（丙烯酸甲酯、丙烯酸 乙酯及丙烯酸2 -乙基己酯）、甲基丙烯酸酯類（例如，甲基 丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯及二甲基 丙烯酸乙二醇酯）、苯乙烯衍生物類（例如，苯乙烯、雙乙 烯苯、乙烯基甲苯及α -甲基苯乙烯）、乙烯醚類（例如， 甲基乙烯基醚）、乙烯基酯類（例如，醋酸乙烯酯、丙酸乙 烯酯及桂皮酸乙烯酯）、丙烯醯胺類（例如，Ν_第三丁基丙 烯醯胺及Ν-環己基丙烯醯胺）、甲基丙烯醯胺類及丙烯腈 衍生物類。詳細則揭示在 JP-A-10-25388及〗Ρ-Α-10-147739 中。 該含氟聚合物可進一步包含一能提供滑動改良性及減低 動摩擦係數之共單體單元，其將導致改善耐擦傷性。例如 ，較佳地採納如在JP-A- 1 1 - 22863 1中所建議之將聚二甲 基矽氧烷片斷導入主鏈中。 較佳的是將超細的二氧化矽粒子分散在含氟聚合物中以 改善其耐擦傷性。對低折射層來說，具有較低的折射率對 抗反射較好，但是耐擦傷性會隨著折射率降低而減低。因 此，含氟聚合物的折射率及欲加入的二氧化矽粒子量最佳 的是在耐擦傷性與低折射率間提供最佳的平衡。可將商業 上可購得之在有機溶劑中的二氧化矽溶膠或一種商業可購 得之由有機溶劑中的二氧化矽粉末製備的分散液加入至該 低折射層用之被覆組成物。， 超細的氧化物粒子之平均粒子尺寸較佳地爲0.001至 -20- 567338 五、發明說明（19) 0.2微米，特別地爲〇· 〇〇丨至0.05微米，且尺寸分佈（單 分散）儘可能地窄。超細的氧化物粒子其合適的加入量爲5 至90重量％，較佳地爲1〇至70%，仍然較佳地爲10至 50%，以低折射層的總重量爲準。 本發明之抗反射薄膜較佳地包含一與該低折射層的下邊 接觸之黏著劑層，其中該黏著劑層的表面具有〇 . 〇〇 1至 0.03 0微米的算術平均粗糙度（Ra)。 可使用在本發明之黏著劑層具有優良的黏著力而可黏附 在上層及下層二者上。在本發明中，上層（該層直接地提 供在黏著劑層上）爲一通常對另一層具有差的附著力之低 折射材料，本發明之抗反射薄膜可藉此黏著劑層附著力的 改善效應而具有非常高的耐擦傷性。本發明之黏著劑層的 特徵爲其表面具有一粗糙度，該黏著劑層視爲可提供該低 折射層一好的錨座而提供改善的附著力。 該黏著劑層之厚度較佳地爲〇·〇〇1至0.0 30微米，特別 地爲0.001至0.020微米，特別地爲0.001至0.010微米 ，以便不影響以光學干擾爲主的抗反射功能。若黏著劑層 的折射率與低折射層（上層）相同時，選擇黏著劑層的厚度 使得黏著劑層與低折射層的總厚度爲原始設計用於低折射 層的厚度。若黏著劑層的折射率與下層相同時，可理解的 是選擇黏著劑層的厚度使得黏著劑層與下層的總厚度如原 始設計用於下層的厚度。更想要的是以黏著劑層代替下層 ，換句話說與原始設計的下層功能結合。亦即，該黏著劑 -21 - 567338 五、發明說明（2〇) 層可爲一黏著劑層及高折射層、一黏著劑層及硬被覆層或 一黏著劑層及防眩層。在這些情況中，黏著劑層的厚度應 該具有各別設計的功能層之厚度。 黏著劑層的表面粗糙度可由算術平均粗糙度（Ra)表示， 而根據JIS B- 0601測量。Ra可藉由分析以原子力顯微鏡 測量超過4微米的評估長度之表面狀態資料而獲得。若表 面具有可歸因於如於此之後描述的表面粗糙粒子之防眩不 均勻性時，則將此不均勻性週期從資料中排除。該黏著劑 層較佳地具有0.001至0.1微米的算術平均粗糙度（Ra)， 特別是0.001至0.030微米，特別地0.005至0.020微米 。太小的Ra會導致固定效應減低。太大的Ra會擾動接合 界面，其會相反地影響以光學干擾爲主的抗反射性能。 可製得具上述Ra之黏著劑層的材料並無特別限制。用 來獲得所述的表面粗糙度之較佳架構爲由有機黏著劑及細 微粒子組成的二組分系統；該有機黏著劑可對下層及黏著 劑薄膜提供穩固的附著力強度，而該粒子可產生不均勻的 表面。該粒子的較佳含量爲20至95重量％，特別地爲50 至95重量％，以黏著劑層的總重量爲準。對透明度來說， 該粒子較佳地儘可能的細微。較佳的體積平均粒子直徑爲 0.001至0.2微米，特別地爲0.005至0.1微米。體積平 均粒子直徑可利用動態光散射法測量，可使用從貝克曼庫 爾特有限公司（Beckman Coulter, Inc.)購得的粒子尺寸 分析器N 4。 -22- 567338 五、發明說明（21) 無機粒子較佳地提供該黏著劑層具薄膜強度。無機粒子 的形狀並無特別限制而可包括球形、平板狀、纖維狀、棒 狀、非晶狀或中空狀。對分散性來說，球形粒子較佳，無 機粒子材料並無特別限制。非晶狀材料較佳，金屬氧化物 類、氮化物類、硫化物類或鹵化物類較佳，而金屬氧化物 類特別佳。有用的金屬物種包括Na、K、Mg、Ca、Ba、A1 、Zn 、 Fe 、 Cu 、 Ti 、 Sn 、 In 、 W 、 Y 、 Sb 、 Mn 、 Ga 、 V 、 Nb 、Ta、Ag、Si、B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、Pb 及 Ni o 使用無機粒子的方法並無特別限制。例如，該粒子可以 乾燥狀態或分散在水或有機溶劑中加入。 對抑制無機粒子的凝塊或沉降目的來說，較佳的是在組 合中使用分散安定劑。有用的分散安定劑類包括聚乙烯醇 、聚乙烯吡咯烷酮、纖維素衍生物類、聚醯胺、磷酸酯類 、聚醚、表面活性劑類、矽烷偶合劑類及鈦偶合劑類。特 別佳的爲矽烷偶合劑類，其可將能與有機黏著劑共聚合的 官能基導入無機粒子表面，因此提供強硬化的薄膜。例如 ，乙烯基三甲氧基矽烷、r -甲基丙烯氧基丙基三甲氧基 矽烷等等爲有效的能經由乙烯基的自由基聚合反應硬化之 有機黏著劑類；及λ -縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷 等等爲可經由環氧基的陽離子聚合反應來硬化之有機黏合 劑類。同時並不限制，矽烷偶合劑（作爲分散安定劑）較佳 的加入量爲每1 〇〇重量份的無機粒子至少1重量份。矽烷 耦合試劑可在加入之前水解，或該矽烷偶合劑可與無機粒 -23- 567338 五、發明說明（22) 子混合，接著水解及濃縮。後者之加入方法較佳。 欲使用在該黏著劑層的有機黏著劑應該可對下層提供優 良的附著力且具有強的薄膜形成能力。爲了滿足這些需求 ，具有飽和的烴類或聚醚作爲主鏈之聚合物較佳。具有飽 和的烴類作爲主鏈之聚合物仍然較佳。亦較佳的是該黏著 劑聚合物具有交聯結構。 具有飽和的烴類作爲主鏈之黏著劑聚合物較佳地有包含 一乙烯基化不飽和單體的那些。具有飽和的烴鏈作爲主鏈 及交聯結構之黏著劑聚合物包括每分子具有二個或多個乙 烯基化不飽和基團之單體的同-或共聚物。對獲得高折射 的黏著劑層來說，較佳地爲使用具有二個或多個乙烯基化 不飽和基團及芳香環或至少一個選自於鹵素（除了氟外）、 硫、磷及氮的原子之單體。 具有二個或多個乙烯基化不飽和基團之單體實例包括在 多羥醇類及（甲基）丙烯酸間之酯類，諸如二（甲基）丙烯酸 乙二醇酯、二丙烯酸1,4 -二環己烷酯、四（甲基）丙烯酸異 戊四酯、三（甲基）丙烯酸異戊四酯、三（甲基）丙烯酸三羥 甲基丙烷酯、三（甲基）丙烯酸三羥甲基乙烷酯、四（甲基） 丙烯酸二異戊四酯、五（甲基）丙烯酸二異戊四酯、六（甲 基）丙烯酸異戊四酯、四甲基丙烯酸1，2, 3 -環己烷酯、聚 胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、及聚酯聚丙烯酸酯；乙烯苯及其 衍生物類，諸如1,4 -雙乙烯苯、4 -乙烯苯甲酸2 -丙烯醯 基乙酯及1，4 -二乙烯基環己酮；乙烯碾類（例如，二乙烯 -24- 567338 五、發明說明（23) 楓）、丙烯醯胺類（例如，亞甲雙丙烯醯胺）及甲基丙烯醯 胺類。 可提供高折射結合劑類之單體實例有雙（4 -甲基丙烯醯 基1¾吩基）硫醚、乙燒基萘、乙儲基苯基硫醚及4 -甲基丙 烯基氧基苯基- 4' -甲氧基苯基硫醚。 具有乙烯基化不飽和基團之單體可利用離子輻射，或施 加熱於光自由基起始劑或熱自由基起始劑存在下聚合。 具有聚醚作爲主鏈的黏著劑聚合物較佳地包括多官能基 環氧化合物之開環聚合物。多官能基環氧基化合物之開環 聚合反應可於光酸產生劑或熱酸產生劑的存在下藉由離子 輻射或施加熱而進行。 具有可交聯官能基的單體可用來取代（或除此之外）具有 二個或多個乙烯基化不飽和基之單體，以將可交聯的官能 基（其會反應而導入交聯結構）導入黏著劑聚合物。可交聯 的官能基包括異氰酸鹽基、環氧基、吖丙烷基、噚唑啉基 、酸基、幾基、肼基、殘基、經甲基及活化的亞甲基。乙 烯基磺酸類、酸酐類、氰基丙烯酸酯衍生物類、馬來胺、 醚化的羥甲基化合物類、酯類、胺基甲酸酯類及金屬醇鹽 類（諸如四甲氧基矽烷）亦有用地作爲引進交聯結構的單體 。同樣地，可使用在分解後會發展出交聯能力的官能基， 諸如阻礙的異氰酸鹽基團。也就是說，該可交聯的官能基 可爲已準備好反應的或顯示出具分解後反應性的一種。該 具有上述描述的可交聯官能基之黏著劑聚合物在塗佈作爲 -25- 567338 五、發明說明（24) 薄膜後加熱，以形成一交聯結構。 黏著劑層中的空洞可以空洞體積（體積％)表示，其可藉 由歸因於在黏著劑層之折射率間的差異而獲得，其根據黏 著劑層之組成物與包含在黏著劑層中的空氣（折射率： 1.00)來計算。空洞體積亦可藉由在穿透式電子顯微鏡 (TEM )下觀察層切片而獲得。本發明之黏著劑層較佳地具 有0.5至30體積％的空洞體積，特別是1至25體積％。空 洞體積的較佳下限爲保証該固定效應之極限，而較佳的上 限爲保証黏著劑層強度之極限。 可用來製造具有上述空洞體積之黏著劑層材料並無特別 限制。用來獲得所敘述的空洞體積之較佳架構爲二組分系 統，其由一有機黏著劑及細微粒子組成；該有機黏著劑可 對下層提供穩固的附著力及黏著劑層強度，且該粒子它們 本身可提供製造空洞。較佳的粒子含量爲60至95重量％ ，特別地80至95重量％。對透明度來說，該些粒子較佳 地儘可能地細微。較佳的體積平均粒子直徑爲0.001至 0.2微米，特別地爲0.005至0.1微米。在此具體實施例 中可使用的有機黏著劑及粒子種類與在具有特定Ra的黏 著劑層之具體實施例中所描述的那些相同。 若必要時，該抗反射薄膜可具有一硬被覆層、一向前散 射層、一抗靜電層及/或一保護層。該硬被覆層可使該透 明基材具耐擦傷性，其亦可促進在透明基材與上層間之附 著力。該硬被覆層之形成較佳地藉由塗佈一包含寡聚物（ -26- 567338 五、發明說明（25) 其包含一多官能基丙烯酸單體、胺基甲酸酯丙烯酸酯、環 氧丙烯酸酯等等）、聚合反應起始劑及溶劑之被覆組成物（ 其尙可包括無機充塡劑，諸如二氧化矽或氧化鋁）；乾燥 該被覆層以移除溶劑；及藉由施加熱及/或離子輻射來硬 化該被覆層。 該硬被覆層的厚度較佳地爲1至30微米，仍然較佳地 爲1至20微米，特別佳地爲2至15微米。該硬被覆層的 鉛筆硬度較佳地爲Η或較高，仍然較佳地爲2H或較高， 特別佳地爲3Η或較高。該硬被覆層的折射率較佳地在 1 . 45至2 . 0的範圍，特別地爲1 . 5至1 . 8。 該硬被覆層可爲主要包含二氧化矽的無機層、包含具有 飽和的烴類或聚醚作爲主鏈之聚合物的有機層、或包含無 機化合物及有機化合物之混合物的混合層。由具有飽和的 烴類作爲主鏈之聚合物所製得的層特別佳。該聚合物較佳 地具有一交聯結構。該具有飽和的烴類作爲主鏈之聚合物 較佳地藉由聚合乙烯基化不飽和單體而製成。較佳地使用 具有二個或多個乙烯基化不飽和基團的單體以提供一交聯 的黏著劑聚合物。 具有二個或多個乙烯基化不飽和基團的單體實例包括在 多羥醇類及（甲基）丙烯酸間之酯類，諸如二（甲基）丙烯酸 乙二醇酯、二丙烯酸1，4-二環己烷酯、四（甲基）丙烯酸異 戊四酯、三（甲基）丙烯酸異戊四酯、三（甲基）丙烯酸三羥 甲基丙烷酯、三（甲基）丙烯酸三羥甲基乙烷酯、四（甲基） -27- 567338 五、發明說明（26) 丙烯酸二異戊四酯、五（甲基）丙烯酸二異戊四酯、六（甲 基）丙烯酸異戊四酯、四甲基丙烯酸I，2,3 -環己院酯、聚 胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、及聚酯聚丙烯酸酯；乙稀苯及其 衍生物類，諸如I，4 -雙乙烯苯、乙烯苯甲酸2 -丙稀醯 基乙酯及1，4 -二乙烯基環己酮；乙烯•類（例如’二乙烯·） :丙烯醯胺類（例如’亞甲雙丙烯醯胺）；及甲基丙烯醯胺 類。 具有乙烯基化不飽和基團的單體可在溼式塗佈後’利用 由離子輻射或加熱引起的聚合反應而硬化。 具有聚醚作爲主鏈的聚合物較佳地藉由多官能基環氧化 合物的開環聚合反應而合成。 可使用具有可交聯的官能基之單體取代（或除此之外）具 有二個或多個乙烯基化不飽和基團的單體，以將交聯結構 導入黏著劑聚合物。該可交聯的官能基包括異氰酸鹽基、 環氧基、吖丙烷基、噚唑啉基、醛基、羰基、肼基、羧基 、羥甲基及活化的亞甲基。乙烯基磺酸類、酸酐類、氰基 丙烯酸酯衍生物類、馬來胺、醚化的羥甲基化合物類、酯 類、胺基甲酸酯類及金屬醇鹽類（諸如四甲氧基矽烷）亦可 有用地作爲引進交聯結構的單體。同樣地，可使用具有在 分解後能產生具交聯能力的官能基之化合物，諸如具有阻 礙的異氰酸鹽基團之化合物類。具有上述描述的可交聯官 能基之黏著劑聚合物可在溼式塗佈至薄膜後利用施加熱或 其類似方法而交聯。 -28- 567338 五、發明說明（27) 該硬被覆層可包括一無機粒子以調整折射率或增加薄膜 強度。較佳地使用平均粒子尺寸爲0 . 00 1至0 . 5微米的無 機粒子，特別地爲0 · 00 1至0 · 2微米。合適的無機粒子有 二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化錫、碳酸鈣、硫酸鋇 、滑石、高嶺土及硫酸鈣粒子。二氧化矽、二氧化鈦及氧 化銘粒子特別佳。 該無機粒子的較佳加入量爲1 0至90重量％，特別地爲 20至80%，特別地爲30至60%，以硬被覆層爲準。 該向前散射層可使在LCDs的應用中於垂直及水平方向 的視角變寬。上述描述的硬被覆層其包含具有不同折射率 的細微粒子，而可達成作爲向前散射層的功能。 若利用溼式塗佈法形成之本發明的多層抗反射薄膜因不 均勻的表面而具有防眩性質（模糊觀看者的背景反射）時， 比起在層上形成該具不均勻表面（其包含表面粗糙的粒子 等等）的抗反射層，更適當的是藉由壓印該在基材上形成 的抗反射層以製得一不均勻表面。該壓印方法可獲得較好 的薄膜厚度均句性而可改善抗反射性能。 構成抗反射層的每層可利用不同的溼式塗佈技術來形成 ，諸如浸塗法、氣刀塗佈法、簾塗法、滾塗法、金屬棒塗 敷法（w i r e b a r c 〇 a t i n g )、照相凹版式塗敷法、微照相凹 版式塗敷法及擠壓塗敷法（參見美國專利2，681，294 )。對 減少擴張因此減低不均勻乾燥來說，微照相凹版式塗敷法 及照相凹版式塗敷法較佳。對保証在相交方向上的厚度均 -29 - 567338 五、發明說明（28) 勻性來說，照相凹版式塗敷法較佳，可同時形成二層或多 層。對同時塗佈來說，可參考美國專利 2,761，791、 2,941，898、 3,508,947 及 3,526,528 及由吉哈拉撒去 (Yuji Harasaki) ， Coating Kogaku ， p.253 ， A s aku r a Shoten(1973) o 本發明之偏光板包含至少一本發明之抗反射薄膜。 若使用根據本發明之抗反射薄膜作爲偏光鏡的保護層之 一以產生一偏光板時，相對於該抗反射層（低折射層）邊之 透明基材邊應該由強鹼皂化。可根據下列程序（1 )及（2 )任 一種進行強鹼的皂化作用。程序（1)較優秀，其可在與一 般用途的纖維素三醋酸酯薄膜之加工步驟相同的處理下進 行。但是，程序（1 )的缺點包括不僅基材背面邊，連抗反 射層邊亦會水解，此會使抗反射層損壞，且該強鹼處理溶 液若餘留在抗反射層則會造成染色。在此缺點問題的情況 中，可適當地遵循下列程序（2 )，其包括特別的步驟。 (1 )將在上面已形成低折射層的透明基材浸入強鹼溶液至 少一次以皂化基材的背面邊。 (2 )與低折射層形成邊相對的透明基材邊在低折射層形成 之前或之後以強鹼溶液塗敷，且加熱該經塗敷的基材 ，然後以水淸洗及/或中和，以僅在該抗反射薄膜的背 面邊皂化。 偏光鏡包括以碘爲基礎的偏光鏡、二向色染色的偏光鏡 及聚烯型式偏光鏡。以碘爲基礎的偏光鏡及二向色染色偏 -30- 567338 五、發明說明（29) 光鏡通常可藉由在拉伸之前或之後對聚乙烯醇（PVA)薄膜 染色而製備。通常地，使用藉由皂化聚醋酸乙烯酯而製備 的PVA。改性的PVA亦有用。可利用任意的方法來進行 PVA薄膜染色，例如，浸漬在碘-碘化鉀水溶液、或刷塗或 噴灑碘溶液或染色溶液。在拉伸PVA薄膜中，較佳地使用 一 PVA交聯添加劑，諸如硼酸化合物。對偏光板來說較佳 的是在波長550奈米處具有30至50%的透射率，特別是 35至50%，且在波長550奈米處的偏光程度爲90至100% ，特別是95至100%，尤其是99至100%。 在其一邊具有本發明之抗反射薄膜作爲保護薄膜的偏光 板適合應用在TN模式、STN模式、VA模式、IPS模式或 OCB模式的穿透、反射或半穿透型式LCDs中。若應用至穿 透或半穿透型式LCDs時，當與商業上可購得的亮度提高 薄膜（即，具有偏光選擇層的偏光束分光薄膜）（例如，可 從住友3M有限公司（Sumitomo 3M Ltd.)購得的DBEF(雙倍 亮度提高薄膜））結合時，該偏光板將保證有較高的視野。 該偏光板可與四分之一-波長板結合以提供有機ELDs用之 表面保護板，其可提供減低從表面及內部二者來之反射光 。本發明之抗反射薄膜（其具有聚對苯二甲酸乙酯（PET)薄 膜或聚苯二甲酸乙酯（PEN )薄膜作爲透明基材）可應用至此 顯影裝置，如PDPs及CRTs。 本發明現在將參考實例而更詳細地闡明，但是應該了解 的是本發明不限制於此。除非有特別提到，否則全部的百 -31 - 567338 五、發明說明（3〇) 分比及份皆以重量計。 (1 )硬被覆層用的被覆組成物A之製備。 在由16份的甲基乙基酮及220份的環己酮組成之混合 溶劑中，溶解306.份的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二 異戊四酯混合物卡亞拉德（Kay a rad) DPHA(可從日本卡亞酷 有限公司（Nippon Kayaku Co. Ltd.)購得）。在該溶液中 加入7.5份的光聚合反應起始劑号加昆爾（Irgacure)907( 從西巴-階吉有限公司（Ciba-Geigy，Ltd.))，且攪拌該混 合物以溶解該起始劑。於該溶液中加入450份在甲基乙基 酮中的二氧化矽溶膠分散劑（MEK-ST，可從日產化學工業 有限公司（Nissan Chemical Industries，Ltd.)購得；平 均粒子尺寸：10至20奈米；固體含量：30%)，接著攪拌 。將所產生的混合物過濾過孔洞尺寸3微米（PPE-03)的聚 丙烯過濾器，以製備硬被覆層用之被覆組成物A。在移除 溶劑及UV /交聯後，該被覆組成物A可提供一折射率爲 1 .51之薄膜。 (2)硬被覆層用的被覆組成物B之製備 將1000份的硬被覆層用之被覆組成物A與150份的交 聯聚苯乙烯粒子SX-130H(從梭肯化學&工程有限公司 (Soken Chemical & Engineering Co.，Ltd.);平均粒子 尺寸：1.3微米；折射率：1.61)混合。該混合物在空氣分 散器中攪拌10分鐘以均勻地分散，且將其過濾過孔洞尺 寸3微米（PPE-03)的聚丙烯過濾器，以製備硬被覆層用之 -32- 567338 五、發明說明（31) 被覆組成物B，其具有向前散射的功能。 (3 )硬被覆層用的被覆組成物C之製備 在52份的54/ 46 (以重量計）甲基乙基酮及環己酮之混合 物中，溶解91份的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二異戊 四酯混合物卡亞拉德DPHA(日本卡亞酷）及218份含氧化鉻 的UV-硬化硬被覆配方德梭來特（Desolite)Z7401 (從JSR 公司）。於該產生的溶液中加入1 0份的光聚合反應起始劑 咢加昆爾907 (從西巴-階吉）。在攪拌後，將該混合物過濾 過孔洞尺寸3微米（PPE-03)的聚丙烯過濾器，以製備硬被 覆層用之被覆組成物C。 (4 )二氧化鈦分散液之製備 將30份的超細二氧化鈦粒子TTO-55B(從愛施哈拉科技 公司（Ishihara Techno Corp.))、1份的丙嫌酸二甲基胺 基乙酯DMAEA(從寇金有限公司（KOHJIN Co.，Ltd.))及6 份含磷酸基團的陰離子分散劑卡亞拉德PM-21 (從日本卡亞 酷），在沙磨器中分散於63份的環己酮中，以製備平均粒 子尺寸爲42奈米的二氧化鈦分散液（以庫爾特計數器測量） 〇 (5 )中折射層用的被覆組成物A之製備 在75份的環己酮及1 9份的甲基乙基酮混合溶劑中，溶 解0 · 11份的光聚合反應起始劑咢加昆爾907 (西巴-階吉有 限公司）及0.04份的感光劑卡亞丘爾（Kayacure)DETX(曰 本卡亞酷）。於該溶液中加入3 · 1份在上述（4 )中製備的二 -33- 567338 五、發明說明（32) 氧化鈦分散液及2 . 1份的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸 二異戊四酯混合物卡亞拉德DPHA (日本卡亞酷）。在室溫下 攪拌該混合物30分鐘，接著過濾過孔洞尺寸3微米（PPE-03 )的聚丙烯過濾器，以製備中折射層用之被覆組成物A。 (6 )中折射層用的被覆組成物A之製備 在7 50份的環己酮及190份的甲基乙基酮混合溶劑中， 溶解1.2份的光聚合反應起始劑咢加昆爾907 (西巴-階吉 有限公司）及0.4份的感光劑卡亞丘爾DETX(日本卡亞酷） 。於該溶液中加入105份在上述（4)中製備的二氧化鈦分 散液及21份的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二異戊四酯 混合物卡亞拉德DPHA(日本卡亞酷）。在室溫下攪拌該混合 物30分鐘，接著過濾過孔洞尺寸3微米（PPE-03)的聚丙 烯過濾器，以製備中折射層用之被覆組成物B。 (7)高折射層用的被覆組成物之製備 在54份的環己酮及1 8份的甲基乙基酮混合溶劑中，溶 解0 . 1 3份的光聚合反應起始劑咢加昆爾907 (西巴-階吉有 限公司）及0.04份的感光劑卡亞丘爾DETX(日本卡亞酷）。 於該溶液中加入26.4份在上述（4 )中製備的二氧化鈦分散 液及1.6份的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二異戊四酯 混合物卡亞拉德DPHA(日本卡亞酷）。在室溫下攪拌該混合 物30分鐘，接著過濾過孔洞尺寸3微米（PPE-03)的聚丙 烯過濾器，以製備高折射層用之被覆組成物。 (8 )低折射層用的被覆組成物之製備 •34- 567338 五、發明說明（33) 在由85%的甲基異丁基酮及15%的2-丁醇組成之混合溶 劑中，1 0%加熱可交聯的含氟聚合物溶液可藉由從6%加熱 可交聯的含氟聚合物之甲基乙基酮溶液中進行溶劑交換而 獲得（JN- 7228，從JSR ;折射率：1 .42)。將70份所產生 的聚合物溶液與1 0份在甲基乙基酮中的二氧化矽溶膠分 散液MEK-ST(從日產化學；平均粒子尺寸：10至20奈米 ;固體含量：30%)、42份的甲基異丁基酮及28份的環己 酮混合。在攪拌後，將該混合物過濾過孔洞尺寸3微米 (PPE-03)的聚丙烯過濾器，以製備低折射層用之被覆組成 物。 實例1 將硬被覆層用之被覆組成物A以照相凹版塗佈機塗佈至 80微米厚的纖維素三醋酸酯基材TAC-TD80U(折射率：1 .49， 由富士照相軟片有限公司（Fuji Photo Film Co.，Ltd.))製 造），在100°C下乾燥2分鐘，藉由照射紫外線而硬化，以形 成一厚度6微米及折射率1.51的硬被覆層。 中折射層用之被覆組成物A以照相凹版塗佈機塗佈至硬 被覆層，在100°C下乾燥，且藉由UV照射硬化，以形成一 厚度67奈米及折射率1.63的中折射層。 將高折射層用之被覆組成物塗佈至中折射層，於l〇〇°C 下乾燥，且藉由UV照射硬化，以形成一厚度107奈米、 折射率1 .90及算術平均粗糙度（Ra ) 0.005微米的高折射層 -35- 567338 五、發明說明（34) 將低折射層用之被覆組成物以照相凹版塗佈機塗佈至高 折射層及在120°C下加熱硬化8分鐘，以形成厚度86奈米 及折射率1 . 43的低折射層。如此可獲得本發明之抗反射 薄膜。 所產生的抗反射薄膜根據下列方法評估。所獲得的結果 顯示在表1。 (i) 鏡面反射率及反射光的顏色 在380至7 80奈米的波長區域中於5°入射角（=反射角度） 處之鏡面反射率以配備轉接器ARV-474的分光光度計V-550(從佳思可公司（JASCO Corp.))測量。所獲得的反射光 譜顯示在第1圖。計算在45 0至650奈米範圍中的平均反 射係數以評估抗反射性能。 再者，可從CIE 1 976彩色空間的a*及b*値（其可從反 射光譜計算）評估CIE標準光源D65在5°入射角處的鏡面反 射光顏色。 (ii) 錯筆硬度 根據在JIS K- 5400指明的鉛筆硬度測試方法測量鉛筆 硬度，以作爲耐擦傷性的參數。將抗反射薄膜在溫度251 及濕度60%RH下適應2小時，然後在JIS S- 6006指明的 評估方法中使用2H至5H的鉛筆於500克負載下測試五次 (n = 5 )。在進行四至五次測試後若薄膜無刮傷則判斷爲 “0K”，及在進行三或多次測試後若薄膜有刮傷則判斷爲 “NG”。判斷爲“0K”的薄膜其最高的鉛筆硬度取爲該薄膜的 -36- 567338 五、發明說明（35) 硬度。 (i i i )接觸角度 抗反射薄膜在25°C及60%RH下適應2小時後，測量與純 水的接觸角度，以作爲抗污染的參數。 (i v )動摩擦係數 動摩擦係數可採取作爲表面光滑度的表示。抗反射薄膜 在25°C及60%RH下適應2小時後，以動摩擦力測試機海登 (Heidon)-14，使用直徑5毫米的不銹鋼球在1〇〇克負載 下，以60公分/分鐘的速度測量動摩擦係數。 比較例1 以與實例1相同之方法製備含硬被覆層的透明基材。在 該硬被覆層上利用物理氣相沉積法沉積25奈米厚的氧化 鈦層（折射率：1 . 3 9 )及2 5奈米厚的二氧化政層（折射率： 1 · 47 )，以形成實質上中折射層。在該中折射層上進一步 沉積46奈米厚的氧化鈦層作爲高折射層及97奈米厚的二 氧化矽層作爲低折射層。所產生的抗反射薄膜以與實例1 相同的方法評估。所獲得的結果顯示在表1。抗反射薄膜 的反射光譜顯示在第13圖。 實例2 將在實例1製備的抗反射薄膜於5 5°C下浸入2.0N的氫 氧化鈉水溶液2分鐘，以皂化纖維素三醋酸酯基材的背面 邊，將該抗反射薄膜的皂化基材邊黏附至已吸收碘的拉伸 PVA薄膜（偏光鏡）邊。將使用上述的相同方法皂化之80微 -37- 567338 五、發明說明（36) 米厚的纖維素三醋酸酯薄膜TAC-TD80U(從富士照相軟片） 黏附至偏光鏡的其它邊以製備偏光板。 使用該偏光板來組合安裝在筆記型電腦上之穿透式TN 模式LCD。該LCD在背光及液晶單元間具有含偏光選擇層 DBEF(住友3M)之偏光束分光薄膜。該偏光板以其抗反射層 作爲最外層表面而黏附至單元的觀看者邊，該LCD具有非 常高的顯示品質但些微地反射觀看者背景。 實例3 以與實例2相同的方法製備一偏光板，除了在實例1製 備的抗反射薄膜之基材背面邊，以#3棒在加熱至60 °C (薄 膜表面溫度）下塗佈1 . 0N的氫氧化鉀水溶液1〇秒，以水 淸洗及乾燥。將所產生的偏光板以與實例2相同之方法組 合成LCD。該LCD具有非常高的顯示品質。 實例4 在實例3中製備的偏光板之液晶單元邊上的保護薄膜（ 其配置在單元的觀看者邊）及於配置在背光邊的偏光板之 單元邊上的保護薄膜，以加大視角的薄膜（寬視角薄膜 (Wide View Film)SA-12B)(富士光薄膜）取代。寬視角薄 膜SA-12B具有一由具碟狀結構的化合物單元製得之光學 補償層，該單元在光學補償層的厚度方向中變化之傾斜角 度上傾斜（與該透明基材的平面有關）。所產生的LCD具有 極優良的視野和高的顯示品質，而在亮室中具有好的反差 且在水平及垂直方向上具有更寬的視角。 -38- 567338 五、發明說明（37) 實例5 以與實例1相同的方法製備一具有向前散射功能的抗反 射薄膜’除了使用硬被覆層用之被覆組成物B取代硬被覆 層用之被覆組成物A。穿透型式TN模式LCD藉由將該所產 生的前向散射抗反射薄膜配置作爲最外層（觀看者邊），且 在液晶單元邊上配置一加大視角的薄膜（寬視角薄膜WV -12A)(富士光薄膜）而組合。該LCD在視野及顯示品質上顯 著地優良且其改良超過實例4，當顯示螢幕傾斜向下時發 生反差逆轉的臨界視角可從40°增加至6 0。。 實例6 在實例1中製備的抗反射薄膜使用對壓力敏感的黏著劑 黏附至有機ELD的玻璃面板。結果，可抑制在玻璃上的反 射，以保証高視野。 實例7 將四分之一-波長板黏附至在實例3製備的偏光板其相 對於抗反射薄膜邊的那邊。將該偏光板以抗反射薄膜邊爲 外部黏附至有機ELD的玻璃面板。結果，可切斷表面反射 及從玻璃板內部來的反射二者，以提供極高的視野。 實例8 將硬被覆層用之被覆組成物C塗佈至厚度188微米的 PET薄膜之塗底邊（寇斯摩斯新（Cosmoshine)A4100，折射 率：1.65，可從塔金有限公司（Teijin Ltd·)購得），乾燥 且以與實例1相同的方法UV-硬化，以形成一厚度8微米 -39- 567338 五、發明說明（38) 且折射率爲1.61的硬被覆層。 將中折射層用之被覆組成物B以照相凹版塗佈機塗佈至 該硬被覆層，在l〇〇°C下乾燥，且藉由UV照射硬化，以形 成一厚度70奈米及折射率1 . 70的中折射層。 將高折射層用之被覆組成物塗佈至該中折射層，於 100°C下乾燥且UV-硬化，以形成一厚度120奈米及折射率 1 .90的高折射層。 將低折射層用之被覆組成物以照相凹版塗佈機塗佈至該 高折射層，且在12(TC下加熱硬化8分鐘，以形成一厚度 90奈米及折射率1.43的低折射層。因此獲得本發明之反 射薄膜。 所產生的抗反射薄膜以與實例1相同的方法評估。獲得 的結果顯示在表1。可看見抗反射薄膜能明顯地減低反射 光的呈色，且具有非常高的鉛筆硬度。具有所產生的抗反 射薄膜（其已黏附至面板）之平面CRT及PDP可滿足全部所 需的低反射、反射光呈色減低及高硬度。

表1 平均反射係數 反射光顏色 動摩擦係數 純水的接觸 鉛筆硬度 (%) (a*/b*) 角度（°) 實例1 0.28 2/-6 0.08 103 3H 實例8 0.40 2/-5 0.08 103 4H 比較例1 0.33 9/-10 0.20 40 2H -40- 567338 五、發明說明（39) 實例1之抗反射薄膜可獲得非常有利的反射特徵，即， 低反射和減低反射光呈色。此外，其具有小的動摩擦係數 (以保証耐擦傷性）、與純水具大的接觸角度（意謂著對水 及油的排斥性，以保証防污染性質）及高鉛筆硬度（以保証 耐擦傷性）。 比較的抗反射薄膜則提供淡紅紫色呈色的反射光（此會 損壞顯示品質），具有高的動摩擦係數（此意謂著差的耐擦 傷性）及小的純水接觸角度（此意謂著差的防污染性質）。 實例9 (1 )中折射層用的被覆組成物之製備 在153克的環己酮及37克的甲基乙基酮混合溶劑中， 溶解0.14克的光聚合反應起始劑咢加昆爾907 (西巴-階吉 有限公司）及0 . 04克的感光劑卡亞丘爾DETX(日本卡亞酷） 。於該溶液中加入6.2克如下述製備的二氧化鈦分散液及 2.4克的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二異戊四酯混合物 卡亞拉德DPHA(日本卡亞酷）。在室溫下攪拌該混合物30 分鐘，接著過濾過孔洞尺寸1微米的聚丙烯過濾器，以製 備中折射層用之被覆組成物。 (二氧化鈦分散液之製備） 將30份的二氧化鈦（重量平均主要粒子尺寸：50奈米； 折射率：2.70)、5.0份的陰離子二丙烯酸鹽單體PM12(從 日本卡亞酷）及0.2份的陽離子甲基丙烯酸鹽單體DMAEA( 從寇金有限公司），於沙磨器中分散在65.2份的甲基乙基 -41 567338 五、發明說明（40) 酮中，以製備一二氧化鈦分散液。 (2)抗反射薄膜之製備 將如下述製備的硬被覆層用之被覆組成物以棒式塗佈機 塗佈至80微米厚具有折射率1.48的纖維素三醋酸酯基材 上，在120°C下乾燥，且以300毫焦耳/平方公分的紫外線 在400毫瓦/平方公分的亮度下照射而硬化（使用160瓦/ 公分之空氣-冷卻的金屬鹵化物燈（從眼睛圖形（Ey e Graphics)))，以形成一 6微米厚的硬被覆層。該硬被覆 層具有1 .53的折射率。 (硬被覆層用的被覆組成物之製備） 在400克1 : 1(以重量計）的甲基乙基酮及環己酮混合物 中，溶解347克含二氧化矽的可UV-硬化之硬被覆配方德 梭來特KZ7526 USR;固體含量：72%，二氧化矽含量：38% ;平均粒子尺寸：20奈米）。在攪拌後，將該混合物過濾 過孔洞尺寸1微米的聚丙烯過濾器，以製備一硬被覆層用 之被覆組成物。 將在上述（1 )中製備的中折射層用之被覆組成物以棒式 塗佈機塗佈至該硬被覆層，在120°C下乾燥，且以300毫 焦耳/平方公分的紫外線在亮度400毫瓦/平方公分上照射 而硬化（使用160瓦/公分之空氣-冷卻的金屬鹵化物燈（從 眼睛圖形）），以形成一厚度0.065微米的中折射層。該中 折射層的折射率爲1.63。 將如下列所提製備之高折射層用的被覆組成物以棒式塗 -42- 567338 五、發明說明（41) 佈機塗佈至該中折射塗佈層，在120 °C下乾燥，且以300 毫焦耳/平方公分的紫外線在亮度400毫瓦/平方公分上照 射而硬化（使用1 60瓦/公分之空氣-冷卻的金屬鹵化物燈（ 從眼睛圖形）），以形成一厚度0 . 1 05微米的高折射層。該 高折射層之折射率爲1.90。 (高折射層用的被覆組成物之製備） 在125.2克的環己酮及37.2克的甲基乙基酮混合溶劑 中，溶解0.07克的光聚合反應起始劑咢加昆爾907 (西巴-階吉有限公司）及0.02克的感光劑卡亞丘爾DETX(日本卡 亞酷）。於該溶液中加入13.4克上述（1)中製備的二氧化 鈦分散液及0.76克的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二異 戊四酯混合物卡亞拉德DPHA(日本卡亞酷）。在室溫下攪拌 該混合物40分鐘，接著過濾過孔洞尺寸1微米的聚丙烯 過濾器，以製備一高折射層用之被覆組成物。 將如下述製備的黏著劑層用之被覆組成物及低折射層用 之被覆組成物以如下述之相同方法塗佈至該高折射層，以 製備一抗反射薄膜。該黏著劑層之折射率爲1 . 50、Ra爲 0.006微米及空洞體積爲10體積％。該低折射層之折射率 爲1.43、水接觸角度爲103°及動摩擦係數爲0.04。 (黏著劑層用的被覆組成物之製備） 將200克平均粒子尺寸15奈米的二氧化矽粒子之甲醇 分散液（該甲醇二氧化矽溶膠可從日產化學工業有限公司 購得；固體含量：30%)與3克的矽烷偶合劑KBM- 5 03 (新愛 -43- 567338 五、發明說明（42) 竹矽酮有限公司（Shin-Etsu Silicone Co.， Ltd·))及 2 克1 N的氫氯酸混合；且於室溫下攪拌該混合物5小時； 及讓其仍然靜置3日，以製備一經矽烷耦合處理的二氧化 矽分散液。 於3 5.04克的分散液中加入58.35克的異丙醇及39.34 克的雙丙酮醇。將1 · 02 克的光聚合反應起始劑咢加昆 爾907(西巴-階吉有限公司）及0.51克的感光劑卡亞丘爾 DETX(日本卡亞酷有限公司）分別地溶解在772.85克的異 丙醇中，且將25.6克的五丙烯酸二異戊四酯/六丙烯酸二 異戊四酯混合物卡亞拉德DPHA(從日本卡亞酷）溶解在其中 。將所產生的溶液（ 67.23克）加入至該二氧化矽分散液、 異丙醇及雙丙酮醇的混合物。在室溫下攪拌該混合物20 分鐘且將其過濾具有孔洞尺寸1微米的過聚丙烯過濾器， 以製備一黏著劑層用之被覆組成物。無機粒子在總固體含 量中之比例爲83%。 (低折射層用的被覆組成物之製備） 於210克加熱可交聯的含氟聚合物JN- 7228(可從JSR公 司購得；折射率·· 1.42 ;固體含量：6%)中，加入18克在 甲基乙基酮中的二氧化矽溶膠分散液（MEK-ST，可從曰產 化學工業有限公司購得；平均粒子尺寸：10至20奈米； 固體含量：30%)及200克的甲基乙基酮。在攪拌後，將該 混合物過濾過孔洞尺寸1微米的聚丙烯過濾器，以製備一 低折射層用之被覆組成物。 -44- 567338 五、發明說明（43) (塗佈） 以棒式塗佈機將該黏著劑層用之被覆組成物塗佈至該高 折射層，在80°C下乾燥5分鐘，且以300毫焦耳/平方公 分的紫外線在亮度400毫瓦/平方公分下照射而硬化（使用 160瓦/公分之空氣-冷卻的金屬鹵化物燈（從眼睛圖形））， 以形成一厚度〇 . 03微米的黏著劑層。 以棒式塗佈機將該低折射層用之被覆組成物塗佈至該黏 著劑層，在80°C下乾燥5分鐘，及在12(TC加熱硬化1〇 分鐘，以形成一厚度0.06微米的低折射層。 評估： 在本發明中，如下評估該黏著劑層。 (a)算術平均粗糙度（Ra) Ra根據JIS B0601測量。在10微米-平方的面積中之表 面圖形則以原子力顯微鏡PA-400(由精工儀器有限公司 (Seiko Instruments, Inc.)提供）測量超過4微米的評估 長度。分析任意選擇的三個圖形以獲得Ra。 (b )空洞體積 空洞體積可利用歸因於黏著劑層測量的折射率間（計算 從最小反射係數）之差異來計算，及其根據黏著劑層的組 成物對包含在黏著劑層中的空氣（折射率：1 · 00 )來計算。 在實例及比較例中製備的抗反射薄膜如下列般評估。 (c )鏡面反射率 在3 80至780奈米的波長區域中於5。的入射角（=反射角 -45- 567338 五、發明說明（44) 度）處之鏡面反射率可利用配備著轉接器ARV- 474的分光 光度計V- 550 (佳思可公司）來測量。計算在450奈米及 6 50奈米間之平均反射係數以評估抗反射性能。 (d )白色霧狀 抗反射薄膜的白色霧狀以白色霧狀計量器型號1001DP( 從日本丹梭酷工業有限公司（Nippon Denshoku Industries Co.，Ltd·))來測量。 (e)鉛筆硬度 鉛筆硬度則根據在；[IS K- 5400中指明的鉛筆硬度測試 方法來測量，其可作爲耐擦傷性的參數。將抗反射薄膜在 溫度25°C及濕度60%RH下適應2小時，然後以JIS S-6006指明的評估方法使用3H鉛筆在1公斤負載下測試五 次。薄膜在五次測試的三次或多次後並無刮傷者，則視爲 具有3H的鉛筆硬度。 (f )耐擦傷性 抗反射薄膜以接觸面積等於10-圓硬幣之#0000等級的 鋼羊毛墊，在400克的負載下提供10次雙面磨擦。耐擦 傷性以下列3 -級程度分等級。 A...無產生刮傷。 B…產生稍微及幾乎不可辨的刮傷。 C...產生相當大的刮傷。 (g )防眩性能 將裸螢光管（ 8000cd/平方公尺）反映在抗反射薄膜上。 -46- 567338 五、發明說明（45) 反射影像的模糊程度如下分等級。 A. ..影像外形根本不可辨認。 B. ..影像外形稍微地可辨認。 C. ..影像模糊不淸，但是外形I可辨別。 D. ..影像淸楚且實質上無模糊。 (h )接觸角度 在抗反射薄膜於25°C及6 0%RH下適應2小時後’測量與 水的接觸角度作爲抗污染參數。 (i )動摩擦係數 動摩擦係數可採用作爲表面光滑的表示。在抗反射薄膜 於25°C及60%RH下適應2小時後，動摩擦係數以動摩擦力 測試機海登-1 4，使用直徑5毫米的不銹鋼球在1 00克負 載下，以60公分/分鐘的速度測量。 測量及評估結果顯示在下列表2。在實例9的抗反射薄 膜中，評估如上所提之CIE標準光源D65的規則反射光之 顏色，其a*及b*値各別地爲0及-7。 可從表2看見，實例9的抗反射薄膜具有優良的耐擦傷 性及其它性能屬性。 表1

反射係數（％) 白色霧狀（％) 鉛筆硬度 耐擦傷性 實例9 0.33 0.2 3H A 實例10 將實例9所製備的抗反射薄膜接受皂化作用。將經皂化 -47- 567338 五、發明說明（46) 的抗反射薄膜及纖維素三醋酸酯基材，以PVA壓力敏感的 黏著劑黏附至已吸收碘的拉伸PVA薄膜之各別的邊，以製 備一偏光板。藉由使用該偏光板的抗反射層作爲最外層來 製備一 LCD。該顯示器具有優良的視野且可減低從外部來 的光線之反射。 實例11 以與實例9及1 0相同的方法製備抗反射薄膜，除了將 纖維素三醋酸酯基材的厚度改變成50微米。所產生的抗 反射薄膜在反射係數、白色霧狀、耐擦傷性及防眩性能上 相等於實例9及1 0那些。類似地，使用在工藝公告公報 2001 - 1 745的實例1中所使用的纖維素醯酸酯薄膜樣品 101來製備抗反射薄膜。所產生的抗反射薄膜在反射係數 、白色霧狀、耐擦傷性及防眩性能上相等於實例9及1 0 那些。 實例12 組合具半穿透型式LCD的行動電話。該LCD之偏光板具 有如在實例3中製備的抗反射層作爲最外層。將在實例1 製備的抗反射薄膜經由壓力敏感的黏著劑黏附至丙烯酸樹 脂板每邊，且將該丙烯酸樹脂板配置在偏光板上作爲面板 。該顯示器具有高視野，且不比不具有面板的抗反射LCD 差。 再者，製備行動電話用之LCDs ;將具有實例1之抗反射 薄膜的一種僅黏附至面板的內邊’不具抗反射薄膜的一種 -48- 567338 五、發明說明（47) 黏在面板的另一邊，及既無面板且無液晶單元的一種則具 有一抗反射塗佈物。結果發現當配置一數量的抗反射薄膜 時降低的視野會減少，且若螢光管等等反映時，該不具抗 反射薄膜的LCD完全地遺失文字的視野。 實例1 3 以與實例2相同的方法製備一偏光板，除了在實例2使 用的偏光鏡以如下述製備之偏光鏡置換。所產生的偏光板 在抗反射性能上相等於實例1。因爲偏光鏡之貯存滾筒的 吸收軸形成與縱向呈45°角，此可減低將該偏光板模鍛成 不同尺寸時的生產浪費。 偏光鏡之製備： 將PVA薄膜在25 °C下浸入包含5.0克/升的碘及10.0克 /升的碘化鉀之水溶液90秒，然後在25t下於10克/升的 硼酸水溶液中60秒。該PVA薄膜在橫軸方向利用在美國 專利應用2002 - 8840A1的第2圖中顯示之型式的張布機型 式拉伸機器拉伸7 . 0次，然後讓其收縮至5 . 3的拉伸比率 。隨著此固定的寬度，在70°C下乾燥此經拉伸的薄膜且從 張布機釋放。在左及右拉幅夾間之進行速度差異少於 〇·〇5%。由引進張布機的薄膜之中心線而製得的角度且薄 膜以此送入隨後步驟之角度爲0。。IL1-L2I的差異及寬度 W(參見2002-8840A1之第2圖）二者皆爲0.7公尺。在張 布機的輸出口’處並無觀察到起皺紋或薄膜變形。在550奈 米處的透射率爲43.3%，及偏光程度爲99.98%。 -49- 567338 五、發明說明（48) 工業可行性 在450至6 50奈米的波長區域中具有〇·4%或較少的平均 反射係數，本發明之抗反射薄膜當其應用至LCD時，可高 度地防止由於反射所產生的視野減低。CIE標準光源D65 在3 80奈米及780奈米間於5°入射角處在抗反射薄膜上之 鏡面反射光之顏色，根據CIE 1 976 L*a*b*彩色空間系統 在-7·&*·7及-10·1)*·10中。因此，反射光（不在淡紅紫色 或淡藍紫色中呈色）不會減弱顯示品質，甚至當在觀看者 背後的高亮度（諸如螢光管）光源反映在顯示螢幕上時。 本發明的抗反射薄膜發現可應用在不同顯示影像裝置中 ，例如，在不同模式的LCDs中之偏光板、在有機ELDs中 的表面保護板（一種與四分之一 ·波長板結合的偏光板）及 在平面CRTs或PDPs中使用之具有PET薄膜基材的表面保 護板。 -50-

Claims (1)

1. 567338 _年乙月/2日修正/务__ 六、申請專利範圍 第9 1 1 07252號「抗反射薄膜，偏光板，及顯示影像之裝 置」專利案 (92年2月12日修正） 六申請專利範圍： 1 · 一種抗反射薄膜，其包含： 一透明基材；及 一低折射層，其折射率比該透明基材低， 其中該抗反射薄膜在450至650奈米的波長區域中於 5°之入射角處的平均鏡面反射率爲等於或小於0.5%但大 於0，且當在3 80至780奈米的波長區域中之CIE標準 光源D65以5°入射角射入抗反射薄膜上時，規則反射光 之顏色在CIE 1 976 L*a*b*彩色空間中的a*及b*値在指 定的及-10Sb*S10範圍內。 2 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該規則反射 光之a*及b*値在指定的0Sa*S5及-10Sb*S10範圍 內。 3.如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中在450至 6 50奈米的波長區域中，於5°入射角處之平均鏡面反射 率爲等於或小於0.4%但大於0。 4 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中在4 5 0至 6 50奈米的波長區域中，於5°入射角處之平均鏡面反射 率爲等於或小於0 . 3%但大於〇。 5 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其進一步包含一 567338 六、申請專利範圍 與該低折射層下邊接觸之黏著劑層，其中該黏著劑層表 面之算術平均粗糙度（Ra)爲0.001至0.030微米。 6 .如申請專利範圍第5項之抗反射薄膜，其中該黏著劑層 表面之算術平均粗糙度（Ra)爲0.005至0.020微米。 7 .如申請專利範圍第5項之抗反射薄膜，其進一步在該黏 著劑層及該透明基材間包含厚度1微米或較大的硬被覆 層，其中該黏著劑層爲一種黏著劑及高折射層而具有比 該透明基材高的折射率。 8 .如申請專利範圍第7項之抗反射薄膜，其進一步在該黏 著劑及高折射層和該硬被覆層間包含中折射層，其中該 中折射層之折射率高於該低折射層且低於該黏著'劑及高 折射層。 9 .如申請專利範圍第5項之抗反射薄膜，其中該低折射層 包含一種能藉由加熱及照射離子輻射交聯的含氟化合物 ，且該低折射層具有：1.35至1.49的折射率、0.03至 0.15的動摩擦係數且與水的接觸角度爲90至120°。 1 〇 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中構成該抗 反射薄膜之層可藉由塗佈包含一種形成薄膜的溶質及至 少一種溶劑的被覆組成物、乾燥該被覆薄膜以移除溶劑 、及藉由施加熱及離子輻射的至少一種來硬化該被覆薄 膜加以形成。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項之抗反射薄膜，其實質上具有 三層結構而包括一中折射層、一高折射層及一低折射層 567338 六、申請專利範圍 (從基材邊的順序列出）’其中該高折射層之折射率比該 透明基材高，及該中折射層之折射率比該透明基材高但 低於該高折射層。 1 2 .如申請專利範圍第π項之抗反射薄膜，其中該中折射 層、該高折射層及該低折射層在設計的波長λ (=5 00奈 米）下，各滿足式U)、（II)及（III): 1 λ /4χ〇.80<n1d1<l λ /4^1 .00 (I) mλ /4χ〇·75<n2d2<mλ /4χ〇·95 (II) η λ /4χ〇·95<n3d3<nλ /4χ 1 .05 (III) 其中1爲1 ; η!爲中折射層的折射率；d!爲中折射層 的厚度（奈米）；m爲2 ; η 2爲高折射層的折射率；d 2爲 高折射層的厚度（奈米）；η爲1 ; η3爲低折射層的折射 率；d3爲低折射層的厚度（奈米）。 1 3 .如申請專利範圍第1 〇項之抗反射薄膜’其中該低折射 層包含一種能藉由加熱及照射離子輻射的至少一種硬化 之含氟樹脂。 i 4 .如申請專利範圍第1 〇項之抗反射薄膜，其中該高折射 層之形成可藉由： 塗佈一被覆組成物，其包含： 一超細粒子，其包括至少一種選自於鈦、锆、銦、鋅 、錫及銻的氧化物之金屬氧化物； 一陰離子分散劑； 一硬化樹脂，其具有至少三個可聚合的官能基； 567338 六、申請專利範圍 一聚合反應起始劑；及 一溶劑， 乾燥該被覆薄膜以移除溶劑；及 藉由施加熱及離子輻射的至少一種來硬化該被覆薄膜。 1 5 .如申請專利範圍第1 3項之抗反射薄膜，其中該低折射 層之動摩擦係數爲等於或小於0.1 5%但大於0，且與水 的接觸角度爲等於或大於100°但小於180°。 1 6 ·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其進一步在該 低折射層及該透明基材間包含至少一層硬被覆層。 1 7 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其進一步在該 低折射層及該透明基材間包含至少一層前向散射層。 18.如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中當在380 至7 80奈米的波長區域中之CIE標準光源D65以5°的入 射角射入抗反射薄膜上時，該規則反射光在機器方向 (MD)及橫軸方向（TD)之一中於分開10公分的任意二點 間之顏色差異，以在CIE 1 976 L*a*b*彩色空間中的△ E a b *値而論少於2。 1 9 . 一種偏光板，在其至少一邊上具有申請專利範圍第5 至9項中任何一項之抗反射薄膜。 20 . —種包含一片偏光鏡及至少二片表面保護薄膜的偏光 板，其中將該至少二片保護薄膜的每片黏附至該偏光鏡 的二邊，其中該保護薄膜的至少一片爲申請專利範圍第1 項之抗反射薄膜，該抗反射薄膜在低折射層形成後浸入 567338 六、申請專利範圍 強鹼溶液至少一次，以皂化該抗反射薄膜的背面表面。 21.—種包含一片偏光鏡及至少二片表面保護薄膜的偏光 板，其中將該至少二片保護薄膜的每片黏附至該偏光鏡 的二邊，其中該保護薄膜的至少一片爲申請專利範圍第 1項之抗反射薄膜，該抗反射薄膜之製備可藉由：在該 低折射層形成之前或之後，以強鹼溶液塗佈在該抗反射 薄膜其與欲形成低折射層的那邊相對的背面邊；加熱該 經塗敷的抗反射薄膜，接著以水洗滌至少一次及中和， 因此僅皂化該抗反射薄膜的背面邊。 2 2.如申請專利範圍第20或21項之偏光板，其中抗反射 薄膜以外的表面保護薄膜爲一種包含光學異向層的光學 補償薄膜而在該偏光鏡的相對邊，該光學異向層爲一種 負雙折射層而包含具有碟狀結構單元的化合物，其中該 碟狀結構單元盤在該光學異向層的厚度方向中變化之角 度上傾斜（與該保護薄膜的平面有關）。 23. —種顯示影像裝置，其包含至少一種申請專利範圍第5 項之抗反射薄膜及申請專利範圍第1 9項之偏光板。 24. 如申請專利範圍第23項之顯示影像裝置，其中提供該 抗反射薄膜及偏光板至少一種，使得該低折射層爲該顯 示器的最外層。 25 . —種在扭轉向列模式、超扭轉向列模式、垂直配向模 式、面內開關模式或光學補償彎曲單元模式中的穿透、 反射或半穿透型式液晶顯示器，其包含至少一種申請專 567338 六、申請專利範圍 利範圍第20或2 1項之偏光板。 26·—種穿透或半穿透型式液晶顯不器’其包含至少一種 申請專利範圍第20或2 1項之偏光板，其中在背光及偏 光板（其配置在與觀看者邊相對的那邊）之間配置具有偏 光選擇層的該偏光分光薄膜。 27 .如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該透明基 材爲聚對苯二甲酸乙酯薄膜、聚苯二甲酸乙酯薄膜及纖 維素三醋酸酯薄膜之一種。 28 . —種用於有機場致發光顯示器的表面保護板，其包含 一在申請專利範圍第20或21項描述之偏光板及一 λ /4 板，其中該λ /4板配置在與該抗反射薄膜邊相對的透明 保護薄膜上。