TW448109B - Improved security documents - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（1) 發明之技術領域 本發明係有關於保全文件或代幣，諸如鈔票、旅行 支票、證券'護照以及此類之物，以及其等之製造方法。 發明背景 如藉由PCT/AU82/00135(WO 83/00659)之改良的鈔票 及此類之物所例示的，已知透明窗在鈔票中之用途，如同 其作為一種用於安全圈案特徵之载體的用途。在這些圈案 特徵之一者為描述於PCT/AU94/00302 (WO 94/29119)之鈔 票的浮雕印花類型之一短暫的圃像。該藉由浮雕印花所製 造之围像的短暫性質依在透明聚合物膜上的性質而定，該 等性質包括在大部分的視角之優良的透明度/澄激，以及 當垂"·直於一光源被觀察時，如同以一鏡子所觀察之光澤或 反射特性。 發明之概要說明及目的 本發明之一目的為提供一改良的保全圓案特徵，該 圖案特徵包括一額外程度的複雜性使得該保全田案特徵更 困難去複製或拷貝。 本發明提供一種包括一基底之保全文件或代幣，該 基底具有一種保全裝置，該保全裝置包括_具有一預定圏 案特徵之該基底的第一浮雕印花以及一在該第一浮雕印花 之預定圖案特徵之内或上的較小尺寸之第二浮雕印花，該 第_浮雕印花被形成以在預定的視角來隱藏且顯現該第二 浮雕印花》 換言之’該保全裝置包括該基底之大浮雕印花與該 -4- 本紙張尺度適用中國0家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱） — — — ml——— — — — ills — ^»—1)11 — I (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁> 經 濟 部 智 慧 时 產 局 員 工 消 費 合 社 印 製 A7 B7 五、發明說明（2) 大浮雕印花之一部分的小浮雕印花，該大浮雕印花在預定 的視角起作用來隱藏且顯現該小浮雕印花。 藉由在該第一浮雕印花或大浮雕印花上形成一第二 浮雕印花或小浮離印花，該第一浮雕印花或大浮雕印花在 預定的視角下隱藏且顯現該第二浮雕印花或小浮雕印花， 且在此方面提供一保全圓案特徵，然後該保全囷案特徵能 夠藉由高度技術保全生產者在一合理的償錢内被製造同 時對一般保全生產者或偽造者變得非常困難去複製或模 倣。保全圖案特徵係任擇地可變化，但是對普通人係易於 用來辨識一真正的文件。 基底較佳地為一種聚合物基底，如在澳洲或其他國 家中被用於鈔票生產之類型的一疊層的聚合物基底。該第 一浮雕印花較佳地在該基底的透明部分中形成，儘管藉由 在該基底的其他部分令形成該浮雕印花部分可達到能被接 受的結果。 在本發明之一個較佳的形式中’該第二浮雕印花較 佳地被施加至該第一浮雕印花的侧邊或較低部分，或至介 於相鄰第一浮雕印花之間的該基底部分β 藉由使用該聚合物基底的透明部分，該第一浮雕印 花能夠在不同的視角藉由使用該聚合物基底非為印刷媒質 的傳統反射及吸收性質的光澤及透射特性，來隱藏且顯現 該較小的第二浮雕印花。 在一簡單的實施例中，大浮雕印花可包含在該基底 中形成的線之浮雕印花排列，該等線具有一預定高度Η以 本取張中@囤_家標準（CNS)A4規格（21〇χ 297公釐 ί I Μ------------ίΑ (請先閲讀背面之注意事項再填窝本I) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 4 8 10-: Α7 __________Β7___ 五、發明說明（3 ) 及一預定的間隔S。高度Η可從約5微米的最小值變化至 一相當於該基底之最大可浮離印花的高度之最大值。間隔 S依該高度而定且s: Η的比值係代表性地從約6 : 1至2 : 1。 該小浮雕印花可被形成為在該等經浮雕壓印線之側邊上的 線或點，使得二次浮雕印花線係藉由一次浮雕印花線被隱 藏’而非在一預定的角度範圍·該等二次浮離印花線或點 係被浮雕印花至高度到約2微米至約20微米的級次，該級 次造成透明基底在該等預定的角度呈現無光澤。若需要的 話’該大浮雕印花的較低部分或該基底介於相鄰該等大浮 雕印花之間的部分可在該等側邊抑或一替代處被小浮雕印 花。 在一較佳實施例中’該大浮雕印花包括具有在一約 ΙΟμιη至100_的間隔之—從約5μιη至3μηι的高度之線且 較佳地一約ΙΟμπ!至約25μηι的高度以及—約3〇μτη至約 ΙΟΟμτη的間隔》該等藉由大浮雕印花所製造之直立的線係 在該等大浮雕印花的側邊以一種造成透明基底在約5。至約 45的視角呈現無光澤的方式被小浮雕印花以線或點至該 基底的表面。該小浮雕印花可構形以形成複合形狀、人像 或任何其他可辨識的元件 該大及小浮雕印花可作為印刷方法的部分被完成且 特別疋被適用於凹版印刷方法。此方法係更清楚地被描 述於吾人先前的申請案（W0 94/29119)中。 本發明進一步提供一種製造一保全文件或代幣的方 法，該方法包括在基底中形成一經浮雕壓印保全裝置，且 -6 - 本紙張&度適用中國g家標準（CNS)A4規格（210 X 297 ) ---1 — —— — — II I ! ^ i I I I I— I --— I — I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •紅-部智髮財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（4) 進一步以一較小的浮雕印花浮雕印花該經浮雕壓印保全裝 置，使得該經浮雕壓印保全裝置在預定的視角來隱藏且顯 現該較小的浮雕印花。 較佳地，該保全元件被浮雕印花至一約10到30微米 的高度，以及經浮雕壓印的侧邊為輪流被經浮雕壓印至一 約2到20微米的高度，該進一步的浮雕印花被定位’使得 該第一浮雕印花在預定的視角下隱藏且顯現該二次浮雕印 花。 較佳實施例之詳述 為使本發明可更易於被了解，將參照隨文所附之圖 式來說明較佳實施例，其中： 第1圖為一根據本發明浮雕印花部分鈔票的示意評 估； 第2圖為當在一顯現小浮雕印花的預定角度觀看時之 鈔票的一不意表不， 第3圖為一類似於第2圖之視囷，其中在一隱藏小浮 雕印花的角度觀看一鈔票； 第4A圖為當觀看一具體化本發明之文件時的一示意 表示： 第4B圊描述當在不同的條件下觀看之各種標記； 第5圊為一印刷文件（諸如一鈔票）的平面圊，其中在 該文件中之一透明窗内定位有大浮雕印花； 第6A至6H圊示意地描述製造—大浮雕印花的凹版印 版的方法； 本紙張尺度適用中舀®家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） -------I I I H I * ^----lil — --* 〔靖先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^ 4 b I u A7 ___B7 五、發明說明（5) 第7A至7M圓示意地描述製造一小浮雕印花的凹版印 版的方法； 第8圖描述被使用於一用以在小浮雕印花中造成一所 欲圈像之微屏蔽的形成中之伸長率的計算。 較佳實施例之詳述 首先參照第1至4困，本發明之一簡單的實施例係被 描述於第1囷中，如一基底1(諸如被使用於鈔票生產的護 面基底）以及包括如在第5®中所描述之一具有一被印刷部 分P與一透明窗部分L的聚合物膜的疊層，該透明窗部分L 已經被以具有一約20μιη的高度與一約80μιη的間隔之連續 平行浮雕印花的線2、3大浮雕印花，各個具有呈線或點4 的形式之小浮雕印花的大浮雕印花的線至一在該各個大浮 雕印花的線上形成約2μτη到5μιη的高度，使得如分別在第1 圖與第2圖以及第1圖與底3圖中所述，當在等於或大於 α(14.5°)的角度觀看時，該小浮雕印花4為可見的，且當在 小於β (7.2,的角度觀看時，該小浮離印花4被隱藏。 在第4Α围中，文件基底1為在一距法線約30。之典型 的觀察角度顯示，且從這個位置*該文件可被傾左或右、 轉上及下、在框轴迴轉向右或左或任何此等之组合e當以 此方式被觀察時，如在第4B囷中之（d)中所述，透明窗西 顯得為實質上透明的。在第4B圖中之敘述中，在一如在 第4B圖之（a)中所述之大概三角型的圊索中，該等大淨雕 印花線包括一組垂直平行線以及一组水平平行線。如在第 4B圖之（b)中所述，當此圖案被保持在對光源成直角時， 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公* ) I I — I — I — — — — ——— · I — 1 I J — I — — — 1 — i I (請先M讀背面之注意事項再填寫本s > 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 i、發明說明（6) 該等水平線為實質上透明，同時該等垂直線為可見的。相 反地，如在第4B圖之（c)中所述，當該等水平線為對光源 為直角時，該等水平線為可見的且該等垂直線為實質上透 明的。因此，該等線組具有三個相； 1. 一組線走向垂直於_光源處，圈像顯現，因為該 等線反射光線，. 2. —組線走向同於該光源處，然後此組線顯現實質 上透明，以及 3. 如在第4B圖中之（d)中所述，該光源為漫射且氍察 者正看穿透明區域處，該等大浮雕印花線為實質上不可見 的。 當在預定角度觀看時，該小浮雕印花4製造一二次圖 像’該圖像造成該基底1之透明窗W的浮雕印花部分顯現 無光澤。參照附件B，首先，該围像在角度β(在此情況中 為7·2°)成為可見的。在角度α(在此情況中為14.5。），所有 的小浮雕印花為可見的。該囷像在此點將不會被縮尺。根 據連續性（低U/V比率），該圖像在這個角度將為佳的。然 而1該等伸長角度在此角度尚未被計算。用於伸長角度的 計算的所選觀察角度係較高：30。。 一直到約45°的角度，該圖像將”可辨識的”。在高於 此之角度不能觀察到囷像的原因是因為如在附件B中所述 該等無光澤線將變得更細且顯現的間隔將變得更宽。 該所選之觀察角度為藉由平均（14.5，45) = 30。所選 擇。 私紙張適用中國國家標準（CNS>A4規格（21D x 297公爱） — — —— — — — — — — — — — * — — — — — illllllll <請先«讀背面之注意事項再填寫本頁> 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（7) 該小浮離印花可呈高度約2μιη到約5μιη之線或點的形 式當此高度之小線/點係使用一凹版印刷機械被浮雕印 花至該等大浮雕印花線2、3之側邊時，因為該基庳1之聚 合物具有高分子量，該等線維持一特別地高度傳真性。或 者，當該等小線/點被形成於該基底1介於線2、3之部分或 取代側邊浮雕印花或加上側邊浮雕印花時，達成類似的結 果。 間隔對高度比例S:H應該在約6:1到約2:1的範圍内* 該高度可從約5 μηι到約30μιη變化，接近用於較佳實施例之 該聚合物基底1的限度，雖然，可接受的結果可在從約5μπι 到約2 Ο μιη的高度範圍内達成。在此範圍内，對於一 5 μηι的 高度’介於線之間的間隔S可介於約1 5μιη及約20μπι之間變 化；對於一 ΙΟμιη的高度，介於約3〇μιη及約50μπι之間；對 於一 15μιη的高度，介於約30μιη及約90μιη之間；對於一 20μηι 的高度’介於約4(^111及約1〇〇0111之間；對於_254111的高 度，介於約50μπι及約ΙΟΟμιη之間；對於一 30μηι的高度， 介於約60μπι及约90μιη之間：對於一 35μιη的高度，介於约 65μιη及約75μπι之間。附件Α的表描述較佳高度與間隔之 參數，參照所附的表，具暗調區域代表對於介於5及35μπι 間之高度的最佳間隔。 如在第5圓中所述，當該文件分別地被傾下及上時， 該大浮雕印花包括水平線，同時以一包含一微屏蔽的方式 完成該小浮離印花，該微屏蔽再產生一種諸如一具有在第 5圖中所述外表之箭號的元件。 • 10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 297公釐） I I ----—III— i I I I I — I ^ -------I ί請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __B7 五、發明說明（8) 現在，到圓式之第6至8圖’該大浮雕印花方法被描 述於第6A至6H圓中且包括下列步驟： 1 旋轉光阻劑聚合物於一銅金屬模板之上於—至多 3 μιη的平均厚度。

2.放置大浮雕印花屏蔽於該光阻劑聚合物之上D 3_以UV燈照射表面。 4. 移除該等UV燈= 5. 移除該大浮雕印花屏蔽。 6. 溶解且洗掉未被曝光的光阻劑聚合物。 7. 使用一氣化鐵及銅溶液蝕刻大浮雕印花結構。 8·移除該光阻劑聚合物。 若需要’該方法可在使用陰圖取代陽圖之相反的光 阻劑中被完成。 第7A至7M囷描述較佳的小浮雕印花方法，該方法涉 及下列步驟： 1. 如在第7A圖中所示，使用如被使用於該大浮雕印花 的相同模板，旋轉光阻劑聚合物於該金屬模板之上，確保 該阻劑於一平均厚度進入該大浮雕印花内。 2. 放置改訂的大屏蔽至如原大屏蔽的相同位置内。 s玄改si"的大屏蔽將具有所有大浮雕印花線被移除的中心。 3·以UV燈照射表面。此應被完成以確保該模板之非 雕刻部分以及該大浮雕印花的底部分被曝光。 4.移除該等UV燈。 5 ·移除該改訂的大浮雕印花屏蔽。 -11 - 本紙張尺度適用中SS家標準(CNSiAd規格（210x 297公爱） ---I — — — — — III — * — — — — — — — - - - - - - - --- (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本I> 4 .； 4 .； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _____ B7 五、發明說明（9) 6.放置該第一小浮雕印花屏蔽a於該光阻劑之上。屏 蔽A由一延長的圖像所組成*該圖像為延長的，使得當在 約30。之最佳的最佳化視角被觀看時，該田像呈刻度顯現d 7·以UV燈照射表面。該等UV燈應該被放置在對水平 面約30。之最佳化視角。這些燈必須照射一均勻光為造成 如在第6圏中所示之正確的曝光圖案。 8. 移除該等UV燈。 9. 移除屏蔽A。 10. 放置該第二小浮雕印花屏蔽B於該光阻刺之上。 屏蔽B亦由一具一最佳化視角30。之延長的圊像所組成。屏 蔽B可由依不同於屏蔽A之圊像所組成。 11 _以UV燈照射表面。該等UV燈應該被放置於就屏 蔽A而言之相對方向中在對水平面約3〇。之最佳化視角。 12. 移除該等UV燈。 13. 移除屏蔽B。 14. 溶解且洗掉未被曝光的光阻劑。 15. 使用氩氣酸蝕刻該等小浮雕印花結構。 16. 移除該光阻劑聚合物。 在以上的方法中，微屏蔽A及微屏蔽B二者由延長的 圖像所組成。該延長的程度為藉由較佳的視角所決定。該 較佳的視角已經被設定在對該文件約30。· 延長比例：x/y = 1/sin(Y) x =在基底上的圖像之延長長度 y =囷像觀看高度 -12· 本紙張尺度適用中圉圉家標準（CNS)A4规格（210 * 297公鏟） -1· H I» I n ^ii— * I I I I 1 n t _· {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A? Β7 五、發明說明（10) 具一 30。之最佳化視角，延長程度為2: 1,例如，若 一圖像具有一 15mm的觀看高度，然後該藉由該微屏蔽所 造成的圓像在該基底上將為30 mm長。該圖像僅在垂直觀 看方向被延長。 接著以上方法，用以達成大及小浮雕印花之凹版 印版為藉由下列步驟所得： 1* 一鎳金屬模板係自該銅模板生長》 2.該鎳模板係被壓入一 PVC板内。 3 · PVC碑被裁製且被溶接至該較大的凹版設計 内。通常’方向性的浮雕印花圖像為總凹版設計的一 個子集》 4. 金屬印版係自該被熔接的pvc主要碑被製造。 5. 凹版印刷係如在WO 94/291 19中所述的被完 成。 傳統的凹版印刷而言，該雕刻凹版的某些區域可 被上墨《為方向性經浮雕壓印围案特徵之雕刻凹版的 區域將不會被上墨。 該浮雕印花方法為一連續的過程，藉此來被浮雕 印花的基底係於高壓下通過二個輥軋圓筒β該浮雕印 花的雕刻凹版覆蓋該二個圓筒中之一者，另一個圓筒 為壓印圓筒。在此過程期間，基底藉由壓印圓筒被壓 至該凹版的蝕刻凹版内。該基底被塑造變形成蝕刻凹 版的形狀。當基底退出壓印圓筒時，由於材料的性質’ 大浮雕印花部分地返回成形。在該基底上的浮雕印花 -13- 木紙張&度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（2l〇x 297公爱） ------!lil裝*----丨II訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} I A7 B7 11 五、發明說明（ 保持完整◊然而，該浮雕印花的高度並不等於在該凹 版上的蝕刻凹版高度。典型的比例為約1 : 5。為此， 在該被放鬆基底上的最大可預測的最後經浮雕壓印為 約 35- 40 μιη。 元件標號對照表 1.........基底 4.........小浮雕印花的線或 點 2、3…大浮雕印花的線 -------------- · I I I I L I I - — — — lllli (請先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧时產局員Η消費合作社印製 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公« )

Claims (1)

1. 44b 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 AS B8 C8 ---------- D84請專利範圍 !· 一種保全文件或代幣，其包括一基底，該基底具有一 種保全裝置，該保全裝置包括一具有一預定围案特徵 之該基底的一第一浮離印花，以及一在該第一浮離印 花的預定®案特徵之内或上的較小尺寸之第二浮雕印 花’該第一浮雕印花被形成以在預定的視角來隱藏且 顧現該第二浮雕印花。 2·如申請專利範圍第1項之文件或代幣，其中該基底為 一聚合物基底，諸如一在鈔票生產上所使用之類型的 疊層聚合物片。 3·如申請專利範圍第1或2項之文件或代幣，其中該第 一浮雕印花係被形成於該基底的透明部分中。 4. 如申請專利範圍第1或2項之文件或代幣，其中該第 二浮雕印花係形成於該第一浮雕印花的側邊或較低部 分或形成於介於相鄰第一浮雕印花之間的部分。 5. 如前述申請專利範圍中任一項之文件或代幣，其中該 第一浮雕印花包括具有一高度Η及間隔S之線或點， 該高度從約5微米變化至一相當於對該特殊基底之最 大可浮雕印花的高度之最大值，該間隔依該高度以S : Η比例為從約6:1至約2:1變化。 6. 如申請專利範圍第5項之文件或代幣，其中該第二浮 雕印花包括被浮雕壓印成一約2微米至約6微米之高 度的線或點。 7. 如申請專利範圍第5或6項之文件或代幣，其中該等 第一浮雕印花具有一約5微米至約30微米之高度以 本紙張尺度逋用中Β國家梂率（CNS > Α4规格（21〇χ297公着） {請先Μ讀背咬之注$項再填寫本Ϊ -裝_ 訂 線 A8 B8 C8 DB 申請專利範圍 及-約10微米至100微米之間隔。 8·如申請專利範圍第7項之文件或代幣1其中該高度為 從約10微米至約25微米且該間隔為從約30微米至 約100微米，該第二浮雕印花使得該基底在對該基底 表面介於5。與45。之間的視角呈現無光澤。 9· 一種製造一保全文件或代幣的方法，該方法包括在該 基底中形成一經浮雕壓印的保全裝置，且以一較小的 浮雕印花來進一步浮雕壓印該經浮雕壓印的保全裝 置，使得該經浮離壓印的保全裝置在預定的視角下隱 藏且顯現該較小的浮雕印花。 !〇·如申請專利範圍第9項之方法’其中該文件或代幣係 以在申請專利範圍第3至8項之任一項中所請求的方 式被浮雕壓印》 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局i〔工消費合作社印製 I 國 一中 I用 一適一 S 尺 張 紙 」木 It 公 7 29 X ο 2, /(\$A4