TW439135B - Method and device for cleaning substrates - Google Patents
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Description
A7 B7 1 3 5 五、發明說明(1_) 本發明係關於一種清潔基板之方法及裝置’而在這種 方法、或這種裝置裡’其基板係分別在一個以上的簡略清 潔裝置裡,以濕式的方式來進行前置清潔作業。 在半導體工業裡’半導體晶片皆需要施加一些不同的 方法步騾一例如鍍層、上面罩、蝕刻、摻雜、拋光的步驟 。在這些步驟之間’基板也有可能需要加以清潔。尤其是 .在挺光步驟之後’更需要對被搬光的基抵加以清潔,因為 基板被拋掉的小顆粒、以及其拋光液,均會附著在它上方 〇 拋光程序之後用來清潔基板的傳統方法,係將基板由 拋光裝置運送到一個刷洗清潔裝置上一一如我們從ΕΡ-Α-0 412 796,JP-A-7 066 161,US-A-5 547 515,或是JP-A-1 289 122中所獲知的。在這些既有的刷洗清潔裝置中,其基 板係分別利用旋轉的刷子、以及一種清潔劑來加以清潔。 然後,基板通常需要被乾燥,並收集在匣中--如US-A-5 547 515所述的。 由於刷洗的清潔方式往往不夠徹底,所以乾燥過後被 收集起來的基板,稍後就會被送到一個精細的清潔裝置裡 —一如DE-A-44 13 077,DE-A-195 46 990,或是隸屬於同 一個申請人的DE-A-196 37 875所得知之。在這種精細的清 潔裝置中,匣中所有的基板均會同時浸泡到一種處理液中 ,並在這個處理槽裡,以一種比如說產生液流的方法,來 讓其清潔至終。這些基板隨後將從精細的清潔裝置裡被移 出來’並加以乾燥。其乾燥程序’係以基板由處理液中緩 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公* ) -4- |丨丨_ — 1| 丨 — 丨 . I! (請先^讀背面之注—項再填寫本頁) 訂---------V. - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明說明(2.) 慢舉起的方式來完成的。根據ΕΡ-Α-0 385 536中所述的「 馬拉葛尼效應」,其乾燥程序可以利用處理液上方注入流 體的方法來加速。 在前述的方法步驟中,其基板係於刷洗清潔裝置中’ 分開別來被清潔,然後再置於精細的清潔裝置中,整匣地 被清潔。在這兩個步驟之間,每一片基板都需要被乾燥過 一例如將晶片甩乾,或是經由熱處理。這個乾燥程序是不 可或缺的,否則刷洗清潔機所使用處理液就會附著其上, 並產生黏稠物質。這些物質在後續的清潔程序裡,是很難 被去除的。然後,這些被乾燥的晶片還必須疊合收集在一 起,以便匯集成一匣送到精細的清潔裝置裡。 刷洗清潔程序、以及精細清潔程序之間的乾燥程序是 很煩瑣的,而且晶片本身也有被離心機、或是被熱處理損 害的危險β 因此,本發明的基本任務便是要設計一種簡易而又改 良的方法、以及一種簡易而又改良的清潔裝置,來清潔基 板,使其可以加速基座的處理,並提高其產能。 前述這種類型的方法之任務,係依據本發明以如下的 方式來解決的:基板在前置的清潔痄業完成之後’將在潮 濕的狀態下被運送集中到一個裝有處理液的收集槽裡;當 收集槽裡的基板達到一定的數量之後,其將會共同組成一 個匣子,而在潮濕的狀態下被送到一個精細的清潔裝置裡 ,讓基板以濕式的方式,在精細的清潔裝置裡被清潔至終 結,然後再讓這個匣子被乾燥。 本紙張尺度適用宁國國家標準(CNS)A4規格(210 X 2¾合釐) <請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -丨 i - ---訂---------^. 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製
經濟部智慧財產局異工消費合作社印製 五、發明說明(.3·) 由於基板係置於一裝滿處理液的收集槽來加以運送, 而少了一道中間的乾燥程序’而且基板到達其能組成一個 匣子的數量之前,依然是以潮濕的狀態來運送的一因此, 基板在簡略清潔之後的乾燥程序’便是多餘的,這是因為 基板被保持在一種液體裡面時’就可以防止這種液體乾掉 、並防止因此而產生的黏稠物質。這種方式也不會讓基板 在中間的乾燥過程中’有受損的危險。況且,其還可以提 高其處理速度、以及這種裝置的效率。 簡單而有效的前置清潔作業,最好是利用旋轉的刷子 、以及一種處理液’來預先清潔其基板。 基板最好本身也能旋轉,以便達到一個均勻的前置清 潔效果。 在其中一個優良的應用實例中,基板係採用超音波、 或是兆赫聲波來加以振動,以便提高其前置清潔的效果。 在本發明的優良應用形式中,基板係經由兩個不同的 簡略清潔裝置,來進行前置清潔作業的,而且是在潮濕的 狀態下,由第一台簡略清潔裝置運送到第二台簡略清潔裝 置。由於其採用兩台簡略清潔裝置的緣故,因此前置清潔 效果明顯提高。 在本發明一個特別優良的應用形式中,其基板在其方 法步驟之間,均會保持在一個相同的、垂直的方向上。這 樣一來,基板的運輸裝置就可以獲得簡化,因為基板在不 同的清潔步驟之間,並不需要旋轉。 本紙張尺度+關家_ (CNS)A4規格(21G χ巧於楚) an m n In n n If 1 n n D } > n I n ϋ I (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 3 91 3 5 at 一, B7 五、發明說明(4·) 為了讓最終的清潔能夠達到一個良好的效果,基板將 會芫全浸泡在一個清潔、和/或沖洗液裡,並利用其來沖洗 。基板最好利用超音波來加以振動,以便提高其清潔效果 0 在本發明一個特別優良的應用形式中,基板在其乾燥 作業時’是從清潔液、及/或沖洗液裡被抽拉出來,然後再 插放到一個乾燥運輸盒裡,並且將其鎖在裡面。為了加速 其乾燥程序’我們最好在基板從清潔液、及/或沖洗液裡被 拉出來之前、及/或被拉出來之際,將某種流體經由乾燥運 輸盒來注入到其乾燥的區域上。所注入的流體最好是由氮 和異丙醇所構成的混合氣體,其可以減少清潔液、及/或沖 洗液的表面張力’並且在基板被抽拉出來之際,讓清潔液 、及或沖洗液更容易流下來。 在一台至少具有一個別基板的簡略清潔裝置,而且具 有一個液體輸入口、以及一個處理容器的濕式清潔基板的 裝置上,所列的這些任務,係以如下的方式來解決的:其 至少設置了一個用來盛裝多個基板、内含處理液的收集槽 ,一個内含流體容器的匣式精細清潔裝置,以及至少一個 以上的運輸裝置,讓其一方面在個別基板簡略清潔裝置及 收集槽之間,另一方面在收集槽以及匣式精細清潔裝置之 間,做為潮濕基板的傳送之用。 當我們設置了一個内含處理液的收集槽,以便來盛裝 多個基板之後,基板就可以在個別基板的簡略清潔之後、 以及在其整匣被送到精細清潔裝置之前,暫時堆放在收集 1 1-------!—* 表-------訂-- -----I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規袼(210 : 2977公釐 43 91 3 5 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 五、發明說明(5.) 槽裡。將其暫時堆放在處理液裡,即可免除基板在簡略清 潔之後,產生液體附著其上、或是有形成黏稠物質的危險 。這樣一來,至今在個別簡略清潔、以及匣式精細清潔之 間仍不可或缺的乾燥程序,連同其所帶來的基板損傷之危 險性,都可以被去除。除此之外,其處理速度及裝置的效 率,也都可以被提高。 個別基板簡略清潔裝置至少含有一個可旋轉的刷子, 以達一個良好的簡略清潔效果《在本發明其中一個應用形 式當中’其個別基板簡略清潔裝置至少含有一個可旋轉的 按壓滾輪’妤讓基板在進行簡略清潔時能夠轉動,而使其 能保持一均勻的清潔效果》 其個別基板簡略清潔裝置至少含有一個超音波發射器 ’以便來提高其清潔效果。在本發明其中一個應用形式當 中’其個別基板簡略清潔裝置有設置了兩個處理槽,而其 則¥有至少一個以上的液體輸入口、以及至少一個以上的 刷子。以這種方式,其便可以達成一個兩段式、而且更佳 的基板前置清潔作業》 在本發明一個優良的應用形式之中,其個別基板簡略 清潔裝置、收集槽、匣式精細清潔裝置、以及其運輸裝置 ,分別都設置了支撐物,以便使基座板處在一個基本上相 同的方向上一而最好則是在垂直的方向上a這樣一來,我 們就特別可以讓其運輸裝置獲得簡化,因為在運輸的過程 當中’其就不需要將基板轉到另一個方向。基板最好是保 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 29:公釐) ---------表--------訂 i.---— iff 丨 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,·*: ·、 ·~- ... ^ί "-1 -' 1 : Α7 ___________Β7 " —--- 五、發明說明(6-) 持在一個基本上為垂直的狀態,以便使其和既有的匣式精 細清潔裝置之間’能保持一個相容性。 匣式精細清潔裝置最好設有一個以上的清潔液、及y或 沖洗液輸入口,以及至少一個以上的超音波發射器,以便 達到一個良好的最終清潔效果。 為了減輕基板被塞入匣式精細清潔裝置裡、以及從中 將其取出的負擔’所以其設置了 一個基板的舉起、及下沉 裝置。 在本發明一個優良的應用形式中,其運輸裝置設有一 個内含基板之支撐物的乾燥運輸盒。利用這個乾燥運輸盒 裡的支撐物,就可以讓基板單獨的—亦即在沒有適當基板 托架的情況下一被裝置放進去,並加以運輸。以這種方式 ,即可減少基板被基板托架污染的危險。 當基板由匣式精細清潔裝置中的流體容器裡所裝填的 流體中被抽拉出來時,在乾燥運輸盒上將會有一個媒介物 ’用來將流體導入到一位在前述液體表面上方的乾燥區域 ’以便加速其乾燥程序。 其運輸裝置最好設有一個濕式運輸盒,用來把基板匣 從收集槽運送到匣式精細清.潔裝置。於乾燥運輸盒之外再 使用濕式運輸盒,便可以保證乾燥運輸盒永遠乾燥,而使 其所盛裝的基座不致於受到污染。 對於一個簡單而且節省空間的結構來說,其個別基板 簡略清潔裝置、其接收及收集槽、以及其匣式精細清潔裝 本紙張尺度適財國國家楳準(CNS)A4規格咖x 297公爱) -9 - i — III------11 ------- - 訂---------r, (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁> A7 B7 五、發明說明( 置,係排成一列。這樣一來即可簡化其運輸裝置,因為其 只需要做直線運動而已。 (請先Μ讀背面之it意事項再填窝本頁) 在本發明一個優良的應用形式當中,其裝置設有一個 具有進料口的輸入區域、以及一個裡面可以裝進液體的輸 入槽。這種具有進料口的輸入區域具有一個優點:在其外 面的作業員將基板送入到裝置裡時,並不需要將時間準確 的調配到和個別基板簡略清潔裝置一致。而其裡面可以裝 進液體的輸入槽,則可以在基板進行簡略的清潔作業之前 ,防止基板上面所附著的液體乾涸。 對於一整個裝置均為節省空間的構造而言,以及對於 一個簡化的運輸裝置而言,其個別基板簡略清潔裝置、收 集槽、匣式精細清潔裝置、輸入區域、以及輸入槽,均係 排成一列的。 下文中,本發明將參照附圖,以一個優良的應用實例 來加以說明,圖上繪的是: 圖一本發明的基板清潔裝置之透視圖; 圖二圖一所示的清潔裝置之倚視圖; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖三a及圖三b切過圖三所示的清潔裝置之第一模組的縱 剖面圖,以及穿過第一模組之刷洗清潔裝 置的橫切面圖; 圖四一個精細清潔裝置的剖面示意圖。 圖一及圖二所展示的,是本發明的清潔裝置1,其基 本上是由兩個模組2和3、以及為這兩個模組服務的運輸装 置4所構成的。第一模組2構成了其之輸入及前置清潔站, ‘紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297 g·釐 A7 B7 五、發明說明(8.) 而第二模组3則構成了其之收集、精細清潔、以及輸出站 〇 模组2設有一個薄晶片輸入區5,其包含有晶片8之接收 架及托架7。其接收架及托架7,係以如下的方式來設計的 ’亦即讓晶片8能保持在一個垂直的位置上。 晶片8是從据光站那裡,由一個外部的、沒有緣出來 的作業員將其取出來’視情形有時也需要將其轉到一個垂 直的位置,然後再插放到其接收架及托架7裡面。 緊接在進料區5旁邊的’是一個接收槽9。其裡面裝填 了一種流體_例如去離子水,而且其能接收許多片晶片— 例如5片晶片。 除此之外,模組2還設置了第一及第二刷洗清潔裝置 10及1卜其便設置在接收區5之接收槽9對面那一侧的旁邊 。第一刷洗清潔裝置10設有一個蓋子14、以及一個設有溢 流管的處理槽15 ’讓我們可以從下方把處理液16灌進去一 這些我們可以從圖3a及b中看得最清楚。槽15裡面設有一 個以二點托住的形式來構成的晶片托架17,其可以將插放 到槽15裡面來的晶片8,以如下的方式架住:讓其有一半 浸到處理液16裡’並保持在一個垂直的狀態。除此之外, 這種刷洗清潔裝置10還設有兩個刷輪20、21,分置於槽15 裡面所置的晶片兩側,而且含有兩個在清潔作業時置於晶 片8邊緣的按壓滚輪22、24,好讓其能夠轉動。其刷輪20 、21係沿著槽15的縱向來延伸,而1是以如下的方式來設 置在槽15上方的:即其至少有一部分會延伸到槽15的處理 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格(210 X 297公釐) (諳先閲讀背面之注意事項再填窝本頁)
I * n I— n n l 1 一®J1 - κ - n n i ϋ I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、.發明說明(9·) 液16裡面。其刷輪20、21是可以轉動的,用來清潔槽15裡 所置的晶片8。除此之外,其刷輪還具有一個通達其内部 的流體通道’妤讓處理液能夠由刷輪的内部導向其外侧。 除此之外,其第一刷洗清潔裝置1〇還設有一個超音波 發射器’好讓晶片能夠經由超音波的振動來得到效好的清 潔效果。 其第二刷洗清潔裝置11的構造,基本上和第一刷槽是 一樣的’只不過其沒有超音波發射器而已β 其輸入區域5、儲存及收集槽8、以及其刷槽1〇、Η, 係排成一列來設置在模組2裡的。 模組3係從其側面直接與模組2接壤在一起,而且與第 二刷洗清潔裝置11為鄭。與第二刷洗清潔裝置丨丨為鄰的, 是模組3所設的儲存及收集槽30 ’其適合用來盛放大量的 半導體晶片8 —例如25個半導體薄晶片。為了達到這個目 的’所以我們在收集槽30裡面,便設置了一未進一步績出 來的收納裝置、以及一個用來把半導體晶片8舉起、及/或 降下的裝置。收集槽係以下列的方式,來注入—種比如說 去離予水的處理液:其要讓收集容器30裡面所收納的半導 體晶片8 ’能夠完全浸在這個流體裡面。雖然我們沒有圖 示出來,但這個槽30仍然可以是一個溢流槽》 在收集槽30旁邊所設置的,是一個精細清潔裝置35。 這一點我們可以從圖四看得最清楚。 這一類精細清潔裝置35的架構,舉例來說,在1)£_八_ 44 13 077、DE-A-195 46 990、或是隸屬於同一個申請人的 (CNS)A4 ^ (210X 297 ^ 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 i I ^ 頁f 訂 I I r 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 4391 3 5 A7 B7 五、發明說明(10 ·) DE-A-1% 37 875中,均有說明。而為了避免重覆起見,其 内容均被用來做為本案的物件。這種精細清潔裝置35的基 本元件’是一個處理槽36,而其可以選擇同時、和/或交替 的來填入一種例如腐蝕液的處理液、一種化學清潔液、和/ 或一種沖洗液。除此之外,槽裡面還設有一個形式為尺狀 的半導體晶片8之升降裝置37。這種精細清潔裝置35至少 還另外設有一個圖上沒有繪出來的超音波發射器,以便使 那些置於處理槽36及處理液裡面的晶片’能以超音波來加 以振動。在處理槽36下方的區域裡’設有一個處理液的注 入喷嘴38、以及一個形式為快速排水閥的排水口39,用來 將處理液排掉。 緊接在精細清潔裝置35旁邊的,是一個輸出站40。經 過清潔及乾燥過後的晶片’便是堆在這裡’然後再從這裡 將其運走。 用來服伺模組2及3的運輸裝置4,其具有一個能在水 平和垂直方向上移動的第一操作器50,用來把晶片8從輸 入區5運送到接收槽9那裡,以及把其從接收槽9運送到第 一刷洗清潔裝置10。操作器5〇設有一個以既有的方式來做 成的晶片8抓握裝置51 —其構造即俗稱的邊緣夾。這個抓 握裝置係經由一個連接元件52,以一固定的間距、以及能 在垂直方向上移動的芳式’來和運輸裝置4的第一垂直支 柱55相連接的。但是這支垂直支柱55,卻又能夠在運輸裝 置4的水平支柱56、57上面,做水平的移動。這樣一來, 本紙張尺度通用f國困豕稞竿(CNS)A4規格(21〇 X 297公楚) -13- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,k IE* n if 1 n ^e,1 * ^1- I · < 經濟部智慧財產局員工消f合作社印製 4391 35 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明說明(11.) 抓握裝置的垂直運動即可沿著支柱55來運行,而其水平運 動則可以經由支柱55沿著支柱56、57的運動來完成。 除此之外,運輸裝置4還設有一個第二操作器60 β其 基本上和第一操作器50相同,而且也能夠沿著其垂直及水 平支柱,來進行水平及垂直的運動。操作器60係用來將個 別的晶片8,由第一刷洗清潔裝置10運送到第二刷洗清潔 裝置11裡去,以及將其由第二刷洗清潔裝置11,運送到第 二模組3的儲存及收集槽30裡。 除此之外,運輸裝置4還設有一個濕式運輸盒65 ,用 來將一整匣的晶片,由收集槽30運送到精細清潔裝置35裡 去。這一類的濕式運輸盒65,可以從比如說隸屬於同一個 申請人的DE-A-196 52 526中得知。為了避免重覆起見,我 們至此已將其視為本案的物件之一。 除此之外,運輸裝置4還設有一個乾燥運輸盒70,而 其在比如說同一個申請人的DE-A-196 52 526中,也已經有 加以說明》為了避免重覆起見,這一份案子的内容,至此 也已被視為本案的物件之一。如圖四之示意圖所繪的一般 ,其乾燥運輸盒70係用來盛裝處理槽36裡面所推出來的薄 晶片’然後再將其運送到輸出站40郡裡去。這種乾燥運輸 盒設有一些侧面的導引槽口 71,用來盛裝及導引晶片8之 用’以及設有一*^筍72,用來把其所盛裝的晶片卡住。此 外’其蓋子70上面還設有一個氣體注入口75,讓一些混合 氣體一例如由氮氣和異丙醇(Ν2/Π»α)所構成的混合氣體 ,可以被灌進來。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 楚) ---------------裝--------訂---------Γ, (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 2 :y _ A7 ________B7_ 五、發明說明(12.) 其收集槽30、精細清潔裝置35、以及輸出單元40,其 和輸入區5、接收及收集槽8、以及第一和第二刷洗清潔裝 置10和11 ’係排成一列。 在操作本發明的裝置時,晶片8將會被一個外部的、 沒有緣出來的濕式機械裝置,由一個沒有繪出來的拋光輸 出站那裡取出來’然後放置到輸入區5的接收架及托架7上 —必要時還需要把其轉到一個垂直的方向。然後,操作器 50將會把晶片抓住’並把其先行運送到一個裝滿了液體的 接收槽9那裡’然後把其放進去。這個接收槽9可以接收比 如說直到五個為止的晶片。 然後’這個操作器50會再度把晶片從接收槽9裡取出 來’並把其送經一個蓋子14已經打開的刷洗清潔裝置10 β 操作器50會把晶片放置在處理槽15裡的托架Π上,然後再 從刷洗清潔裝置那裡退出咪。其按壓滚輪22、24,以及刷 輪20、21將會把晶片抓住’而處理槽15則會填入某種液體 16 —例如去離子水’一直填到其滿出來為止,以便使晶片 8半浸泡在裡面。其刷輪2〇、21將會旋轉,並且略微向上 頂住晶片8 ’而使得其靠在按壓滚輪22、24上。這樣一來 ’其晶片8就會從托架17分離,並經由旋轉的按壓滚輪22 、24而轉變成旋轉的運動。經由刷輪2〇、21即可簡略的將 晶片清潔乾淨。當其在洗刷的同時,超音波發射器也有在 作用’以便增強其清潔效果。刷輪2〇、21、以及按壓滚輪 22、24的旋轉速度’在快達清潔作業終了之前就已經放慢 ’以便使晶片8能夠再度下降到托架7裡面去。刷輪2〇、21 ------------A--------訂· <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
15- A7 91 3 5 _________B7___ 五、發明說明(13·) 及按壓滚輪22、24將會從晶片8上方移走,而且刷洗清潔 裝置10的蓋子14也會打開。第二操作器60將會移到第一刷 洗清潔裝置10上方’把晶片8抓起來’並把其運送到第二 刷洗清潔裝置11那裡,並把這些晶片8放在一個架予上β 在刷洗清潔裝置11裡,其基本上是重覆第一刷洗槽1〇的清 潔程序,只不過其沒有安裝超音波而已,而且處理槽裡的 水也沒有再讓其溢出來。 在第二刷洗清潔裝置中11的清潔作業之後,晶片將會 被第二操作器60抓住,然後送往收集槽30那裡,並插放到 其裡面所設的接收裝置裡》每一片新的晶片都需要重覆前 述的步驟’ 一直到收集槽30裡的所有位置均被佔滿為止。 當收集槽30裡的所有位置均被佔滿時,有一個濕式運 輸盒65就會移到收集槽30上方,而且所有晶片8都會共同 由收集槽30移到濕式運輸盒65裡面,並且被鎖住。當濕式 運輸盒65裡的晶片8被鎖住之後,其就會被運往精細清潔 裝置35那裡去。位在處理槽36裡的升降裝置37將會被舉高 ,以便來接收濕式運輸盒65裡面所盛裝的晶片8。在這個 時候,濕式運輸盒65裡的卡筍裝置就會鬆開,而使所有的 晶片8均共同經由升降裝置37,來落到一個裡面裝有處理 液一例如去離子水一的處理槽36裡。其清潔液將利用一個 置於槽底部的噴嘴38,在其晶片8之間噴灑。在這個容器 裡的去離子水,將會因此而上昇,並經由一個溢流管流出 去。其超音波發射器將會在一個特定的處理時間敌動。然 後,這些清潔液將透過一個快速排水閥(快速泵)39從下 χ29|參釐) ---------------- {諳先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明(14.) 方排掉’然後再從下方把去離子水灌到這個容器裡。有一 個乾燥運輸盒70將會移到處理槽36上方,而且有一種混合 氣體一例如Ns/EPA ’將會經由遠個盒子7〇導引進來,而形 成去離子水表面上方的一層。然後這些晶片8將透過升降 裝置37,共同由去離子水裡面移出來,並送往乾燥運輸盒 70裡。當晶片8抵達乾燥運輸盒7〇裡面之後,盒子上的卡 筍裝置72就會動作,以便將晶片8卡住β 然後,乾燥運輸盒70將會移到一個輸出站40上方,並 經由卡筍裝置72的開啟,而把晶片8放到一個輸出站4〇的 晶片收納裝置上。晶片8將會從輸出站這裡被一個外部的 乾燥機械裝置取走。 本發明係根據一個特殊的應用實例來加以說明,但本 發明並不侷限於這個特殊的應用實例而已。例如我們只採 用一個刷洗清潔裝置’來取代這兩個刷洗清潔裝置10、11 ’而其可以視情況來進行一級或多級的前置清潔作業—這 也是—種可以考慮的方式。至於捨棄其接收槽9,並利用 操作器50直接將晶片由輸入區5運送到第一刷洗槽10裡去 的方式’也是一種可以考慮的做法。但是這種方式卻必須 在時間上抓得很精準,因為晶片不可以在接收區上閒置太 久’否則晶片上的液體就會乾涸。除此之外,晶片也可以 利用個外部的機械裝置,來把其插放到接收槽9裡,而 其操作器50則只用來把晶片由接收及收集槽9運送到刷洗 清潔裝置10而已》 --------------. I I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 幻· 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 " 乂 肀®®家標準(CNS)A4規格(210 釐) ιΕ;
A7 B7 五、發明說明(15.) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 元件符號說明 1 清潔裝置 ;; 2 模組 :: 3 模組 4 運輸裝置 5 薄晶片輸入區或接收區 7 接收架及托架 8 晶片 9 接收槽 10清潔裝置 11清潔裝置 14蓋子 15處理槽 16處理液 17晶片托架 20刷輪 21刷輪 22按壓滾輪 24按壓滾輪 30收集槽 35精細清潔裝置 36處理槽 37升降裝置 38 注入噴嘴 -------------- --------訂·--------梦 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297_, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 μ心修正丨43 91 3 5 五、發明說明(16.) 39排水口 /快速排水閥 40輸出站 50第一操作器 51抓握裝置 52連接元件 55第一垂直支柱 56水平支柱 57水平支柱 60第二操作器 65濕式運輸盒 70乾燥運輸盒/蓋子 71導引槽口 72卡筍 75氣體注入口 Α7 Β7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝--------訂---------^! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A.l規格(2〗0 X 297
Claims (1)
- 4 3 9135 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 篇_88111310號專利案申請專利簌園條正本 1. 一種清潔基板(8)之方法,基板(8)則是分別在一個 以上的簡略清潔裝置(10、11)中,以濕式的方式來進 行前置清潔作業,其特徵為, (a) 基板(8)隨後將在潮濕的狀態下,被運送到一個裝 有處理液的收集槽(30)中; (b) 基板(8)會被收集在收集槽(30)中; (c) 當收集槽(30)裡面的基板(8)達到一定的數量之 後,其將會共同组成一個匣子,而在潮濕的狀態下被 送到一個精細清潔裝置(35)中; (d) 由基板(8)構成的匣子,將以濕式方式,在精細清 潔裝置(35)裡被清潔至終結; (e) 然後再讓匣子被乾燥。 2. 根據申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵為,基板(8) 係採用一個以上的刷子(20、21),以及一種以上的處 理液(16),來預先清潔其基板。 3. 根據申請專利範圍第2項所述之方法,其特徵為,在預先 清潔其基板(8)的刷子(20、21)裡,至少有一個刷子 是可旋轉的。 4. 根據申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵為,基板(8) 在其前置清潔作業時會轉動。 5. 根據申請專利範圍第1項所述之方法’其特徵為,基板(8 ) 在其前置清潔作業時,係以兆赫聲波來加以振動的。 本紙張尺度逋用中困两家標奉< CNS ) A4規格(210X297公釐) -18- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-* 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ?5 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 6·根據申請專利範圍第丨項所述之方法,其特徵為,基板(名) 是在兩個不同的簡略清潔裝置(Η)、H)中,來進行前 置清潔作業的,而且是在潮濕的狀態下’由第—台簡略 清潔裝置(10)運送到第二台簡略清潔裝置(u)。 7. 根據申請專利範園第1項所述之方法’其特徵為,基板(8 ) 在其方法步驟之間,均會保持在一基本上相同之方向。 8. 根據申請專利範圍第7項所述之方法,其特徵為,基板(8 ) 會保持在一個基本上為垂直的方向。 9. 根據申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵為,基板(8) 在最終的清潔作業時,至少必須採用一種清潔、及^或沖 洗液。 10·根據申請專利範圍第9項所述之方法’其特徵為,基板(8) 必須完全浸泡在清潔、及/或沖洗液裡。 11. 根據申請專利範園第9項所述之方法,其特徵為,基板(8 ) 係採用清潔及/或沖洗液來加以沖洗。 12. 根據申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵為,基板(8) 係採用兆赫聲波來加以振動的。 13. 根據申請專利範圍第9項所述之方法,其特徵為,基板(8 ) 在最終清潔作業之後,係從清潔液及/或沖洗液裡被抽拉 出來再加以乾燥的。 14. 根據申請專利範圍第13項所述之方法,其特徵為,基板 (8 )要***放到一個乾燥運輸盒裡,並且將其鎖在裡面。 15. 根據申請專利範圍第13項所述之方法,其特徵為,在基 板(8)從清潔液及/或沖洗液裡被抽拉出來之前,及/或 本紙張尺廋逋用中國國家樣率(°^ ) A4规格(2丨0X297公釐) -19- (請先W讀背面之注項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B8 C8 _____ D8 六、申請專利範圍 被抽拉出來之際,有一種流體必須被注入到其乾燥的區 域上。 16.根據申請專利範圍第15項所述之方法,其特徵為,流體 將被注入到乾燥運輸盒(70)裡面去。 Π.根據申請專利範圍第15項所述之方法,其特徵為,其流 體是一種由氮氣和異丙醇所構成的混合氣體。 18. —種濕式的基板(8)清潔裝置,其具有至少一台個別基 座的簡略清潔裝置(10、11),而且内含一個液體輸入 口、以及一個處理容器(15),其特徵為,其至少設有 一個用來盛裝多個基板(8)、而且裡面可以裝填處理液 的收集槽(30); —個内含流體容器(36)的匣式精細 清潔裝置(35);以及至少一個以上的運輸裝置(4), 讓其在個別基板簡略清潔裝置(1〇、11)及收集槽(3〇) 之間,以及在收集槽(30)和匣式精細清潔裝置(35) 之間,做為潮濕基板(8)的傳送之用。 19. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10、11)至少含有一個刷子(2〇、 21)。 20. 根據申請專利範圍第19項所述之裝置,其特徵為,在清 潔其基板(8)的刷子(20、21)當中,至少有一個刷子 是可旋轉的。 21. 根據申請專利範圍第is項所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10、11)至少含有一個可旋轉的按 壓滾輪(22、24)。 本紙張尺度速用中國國家樣率(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20 - 4 3 91 3 5 封 C8 -_____D8_ K、申請專利範圍 22·根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10)至少含有一個超音波發射器。 23, 根據申請專利範圍第18项所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10、11)設有兩個處理槽,而其分 別設有一個以上的液體輸入口。 24. 根據申請專利範圍第23項所述之裝置,其特徵為,每— 個槽裡面至少都設有一個刷子》 25·根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10、11)、收集槽(30)、g式精 細清潔裝置(35)、以及其運輸裝置(4),分別都設置 了支撐物,以便使基板(8)處在一個基本上相同之方向 上。 26,根據申請專利範圍第25項所述之裝置,其特徵為,支撐 物是把基板(8)保持在一個基本上為垂直的方向上。 27_根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,匣式 精細清潔裝置(35)最好設有一個以上的清潔液、及/ 或沖洗液輸入口(38)。 28. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,匣式 精細清潔裝置(35)至少設有一個超音波發射器。 29. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,匣式 精細清潔裝置設有一個基板(8)的升降裝置(37)。 30. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,其運 輸裝置(4)設有一個内含基板(8)之支撐物(71、72) 的乾燥運輸盒(70)。 本紙張尺度適用中國國家操率(C>jS ) A4规格(210X297公釐) <請先¾讀背面之注—項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 21 - 4 3 91 3 5 AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 31. 根據申請專利範圍第30項所述之裝置,其特徵為,乾燥 運輸盒(70)上面有一個媒介物(75),用來將流體導 入一個位在流體容器(36)所盛裝的液體表面上方的乾 燥區域。 32. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,其運 輸裝置(4)設有一個濕式運輸盒(60),用來把基板(8) 的匣子由收集槽(30)運送到匣式精細清潔裝置(35) 那裡去。 33. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為,個別 基座簡略清潔裝置(10、11)、接收及收集槽(30)、 以及其匣式精細清潔裝置(35),係以排成一列之方式 來佈置的。 34. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為一個輸 入區(5)和一個接收區(7)。 35. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置,其特徵為一個裡 面可以裝進液體的輸入槽(9)。 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 36. 根據申請專利範圍第34項所述之裝置,其特徵為,個別 基板簡略清潔裝置(10、11)、收集槽(30)、匣式精 細清潔裝置(35)、以及其輸入區(5)及輸入槽(9), 均是排成一列。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -22-元件符號說明 1 清潔裝置 2 模組 3 模組 4 運輸裝置 5 薄晶片輸入區或接收區 7 接收架及托架 8 晶片 9 接收槽 10清潔裝置 11清潔裝置 14蓋子 15處理槽 16處理液 17晶片托架 20刷輪 21刷輪 22按壓滾輪 24按壓滚輪 30收集槽 35精細清潔裝置 36處理槽 37升降裝置 38 注入噴嘴 39排水口 /快速排水閥 40輸出站 50第一操作器 51抓握裝置 52連接元件 55第一垂直支柱 56水平支柱 57水平支柱 60 第二操作器 65 濕式運輸盒 70乾燥運輸盒/蓋子 71導引槽口 72卡筍 75 氣體注入口
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