TW439135B - Method and device for cleaning substrates - Google Patents

Description

A7 B7 1 3 5 五、發明說明（1_) 本發明係關於一種清潔基板之方法及裝置’而在這種 方法、或這種裝置裡’其基板係分別在一個以上的簡略清 潔裝置裡，以濕式的方式來進行前置清潔作業。 在半導體工業裡’半導體晶片皆需要施加一些不同的 方法步騾一例如鍍層、上面罩、蝕刻、摻雜、拋光的步驟 。在這些步驟之間’基板也有可能需要加以清潔。尤其是 .在挺光步驟之後’更需要對被搬光的基抵加以清潔，因為 基板被拋掉的小顆粒、以及其拋光液，均會附著在它上方 〇 拋光程序之後用來清潔基板的傳統方法，係將基板由 拋光裝置運送到一個刷洗清潔裝置上一一如我們從ΕΡ-Α-0 412 796，JP-A-7 066 161，US-A-5 547 515，或是JP-A-1 289 122中所獲知的。在這些既有的刷洗清潔裝置中，其基 板係分別利用旋轉的刷子、以及一種清潔劑來加以清潔。 然後，基板通常需要被乾燥，並收集在匣中--如US-A-5 547 515所述的。 由於刷洗的清潔方式往往不夠徹底，所以乾燥過後被 收集起來的基板，稍後就會被送到一個精細的清潔裝置裡 —一如DE-A-44 13 077，DE-A-195 46 990，或是隸屬於同 一個申請人的DE-A-196 37 875所得知之。在這種精細的清 潔裝置中，匣中所有的基板均會同時浸泡到一種處理液中 ，並在這個處理槽裡，以一種比如說產生液流的方法，來 讓其清潔至終。這些基板隨後將從精細的清潔裝置裡被移 出來’並加以乾燥。其乾燥程序’係以基板由處理液中緩 本紙張尺度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公* ) -4- |丨丨_ — 1| 丨 — 丨 . I! (請先^讀背面之注—項再填寫本頁) 訂---------V. - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明說明（2.) 慢舉起的方式來完成的。根據ΕΡ-Α-0 385 536中所述的「 馬拉葛尼效應」，其乾燥程序可以利用處理液上方注入流 體的方法來加速。 在前述的方法步驟中，其基板係於刷洗清潔裝置中’ 分開別來被清潔，然後再置於精細的清潔裝置中，整匣地 被清潔。在這兩個步驟之間，每一片基板都需要被乾燥過 一例如將晶片甩乾，或是經由熱處理。這個乾燥程序是不 可或缺的，否則刷洗清潔機所使用處理液就會附著其上， 並產生黏稠物質。這些物質在後續的清潔程序裡，是很難 被去除的。然後，這些被乾燥的晶片還必須疊合收集在一 起，以便匯集成一匣送到精細的清潔裝置裡。 刷洗清潔程序、以及精細清潔程序之間的乾燥程序是 很煩瑣的，而且晶片本身也有被離心機、或是被熱處理損 害的危險β 因此，本發明的基本任務便是要設計一種簡易而又改 良的方法、以及一種簡易而又改良的清潔裝置，來清潔基 板，使其可以加速基座的處理，並提高其產能。 前述這種類型的方法之任務，係依據本發明以如下的 方式來解決的：基板在前置的清潔痄業完成之後’將在潮 濕的狀態下被運送集中到一個裝有處理液的收集槽裡；當 收集槽裡的基板達到一定的數量之後，其將會共同組成一 個匣子，而在潮濕的狀態下被送到一個精細的清潔裝置裡 ，讓基板以濕式的方式，在精細的清潔裝置裡被清潔至終 結，然後再讓這個匣子被乾燥。 本紙張尺度適用宁國國家標準（CNS)A4規格（210 X 2¾合釐） <請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -丨 i - ---訂---------^. 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製

經濟部智慧財產局異工消費合作社印製 五、發明說明（.3·) 由於基板係置於一裝滿處理液的收集槽來加以運送， 而少了一道中間的乾燥程序’而且基板到達其能組成一個 匣子的數量之前，依然是以潮濕的狀態來運送的一因此， 基板在簡略清潔之後的乾燥程序’便是多餘的，這是因為 基板被保持在一種液體裡面時’就可以防止這種液體乾掉 、並防止因此而產生的黏稠物質。這種方式也不會讓基板 在中間的乾燥過程中’有受損的危險。況且，其還可以提 高其處理速度、以及這種裝置的效率。 簡單而有效的前置清潔作業，最好是利用旋轉的刷子 、以及一種處理液’來預先清潔其基板。 基板最好本身也能旋轉，以便達到一個均勻的前置清 潔效果。 在其中一個優良的應用實例中，基板係採用超音波、 或是兆赫聲波來加以振動，以便提高其前置清潔的效果。 在本發明的優良應用形式中，基板係經由兩個不同的 簡略清潔裝置，來進行前置清潔作業的，而且是在潮濕的 狀態下，由第一台簡略清潔裝置運送到第二台簡略清潔裝 置。由於其採用兩台簡略清潔裝置的緣故，因此前置清潔 效果明顯提高。 在本發明一個特別優良的應用形式中，其基板在其方 法步驟之間，均會保持在一個相同的、垂直的方向上。這 樣一來，基板的運輸裝置就可以獲得簡化，因為基板在不 同的清潔步驟之間，並不需要旋轉。 本紙張尺度+關家_ (CNS)A4規格（21G χ巧於楚） an m n In n n If 1 n n D } > n I n ϋ I (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 3 91 3 5 at 一， B7 五、發明說明（4·) 為了讓最終的清潔能夠達到一個良好的效果，基板將 會芫全浸泡在一個清潔、和/或沖洗液裡，並利用其來沖洗 。基板最好利用超音波來加以振動，以便提高其清潔效果 0 在本發明一個特別優良的應用形式中，基板在其乾燥 作業時’是從清潔液、及/或沖洗液裡被抽拉出來，然後再 插放到一個乾燥運輸盒裡，並且將其鎖在裡面。為了加速 其乾燥程序’我們最好在基板從清潔液、及/或沖洗液裡被 拉出來之前、及/或被拉出來之際，將某種流體經由乾燥運 輸盒來注入到其乾燥的區域上。所注入的流體最好是由氮 和異丙醇所構成的混合氣體，其可以減少清潔液、及/或沖 洗液的表面張力’並且在基板被抽拉出來之際，讓清潔液 、及或沖洗液更容易流下來。 在一台至少具有一個別基板的簡略清潔裝置，而且具 有一個液體輸入口、以及一個處理容器的濕式清潔基板的 裝置上，所列的這些任務，係以如下的方式來解決的：其 至少設置了一個用來盛裝多個基板、内含處理液的收集槽 ，一個内含流體容器的匣式精細清潔裝置，以及至少一個 以上的運輸裝置，讓其一方面在個別基板簡略清潔裝置及 收集槽之間，另一方面在收集槽以及匣式精細清潔裝置之 間，做為潮濕基板的傳送之用。 當我們設置了一個内含處理液的收集槽，以便來盛裝 多個基板之後，基板就可以在個別基板的簡略清潔之後、 以及在其整匣被送到精細清潔裝置之前，暫時堆放在收集 1 1-------!—* 表-------訂-- -----I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（210 ： 2977公釐 43 91 3 5 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 五、發明說明（5.) 槽裡。將其暫時堆放在處理液裡，即可免除基板在簡略清 潔之後，產生液體附著其上、或是有形成黏稠物質的危險 。這樣一來，至今在個別簡略清潔、以及匣式精細清潔之 間仍不可或缺的乾燥程序，連同其所帶來的基板損傷之危 險性，都可以被去除。除此之外，其處理速度及裝置的效 率，也都可以被提高。 個別基板簡略清潔裝置至少含有一個可旋轉的刷子， 以達一個良好的簡略清潔效果《在本發明其中一個應用形 式當中’其個別基板簡略清潔裝置至少含有一個可旋轉的 按壓滾輪’妤讓基板在進行簡略清潔時能夠轉動，而使其 能保持一均勻的清潔效果》 其個別基板簡略清潔裝置至少含有一個超音波發射器 ’以便來提高其清潔效果。在本發明其中一個應用形式當 中’其個別基板簡略清潔裝置有設置了兩個處理槽，而其 則¥有至少一個以上的液體輸入口、以及至少一個以上的 刷子。以這種方式，其便可以達成一個兩段式、而且更佳 的基板前置清潔作業》 在本發明一個優良的應用形式之中，其個別基板簡略 清潔裝置、收集槽、匣式精細清潔裝置、以及其運輸裝置 ，分別都設置了支撐物，以便使基座板處在一個基本上相 同的方向上一而最好則是在垂直的方向上a這樣一來，我 們就特別可以讓其運輸裝置獲得簡化，因為在運輸的過程 當中’其就不需要將基板轉到另一個方向。基板最好是保 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 29:公釐） ---------表--------訂 i.---— iff 丨 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,·*: ·、 ·~- ... ^ί "-1 -' 1 ： Α7 ___________Β7 " —--- 五、發明說明（6-) 持在一個基本上為垂直的狀態，以便使其和既有的匣式精 細清潔裝置之間’能保持一個相容性。 匣式精細清潔裝置最好設有一個以上的清潔液、及y或 沖洗液輸入口，以及至少一個以上的超音波發射器，以便 達到一個良好的最終清潔效果。 為了減輕基板被塞入匣式精細清潔裝置裡、以及從中 將其取出的負擔’所以其設置了 一個基板的舉起、及下沉 裝置。 在本發明一個優良的應用形式中，其運輸裝置設有一 個内含基板之支撐物的乾燥運輸盒。利用這個乾燥運輸盒 裡的支撐物，就可以讓基板單獨的—亦即在沒有適當基板 托架的情況下一被裝置放進去，並加以運輸。以這種方式 ，即可減少基板被基板托架污染的危險。 當基板由匣式精細清潔裝置中的流體容器裡所裝填的 流體中被抽拉出來時，在乾燥運輸盒上將會有一個媒介物 ’用來將流體導入到一位在前述液體表面上方的乾燥區域 ’以便加速其乾燥程序。 其運輸裝置最好設有一個濕式運輸盒，用來把基板匣 從收集槽運送到匣式精細清.潔裝置。於乾燥運輸盒之外再 使用濕式運輸盒，便可以保證乾燥運輸盒永遠乾燥，而使 其所盛裝的基座不致於受到污染。 對於一個簡單而且節省空間的結構來說，其個別基板 簡略清潔裝置、其接收及收集槽、以及其匣式精細清潔裝 本紙張尺度適財國國家楳準（CNS)A4規格咖x 297公爱） -9 - i — III------11 ------- - 訂---------r, (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁> A7 B7 五、發明說明（ 置，係排成一列。這樣一來即可簡化其運輸裝置，因為其 只需要做直線運動而已。 (請先Μ讀背面之it意事項再填窝本頁) 在本發明一個優良的應用形式當中，其裝置設有一個 具有進料口的輸入區域、以及一個裡面可以裝進液體的輸 入槽。這種具有進料口的輸入區域具有一個優點：在其外 面的作業員將基板送入到裝置裡時，並不需要將時間準確 的調配到和個別基板簡略清潔裝置一致。而其裡面可以裝 進液體的輸入槽，則可以在基板進行簡略的清潔作業之前 ，防止基板上面所附著的液體乾涸。 對於一整個裝置均為節省空間的構造而言，以及對於 一個簡化的運輸裝置而言，其個別基板簡略清潔裝置、收 集槽、匣式精細清潔裝置、輸入區域、以及輸入槽，均係 排成一列的。 下文中，本發明將參照附圖，以一個優良的應用實例 來加以說明，圖上繪的是： 圖一本發明的基板清潔裝置之透視圖； 圖二圖一所示的清潔裝置之倚視圖； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖三a及圖三b切過圖三所示的清潔裝置之第一模組的縱 剖面圖，以及穿過第一模組之刷洗清潔裝 置的橫切面圖； 圖四一個精細清潔裝置的剖面示意圖。 圖一及圖二所展示的，是本發明的清潔裝置1，其基 本上是由兩個模組2和3、以及為這兩個模組服務的運輸装 置4所構成的。第一模組2構成了其之輸入及前置清潔站， ‘紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297 g·釐 A7 B7 五、發明說明（8.) 而第二模组3則構成了其之收集、精細清潔、以及輸出站 〇 模组2設有一個薄晶片輸入區5，其包含有晶片8之接收 架及托架7。其接收架及托架7，係以如下的方式來設計的 ’亦即讓晶片8能保持在一個垂直的位置上。 晶片8是從据光站那裡，由一個外部的、沒有緣出來 的作業員將其取出來’視情形有時也需要將其轉到一個垂 直的位置，然後再插放到其接收架及托架7裡面。 緊接在進料區5旁邊的’是一個接收槽9。其裡面裝填 了一種流體_例如去離子水，而且其能接收許多片晶片— 例如5片晶片。 除此之外，模組2還設置了第一及第二刷洗清潔裝置 10及1卜其便設置在接收區5之接收槽9對面那一侧的旁邊 。第一刷洗清潔裝置10設有一個蓋子14、以及一個設有溢 流管的處理槽15 ’讓我們可以從下方把處理液16灌進去一 這些我們可以從圖3a及b中看得最清楚。槽15裡面設有一 個以二點托住的形式來構成的晶片托架17，其可以將插放 到槽15裡面來的晶片8，以如下的方式架住：讓其有一半 浸到處理液16裡’並保持在一個垂直的狀態。除此之外， 這種刷洗清潔裝置10還設有兩個刷輪20、21，分置於槽15 裡面所置的晶片兩側，而且含有兩個在清潔作業時置於晶 片8邊緣的按壓滚輪22、24，好讓其能夠轉動。其刷輪20 、21係沿著槽15的縱向來延伸，而1是以如下的方式來設 置在槽15上方的：即其至少有一部分會延伸到槽15的處理 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格（210 X 297公釐） (諳先閲讀背面之注意事項再填窝本頁)

I * n I— n n l 1 一®J1 - κ - n n i ϋ I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、.發明說明（9·) 液16裡面。其刷輪20、21是可以轉動的，用來清潔槽15裡 所置的晶片8。除此之外，其刷輪還具有一個通達其内部 的流體通道’妤讓處理液能夠由刷輪的内部導向其外侧。 除此之外，其第一刷洗清潔裝置1〇還設有一個超音波 發射器’好讓晶片能夠經由超音波的振動來得到效好的清 潔效果。 其第二刷洗清潔裝置11的構造，基本上和第一刷槽是 一樣的’只不過其沒有超音波發射器而已β 其輸入區域5、儲存及收集槽8、以及其刷槽1〇、Η， 係排成一列來設置在模組2裡的。 模組3係從其側面直接與模組2接壤在一起，而且與第 二刷洗清潔裝置11為鄭。與第二刷洗清潔裝置丨丨為鄰的， 是模組3所設的儲存及收集槽30 ’其適合用來盛放大量的 半導體晶片8 —例如25個半導體薄晶片。為了達到這個目 的’所以我們在收集槽30裡面，便設置了一未進一步績出 來的收納裝置、以及一個用來把半導體晶片8舉起、及/或 降下的裝置。收集槽係以下列的方式，來注入—種比如說 去離予水的處理液：其要讓收集容器30裡面所收納的半導 體晶片8 ’能夠完全浸在這個流體裡面。雖然我們沒有圖 示出來，但這個槽30仍然可以是一個溢流槽》 在收集槽30旁邊所設置的，是一個精細清潔裝置35。 這一點我們可以從圖四看得最清楚。 這一類精細清潔裝置35的架構，舉例來說，在1)£_八_ 44 13 077、DE-A-195 46 990、或是隸屬於同一個申請人的 (CNS)A4 ^ (210X 297 ^ 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 i I ^ 頁f 訂 I I r 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 4391 3 5 A7 B7 五、發明說明（10 ·) DE-A-1% 37 875中，均有說明。而為了避免重覆起見，其 内容均被用來做為本案的物件。這種精細清潔裝置35的基 本元件’是一個處理槽36，而其可以選擇同時、和/或交替 的來填入一種例如腐蝕液的處理液、一種化學清潔液、和/ 或一種沖洗液。除此之外，槽裡面還設有一個形式為尺狀 的半導體晶片8之升降裝置37。這種精細清潔裝置35至少 還另外設有一個圖上沒有繪出來的超音波發射器，以便使 那些置於處理槽36及處理液裡面的晶片’能以超音波來加 以振動。在處理槽36下方的區域裡’設有一個處理液的注 入喷嘴38、以及一個形式為快速排水閥的排水口39，用來 將處理液排掉。 緊接在精細清潔裝置35旁邊的，是一個輸出站40。經 過清潔及乾燥過後的晶片’便是堆在這裡’然後再從這裡 將其運走。 用來服伺模組2及3的運輸裝置4，其具有一個能在水 平和垂直方向上移動的第一操作器50，用來把晶片8從輸 入區5運送到接收槽9那裡，以及把其從接收槽9運送到第 一刷洗清潔裝置10。操作器5〇設有一個以既有的方式來做 成的晶片8抓握裝置51 —其構造即俗稱的邊緣夾。這個抓 握裝置係經由一個連接元件52，以一固定的間距、以及能 在垂直方向上移動的芳式’來和運輸裝置4的第一垂直支 柱55相連接的。但是這支垂直支柱55，卻又能夠在運輸裝 置4的水平支柱56、57上面，做水平的移動。這樣一來， 本紙張尺度通用f國困豕稞竿（CNS)A4規格（21〇 X 297公楚） -13- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,k IE* n if 1 n ^e,1 * ^1- I · < 經濟部智慧財產局員工消f合作社印製 4391 35 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明說明（11.) 抓握裝置的垂直運動即可沿著支柱55來運行，而其水平運 動則可以經由支柱55沿著支柱56、57的運動來完成。 除此之外，運輸裝置4還設有一個第二操作器60 β其 基本上和第一操作器50相同，而且也能夠沿著其垂直及水 平支柱，來進行水平及垂直的運動。操作器60係用來將個 別的晶片8，由第一刷洗清潔裝置10運送到第二刷洗清潔 裝置11裡去，以及將其由第二刷洗清潔裝置11，運送到第 二模組3的儲存及收集槽30裡。 除此之外，運輸裝置4還設有一個濕式運輸盒65 ,用 來將一整匣的晶片，由收集槽30運送到精細清潔裝置35裡 去。這一類的濕式運輸盒65，可以從比如說隸屬於同一個 申請人的DE-A-196 52 526中得知。為了避免重覆起見，我 們至此已將其視為本案的物件之一。 除此之外，運輸裝置4還設有一個乾燥運輸盒70，而 其在比如說同一個申請人的DE-A-196 52 526中，也已經有 加以說明》為了避免重覆起見，這一份案子的内容，至此 也已被視為本案的物件之一。如圖四之示意圖所繪的一般 ，其乾燥運輸盒70係用來盛裝處理槽36裡面所推出來的薄 晶片’然後再將其運送到輸出站40郡裡去。這種乾燥運輸 盒設有一些侧面的導引槽口 71，用來盛裝及導引晶片8之 用’以及設有一*^筍72，用來把其所盛裝的晶片卡住。此 外’其蓋子70上面還設有一個氣體注入口75，讓一些混合 氣體一例如由氮氣和異丙醇（Ν2/Π»α)所構成的混合氣體 ，可以被灌進來。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 楚） ---------------裝--------訂---------Γ, (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 2 :y _ A7 ________B7_ 五、發明說明（12.) 其收集槽30、精細清潔裝置35、以及輸出單元40，其 和輸入區5、接收及收集槽8、以及第一和第二刷洗清潔裝 置10和11 ’係排成一列。 在操作本發明的裝置時，晶片8將會被一個外部的、 沒有緣出來的濕式機械裝置，由一個沒有繪出來的拋光輸 出站那裡取出來’然後放置到輸入區5的接收架及托架7上 —必要時還需要把其轉到一個垂直的方向。然後，操作器 50將會把晶片抓住’並把其先行運送到一個裝滿了液體的 接收槽9那裡’然後把其放進去。這個接收槽9可以接收比 如說直到五個為止的晶片。 然後’這個操作器50會再度把晶片從接收槽9裡取出 來’並把其送經一個蓋子14已經打開的刷洗清潔裝置10 β 操作器50會把晶片放置在處理槽15裡的托架Π上，然後再 從刷洗清潔裝置那裡退出咪。其按壓滚輪22、24，以及刷 輪20、21將會把晶片抓住’而處理槽15則會填入某種液體 16 —例如去離子水’一直填到其滿出來為止，以便使晶片 8半浸泡在裡面。其刷輪2〇、21將會旋轉，並且略微向上 頂住晶片8 ’而使得其靠在按壓滚輪22、24上。這樣一來 ’其晶片8就會從托架17分離，並經由旋轉的按壓滚輪22 、24而轉變成旋轉的運動。經由刷輪2〇、21即可簡略的將 晶片清潔乾淨。當其在洗刷的同時，超音波發射器也有在 作用’以便增強其清潔效果。刷輪2〇、21、以及按壓滚輪 22、24的旋轉速度’在快達清潔作業終了之前就已經放慢 ’以便使晶片8能夠再度下降到托架7裡面去。刷輪2〇、21 ------------A--------訂· <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

15- A7 91 3 5 _________B7___ 五、發明說明（13·) 及按壓滚輪22、24將會從晶片8上方移走，而且刷洗清潔 裝置10的蓋子14也會打開。第二操作器60將會移到第一刷 洗清潔裝置10上方’把晶片8抓起來’並把其運送到第二 刷洗清潔裝置11那裡，並把這些晶片8放在一個架予上β 在刷洗清潔裝置11裡，其基本上是重覆第一刷洗槽1〇的清 潔程序，只不過其沒有安裝超音波而已，而且處理槽裡的 水也沒有再讓其溢出來。 在第二刷洗清潔裝置中11的清潔作業之後，晶片將會 被第二操作器60抓住，然後送往收集槽30那裡，並插放到 其裡面所設的接收裝置裡》每一片新的晶片都需要重覆前 述的步驟’ 一直到收集槽30裡的所有位置均被佔滿為止。 當收集槽30裡的所有位置均被佔滿時，有一個濕式運 輸盒65就會移到收集槽30上方，而且所有晶片8都會共同 由收集槽30移到濕式運輸盒65裡面，並且被鎖住。當濕式 運輸盒65裡的晶片8被鎖住之後，其就會被運往精細清潔 裝置35那裡去。位在處理槽36裡的升降裝置37將會被舉高 ，以便來接收濕式運輸盒65裡面所盛裝的晶片8。在這個 時候，濕式運輸盒65裡的卡筍裝置就會鬆開，而使所有的 晶片8均共同經由升降裝置37，來落到一個裡面裝有處理 液一例如去離子水一的處理槽36裡。其清潔液將利用一個 置於槽底部的噴嘴38，在其晶片8之間噴灑。在這個容器 裡的去離子水，將會因此而上昇，並經由一個溢流管流出 去。其超音波發射器將會在一個特定的處理時間敌動。然 後，這些清潔液將透過一個快速排水閥（快速泵）39從下 χ29|參釐) ---------------- {諳先«讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（14.) 方排掉’然後再從下方把去離子水灌到這個容器裡。有一 個乾燥運輸盒70將會移到處理槽36上方，而且有一種混合 氣體一例如Ns/EPA ’將會經由遠個盒子7〇導引進來，而形 成去離子水表面上方的一層。然後這些晶片8將透過升降 裝置37，共同由去離子水裡面移出來，並送往乾燥運輸盒 70裡。當晶片8抵達乾燥運輸盒7〇裡面之後，盒子上的卡 筍裝置72就會動作，以便將晶片8卡住β 然後，乾燥運輸盒70將會移到一個輸出站40上方，並 經由卡筍裝置72的開啟，而把晶片8放到一個輸出站4〇的 晶片收納裝置上。晶片8將會從輸出站這裡被一個外部的 乾燥機械裝置取走。 本發明係根據一個特殊的應用實例來加以說明，但本 發明並不侷限於這個特殊的應用實例而已。例如我們只採 用一個刷洗清潔裝置’來取代這兩個刷洗清潔裝置10、11 ’而其可以視情況來進行一級或多級的前置清潔作業—這 也是—種可以考慮的方式。至於捨棄其接收槽9，並利用 操作器50直接將晶片由輸入區5運送到第一刷洗槽10裡去 的方式’也是一種可以考慮的做法。但是這種方式卻必須 在時間上抓得很精準，因為晶片不可以在接收區上閒置太 久’否則晶片上的液體就會乾涸。除此之外，晶片也可以 利用個外部的機械裝置，來把其插放到接收槽9裡，而 其操作器50則只用來把晶片由接收及收集槽9運送到刷洗 清潔裝置10而已》 --------------. I I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 幻· 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 " 乂 肀®®家標準（CNS)A4規格（210 釐） ιΕ；

A7 B7 五、發明說明（15.) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 元件符號說明 1 清潔裝置 ;; 2 模組 ：: 3 模組 4 運輸裝置 5 薄晶片輸入區或接收區 7 接收架及托架 8 晶片 9 接收槽 10清潔裝置 11清潔裝置 14蓋子 15處理槽 16處理液 17晶片托架 20刷輪 21刷輪 22按壓滾輪 24按壓滾輪 30收集槽 35精細清潔裝置 36處理槽 37升降裝置 38 注入噴嘴 -------------- --------訂·--------梦 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297_， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 μ心修正丨43 91 3 5 五、發明說明（16.) 39排水口 /快速排水閥 40輸出站 50第一操作器 51抓握裝置 52連接元件 55第一垂直支柱 56水平支柱 57水平支柱 60第二操作器 65濕式運輸盒 70乾燥運輸盒/蓋子 71導引槽口 72卡筍 75氣體注入口 Α7 Β7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝--------訂---------^! 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A.l規格(2〗0 X 297

Claims (1)

1. 4 3 9135 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 篇_88111310號專利案申請專利簌園條正本 1. 一種清潔基板（8)之方法，基板（8)則是分別在一個 以上的簡略清潔裝置（10、11)中，以濕式的方式來進 行前置清潔作業，其特徵為， (a) 基板（8)隨後將在潮濕的狀態下，被運送到一個裝 有處理液的收集槽（30)中； (b) 基板（8)會被收集在收集槽（30)中； (c) 當收集槽（30)裡面的基板（8)達到一定的數量之 後，其將會共同组成一個匣子，而在潮濕的狀態下被 送到一個精細清潔裝置（35)中； (d) 由基板（8)構成的匣子，將以濕式方式，在精細清 潔裝置（35)裡被清潔至終結； (e) 然後再讓匣子被乾燥。 2. 根據申請專利範圍第1項所述之方法，其特徵為，基板(8) 係採用一個以上的刷子（20、21)，以及一種以上的處 理液（16)，來預先清潔其基板。 3. 根據申請專利範圍第2項所述之方法，其特徵為，在預先 清潔其基板（8)的刷子（20、21)裡，至少有一個刷子 是可旋轉的。 4. 根據申請專利範圍第1項所述之方法，其特徵為，基板(8) 在其前置清潔作業時會轉動。 5. 根據申請專利範圍第1項所述之方法’其特徵為，基板(8 ) 在其前置清潔作業時，係以兆赫聲波來加以振動的。 本紙張尺度逋用中困两家標奉< CNS ) A4規格（210X297公釐） -18- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-* 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ?5 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 6·根據申請專利範圍第丨項所述之方法，其特徵為，基板(名） 是在兩個不同的簡略清潔裝置（Η)、H)中，來進行前 置清潔作業的，而且是在潮濕的狀態下’由第—台簡略 清潔裝置（10)運送到第二台簡略清潔裝置（u)。 7. 根據申請專利範園第1項所述之方法’其特徵為，基板(8 ) 在其方法步驟之間，均會保持在一基本上相同之方向。 8. 根據申請專利範圍第7項所述之方法，其特徵為，基板(8 ) 會保持在一個基本上為垂直的方向。 9. 根據申請專利範圍第1項所述之方法，其特徵為，基板(8) 在最終的清潔作業時，至少必須採用一種清潔、及^或沖 洗液。 10·根據申請專利範圍第9項所述之方法’其特徵為，基板(8) 必須完全浸泡在清潔、及/或沖洗液裡。 11. 根據申請專利範園第9項所述之方法，其特徵為，基板(8 ) 係採用清潔及/或沖洗液來加以沖洗。 12. 根據申請專利範圍第1項所述之方法，其特徵為，基板(8) 係採用兆赫聲波來加以振動的。 13. 根據申請專利範圍第9項所述之方法，其特徵為，基板(8 ) 在最終清潔作業之後，係從清潔液及/或沖洗液裡被抽拉 出來再加以乾燥的。 14. 根據申請專利範圍第13項所述之方法，其特徵為，基板 (8 )要***放到一個乾燥運輸盒裡，並且將其鎖在裡面。 15. 根據申請專利範圍第13項所述之方法，其特徵為，在基 板（8)從清潔液及/或沖洗液裡被抽拉出來之前，及/或 本紙張尺廋逋用中國國家樣率（°^ ) A4规格（2丨0X297公釐） -19- (請先W讀背面之注項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B8 C8 _____ D8 六、申請專利範圍 被抽拉出來之際，有一種流體必須被注入到其乾燥的區 域上。 16.根據申請專利範圍第15項所述之方法，其特徵為，流體 將被注入到乾燥運輸盒（70)裡面去。 Π.根據申請專利範圍第15項所述之方法，其特徵為，其流 體是一種由氮氣和異丙醇所構成的混合氣體。 18. —種濕式的基板（8)清潔裝置，其具有至少一台個別基 座的簡略清潔裝置（10、11)，而且内含一個液體輸入 口、以及一個處理容器（15),其特徵為，其至少設有 一個用來盛裝多個基板（8)、而且裡面可以裝填處理液 的收集槽（30); —個内含流體容器（36)的匣式精細 清潔裝置（35);以及至少一個以上的運輸裝置（4)， 讓其在個別基板簡略清潔裝置（1〇、11)及收集槽（3〇) 之間，以及在收集槽（30)和匣式精細清潔裝置（35) 之間，做為潮濕基板（8)的傳送之用。 19. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10、11)至少含有一個刷子（2〇、 21)。 20. 根據申請專利範圍第19項所述之裝置，其特徵為，在清 潔其基板（8)的刷子（20、21)當中，至少有一個刷子 是可旋轉的。 21. 根據申請專利範圍第is項所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10、11)至少含有一個可旋轉的按 壓滾輪（22、24)。 本紙張尺度速用中國國家樣率（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20 - 4 3 91 3 5 封 C8 -_____D8_ K、申請專利範圍 22·根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10)至少含有一個超音波發射器。 23, 根據申請專利範圍第18项所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10、11)設有兩個處理槽，而其分 別設有一個以上的液體輸入口。 24. 根據申請專利範圍第23項所述之裝置，其特徵為，每— 個槽裡面至少都設有一個刷子》 25·根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10、11)、收集槽（30)、g式精 細清潔裝置（35)、以及其運輸裝置（4),分別都設置 了支撐物，以便使基板（8)處在一個基本上相同之方向 上。 26,根據申請專利範圍第25項所述之裝置，其特徵為，支撐 物是把基板（8)保持在一個基本上為垂直的方向上。 27_根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，匣式 精細清潔裝置（35)最好設有一個以上的清潔液、及/ 或沖洗液輸入口（38)。 28. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，匣式 精細清潔裝置（35)至少設有一個超音波發射器。 29. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，匣式 精細清潔裝置設有一個基板（8)的升降裝置（37)。 30. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，其運 輸裝置（4)設有一個内含基板（8)之支撐物（71、72) 的乾燥運輸盒（70)。 本紙張尺度適用中國國家操率（C>jS ) A4规格（210X297公釐） <請先¾讀背面之注—項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 21 - 4 3 91 3 5 AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 31. 根據申請專利範圍第30項所述之裝置，其特徵為，乾燥 運輸盒（70)上面有一個媒介物（75)，用來將流體導 入一個位在流體容器（36)所盛裝的液體表面上方的乾 燥區域。 32. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，其運 輸裝置（4)設有一個濕式運輸盒（60)，用來把基板（8) 的匣子由收集槽（30)運送到匣式精細清潔裝置（35) 那裡去。 33. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為，個別 基座簡略清潔裝置（10、11)、接收及收集槽（30)、 以及其匣式精細清潔裝置（35)，係以排成一列之方式 來佈置的。 34. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為一個輸 入區（5)和一個接收區（7)。 35. 根據申請專利範圍第18項所述之裝置，其特徵為一個裡 面可以裝進液體的輸入槽（9)。 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 36. 根據申請專利範圍第34項所述之裝置，其特徵為，個別 基板簡略清潔裝置（10、11)、收集槽（30)、匣式精 細清潔裝置（35)、以及其輸入區（5)及輸入槽（9)， 均是排成一列。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -22-

   元件符號說明 1 清潔裝置 2 模組 3 模組 4 運輸裝置 5 薄晶片輸入區或接收區 7 接收架及托架 8 晶片 9 接收槽 10清潔裝置 11清潔裝置 14蓋子 15處理槽 16處理液 17晶片托架 20刷輪 21刷輪 22按壓滾輪 24按壓滚輪 30收集槽 35精細清潔裝置 36處理槽 37升降裝置 38 注入噴嘴 39排水口 /快速排水閥 40輸出站 50第一操作器 51抓握裝置 52連接元件 55第一垂直支柱 56水平支柱 57水平支柱 60 第二操作器 65 濕式運輸盒 70乾燥運輸盒/蓋子 71導引槽口 72卡筍 75 氣體注入口