TW202413491A - 光學膜、顯示裝置以及製造光學膜的方法 - Google Patents

光學膜、顯示裝置以及製造光學膜的方法 Download PDF

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Abstract

本發明揭露一種光學膜及包括光學膜的顯示裝置，所述光學膜包括光透射基質及分散於光透射基質中的填料，其中填料具有纖維形狀且具有10至500的B/A比率，其中A表示填料的直徑且B表示填料的長度。

Description

光學膜及包含其的顯示裝置
本揭露內容是關於一種光學膜及包括其的顯示裝置，且更特定言之，關於一種具有極佳機械特性的光學膜。
近年來，已考慮使用光學膜代替玻璃作為顯示裝置的覆蓋窗，其目的是減小顯示裝置的厚度及重量且增加顯示裝置的可撓性。為了使光學膜可用作顯示裝置的覆蓋窗，光學膜需要具有優異的光學特性及極佳的機械特性。舉例而言，光學膜需要具有諸如極佳強度、硬度、耐磨性以及可撓性的特性。
可添加填料以賦予需要多種物理特性的光學膜所需的物理特性。填料可視光學膜所需的物理特性而變化。
[技術問題] 因此，已考慮到以上問題而製得本揭露內容，且本揭露內容的一個態樣為提供一種光學膜，其包括分散於光透射基質中的纖維形狀或纖絲形狀填料。
本揭露內容的另一態樣為提供一種光學膜，其包括分散於光透射基質中的纖維形狀或纖絲形狀填料，其中所述纖維形狀或纖絲形狀填料接合構成光透射基質之聚合物鏈，以改良聚合物鏈的穩定性及排列特徵。
本揭露內容的另一態樣為提供一種光學膜，其包括分散於光透射基質中的纖維形狀或纖絲形狀填料以提供極佳模數。
本揭露內容的另一態樣為提供一種包括光學膜的顯示裝置。
[技術解決方案] 根據本揭露內容的一個態樣，提供一種光學膜，其包括光透射基質及分散於所述光透射基質中的填料，其中所述填料具有纖維形狀且具有10至500的B/A比率，其中A表示所述填料的直徑且B表示所述填料的長度。
根據本揭露內容的另一態樣，提供一種光學膜，其包括具有60%至90%的縱向（MD）取向度的填料。
根據本揭露內容的另一態樣，提供一種製造光學膜的方法，其包括首先分散填料及改良填料的佈置。
根據本揭露內容的另一態樣，提供一種顯示裝置，其包括顯示面板及安置於顯示面板上的光學膜。
[有利效應] 根據本揭露內容的一個實施例，包括於光學膜中的填料具有纖維形狀或纖絲形狀且可接合構成光透射基質的聚合物鏈。因此，可改良光學膜的機械強度，且特定言之模數。
根據本揭露內容的一個實施例，包括纖維形狀或纖絲形狀填料的光學膜可具有極佳機械特性以及極佳光學特性。根據本揭露內容的一實施例的光學膜具有極佳光學特性及機械特性，因此適用作顯示裝置的覆蓋窗。
在下文中，將參考隨附圖式詳細地描述本揭露內容的實施例。然而，僅為清楚地理解本揭露內容而例示性地提供以下實施例，且不限制本揭露內容的範疇。
在用於描述本揭露內容的實施例的圖式中所揭露的形狀、大小、比率、角度以及數目僅為例示性的且本揭露內容不限於所示出的細節。在整個本說明書中，相同圖式元件符號指代相同元件。在以下描述中，當判定相關已知功能或組態的詳細描述不必要地模糊本揭露內容的要點時，將省略所述詳細描述。
在本說明書中使用諸如「包含」、「具有」或「包括」的術語的情況下，除非亦使用「僅」，否則可存在另一部分。除非相反地指出，否則單數形式的術語可包括複數含義。此外，在構造元件時，即使沒有對元件的明確描述，所述元件亦應解釋為包括誤差範圍。
在描述位置關係時，例如當位置關係使用「在…上」、「在…上方」、「在…下方」或「靠近」描述時，除非使用「緊接」或「直接」，否則可包括其間無接觸的情況。
本文中可使用諸如「在…下方」、「在…之下」、「下部」、「在…上方」以及「上部」的空間相對術語來描述如圖式中所展示的裝置或元件與另一裝置或另一元件的關係。應理解，除圖式中所描繪的取向以外，空間相對術語意欲涵蓋在裝置的使用或操作期間裝置的不同取向。舉例而言，若倒置圖式中的一者中的裝置，則描述為在其他元件「下方」或「之下」的元件將位於其他元件「上方」。因此，例示性術語「在…下方」或「在…之下」可涵蓋「在…下方」及「在…上方」兩者的含義。以相同方式，例示性術語「在…上方」或「上部」可涵蓋「在…上方」及「在…下方」兩者的含義。
在描述時間關係時，例如當使用「在…之後」、「隨後」、「接下來」或「在…之前」描述時間順序時，除非使用「立即」或「即刻」，否則可包括非連續關係的情況。
應理解，儘管在本文中可使用術語「第一」、「第二」等來描述各種元件，但這些元件不受這些術語限制。這些術語僅用於區分一個元件與另一元件。因此，在本揭露內容的技術想法內，第一元件可稱為第二元件。
應理解，術語「至少一個」包括與一或多個項相關的所有組合。舉例而言，「第一元件、第二元件以及第三元件中的至少一者」可包括由第一元件、第二元件以及第三元件中選出的兩個元件或大於兩個元件的全部組合，以及第一元件、第二元件以及第三元件中的每一者。
本揭露內容的各種實施例的特徵可部分地或完全地彼此整合或組合，且可彼此不同地互操作且在技術上驅動。本揭露內容的實施例可彼此獨立地進行，或可以相關聯方式一起進行。
圖1為示出根據本揭露內容的一實施例的光學膜100的示意圖。根據本揭露內容的一個實施例，具有透光率的膜稱為「光學膜100」。
根據本揭露內容的一實施例，光學膜100可具有面向彼此的第一表面S1及第二表面S2。
舉例而言，當藉由澆鑄方法製造光學膜100時，接觸澆鑄基板的光學膜100的表面可稱為「帶表面」。根據本揭露內容的一實施例，光學膜100的帶表面稱為「第一表面S1」。另外，光學膜100可具有面向帶表面的表面，且光學膜100的面向帶表面的表面可稱為「空氣表面」。根據本揭露內容的一個實施例，光學膜100的空氣表面稱為「第二表面S2」。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100包括光透射基質110及分散於光透射基質110中的填料120。
根據本揭露內容的一實施例，光透射基質110可為可撓性的。舉例而言，根據本揭露內容的一實施例的光學膜可為可彎曲、可摺疊或可捲起的。因此，根據本揭露內容的一實施例的光學膜可為透光的且可為可彎曲、可摺疊或可捲起的。
根據本揭露內容的一實施例，光透射基質110可包括醯亞胺重複單元及醯胺重複單元中的至少一者。
根據本揭露內容的一實施例的光透射基質110可由包括二酐及二胺的單體成分產生。特定言之，光透射基質110可包括藉由二酐及二胺形成的醯亞胺重複單元。
然而，根據本揭露內容的一實施例的光透射基質110不限於此，且光透射基質110可由包括除二酐及二胺以外的二羰基化合物的單體成分產生。根據本揭露內容的一實施例的光透射基質110可具有醯亞胺重複單元及醯胺重複單元。舉例而言，具有醯亞胺重複單元及醯胺重複單元的光透射基質110可為聚醯胺-醯亞胺樹脂。
根據本揭露內容的一個實施例，光透射基質110可包括聚醯亞胺類聚合物。聚醯亞胺類聚合物的實例可包括聚醯亞胺聚合物、聚醯胺聚合物、聚醯胺-醯亞胺聚合物以及其類似物。根據本揭露內容的一實施例的光透射基質110可由例如聚醯亞胺類聚合物樹脂形成。
光透射基質110可具有足以使得光學膜100保護顯示面板的厚度。舉例而言，光透射基質110可具有10微米至100微米的厚度。光透射基質110的厚度可與光學膜100的厚度相同。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120可具有纖維形狀。舉例而言，纖維可指長度比直徑長得多的材料。纖維可指薄且長的絲狀材料。纖維可指具有線性結構的材料。纖維亦可指長且可彎曲的材料。
在下文中，長度大於直徑之形狀稱為「纖維形狀」。纖維形狀亦可稱為「纖絲形狀」。根據本揭露內容的一個實施例，填料120的長度可為直徑的兩倍或大於兩倍。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120平行於聚合物樹脂的聚合物鏈排列，或沿著光透射基質110中包括的聚合物樹脂的聚合物鏈排列。舉例而言，填料120可經由諸如氫鍵或偶極矩類鍵的次級鍵鍵結於聚合物樹脂的主鏈，且可在主鏈方向上平行於聚合物樹脂排列。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120具有纖維形狀以使得構成光透射基質110的聚合物鏈可彼此接合（或鍵聯、或連接）。因此，聚合物鏈的穩定性及排列特徵得以改良，使得光透射基質110的機械特性可改良且光學膜100的機械特性亦可改良。
根據本揭露內容的一個實施例，當填料120的直徑定義為「A」且填料120的長度定義為「B」時，B/A比率可在10至500範圍內。
當填料120的長度與直徑的比率（B/A）小於10時，填料120並不足夠長且因此未充分發揮接合聚合物鏈的功能及改良聚合物鏈的穩定性及排列特徵的作用。
當填料120的長度與直徑的比率（B/A）高於500時，填料120過長，因此造成光透射基質110中的分散性及聚集劣化。因此，光學膜100可具有降低的透光率、增加的霧度以及劣化的光學特性。另外，光學膜100的機械強度可在其中出現填料120的聚集的部分中降低，因此導致光學膜100的模數及機械特性劣化。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120的長度與直徑的比率（B/A）可例如在50至500範圍內。更特定言之，填料120的長度與直徑的比率（B/A）可例如在100至400範圍內，且可在200至400範圍內。填料120的長度與直徑的比率(B/A)可在300至400範圍內。
根據本揭露內容的一個實施例，當填料120的長度與直徑比率為100或大於100時，可進一步改良光學膜100的模數。同時，當填料120的長度與直徑比率為400或小於400時，可改良光學膜100的模數且可防止可摺疊性劣化。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120可具有2奈米至10奈米的直徑及200奈米至4,000奈米的長度。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120的直徑及長度可藉由穿透電子顯微術（TEM）量測。
當填料120的直徑小於2奈米時，填料120的穩定性可能降低，填料120可能被破裂或粉碎，且因此光學膜100可能被污染且霧度可能增加。當填料120的直徑高於10奈米時，填料120可能難以具有纖維形狀，填料120接合聚合物鏈的功能可能降低，且光學膜100可具有降低的透射率。
當填料120的長度小於200奈米時，可能並未充分獲得填料120接合聚合物鏈的功能。當填料120的長度高於4,000奈米時，填料120的分散性可降低，因此造成填料120在光透射基質110中的聚集。因此，光學膜100可具有降低的透光率、增加的霧度以及劣化的光學特性。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120的長度可藉由填料120的生長條件或填料120的後處理來控制。舉例而言，填料120的長度可在填料120的生長期間經由溫度控制來恰當地調節。另外，超音波或其他能量可施加於生長至預定長度的填料120以使得填料120可切割成適當長度。
對於填料120的類型沒有特定限制。任何填料可用作根據本揭露內容的一個實施例的填料120而不限於其類型，只要其具有纖維形狀即可。填料120可為無機的或有機的。填料120可包括無機纖維、有機纖維以及有機-無機複合纖維中的至少一者。
更特定言之，填料120可具有纖維形狀。舉例而言，填料120可具有包括一個股或多個股大纖維形狀，或可具有在一個中央股中分支出多個股的形狀。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120可包括玻璃纖維、鋁纖維以及氟化物纖維中的至少一者。
玻璃纖維包括SiO 2且可更包括其他組分以及SiO 2。鋁纖維包括Al 2O 3且可更包括其他組分以及Al 2O 3。氟化物纖維可包括聚四氟乙烯（PTFE）及聚偏二氟乙烯（PVDF）中的至少一者且可更包括其他組分以及PTFE及PVDF。
根據本揭露內容的一實施例，填料120可包括氧化鋁氫氧化物、SiO 2、Al 2O 3、聚四氟乙烯（PTFE）或聚偏二氟乙烯（PVDF）中的至少一者。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120可經表面處理。舉例而言，填料120可為經具有烷氧基的有機化合物表面處理的纖維。
根據本揭露內容的一實施例，鋁纖維可包括氧化鋁氫氧化物及Al 2O 3中的至少一者。氧化鋁氫氧化物亦稱為「水鋁石（Boehmite）」且可由γ-AlO(OH)表示。更特定言之，氧化鋁氫氧化物可具有由下式1表示的單元結構。 [式1]
根據本揭露內容的一實施例，Al 2O 3可具有由下式2表示的單元結構。 [式2]
根據本揭露內容的一實施例，SiO 2可具有由下式3表示的單元結構。 [式3]
另外，根據本揭露內容的一個實施例，填料120可包括由以下式4、式5以及式6中的任一者表示的結構。 [式4] [式5] [式6] 其中n在100至20,000範圍內，m在50至10,000範圍內，且p在50至10,000範圍內。
當式4、式5以及式6的結構經擴展以更佳的理解填料120的結構時，填料120可包括由以下式7、式8以及式9中的任一者表示的結構。
由式4表示的結構可由例如下式7表示。下式7對應於式4的結構，其中n為3。 [式7]
由式5表示的結構可由例如下式8表示。下式8對應於式5的結構，其中m為4。 [式8]
由式6表示的結構可由例如下式9表示。下式9對應於式6的結構，其中p為5。 [式9]
在式7至式9中，「*」表示鍵結位點。
根據本揭露內容的一實施例，當添加填料120時，其產生適當的光散射，因此改良光學膜100的光學特性。為增強光散射效應，可調節光學膜100中的填料120的含量。
根據本揭露內容的一個實施例，相對於光學膜100的總重量，填料120的含量可在1重量%至40重量%範圍內。
當填料120的含量相對於光學膜100的總重量小於1重量%時，可能由於填料120的不顯著光散射作用而不能獲得改良光學膜100的透光率的作用，且改良光學膜100的模數的作用可能由於並未充分獲得填料120將聚合物鏈接合在一起的功能而不顯著。
同時，當填料120的含量按光學膜100的總重量計高於40重量%時，填料120的分散性可降低且光學膜100的霧度可降低，可由於填料120過量而出現填料120的聚集，且聚集的填料120可阻擋光，因此降低光學膜100的透光率。
更特定言之，相對於光學膜100的總重量，填料120的含量可調節至3重量%至40重量%、5重量%至40重量%、5重量%至30重量%或5重量%至20重量%。
根據本揭露內容的一個實施例，可防止光學膜100的霧度增加及透光率降低，且光學膜100的模數及機械強度可藉由控制填料120的直徑、長度以及含量及改良分散方法而改良。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100可具有6.3吉帕（GPa）或大於6.3吉帕的模數。更特定言之，基於10公分×1公分的樣品大小，根據本揭露內容的一實施例的光學膜100可具有6.3吉帕或大於6.3吉帕、6.5吉帕或大於6.5吉帕的模數。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120具有纖維形狀以使得構成光透射基質110的聚合物鏈可彼此接合。因此，聚合物鏈的穩定性及排列特徵得以改良且分子間吸引增加，使得100可具有6.3吉帕或大於6.3吉帕、或6.5吉帕或大於6.5吉帕的較大模數。
一般而言，已知由聚合物樹脂形成的膜難以具有6.0吉帕或大於6.0吉帕或6.3吉帕或大於6.3吉帕的模數。然而，根據本揭露內容的一個實施例，儘管使用纖維形狀填料120，但可藉由控制分散於光透射基質110中的填料120的直徑、長度、直徑與長度比率（B/A）以及含量比率賦予光學膜100 6.3吉帕或大於6.3吉帕的較大模數。
根據本揭露內容的一實施例,光學膜100可具有縱向（MD）及橫向（TD）。
對膜進行機械處理的方向稱為「縱向（MD）」，且垂直於MD的方向稱為「橫向（TD）」。舉例而言，當拉伸膜時，平行於拉伸方向的方向可為縱向（MD），當澆鑄膜時，平行於澆鑄方向的方向可為縱向（MD），且當經由滾筒捲繞膜時，平行於捲繞方向的方向可為縱向（MD）。
根據本揭露內容的一個實施例，縱向（MD）為平行於製造製程中光學膜100的澆鑄方向的方向。縱向（MD）亦可稱為軸向。TD為垂直於MD的方向。橫向（TD）亦可稱為「寬度方向」。
根據本揭露內容的一實施例，光學膜100的Mm/Mt比率可大於1，其中「Mm」表示MD上的模數且「Mt」表示TD上的模數。這意謂MD上的模數大於TD上的模數。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120的取向方向及取向度可例如藉由調節在光學膜100的製造製程中施加於藉由澆鑄製造的鑄膜的壓力、在乾燥期間到空氣方向以及澆鑄溶液的黏度來改變。因此，光學膜100的Mm/Mt可改變。
根據本揭露內容的一個實施例，Mm/Mt可藉由經由控制施加於鑄膜的壓力而調節填料120的取向方向及取向度來調節至大於1的水平。
更特定言之，根據本揭露內容的一實施例，Mm/Mt可為1.1或大於1.1，Mm/Mt可為1.25或大於1.25，且Mm/Mt可為2.5或大於2.5。在此情況下，可進一步改良填料120在光學膜100中的排列特徵。因此，可進一步改良光學膜100的模數。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120可具有60%至90%的MD取向度。
填料120的MD取向度指示填料120於MD上取向的程度。根據本揭露內容的一實施例，填料120的MD取向度是藉由由填料120的MD取向度所引起的光吸收程度來測定。
填料120分散於光學膜100中的MD取向度可根據以下設備及條件使用FT-IR光譜儀來量測。
（1） 裝置及量測條件 -FT-IR光譜儀：珀金埃爾默（PerkinElmer）光譜100 -具有ATR及45度ZnSe晶體的Veemax III -入射角：80度（空氣至晶體），偏光角：0度。
（2）量測MD上的吸光度及校正值 量測在光學膜100的MD上的FT-IR以量測填料120在MD上的吸光度。此時，在TD上偏振的光照射至光學膜100。由於填料120的Al-O拉伸方向垂直於填料120的軸向，所以在TD上偏振的光經照射以量測填料120在MD上的吸光度。
在第一表面（S1，帶表面）及第二表面（S2，空氣表面）上進行在光學膜100的MD上的FT-IR量測。
因此，舉例而言，可獲得如圖4中所示的FT-IR曲線圖。
AlO MD及Ref MD可自量測結果及曲線圖獲得。
AlO MD定義為在760公分 -1波數下的吸光度（A）與在869公分 -1波數下的吸光度之間的差異，可如以下等式1中所描繪。 [等式1] AlO MD= A(760 cm -1)-A(869 cm -1); (MD)
Ref MD定義為FT-IR曲線圖中1,509公分 -1波數與1,470公分 -1波數之間的面積（參見圖4）。在圖4中，波數1,509公分 -1與1,470公分 -1之間的陰影面積對應於Ref MD。
在根據本揭露內容的一實施例的光學膜100的FT-IR曲線圖中，無論填料的含量如何或存在或不存在填料，1,509公分 -1波數與1,470公分 -1波數之間的面積幾乎恆定。因此，在FT-IR曲線圖中，波數1,509公分 -1與波數1,470公分 -1之間的面積稱為「虛設面積」且虛設面積適於校正吸光度值。
接著，MD上的吸光度校正值（A MD）是自以等式1計算的AlO MD及自FT-IR曲線圖獲得的Ref MD獲得（參見圖4）。MD上的吸光度校正值根據以下等式2來計算。根據本揭露內容的一個實施例，等式2中的A MD稱為「MD上的吸光度校正值」。 [等式2] A MD= AlO MD/Ref MD
（3）量測TD上的吸光度及校正值 量測在光學膜100的TD上的FT-IR以量測填料120在TD上的吸光度。此時，在MD上偏振的光照射至光學膜100。由於填料120的Al-O拉伸方向垂直於填料120的軸向，所以在MD上偏振的光經照射以量測填料120在TD上的吸光度。
在第一表面（S1，帶表面）及第二表面（S2，空氣表面）上進行在光學膜100的TD上的FT-IR量測。
因此，舉例而言，可獲得如圖4中所示的FT-IR曲線圖。
AlO TD及Ref TD可自量測結果及曲線圖獲得。
AlO TD定義為760公分 -1波數下的吸光度（A）與869公分 -1波數下的吸光度之間的差異。 [等式3] AlO TD= A(760cm -1)-A(869cm -1); (TD)
Ref TD定義為FT-IR曲線圖中1,509公分 -1波數與1,470公分 -1波數之間面積（參見圖4）。在圖4中，波數1,509公分 -1與1,470公分 -1之間的陰影面積對應於Ref TD。
接著，TD上的吸光度校正值（A TD）是自以等式3計算的AlO TD及自FT-IR曲線圖獲得的Ref TD獲得（參見圖4）。TD上的吸光度校正值根據以下等式4來計算。根據本揭露內容的一個實施例，等式4中的A TD稱為「TD上的吸光度校正值」。 [等式4] A TD= AlO TD/Ref TD
（4）MD取向度 根據等式2中計算的MD上的吸光度校正值（A MD）及等式4中計算的TD上的吸光度校正值（A TD），根據以下等式5計算光學膜100的MD取向度。 [等式5] MD取向度(%) = [A MD/ (A MD+ A TD)] X 100
當填料120的MD取向度小於60%時，光學膜100的MD模數可能不充足。當填料120的MD取向度高於90%時，光學膜100的可摺疊性可能劣化。
根據本揭露內容的一個實施例，當填料120的MD取向度為60%至90%時，可防止可摺疊性劣化，同時獲得MD上的高模數。
根據本揭露內容的一個實施例，即使在曲率半徑（R）為2.0R時，亦可在不具有摺疊標記的情況下獲得極佳可摺疊性。
特定言之，當光學膜100摺疊時，可出現膜的機械改變。在本揭露內容中，例如，摺疊標記是指膜彎曲、膜表面不均勻地起皺或透明膜白化的現象。除起皺或白化以外，可在摺疊前後出現長度差異，或可出現光學膜100的機械特性及光學特性變化，諸如透光率差異。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100包括纖維形狀填料120，其具有在預定範圍內的長度與直徑比率（B/A），藉此預防可摺疊性劣化且因此實現極佳摺疊效能，同時獲得高模數。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100可具有40兆帕（MPa）或大於40兆帕的維氏硬度（Vikers hardness；Hv）。由於纖維形狀填料120接合聚合物，特定言之，構成光透射基質110的聚合物鏈，以使得可向光學膜100賦予40兆帕或大於40兆帕的高維氏硬度（Hv）。
根據本揭露內容的一個實施例，光學膜100可具有3或小於3的黃度指數。
根據本揭露內容的一個實施例，即使光學膜100包括具有在10至500範圍內的長度與直徑比率（B/A）的填料120，填料120均勻地分散於光學膜100中且具有在某一範圍內的取向度，以使得光學膜100的黃度指數並未極大地增加且光學特性並未劣化。更特定言之，光學膜100可包括具有在100至400範圍內的長度與直徑比率（B/A）的填料120。即使在此情況下，光學膜100的黃度指數並未極大地增加且光學特性並未劣化。
根據本揭露內容的一個實施例，光學膜100可具有4%或小於4%的霧度，且更特定言之可具有1%或小於1%的霧度。儘管光透射基質110中包括的填料120相對較長，但填料120的直徑較小，因此可防止由填料120引起的霧度增加。特定言之，儘管使用纖維形狀填料120，但可藉由調節分散於光透射基質110中的填料120的直徑、長度及長度與直徑比率（B/A）以及含量比率，及改良填料120的分散性向光學膜100賦予4%或小於4%的霧度，例如1%或小於1%的霧度。
另外，根據本揭露內容的一實施例，光學膜100可具有88%或大於88%的透光率。儘管光透射基質110中包括的填料120的長度相對較大，但填料120的直徑較小，使得可防止由填料120引起的透光率降低。特定言之，儘管使用纖維形狀填料120，但可藉由調節分散於光透射基質110中的填料120的直徑、長度、長度與直徑比率（B/A）以及含量比率，及改良填料120的分散性向光學膜100賦予88%或大於88%的透光率。
根據本揭露內容的一個實施例，光學膜100包括纖維形狀填料120，但不具有偏光特性。因此，在光學膜100中可能不會發生偏光。
一般而言，當膜中包括的填料120在某一方向上排列（取向）時，可能發生偏光。然而，根據本揭露內容的一實施例的填料120可在光透射基質110內具有各種取向方向。因此，即使填料120在光透射基質110中具有60%至90%的MD取向度，光學膜100的視角亦可能不會劣化。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100具有電絕緣特性。
光學膜100中包括的纖維形狀填料120可為例如包括金屬的無機填料。根據本揭露內容的一個實施例，光學膜100中包括的填料包括金屬，但呈氧化物形式。因此，包括填料120的光學膜100可具有電絕緣特性。
根據本揭露內容的一實施例的光學膜100可具有例如1×10 10Ω/□或大於1×10 10Ω/□的片電阻。因此，包括填料120的光學膜100可具有電絕緣特性。更特定言之，根據本揭露內容的一實施例的光學膜100可具有高於1×10 15Ω/□的片電阻。
由於根據本揭露內容的一實施例的光學膜100具有極佳電絕緣特性，所以其在應用於觸控面板時可能不會干擾例如觸控面板的功能。
圖2為示出根據本揭露內容的另一實施例的顯示裝置200的一部分的橫截面圖，且圖3為圖2中的「P」的放大橫截面圖。
參考圖2，根據本揭露內容的另一實施例的顯示裝置200包括顯示面板501及顯示面板501上的光學膜100。
參考圖2及圖3，顯示面板501包括基板510、基板510上的薄膜電晶體TFT以及連接至薄膜電晶體TFT的有機發光裝置570。有機發光裝置570包括第一電極571、第一電極571上的有機發光層572以及有機發光層572上的第二電極573。圖2及圖3中所繪示的顯示裝置200為有機發光顯示裝置。
基板510可由玻璃或塑膠形成。特定言之，基板510可由諸如聚醯亞胺類樹脂或光學膜的塑膠形成。儘管未繪示，但緩衝層可安置於基板510上。
薄膜電晶體TFT安置於基板510上。薄膜電晶體TFT包括半導體層520、與半導體層絕緣且與半導體層520至少部分地重疊的閘電極530、連接至半導體層520的源電極541以及與源電極541間隔開且連接至半導體層520的汲電極542。
參看圖3，閘極絕緣層535安置於柵電極530與半導體層520之間。層間絕緣層551可安置於閘電極530上，且源電極541及汲電極542可安置於層間絕緣層551上。
平坦化層552安置於薄膜電晶體TFT上以使薄膜電晶體TFT的頂部平坦化。
第一電極571安置於平坦化層552上。第一電極571經由設置於平坦化層552中的接觸孔連接至薄膜電晶體TFT。
組層（bank layer）580安置於第一電極571的一部分中的平坦化層552上以界定像素區域或發光區域。舉例而言，組層580以基質形式安置於多個像素之間的邊界處以界定各別像素區。
有機發光層572安置於第一電極571上。有機發光層572亦可安置於組層580上。有機發光層572可包括一個發光層或在豎直方向上堆疊的兩個或多於兩個發光層。可自有機發光層572發射具有紅色、綠色以及藍色當中的任一種顏色的光，且可自其發射白光。
第二電極573安置於有機發光層572上。
第一電極571、有機發光層572以及第二電極573可堆疊以構成有機發光裝置570。
儘管未繪示，但當有機發光層572發射白光時，各像素可包括用於基於特定波長過濾自有機發光層572發射的白光的彩色濾光片。彩色濾光片形成於光路中。
薄膜封裝層590可安置於第二電極573上。薄膜封裝層590可包括至少一個有機層及至少一個無機層，且至少一個有機層及至少一個無機層可交替安置。
光學膜100安置於具有上文所描述的堆疊結構的顯示面板501上。光學膜100包括光透射基質110及分散於光透射基質110中的填料120。
在下文中，將描述一種根據本揭露內容的另一實施例的製造光學膜100的方法。
根據本揭露內容的一實施例的製造光學膜100的方法包括首先將填料120分散於用於形成聚合物基質110的樹脂溶液中以製得第一混合溶液，改良填料120在第一混合溶液中的排列特徵，以及澆鑄第一混合溶液以產生鑄膜。
根據本揭露內容的一個實施例，聚醯亞胺類樹脂溶液可用作用於形成聚合物基質110的樹脂溶液。
更特定言之，根據本揭露內容的一實施例的製造光學膜100的方法包括製備聚醯亞胺類樹脂粉末，將聚醯亞胺類樹脂粉末溶解於第一溶劑中以獲得聚醯亞胺類樹脂溶液，將填料120分散於第二溶劑中以製得填料分散液，以及混合填料分散液及聚醯亞胺類樹脂溶液以製得第一混合溶液。
N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）可用作第一溶劑。N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）或甲基乙基酮（MEK）可用作第二溶劑，但本揭露內容的一個實施例不限於此，且可使用其他已知溶劑作為第一溶劑及第二溶劑。
纖維形狀填料120，例如具有高縱橫比的纖維形狀填料120具有相較於其直徑較長的長度，且因此可易於聚集或聚結於光透射基質中。因此，填料120需要於第一混合溶液中的極佳分散性。
根據本揭露內容的一個實施例，為提高填料120的分散性，例如對甲苯磺酸（PTSA）可用作添加劑，但本揭露內容的一個實施例不限於此且可使用其他已知添加劑以改良填料120的分散性。
根據本揭露內容的一個實施例，為改良填料120的分散性，可調節第一混合溶液的pH。舉例而言，第一混合溶液的pH可調節至5至7的範圍。因此，可防止填料120的聚集或聚結。
接著，將第一混合溶液澆鑄、乾燥且熱處理以形成光學膜100。根據本揭露內容的一個實施例，藉由澆鑄第一混合溶液形成的膜可稱為「鑄膜」且藉由乾燥及熱處理鑄膜所產生的膜可稱為「光學膜100」。鑄膜可被稱為「未固化膜」。
為改良填料120的取向，可藉由棒塗執行澆鑄。
根據本揭露內容的一個實施例，填料120的取向方向及取向度可藉由調節施加於藉由澆鑄形成的鑄膜的壓力來改變。施加於鑄膜的壓力使得Mm/Mt大於1。
藉由控制施加於鑄膜的壓力，調節填料120的取向方向及取向度。因此，Mm/Mt大於1使得所得光學膜120的模數可得到極大地改良。
根據本揭露內容的一個實施例，使得Mm/Mt為1.1或大於1.1的壓力可施加於鑄膜。特定言之，使得Mm/Mt為1.25或大於1.25的壓力可施加於鑄膜，且更特定言之，使得Mm/Mt為2.5或大於2.5的壓力可施加於鑄膜。
另外，可在乾燥及熱處理藉由澆鑄形成的鑄膜期間防止對流，使得填料120可於某一方向上取向。
特定言之，當在使用加熱乾燥的鑄膜內部產生對流時，填料120的取向可降低。因此，可允許鑄膜緩慢乾燥以防止對流。舉例而言，在以1℃/1分鐘的速率使溫度自80℃升高至120℃的同時可進行鑄膜的乾燥。當在某一水平上進行乾燥時，可固定填料120的取向。
在下文中，將參考製備實例及實例更詳細地描述本揭露內容。然而，以下製備實例及實例不應解釋為限制本揭露內容的範疇。
＜製備實例1：製備聚合物醯亞胺類聚合物固體＞ 在用氮氣吹掃反應器的同時，將776.655公克N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）裝入配備有攪拌器、氮氣注入器、滴液漏斗、溫度控制器以及冷卻器的1升反應器中。隨後，將反應器的溫度調節至25℃，將54.439公克（0.17莫耳）的雙(三氟甲基)聯苯胺（TFDB）溶解於其中且將溶液的溫度維持在25℃。進一步將15.005公克（0.051莫耳）的聯苯基-四羧酸二酐（BPDA）添加至其中且藉由攪拌3小時而完全地溶解於其中，且進一步將22.657公克（0.051莫耳）的4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸酐（6FDA）添加至其中且完全地溶解於其中。使反應器溫度降至10℃，且進一步將13.805公克（0.068莫耳）的對苯二甲醯氯（TPC）添加至其中且使其在25℃反應12小時以獲得固體含量為12重量%的聚合物溶液。
添加17.75公克吡啶及22.92公克乙酸酐以獲得聚合物溶液，攪拌30分鐘，在70℃再攪拌1小時，且使其冷卻至室溫。將20升甲醇添加至所得聚合物溶液中以沈澱固體且將沈澱的固體過濾、粉碎、用2升甲醇洗滌，且在100℃下在真空下乾燥6小時以製得呈粉末狀的聚醯亞胺類聚合物固體。所製備的聚醯亞胺類聚合物固體為聚醯胺-醯亞胺聚合物固體。
＜實例1＞ 將850公克的DMAc（第一溶劑）添加至1升反應器中，且將反應器攪拌一定時間段，同時將反應器的溫度維持在10℃。隨後，將127公克製備實例1中製備呈固體粉末形式的聚醯胺-醯亞胺（聚醯亞胺類樹脂粉末）添加至反應器中，攪拌1小時，且加熱至25℃以製得液體聚醯亞胺類樹脂溶液。
使用氧化鋁纖維分散液作為添加至填料120中的分散液。特定言之，本文所使用的氧化鋁纖維分散液為其中平均粒徑為約4奈米且平均長度為約1,600奈米的氧化鋁纖維以10重量%的量分散於N,N-二甲基乙醯胺（DMAc，第二溶劑）溶液中的氧化鋁纖維分散液。按固體（聚醯亞胺類樹脂組分+填料）的總重量計，將填料120的含量調節至10重量%。
特定言之，向另一1升反應器中裝入氧化鋁纖維分散液，將反應器的溫度維持在25℃，且使用圓柱體泵將所製備的液體聚醯亞胺類樹脂溶液緩慢添加至其中持續1小時，以獲得含有氧化鋁纖維分散液及聚醯亞胺類樹脂溶液的第一混合溶液。此處，填料120為由式9表示的氧化鋁纖維。
當在製備第一混合溶液之後立即量測時，第一混合溶液的pH為8或高於8。為改良填料120的排列特徵，將諸如乙酸的弱酸添加至第一混合溶液中以將第一混合溶液的pH調節在5至7的範圍內。由此製備的第一混合溶液為纖維形狀填料120分散於其中的聚醯亞胺類樹脂溶液。
澆鑄所獲得的第一混合溶液。使用澆鑄基板進行澆鑄。此時，對於澆鑄基板的類型沒有特定限制。澆鑄基板可為玻璃基板、不鏽鋼（SUS）基板、鐵氟龍（Teflon）基板或類似物。根據本揭露內容的一個實施例，玻璃基板用作澆鑄基板。
特定言之，將所獲得的第一混合溶液塗覆至玻璃基板且澆鑄。為改良填料120的取向，將第一混合溶液塗覆至玻璃基板（澆鑄基板）且在垂直於玻璃基板的方向上施加30牛頓的力的同時進行澆鑄。由此，產生鑄膜。
特定言之，鑄膜藉由以1℃/分鐘的速率在80℃直至120℃下在熱空氣烘箱中緩慢乾燥約40分鐘以維持填料120的取向來產生。隨後，將所產生的膜自玻璃基板剝離且固定至具有銷釘的框架。
將固定光學膜的框架在真空烘箱中自100℃緩慢加熱至280℃持續2小時，緩慢冷卻且與框架分離以獲得光學膜。將光學膜在250℃再加熱5分鐘。
因此，完成厚度為50微米且包括光透射基質110及分散於光透射基質中的填料120的光學膜100。
＜實例2至實例11＞ 光學膜100是以與實例1中相同的方式在表1的條件下產生且分別稱為「實例2至實例11」。
＜比較例1至比較例6＞ 除了改變壓製及乾燥條件以外，以與實例1中相同的方式在表1的條件下產生光學膜100，且分別稱為「比較例1至比較例6」。
＜比較例7＞ 除了添加弱酸，改變壓製及乾燥條件以外，以與實例1中相同的方式在表1的條件下產生光學膜100，且稱為「比較例7」。
在比較例7中，將鑄膜置於120℃下跌熱空氣烘箱中且乾燥30分鐘以產生膜，且在剝離之後，將膜固定至具有銷釘的框架。
＜參考實例1＞ 除了向第一混合溶液中添加弱酸以外，以與實例1中相同的方式在表1的條件下產生光學膜100，且此稱為「參考實例1」。
＜參考實例2＞ 除了改變壓製及乾燥條件以外，以與實例1中相同的方式在表1的條件下產生光學膜100，且此稱為「參考實例2」。 [表1]
項目 填料的類型 填料的含量 （wt%） 填料的長度/直徑 弱酸添加 （分散性） 壓製、乾燥 （取向）
實例1 氧化鋁 10 400 (1600/4) O O
實例2 氧化鋁 1 400 (1600/4) O O
實例3 氧化鋁 5 400 (1600/4) O O
實例4 氧化鋁 20 400 (1600/4) O O
實例5 氧化鋁 30 400 (1600/4) O O
實例6 氧化鋁 40 400 (1600/4) O O
實例7 氧化鋁 10 50 (200/4) O O
實例8 氧化鋁 10 100 (400/4) O O
實例9 氧化鋁 10 200 (800/4) O O
實例10 氧化鋁 10 300 (1200/4) O O
實例11 氧化鋁 10 500 (2000/4) O O
比較例1 未添加 - - O O
比較例2 氧化鋁 10 1 (10/10) O O
比較例3 二氧化矽 10 1 (10/10) O O
比較例4 氧化鋁 50 400 (1600/4) O O
比較例5 氧化鋁 10 5 (20/4) O O
比較例6 氧化鋁 10 600 (2400/4) O O
比較例7 氧化鋁 10 400 (1600/4) X X
參考實例1 氧化鋁 10 400 (1600/4) X O
參考實例2 氧化鋁 10 400 (1600/4) O X
填料120的長度及直徑的單位：奈米 弱酸：乙酸 氧化鋁：氧化鋁纖維分散液
＜量測實例＞ 對實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2中所產生的光學膜進行以下量測。
（1）模數的量測 根據實例1至實例11、比較例1至比較例7，以及參考實例1及參考實例2中所產生的光學膜中的每一者的模數是根據ASTM D885使用來自英斯特朗公司（Instron Corporation）的通用張力試驗機（模型5967）來量測。 -在膜產生之後三小時內的量測準則 -測力計30千牛，抓握250牛頓。 -試樣大小：10毫米×100毫米，拉伸速度：25毫米/分鐘 -因為在塗覆方向上形成取向，所以塗覆方向稱為「MD」，與塗覆正交的方向稱為「TD」，且在兩個方向上進行量測。
（2）維氏硬度（Hv）的量測 根據ISO 14577-1量測藉由用對角為136度的菱形四角錐壓製所形成的標記的表面區域的硬度。當壓製負荷為C公斤且表面積為D平方毫米時，計算Hv=C/D。根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者的維氏硬度（Hv）是使用來自費雪量測技術（Fisher Measurement Technologies）的HM-2000來量測。
（3）黃度指數（Y.I.）的量測 根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者的黃度指數是根據ASTM E313標準使用分光光度計（CM-3700D，柯尼卡美能達（KONICA MINOLTA））來量測。
（4）霧度的量測 根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者的霧度藉由將光學膜切割成大小為50毫米×50毫米的試樣，根據ASTM D1003使用霧度計（例如來自村上色彩實驗室（Murakami Color Laboratories）的霧度計）（模型名稱：HM-150）量測各試樣的霧度5次，以及計算所量測的五個霧度值的平均值來量測。
（5）透光率（%）的量測 根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者在360奈米至740奈米波長下的平均透光率是使用分光光度計（CM-3700D，柯尼卡美能達）來量測。
（6）摺疊標記 自根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者隨機獲得的100毫米×50毫米樣品沿一個彎曲軸進行彎曲試驗。彎曲試驗藉由使用彎曲試驗儀器（YUASA，DLDM111LHA）在25℃/50 RH%下在2.0毫米的曲率半徑（直徑4.0毫米）下以60轉/分鐘的速度重複折彎大小為100毫米×50毫米的樣本200,000次來進行。隨後，基於確定彎曲軸，是否形成摺疊標記。出現諸如裂解或白化的摺疊標記的情況標記為「O」且未出現摺疊標記的情況標記為「X」。
此時，可能需要用於銳化摺疊標記的對比度（陰影）的分析方法。舉例而言，成像可藉由檢測膜上的外來材料來進行。若可能，使用諸如反射、散射以及透射方法的各種檢查方法以偵測難以使用CCD相機或裸眼感知的缺陷或凹痕，以便偵測具有與膜材料相同顏色的外來物質。較佳使用檢測（亦即，判定）裝置而非量測裝置。
特定言之，例如檢測裝置包括三個組件，亦即檢測裝置、控制單元（控制器盒：將經由檢測裝置接收的雷射資料轉化成影像資料）以及專用PC（成像PC：其上安裝有專用應用程式的PC，其連接至控制單元（控制器盒）且能夠進行影像處理）。亦即，分析/評估可藉由設定量測/評估條件，將雷射資料轉化成影像資料，以及使用已知的用於分析影像/照片的亮度、飽和度、反射率等（但不限於此）的軟體實施分析來進行。
（7）電絕緣（表面電阻） 為測定根據實例1至實例11、比較例1至比較例7以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜第電絕緣特性，使用來自三菱化學公司（Mitsubishi Chemical Corporation）的MCP-HT450來量測各光學膜的表面電阻。量測裝置的表面電阻的量測範圍為1×10 15Ω/□或小於1×10 15Ω/□，且在表面電阻高於1×10 15Ω/□時，量測是不可能的。量測裝置的量測範圍造成表面電阻且不可能量測光學膜100的表面電阻的情況藉由「N.D.」指示。
（8）填料的取向度的量測 1根據實例1至實例11、比較例1至比較例7，以及參考實例1及參考實例2所產生的光學膜中的每一者在MD上的取向度使用如下的FT-IR光譜儀來量測。
2）裝置及量測條件 -FT-IR光譜儀：珀金埃爾默光譜100 -具有ATR及45度ZnSe晶體的Veemax III -入射角：80度（空氣至晶體），偏光角：0度。
3）量測MD上的吸光度及校正值 量測在光學膜100的MD上的FT-IR以量測填料120在MD上的吸光度。此時，用在TD上偏振的光照射光學膜100。由於填料120的Al-O拉伸方向垂直於填料120的軸向，所以在TD上偏振的光經照射以量測填料120在MD上的吸光度。
在第一表面（S1，帶表面）及第二表面（S2，空氣表面）上進行在光學膜100的MD上的FT-IR量測。因此，舉例而言，可獲得如圖4中所示的FT-IR曲線圖。
AlO MD及Ref MD可自量測結果及曲線圖獲得。 [等式1] AlO MD= A(760 cm -1)-A(869 cm -1); (MD)
MD上的吸光度校正值（A MD）是自以等式1計算的AlO MD及自FT-IR曲線圖獲得的Ref MD獲得（參見圖4）。MD上的吸光度校正值根據以下等式2來計算。根據本揭露內容的一個實施例，等式2中的A MD稱為「MD上的吸光度校正值」。 [等式2] A MD= AlO MD/Ref MD
4）量測TD上的吸光度及校正值 量測在光學膜100的TD上的FT-IR以量測填料120在TD上的吸光度。此時，用在MD上偏振的光照射光學膜100。由於填料120的Al-O拉伸方向垂直於填料120的軸向，所以在MD上偏振的光經照射以量測填料120在TD上的吸光度。
在第一表面（S1，帶表面）及第二表面（S2，空氣表面）上進行在光學膜100的TD上的FT-IR量測。因此，舉例而言，可獲得如圖4中所示的FT-IR曲線圖。
AlO TD及Ref TD可自量測結果及曲線圖獲得。 [等式3] AlO TD= A(760cm -1)-A(869cm -1); (TD)
TD上的吸光度校正值（A TD）是自以等式3計算的AlO TD及自FT-IR曲線圖獲得的Ref TD獲得（參見圖4）。TD上的吸光度校正值根據以下等式4來計算。根據本揭露內容的一個實施例，等式4中的A TD稱為「TD上的吸光度校正值」。 [等式4] A TD= AlO TD/Ref TD
5）MD上的取向度 根據等式2中計算的MD上的吸光度校正值（A MD）及等式4中計算的TD上的吸光度校正值（A TD），根據以下等式5計算光學膜100在MD上的取向度。 [等式5] MD取向度(%) = [A MD/ (A MD+ A TD)] X 100
物理特性的量測結果展示於以下表2及表3中。 [表2]
項目 模數（吉帕） Mm/Mt 可摺疊性（摺疊標記） 取向度 （%，MD）
MD TD 平均值 空氣表面 帶表面 平均值
實例1 9.5 7.1 8.3 1.34 X 83 79 81
實例2 6.9 6.2 6.6 1.11 X 66 62 64
實例3 8.2 7.3 7.8 1.12 X 74 70 72
實例4 11.9 8.3 10.1 1.43 X 85 83 84
實例5 12.8 8.7 10.8 1.47 X 86 83 85
實例6 13.5 9.0 11.3 1.50 X 88 84 86
實例7 7.9 7.9 7.9 1.03 X 63 60 62
實例8 8.1 7.6 7.9 1.07 X 75 69 72
實例9 8.6 7.5 8.1 1.15 X 79 74 77
實例10 9.3 7.3 8.3 1.27 X 83 78 81
實例11 9.5 7.3 8.4 1.30 X 84 78 81
比較例1 5.0 4.9 5.0 1.02 X - - -
比較例2 5.8 5.9 5.9 0.98 X 54 53 54
比較例3 5.9 6.2 6.1 0.95 X 55 51 53
比較例4 13.2 9.2 11.2 1.43 O 94 91 93
比較例5 7.6 7.4 7.5 1.03 X 60 56 58
比較例6 9.4 7.2 8.3 1.31 O 93 90 92
比較例7 7.9 7.8 7.9 1.01 X 55 52 54
參考實例1 9.0 7.5 8.3 1.20 O 82 79 81
參考實例2 7.6 7.7 7.7 0.99 X 52 53 53
[表3]
項目 維氏硬度（兆帕） 黃度指數 霧度 （%） 透光率 （%） 表面電阻 （Ω）
實例1 44.8 2.80 0.2 89.1 N.D
實例2 41.5 2.75 0.1 89.0 N.D
實例3 41.9 2.82 0.2 88.9 N.D
實例4 45.0 2.79 0.2 89.2 N.D
實例5 45.3 2.77 0.3 89.4 N.D
實例6 45.6 2.79 0.4 89.3 N.D
實例7 43.0 2.80 0.3 89.1 N.D
實例8 42.7 2.81 0.2 89.1 N.D
實例9 43.4 2.83 0.2 89.2 N.D
實例10 44.5 2.81 0.3 88.9 N.D
實例11 44.7 2.79 0.5 88.6 N.D
比較例1 41.3 2.85 0.2 89.2 N.D
比較例2 40.8 2.93 0.4 88.6 N.D
比較例3 41.1 2.83 0.2 88.9 N.D
比較例4 41.5 2.79 0.2 89.0 N.D
比較例5 44.4 2.90 0.3 89.0 N.D
比較例6 44.4 2.80 0.2 89.3 N.D
比較例7 44.2 3.30 0.9 88.5 N.D
參考實例1 44.1 3.41 1.2 89.1 N.D
參考實例2 42.5 2.86 0.2 89.2 N.D
關於表面電阻，「N.D」意謂量測是不可能的，因為表面電阻1×10 15Ω/□高於量測裝置的量測極限。
如自表2及表3中所示的量測結果可見，根據本揭露內容的實施例的光學膜100具有極佳模數及機械強度，且不減弱其他光學特性，諸如透光率、黃度指數以及霧度。
另外，可見根據本揭露內容的一實施例的光學膜100具有極佳可摺疊性以及極佳模數。
100:光學膜 110:光透射基質 120:填料 200:顯示裝置 501:顯示面板 510:基板 520:半導體層 530:閘電極 535:閘極絕緣層 541:源電極 542:汲電極 551:層間絕緣層 552:平坦化層 570:有機發光裝置 571:第一電極 572:有機發光層 573:第二電極 580:組層 590:薄膜封裝層 S1:第一表面 S2:第二表面 TFT:薄膜電晶體
圖1為示出根據本揭露內容的一實施例的光學膜的示意圖。圖2為示出根據本揭露內容的另一例示性實施例的顯示裝置的一部分的橫截面圖。 圖3為示出圖2中部分「P」的放大橫截面圖。 圖4為根據本揭露內容的一實施例的光學膜的FT-IR曲線圖的實例。
100:光學膜
110:光透射基質
120:填料
S1:第一表面
S2:第二表面

Claims (21)

  1. 一種光學膜，包含： 光透射基質；以及 填料，分散於所述光透射基質中， 其中所述填料具有纖維形狀且具有10至500的B/A比率，其中A表示所述填料的直徑且B表示所述填料的長度。
  2. 如請求項1所述的光學膜，其中所述B/A比率為10至400。
  3. 如請求項1所述的光學膜，其中所述B/A比率為200至400。
  4. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料具有2奈米至10奈米的直徑及200奈米至4,000奈米的長度。
  5. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料包含玻璃纖維、鋁纖維以及氟化物纖維中的至少一者。
  6. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料包含氧化鋁氫氧化物、SiO 2、Al 2O 3、聚四氟乙烯（PTFE）或聚偏二氟乙烯（PVDF）中的至少一者。
  7. 如請求項1所述的光學膜，其中相對於所述光學膜的總重量，所述填料以1%至40%的量存在。
  8. 如請求項1所述的光學膜，其中基於大小為10公分×1公分的樣品，所述光學膜具有6.3吉帕（GPa）或大於6.3吉帕的模數。
  9. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有大於1的Mm/Mt比率， 其中Mm表示縱向（MD）上的模數且Mt表示橫向（TD）上的模數， 其中所述縱向（MD）為平行於所述光學膜的製造製程中所述光學膜的澆鑄方向的方向且所述橫向（TD）為垂直於所述縱向（MD）的方向。
  10. 如請求項9所述的光學膜，其中所述Mm/Mt比率為1.10或大於1.10。
  11. 如請求項9所述的光學膜，其中所述Mm/Mt比率為1.25或大於1.25。
  12. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料具有60%至90%的縱向（MD）取向度， 其中所述縱向（MD）為平行於所述光學膜的製造製程中所述光學膜的澆鑄方向的方向，且 所述縱向（MD）取向度是根據以下條件來量測： FT-IR光譜儀：珀金埃爾默（PerkinElmer）光譜100 具有ATR及45度ZnSe晶體的Veemax III 入射角：80度（空氣至晶體），偏光角：0度。
  13. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有電絕緣特性。
  14. 如請求項13所述的光學膜，其中所述光學膜具有1 × 10 10Ω/□或大於1 × 10 10Ω/□的電阻。
  15. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有40兆帕（MPa）或大於40兆帕的維氏硬度（Vikers hardness；Hv）。
  16. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有3或小於3的黃度指數。
  17. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有4%或小於4%的霧度。
  18. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有88%或大於88%的透光率。
  19. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光透射基質包含醯亞胺重複單元或醯胺重複單元中的至少一者。
  20. 一種顯示裝置，包含： 顯示面板；以及 如請求項1至19中任一項所述的光學膜，安置於所述顯示面板上。
  21. 一種製造光學膜的方法，包含： 首先將填料分散於用於形成聚合物基質的樹脂溶液中以製得第一混合溶液； 將所述第一混合溶液的pH調節至5至7以改良所述填料的排列特徵； 澆鑄所述第一混合溶液以產生鑄膜； 向所述鑄膜施加壓力；以及 在以1℃/1分鐘的升溫速率使溫度自80℃升高至120℃的同時乾燥所述鑄膜， 其中所述填料具有纖維形狀且具有10至500的B/A比率，其中A表示所述填料的直徑且B表示所述填料的長度。
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KR20110089673A (ko) * 2010-02-01 2011-08-09 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
JP5700283B2 (ja) * 2010-08-16 2015-04-15 国立大学法人鳥取大学 ナノファイバー補強透明複合材
KR20140076892A (ko) * 2012-12-13 2014-06-23 (주)지엘코리아 확산판 및 이를 포함하는 발광 장치
JP2017149116A (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 日東紡績株式会社 透明複合シート
KR102507135B1 (ko) * 2020-10-29 2023-03-07 에스케이마이크로웍스 주식회사 폴리아마이드계 필름, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 커버 윈도우 및 디스플레이 장치

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