TW202413094A - 光學積層體及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種光學積層體及其製造方法，前述光學積層體係可藉由步驟數經減少的製造方法所製造。

本發明之解決手段係一種光學積層體，係依序積層保護膜A、接著劑層A、偏光片、接著劑層B及保護膜B，並具有配向膜A、相位差膜A及相位差膜B，其中，前述偏光片係於聚乙烯醇系樹脂膜中配向有二色性色素之膜，前述配向膜A係配置在前述保護膜B之一側，前述相位差膜A係配置在前述配向膜A之與前述保護膜B側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜，前述相位差膜B係直接或隔著配向膜B配置在前述保護膜B之與前述配向膜A側為相反之側或前述相位差膜A之與前述配向膜A側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。

Description

光學積層體及其製造方法

本發明係有關光學積層體及其製造方法。

為了防止外來光的反射等目的，圖像顯示裝置係有具備光學積層體之情形。已知具備偏光片與相位差膜之光學積層體。已知相位差膜係以複數層所構成，且各層係藉由使用液晶化合物所形成(專利文獻1)。專利文獻1中，隔著第1接著層使包含第1相位差顯現層、第1配向層及第1基材層之1/2波長層與包含第2相位差顯現層、第2配向層及第1基材層之1/4波長層積層而得到複合相位差板。之後，在1/2波長層側，隔著第2接著層使線性偏光板積層而得到偏光板複合體。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]特開2020-052365號公報

專利文獻1所揭示之光學積層體的製造步驟有步驟數易於變得較多的傾向。

本發明之目的係提供一種光學積層體及其製造方法，前述光學積層體係可藉由步驟數經減少的製造方法所製造。

本發明提供下述的光學積層體、顯示裝置及光學積層體的製造方法。

[1]一種光學積層體，係依序積層保護膜A、接著劑層A、偏光片、接著劑層B及保護膜B，並具有

配向膜A、相位差膜A及相位差膜B，其中，

前述偏光片係於聚乙烯醇系樹脂膜中配向有二色性色素之膜，

前述配向膜A係配置在前述保護膜B的一側，

前述相位差膜A係配置在前述配向膜A之與前述保護膜B側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜，

前述相位差膜B係直接或隔著配向膜B配置在前述保護膜B之與前述配向膜A側為相反之側或前述相位差膜A之與前述配向膜A側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。

[2]如[1]所述之光學積層體，其中，前述配向膜A為光配向膜。

[3]如[1]或[2]所述之光學積層體，其中，前述相位差膜B係隔著配向膜B而配置在前述相位差膜A上。

[4]如[1]或[2]所述之光學積層體，其中，前述相位差膜B係隔著配向膜B配置在前述保護膜B之與前述相位差膜A側為相反之側。

[5]如[1]至[4]中任一項所述之光學積層體，其中，前述接著劑層A及前述接著劑層B的厚度為1μm以下，且前述偏光片含有交聯劑。

[6]如[1]至[5]中任一項所述之光學積層體，其中，前述保護膜A及前述保護膜B之至少一者之於溫度40℃、相對溼度90%RH的透濕度為1000g/m²‧24hr以上。

[7]如[1]至[6]中任一項所述之光學積層體，其中，前述保護膜B及前述相位差膜A之間的剝離力為1.0N/25mm以上。

[8]如[1]至[7]中任一項所述之光學積層體，其中，前述相位差膜A及前述相位差膜B皆具有正波長分散性。

[9]如[1]至[8]中任一項所述之光學積層體，其中，前述保護膜B含有由三乙醯基纖維素所構成的樹脂膜，

前述保護膜B滿足下式：

-40nm≦Rth[550]≦-5nm

(式中，Rth[550]係表示溫度23℃、波長550nm中的樹脂膜之厚度方向的相位差值)。

[10]一種圖像顯示裝置，係具有[1]至[9]中任一項所述之光學積層體。

[11]一種光學積層體的製造方法，係[1]至[9]中任一項所述之光學積層體的製造方法，其中包括：

在前述保護膜B上形成前述配向膜A之步驟，

在前述配向膜A上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物A，而形成塗膜A之步驟，

使前述塗膜A硬化而得相位差膜A步驟，

在前述相位差膜A上或前述保護膜B之與前述配向膜A側為相反之側的面形成配向膜B之步驟，

在前述配向膜B上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物B，而形成塗膜B之步驟，及

使前述塗膜B硬化而形成相位差膜B之步驟。

依據本發明，即可提供一種藉由步驟數經減少的製造方法所製造之光學積層體及其製造方法。

1,2,3:光學積層體

11,21,31:保護膜A

12,22,32:接著劑層A

13,23,33:偏光片

14,24,34:接著劑層B

15,29,37:保護膜B

16,28,36:配向膜A

17,27,35:相位差膜A

18,26,38:配向膜B

19,25,39:相位差膜B

圖1呈示本發明的積層體之層構成的一例之剖面示意圖。

圖2呈示本發明的積層體之層構成的一例之剖面示意圖。

圖3呈示本發明的積層體之層構成的一例之剖面示意圖。

以下，參照圖式說明本發明的實施型態，惟本發明並非侷限於下述的實施型態者。以下的所有圖式中，為便於理解各構成要素而適當調整的比例 並呈示，但圖式中呈示的各構成要素之比例並不一定與實際構成要素的比例一致。

<光學積層體>

本發明的一實施型態之光學積層體係依序積層保護膜A、接著劑層A、偏光片、接著劑層B及保護膜B，並具有配向膜A、相位差膜A及相位差膜B。偏光片係於聚乙烯醇系樹脂膜中配向有二色性色素之膜。配向膜A係配置在保護膜B的一側。相位差膜A係配置在配向膜A之與保護膜B側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。相位差膜B係直接或隔著配向膜B配置在保護膜B之與配向膜A側為相反之側或與相位差膜A的配向膜A側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。

配向膜A係與保護膜B相接而配置。相位差膜A係與配向膜A相接而配置。

相位差膜B可配置在保護膜B之與配向膜A側為相反之側，亦可配置在相位差膜A之與配向膜A側為相反之側(相位差膜A上)。相位差膜B配置在保護膜B之與相位差膜A側為相反之側時，相位差膜B可與保護膜B相接而配置，於相位差膜B與保護膜B之間可配置有相位差膜B形成用之配向膜B。相位差膜B配置在相位差膜A之與配向膜A側為相反之側(相位差膜A上)時，相位差膜B可與相位差膜A相接而配置，於相位差膜B與相位差膜A之間可隔著配向膜B而配置。

圖1呈示光學積層體的層構成之一例。圖1呈示的光學積層體1具備保護膜A11、接著劑層A12、偏光片13、接著劑層B14、保護膜B15、配向 膜A16、相位差膜A17、配向膜B18、相位差膜B19。光學積層體1亦可進一步含有例如硬塗層、保護膜、貼合層等作為其他層。

圖2呈示光學積層體的另一層構成之一例。圖2呈示的光學積層體2依序具備保護膜A21、接著劑層A22、偏光片23、接著劑層B24、相位差膜B25、配向膜B26、相位差膜A27、配向膜A28、保護膜B29。如光學積層體2，藉由將保護膜B29配置在相位差膜A27及相位差膜B25之外側而有光學積層體不易產生磨損之傾向而較佳。

圖3呈示光學積層體的又另一層構成之一例。圖3呈示的光學積層體3依序具備保護膜A31、接著劑層A32、偏光片33、接著劑層B34、相位差膜A35、配向膜A36、保護膜B37、配向膜B38、及相位差膜B39。

光學積層體之其他層構成之一例可舉例如依序具備保護膜A、接著劑層A、偏光片、接著劑層B、相位差膜B、配向膜B、保護膜B、配向膜A及相位差膜A之層構成。

詳述各層如下。以下記載中，當保護膜A及保護膜B均可適用時，稱為保護膜。同樣地，當接著劑層A及接著劑層B均可適用時，及相位差膜A及相位差膜B均可適用時，則分別稱為接著劑層及相位差膜。

[保護膜]

保護膜具有保護偏光片的表面之功能。偏光片與保護膜係隔著接著劑層而積層。保護膜係為了提高與偏光片間的密合性，可施加表面處理(例如，電暈處理等)，亦可形成底漆層(亦稱易接著層)等薄層。

保護膜可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、防潮性、等方性、延伸性等優異的樹脂膜。樹脂膜可為熱塑性樹脂膜。此種樹脂的具體例可列 舉：三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴系樹脂；具有環系及降莰烯結構的環狀聚烯烴系樹脂(亦稱降莰烯系樹脂)；聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂，以及此等的混合物。此種材質的保護膜可容易地從市面上取得。又，亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺酯系、(甲基)丙烯酸胺酯系、環氧系、有機矽系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。本說明書中，(甲基)丙烯酸可指丙烯酸或甲基丙烯酸的任一種。

鏈狀聚烯烴系樹脂除了如聚乙烯樹脂(屬於乙烯的均聚物之聚乙烯樹脂或將乙烯作為主體的共聚物)、聚丙烯樹脂(屬於丙烯的均聚物之聚丙烯樹脂或將丙烯作為主體的共聚物)之鏈狀烯烴的均聚物以外，亦可列舉由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。

環狀聚烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元而聚合的樹脂之總稱，可列舉例如：日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。環狀聚烯烴系樹脂的具體例可列舉環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯的鏈狀烯烴之共聚物(代表性者係隨機共聚物)、及此等經不飽和羧酸或其衍生物改質之接枝聚合物，以及該等之氫化物。其中，較佳係使用如降莰烯或多環降莰烯系單體的降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。

聚酯系樹脂係主鏈上具有酯鍵的樹脂，通常係多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物。多元羧酸或其衍生物可使用2價二羧酸或其衍生物，可 列舉例如：對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。多元醇可使用2價的二醇，可列舉例如：乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。作為聚酯系樹脂的代表例，可列舉屬於對苯二甲酸與乙二醇之聚縮合物之聚對苯二甲酸乙二酯。

纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂的具體例包含纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。又，可列舉具有多種構成此等纖維素酯系樹脂之聚合單元的共聚物、或部分羥基經其他的取代基改質者。此等之中，係以纖維素三乙酸酯(三乙醯基纖維素)為特佳。

(甲基)丙烯酸系樹脂係將具有(甲基)丙烯醯基的化合物作成主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，包含例如：如聚甲基丙烯酸甲酯的聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物之共聚物(例如，甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸降莰酯等)。較佳係使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯的聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯作成主成分的聚合物，更佳係使用以甲基丙烯酸甲酯作成主成分(50至100重量%，較佳係70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

聚碳酸酯系樹脂係由隔著碳酸酯基而使單體單元結合之聚合物所構成。聚碳酸酯系樹脂可為如同修飾聚合物骨架的稱為改質聚碳酸酯之樹脂或共聚聚碳酸酯等。聚碳酸酯系樹脂的詳細內容係例如日本特開2012-31370號公報所記載。本說明書中參考該專利文獻所記載並援用。

保護膜的厚度較佳係0.1μm至60μm，更佳係0.5μm至40μm，又更佳係1μm至30μm。

保護膜A可配置在偏光片的觀看側使用。因此，保護膜A係可視需要而施以硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、防眩處理等表面處理。另外/或，保護膜係可視需要而隔著偏光太陽眼鏡而施以改善觀看時的觀看度之處理(代表性係賦予(橢)圓偏光機能者，或賦予超高相位差者)。藉由施以此種處理，即便在隔著偏光太陽眼鏡等偏光鏡觀看顯示畫面時，亦可得到優異的觀看性。所以，附相位差膜的偏光板亦可適用在可室外使用的圖像顯示裝置。

又，可在保護膜的外表面上設置塗層(表面處理層)，以賦予期望的表面光學性能或其他特性。塗層的具體例包含硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層。形成塗層的方法並無特別的限制，可使用已知的方法。表面處理層可在保護膜的一面形成，亦可在兩面形成。

[硬塗層]

硬塗層具有提高保護膜的表面硬度之功能係為防止表面擦傷等目的而設置。較佳之硬塗層係在JIS K 5600-5-4：1999「塗料的一般試驗方法-第5部：塗膜的機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」中規定的鉛筆硬度試驗(將具有硬塗層的光學膜放置在玻璃板上進行測量)中以顯示H或更硬之值者。

形成硬塗層的材料通常係以熱或光而硬化者。可列舉例如：如有機矽系、三聚氰胺系、環氧系、(甲基)丙烯酸系、胺酯(甲基)丙烯酸酯系之有機硬塗層材料；如二氧化矽的無機硬塗層材料。此等材料之中，從與保護膜的密合性良好、產率優異而言，較佳係使用胺酯(甲基)丙烯酸酯系或多官能(甲基)丙烯 酸酯系硬塗層材料。本說明書中，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的任一者。

硬塗層可因需求而含有各種填充材，以達到調整折射率、提高彎曲模數、穩定體積收縮率、以及提高耐熱性、抗靜電性、防眩性等目的。又，硬塗層亦可含有如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗靜電劑、調平劑、消泡劑的添加劑。

硬塗層的厚度雖係為了持有硬度而以厚者為佳，惟過厚時，在切割時容易破裂，故可為1μm至20μm，亦可為2μm至10μm。硬塗層的厚度較佳係3μm至7μm。

保護膜A與保護膜B可相互用相同種類的樹脂構成，亦可用不同種類的樹脂構成。

保護膜A較佳係從環狀聚烯烴系樹脂所構成之樹脂膜(COP)，保護膜B較佳者為三乙醯基纖維素所構成之樹脂膜(TAC)。

保護膜A與保護膜B可相互具有相同的厚度，亦可具有不同的厚度。

保護膜A與保護膜B可相互具有相同的相位差特性，亦可具有不同的相位差特性。當聚合性液晶化合物為圓盤狀聚合性液晶化合物時，如僅用相位差膜時可能難以將厚度方向的相位差值調整至期望的範圍。保護膜B係以具有厚度方向的相位差為佳。保護膜B具有相位差特性時，從抗斜反射特性的觀點來看，保護膜B係以滿足下述式為佳：

-40nm≦Rth[550]≦-5nm

(式中，Rth[550]係表示溫度23℃、波長550nm中的樹脂膜之厚度方向的相位差值)。

Rth[550]更佳係-5nm以下，又更佳係-10nm以上。Rth[550]更佳係-35nm以上，又更佳係-30nm以上。保護膜B在波長550nm中的面內相位差值可為0至10nm，較佳係0或約0。

保護膜A及保護膜B中的至少一者較佳係至少保護膜B之溫度40℃、相對濕度90%RH中的透濕度例如可為800g/m²‧24小時以上，較佳係1,000g/m²‧24小時以上，更佳係1,500g/m²‧24小時以上。溫度40℃、相對濕度90%RH中的透濕度可按照後述實施例的欄中說明之方法測定。

保護膜A及保護膜B中之一較佳的保護膜A係溫度40℃、相對濕度90%RH中的透濕度例如可為500g/m²‧24小時以下，亦可為100g/m²‧24小時以下，亦可為10g/m²‧24小時以下。

[接著劑層]

接著劑層可具有將偏光片與保護膜接合的功能。接著劑層可由接著劑組成物形成。

接著劑組成物可列舉例如：水系接著劑組成物、經加熱或紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線的照射而硬化之硬化性接著劑組成物等。水系接著劑組成物可列舉例如：將作為主成分的聚乙烯醇系樹脂或胺酯樹脂溶解在水中者、使作為主成分的聚乙烯醇系樹脂或胺酯樹脂分散在水中者。水系接著劑組成物又可含有多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛化合物、水溶性環氧樹脂等硬化性成分或交聯劑。水系接著劑組成物可列舉例如：日本特開2010-191389號公報所記載之接著劑組成物、日本特開2011- 107686號公報所記載之接著劑組成物、日本特開2020-172088號公報所記載之組成物、日本特開2005-208456號公報所記載之組成物等。

硬化性接著劑組成物係以含有硬化性(聚合性)化合物作為主成分，經活性能量線照射而硬化的活性能量線硬化型接著劑組成物為佳。活性能量線硬化型接著劑組成物可列舉含有陽離子聚合性化合物作為硬化性化合物的陽離子聚合型接著劑組成物、含有自由基聚合性化合物作為硬化性化合物的自由基聚合型接著劑組成物、含有陽離子聚合性化合物與自由基聚合性化合物兩者作為硬化性化合物的混合(hybrid)型接著劑組成物等。

陽離子聚合性化合物係可藉由紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線的照射或加熱而進行陽離子聚合反應並硬化的化合物或寡聚物，具體上可列舉環氧化合物、氧環丁烷化合物、乙烯化合物等。

環氧化合物可列舉3,4-環氧基環己基甲基3.4-環氧基環己烷羧酸酯等脂環式環氧化合物(分子內具有1個以上結合在脂環式環上的環氧基之化合物)；雙酚A的二環氧丙基醚等芳香族環氧化合物(分子內具有芳香族環與環氧基的化合物)；2-乙基己基環氧丙基醚、1,4-丁二醇二環氧丙基醚等脂肪族環氧化合物(分子內具有至少1個結合在脂肪族碳原子的環氧乙烷環之化合物)等。

氧環丁烷化合物可列舉3-乙基-3-{[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧環丁烷等的分子內具有1個以上氧環丁烷環之化合物。

陽離子聚合型接著劑組成物係以含有陽離子聚合起始劑為佳。陽離子聚合起始劑可為熱陽離子聚合起始劑，亦可為光陽離子聚合起始劑。陽離子聚合起始劑可列舉重氮苯 六氟銻酸鹽等芳香族重氮鹽；二苯基錪 肆(五氟苯基)硼酸鹽等芳香族錪鹽；三苯基鋶 六氟磷酸鹽等芳香族鋶鹽；二甲苯/環戊二烯鐵(II)六氟銻 酸鹽等鐵-芳烴錯合物等。相對於陽離子聚合性化合物100質量份，陽離子聚合起始劑的含量通常係0.1至10質量份。可含有2種以上的陽離子聚合起始劑。

陽離子聚合型接著劑組成物可列舉例如：日本特開2016-126345號公報、國際公開第2019/10315號公報、日本特開2021-113969號公報所記載之陽離子聚合性組成物等。

自由基聚合性化合物係可藉由紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線的照射或加熱進行自由基聚合反應並硬化的化合物或寡聚物，具體上可列舉具有乙烯性不飽和鍵的化合物。具有乙烯性不飽和鍵的化合物可列舉分子內具有1個以上的(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物、分子內具有1個以上的乙烯基之乙烯基化合物等。

(甲基)丙烯酸系化合物可列舉分子內具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體、(甲基)丙烯醯胺單體、及可使2種以上的含官能基化合物反應而得的分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸寡聚物等含有(甲基)丙烯醯基之化合物。

自由基聚合型接著劑組成物係以含有自由基聚合起始劑為佳。自由基聚合起始劑可為熱自由基聚合起始劑，亦可為光自由基聚合起始劑。自由基聚合起始劑可列舉苯乙酮、3-甲基苯乙酮等苯乙酮系起始劑；二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二胺基二苯甲酮等二苯甲酮系起始劑；安息香丙醚、安息香***等安息香醚系起始劑；4-異丙基噻噸酮等噻噸酮系起始劑；氧蒽酮、茀酮等。相對於自由基聚合性化合物100質量份，自由基聚合起始劑的含量通常係0.1至10質量份。可含有2種以上的自由基聚合起始劑。

自由基聚合型接著劑組成物可列舉例如：日本特開2016-126345號公報、日本特開2016-153474號公報、國際公開第2017/183335號所記載之自由基聚合性組成物等。

活性能量線硬化型接著劑組成物可視需要而含有離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調節劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、整平劑、溶劑等添加劑。

偏光片與保護膜的貼合係將接著劑組成物塗布在選自偏光片的貼合面及保護膜的貼合面(當貼合偏光片的面存在相位差膜時，係相位差膜表面)之至少一方的貼合面，隔著接著劑組成物的塗布層將兩者重疊，並使用貼合輥等上下按壓而貼合後，藉由使接著劑層乾燥、照射活性能量線使其硬化，或加熱使其硬化即可。

形成接著劑層的塗布層之前，在選自偏光片的貼合面及保護膜的貼合面之至少一方的貼合面，可施加皂化處理、電暈處理、電漿處理、底漆處理、錨固塗層處理等易接著處理。

形成接著劑組成物的塗布層時，可使用模塗機、缺角輪塗布機、凹版塗布機、線棒塗布機、刮刀塗布機等各種的塗布方式。

照射活性能量線時的光照射強度係依活性能量線硬化型接著劑組成物之組成決定，雖無特別限制，但以10mW/cm²以上1,000mW/cm²以下為佳。另外，照射強度較佳係對光陽離子聚合起始劑或光自由基聚合起始劑的活化有效之波長區域中的強度。用此種光照射強度照射1次或數次，將其累計光量作成10mJ/cm²以上為佳，作成100mJ/cm²以上1,000mJ/cm²以下為更佳。

為了進行活性能量線硬化型接著劑組成物的聚合硬化而使用的光源，雖然無特別限制，但可列舉例如：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈。

由水系接著劑組成物所形成之接著劑層的厚度，例如可為5μm以下，以1μm以下為佳，以0.5μm以下更佳，可為0.01μm以上，以0.05μm以上為佳。

由活性能量線硬化型接著劑組成物形成之接著劑層的厚度，例如可為10μm以下，以5μm以下為佳，以3μm以下更佳，可為0.1μm以上，以0.5μm以上為佳，以1μm以上更佳。

接著劑層A與接著劑層B可由互為相同種類的接著劑組成物所形成，亦可由互不相同種類的接著劑組成物所形成。形成接著劑層的接著劑組成物係以水系接著劑組成物為佳。

接著劑層A與接著劑層B可相互具有相同的厚度，亦可具有互不相同的厚度。

[偏光片]

偏光片即聚乙烯醇系樹脂膜(以下亦稱PVA系膜)中配向有二色性色素之膜，通常可經過下述步驟製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟、用碘等二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色，使該二色性色素吸附之步驟、用硼酸水溶液等交聯劑處理吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜之步驟、及經硼酸水溶液等交聯劑處理後進行水洗之步驟。偏光片可含有交聯劑。相較於由含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光層形成用組成物所形成之偏光層，作為於聚乙烯醇系樹脂膜中配向有二色性色素之膜的偏光片較不容易調整反射色相。

偏光片的厚度通常係30μm以下，較佳係18μm以下，更佳係15μm，又更佳係10μm以下。該厚度通常係1μm以上，例如5μm以上即可。

聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸可在二色性色素染色之前、與染色同時、或染色之後進行。在染色之後進行單軸延伸時，此單軸延伸可在硼酸處理之前進行，亦可在硼酸處理中進行。當然，亦可用此處所示的數個階段進行單軸延伸。單軸延伸係可採用在不同周速的輥間朝膜運送方向進行單軸延伸的方法、使用熱輥朝膜運送方向進行單軸延伸的方法、使用拉幅機(tenter)朝寬度方向進行延伸的方法等。又，單軸延伸係可在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可使用水等溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常係3至8倍左右。又，可在熱塑性樹脂膜上塗布含有聚乙烯醇的水溶液之後，施以乾燥處理，並以上述方法與熱塑性樹脂膜一起延伸。

用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色，可藉由例如將聚乙烯醇系樹脂膜浸泡在含有二色性色素的水溶液中的方法進行。作為二色性色素，具體上可使用碘或二色性有機染料。

[偏光片的製造方法]

偏光片通常可經過下述步驟製造：將PVA系膜進行單軸延伸之步驟、藉由用二色性色素將PVA系膜染色使吸附二色性色素之步驟、用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的PVA系膜並使其交聯之步驟、及在經硼酸水溶液的交聯處理後進行水洗之步驟(以下亦稱硼酸處理)。

PVA系膜的單軸延伸可在二色性色素的染色前、與染色同時、或染色之後進行。在染色後進行單軸延伸時，此單軸延伸可在硼酸處理之前進行，亦可在硼酸處理中進行。當然，亦可用此處所示之數個階段進行單軸延伸。單軸 延伸係可採用在不同周速的輥間朝膜運送方向進行單軸延伸的方法、使用熱輥朝膜的運送方向進行單軸延伸之方法、使用拉幅機朝寬度方向進行延伸的方法等。又，單軸延伸係可在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可使用水等溶劑使PVA系膜在膨潤狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常係3至8倍左右。

用二色性色素將PVA系樹脂膜染色，係例如可藉由將PVA系膜浸泡在含有二色性色素的水溶液中的方法進行。作為二色性色素，具體上可使用碘或二色性有機染料。另外，PVA系膜較佳係在染色處理之前預先施予浸泡在水中使其膨潤的處理者。

使用碘作為二色性色素時，通常係採用將PVA系膜浸泡在含有碘及碘化鉀的水溶液中進行染色的方法。此水溶液中的碘含量，通常係每100質量份的水為0.01至1質量份左右；碘化鉀之含量，通常係每100質量份的水為0.5至20質量份左右。染色時使用的水溶液溫度，通常係20至40℃左右。又，浸泡在此水溶液的時間(染色時間)，通常係20至1,800秒左右。

另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常係採用將PVA系膜浸泡在含有水溶性的二色性有機染料之水溶液中進行染色的方法。此水溶液中的二色性有機染料之含量，通常係每100質量份的水係0.0001至10質量份左右，以0.001至1質量份為佳。此染料水溶液可含有如硫酸鈉的無機鹽作為染色助劑。染色時使用的二色性有機染料水溶液之溫度，通常係20至80℃左右。又，浸泡在此水溶液的時間(染色時間)，通常係10至1,800秒左右。

二色性色素染色後的硼酸處理係可藉由將染色的PVA系膜浸泡在含有硼酸的水溶液中之方法進行。含硼酸的水溶液中之硼酸含有量通常每100質量份的水係2至15質量份左右，較佳係5至12質量份。使用碘作為二色性色 素時，此含有硼酸的水溶液係以含有碘化鉀為佳。含有硼酸的水溶液中碘化鉀之含量通常每100質量份的水係0.1至15質量份左右，較佳係5至12質量份。浸泡在含有硼酸的水溶液之時間，通常係60至1,200秒左右，較佳係150至600秒，更佳係200至400秒。含有硼酸的水溶液之溫度，通常係50℃以上，較佳係50至85℃，更佳係60至80℃。

硼酸處理後的PVA系膜通常須經水洗處理。水洗處理可用例如將硼酸處理過的PVA系膜浸泡在水中之方法進行。水洗處理中的水之溫度，通常係5至40℃左右。又，浸泡時間通常係1至120秒左右。

水洗後施予乾燥處理即得偏光片。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱機進行。乾燥處理的溫度通常係30至100℃左右，較佳係50至80℃。乾燥處理的時間通常係60至600秒左右，較佳係120至600秒。經乾燥處理，可使偏光片中的水分率減少至實用程度。相對於偏光片的總質量，該水分率通常係5至20質量%左右，較佳係8至15質量%。水分率為5質量%以上時，由於偏光具有十足的可撓性，故可抑制乾燥後的損傷或破裂。又，水分率為20質量%以下時，偏光片具有充分的熱穩定性。

如上述，即可製造PVA系膜中吸附配向有二色性色素的偏光片。

又，上述所得之偏光片係在兩面隔著上述接著劑層A及B而分別貼合有保護膜A及保護膜B。偏光片與保護膜B可進一步隔著相位差膜A及B之至少一者而貼合。

[線性偏光板]

本說明書中，有依序積層保護膜A、接著劑層A、偏光片之層構成部分稱為線性偏光板之情形。線性偏光板為具有光吸收各向異性之功能的膜，且為含有單 軸配向有二色性色素之偏光片的膜。藉由包容於偏光片中之二色性色素而使光被各向異性地吸收，藉此顯現偏光機能。

線性偏光板之偏光性能可使用分光光度計測定。例如，在屬於可見光之波長380nm至780nm的範圍，可使用在分光光度計安裝有稜鏡偏光片之裝置以雙光束法測定穿透軸方向(配向垂直方向)之透過率(T¹)及吸收軸方向(配向方向)之透過率(T²)。在可見光範圍之偏光性能可藉由使用下述式(式1)以及(式2)，算出各波長之單體透過率、偏光度，並進一步依據JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度校正，而以視感度校正單體透過率(Ty)及視感度校正偏光度(Py)算出。又，藉由以相同的方式使用C光源之色彩匹配函數從經測定的透過率算出L^*a^*b^*(CIE)表色系之色度a^*及b^*，可得線性偏光板單體之色相(單體色相)、將偏光板平行配置之色相(平行色相)、將線性偏光板正交配置之色相(正交色相)。a^*及b^*之值越接近0，則可判斷為中性的色相。

單體透過率(%)=(T¹+T²)/2‧‧‧(式1)

偏光度(%)=(T¹-T²)/(T¹+T²)×100‧‧‧(式2)

線性偏光板之視感度校正偏光度Py通常為80%以上，較佳係90%以上，更佳係95%以上，又更佳係98%以上，特佳係99%以上，若為99.9%以上則可適用在液晶顯示器。提高線性偏光板之視感度校正偏光度Py係有利於提高光學積層體之抗反射功能。視感度校正偏光度Py為未達80%時，則有無法實現作為抗反射膜使用時之抗反射功能之情形。

線性偏光板之視感度校正單體透過率Ty越高，則白顯示時之清晰度增加，但由(式1)與(式2)之關係可知，過度提高單體透過率時則有偏光度下降之問題。因此，較佳係30%以上60%以下，更佳係35%以上55%以下，又更 佳係40%以上50%以下，再更佳係40%以上45%以下。視感度校正單體透過率Ty過高時則視感度校正偏光度Py會過度降低，有作為抗反射膜使用時之抗反射功能不充分之情形。

[相位差膜]

相位差膜係由聚合性液晶化合物以配向狀態聚合的聚合物所構成之光學各向異性層。具備相位差膜的光學積層體可具有抗反射功能。

將含有聚合性液晶化合物的組成物(以下亦稱「相位差膜形成用組成物」)塗布形成在透明基材上，作成由聚合性液晶化合物的配向聚合物所構成之光學各向異性層(以下亦稱「相位差膜」)，因可薄型化以及任意設計波長分散特性，故佳。又，相位差膜形成用組成物又可含有溶劑、光聚合起始劑、光敏劑、聚合抑制劑、整平劑及密合性改善劑等。

相位差膜A係由將相位差膜形成用組成物塗布在配置在保護膜B上之配向膜A上，使聚合性液晶化合物以配向狀態硬化的硬化物所構成之層。如後述，配向膜A可直接形成在保護膜B上。

相位差膜B係直接或隔著配向膜B而配置在保護膜B之與配向膜A側為相反之側，或相位差膜A之與配向膜A側為相反之側，聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。直接配置係指相位差膜B直接配置在相位差膜A或保護膜B上，亦即，不存在介於相位差膜B與相位差膜A或保護膜B之間的層(例如，黏著劑層或接著劑層)。隔著配向膜B而配置係指在相位差膜B與相位差膜A或保護膜B之間僅存在配向膜。即使在此情形時，在相位差膜B與相位差膜A或保護膜B之間，不存在黏著劑層及接著劑層。相位差膜B可藉由在配向膜B上塗布並乾燥含有聚合性液晶化合物的相位差膜形成用組成物，使聚合 性液晶化合物聚合而形成。如後述，配向膜B可直接形成於相位差膜A上，亦可直接形成於構成保護膜B之熱塑性樹脂膜上。

相位差膜通常為聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜，為了在視認面內產生相位差，聚合性液晶化合物必須為以對基材面朝水平方向配向的狀態使聚合性基聚合之硬化膜。此時，聚合性液晶化合物係棒狀液晶時，只要係正A板即可，聚合性液晶化合物係圓盤狀的液晶時，只要係負A板即可。

相位差膜A與相位差膜B可含有互為相同種類的聚合性液晶化合物之聚合物，可含有互不相同種類的聚合性液晶化合物之聚合物。從抗斜反射特性的觀點來看，較佳係相位差膜A與相位差膜B的任一者所含之聚合性液晶化合物為圓盤狀聚合性液晶化合物，更佳係相位差膜A中所含的聚合性液晶化合物為圓盤狀聚合性液晶化合物。

相位差膜A與相位差膜B之組合構成，係可作成作為逆分散性的1/4波長相位差層之功能。

相位差膜係可列舉逆波長分散性的1/4波長相位差層、正C板、正波長分散性的1/2波長相位差層、正波長分散性的1/4波長相位差層等。

相位差膜A與相位差膜B之組合，係以逆波長分散性的1/4波長相位差層與正C板組合的構成、及正波長分散性的1/2波長相位差層與正波長分散性的1/4波長相位差層組合的構成為佳。依照此等組合，即可高度達成抗反射功能。

又，從抗斜反射特性的觀點來看，係以正波長分散性的1/2波長相位差層與正波長分散性的1/4波長相位差層組合之構成更佳。

[逆波長分散性的1/4波長相位差層]

在可見光全域中的λ/4層，作為波長λnm之光的面內相位差之R(λ)係以滿足下述式(1)所示的光學特性為佳，以滿足下述式(1)，下述式(2)及下述式(3)所示的光學特性為佳。

100nm<Re(550)<160nm‧‧‧(1)

[式中，Re(550)係表示對波長550nm的光之面內相位差值(面內延遲)。]

Re(450)/Re(550)≦1.00‧‧‧(2)

1.00≦Re(650)/Re(550)‧‧‧(3)

[式中，Re(450)係表示對波長450nm的光之面內相位差值，Re(550)係表示對波長550nm的光之面內相位差值，Re(650)係表示對波長650nm的光之面內相位差值。]

如相位差膜的「Re(450)/Re(550)」超過1.0時，具備該相位差膜的橢圓偏光板中之短波長側的漏光會增大。較佳係0.7以上1.0以下，更佳係0.80以上0.95以下，又更佳係0.80以上0.92以下，特佳係0.82以上0.88以下。「Re(450)/Re(550)」之值，可用調整聚合性液晶化合物的混合比率或複數個光學各向異性層之積層角度或相位差值而任意調整。

相位差膜的面內相位差值可由相位差膜的厚度調整。因面內相位差值可由下述式(4)決定，故欲得所需要的面內相位差值(Re(λ))時，只要調整△n(λ)與膜厚d即可。相位差膜的厚度係以0.5μm至5μm為佳，以1μm至3μm更佳。相位差膜的厚度可用干擾膜厚計、雷射(激光)顯微鏡或觸針式膜厚計測定。又，△n(λ)係取決於後述聚合性液晶化合物之分子結構。

Re(λ)=d×△n(λ)‧‧‧(4)

[式中，Re(λ)係表示波長λnm中的面內相位差值，d係表示膜厚，△n(λ)係表示波長λnm中的雙折射率。]

[聚合性液晶化合物]

聚合性液晶化合物係指具有聚合性基的液晶化合物，特別係光聚合性基的液晶化合物，該聚合性液晶化合物可使用例如相位差膜的領域中已往習知的聚合性液晶化合物。光聚合性基係指可由光聚合起始劑產生的反應活性物質(種)，例如活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。光聚合性基可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧環丁烷基等。其中，係以丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基為佳，以丙烯醯氧基更佳。液晶性可為熱致性(thermotropic)液晶或溶致性(lyotropic)液晶，但就可控制緻密的膜厚而言，係以熱致性液晶為佳。又，熱致性液晶中的相序結構可為向列型(smectic)液晶或層列型(nematic)液晶。又，可為棒狀液晶亦可為圓盤狀液晶。聚合性液晶化合物可單獨使用或將二種以上組合使用。

從顯現逆波長分散性的觀點來看，聚合性液晶化合物係以對垂直於分子長軸方向的方向，另具有雙折射性的T字型或H型的介晶(mesogenic)結構之液晶為佳，從可得更強分散的觀點來看，係以T字型液晶為更佳，T字型液晶的結構，具體上可列舉例如下述式(X)所示的化合物。

式(X)中，Ar係表示可具有取代基的二價芳香族基。該二價芳香族基中，係以含有氮原子、氧原子、硫原子中之至少1個以上為佳。二價基Ar中 所含的芳香族基為2個以上時，2個以上的芳香族基可相互以單鍵、-CO-O-、-O-等二價鍵結基鍵結。

G¹及G²係分別獨立地表示二價芳香族基或二價脂環式烴基。此處，該二價芳香族基或二價脂環式烴基中所含的氫原子可取代成鹵素原子、碳數1至4的烷基、碳數1至4的氟烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基或硝基，構成該二價芳香族基或二價脂環式烴基之碳原子係可取代成氧原子、硫原子或氮原子。

L¹、L²、B¹及B²係分別獨立地為單鍵或二價連結基。

k、l係分別獨立地表示0至3的整數，滿足1≦k+l的關係。此處，2≦k+l時，B¹及B²、G¹及G²可分別互為相同，亦可互不相同。

E¹及E²係分別獨立地表示碳數1至17的烷二基，此處，烷二基中所含的氫原子可經鹵素取代，該烷二基中所含的-CH₂-可用-O-、-S-、-COO-取代，具有複數個-O-、-S-、-COO-時，並不互相隣。P¹及P²係相互獨立地表示聚合性基或氫原子，至少1個係聚合性基。

G¹及G²較佳係分別獨立地可經選自由鹵素原子及碳數1至4的烷基所成群組中的至少1個取代基取代之1,4-伸苯二基、可經選自由鹵素原子及碳數1至4的烷基所成群組中的至少1個取代基取代之1,4-環己烷二基，更佳係經甲基取代的1,4-伸苯二基、無取代的1,4-伸苯二基或無取代的1,4-反式-環己烷二基，特佳係無取代的1,4-伸苯二基、或無取代的1,4-反式-環己烷二基。

又，複數個存在的G¹及G²之中較佳係至少1者為二價脂環式烴基，又，更佳係與L¹及L²鍵結的G¹及G²之中至少1個係二價脂環式烴基。

L¹及L²較佳係分別獨立地為單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a1OR^a2-、-R^a3COOR^a4-、-R^a5OCOR^a6-、R^a7OC=OOR^a8-、-N=N-、-CR^c= CR^d-或C≡C-。此處，R^a1至R^a8係分別獨立地表示單鍵或碳數1至4的伸烷基，R^c及R^d係表示碳數1至4的烷基或氫原子。L¹及L²更佳係分別獨立地為單鍵、-OR^a2-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a4-1-或OCOR^a6-1。此處，R^a2-1、R^a4-1、R^a6-1係分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-的任一者。L¹及L²更佳係分別獨立地為單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-或OCO-。

B¹及B²較佳係分別獨立地為單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a9OR^a10-、-R^a11COOR^a12-、-R^a13OCOR^a14-或R^a15OC=OOR^a16-。此處，R^a9至R^a16係分別獨立地表示單鍵或碳數1至4的伸烷基。B¹及B²更佳係分別獨立地為單鍵、-OR^a10-1-、CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a12-1-或-COOR^a14-1-。此處，R^a10-1、R^a12-1、R^a14-1係分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-的任一者。B¹及B²更佳係分別獨立地為單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、-OCO-或-OCOCH₂CH₂。

從顯現逆波長分散性的觀點來看，k及l係以2≦k+l≦6的範圍為佳，以k+l=4為佳，以k=2且l=2更佳。因k=2且l=2時會成為對稱結構，故佳。

E¹及E²較佳係分別獨立地為碳數1至17之烷二基，更佳係碳數4至12的烷二基。

P¹或P²表示的聚合性基可列舉環氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基等。其中，以丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基為佳，以丙烯醯氧基更佳。

Ar係以具有選自由可具有取代基的芳香族烴環、可具有取代基的芳香族雜環及拉電子基中的至少一者為佳。該芳香族烴環可列舉例如：苯環、萘環、蒽環等，以苯環、萘環為佳。該芳香族雜環可列舉呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、吲哚環、噻吩環、苯并噻吩環、吡啶環、吡

環、嘧啶環、***環、三

環、二氫吡咯環、咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、噻吩并噻唑環、

唑環、苯并

唑環及啡啉環等。其中，以具有噻唑環、苯并噻唑環或苯并呋喃環為佳，以具有苯并噻唑環更佳。又，Ar中含有氮原子時，該氮原子係以具有π電子為佳。

式(X)中，Ar表示的2價芳香族基中所含的π電子之合計數Nπ較佳係8以上，更佳係10以上，又更佳係14以上，特佳係16以上。又，較佳係30以下，更佳係26以下，又更佳係24以下。

Ar表示的芳香族基可列舉例如以下的基為佳。

式(Ar-1)至式(Ar-23)中，＊標記係表示連結部，Z⁰、Z¹及Z²係分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷基亞磺醯基、碳數1至12的烷基磺醯基、羧基、碳數1至12的氟烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷硫基、碳數1至12的N-烷基胺基、碳 數2至12的N,N-二烷基胺基、碳數1至12的N-烷基胺磺醯基或碳數2至12的N,N-二烷基胺磺醯基。

Q¹、Q²及Q³係分別獨立地表示-CR^2’R^3’-、-S-、-NH-、-NR^2’-、-CO-或-O-，R^2’及R^3’係分別獨立地表示氫原子或碳數1至4的烷基。

J¹及J²係分別獨立地表示碳原子或氮原子。

Y¹、Y²及Y³係分別獨立地表示可經取代的芳香族烴基或芳香族雜環基。

W¹及W²係分別獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子，m係表示0至6的整數。

Y¹、Y²及Y³中的芳香族烴基可列舉苯基、萘基、蒽基、菲基、聯苯基等碳數6至20的芳香族烴基，以苯基、萘基為佳，以苯基更佳。芳香族雜環基可列舉呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等至少含有1個氮原子、氧原子、硫原子等雜原子的碳數4至20之芳香族雜環基，以呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基為佳。

Y¹、Y²及Y³分別獨立地可為可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基亦稱縮合多環系芳香族烴基、或源自芳香環集合之基。多環系芳香族雜環基係縮合多環系芳香族雜環基、或源自芳香環集合之基。

Z⁰、Z¹及Z²係以分別獨立地為氫原子、鹵素原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷氧基為佳，Z⁰係以氫原子、碳數1至12的烷基、氰基為更佳，Z¹及Z²係以氫原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基為更佳。

Q¹、Q²及Q³係以-NH-、-S-、-NR^2’-、-O-為佳，R^2’係以氫原子為佳。其中，係以-S-、-O-、-NH-為特佳。

從分子的穩定性之觀點來看，式(Ar-1)至(Ar-23)之中係以式(Ar-6)及式(Ar-7)為佳。

式(Ar-16)至(Ar-23)中，Y¹可與其所鍵結之氮原子及Z⁰一起形成芳香族雜環基。芳香族雜環基可列舉作為Ar可具有的芳香族雜環之前述者，例如：吡咯環、咪唑環、二氫吡咯環、吡啶環、吡

環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環等。此芳香族雜環基可具有取代基。又，Y¹與其所鍵結之氮原子及Z⁰一起可為前述可取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。可列舉例如：苯并呋喃環、苯并噻唑環、苯并

唑環等。

在聚合性液晶化合物之中，較佳係極大吸收波長在300至400nm的化合物。聚合性液晶組成物中含有光聚合起始劑時，在長期保存時有聚合性液晶化合物的聚合反應及凝膠化會進行之虞。然而，只要聚合性液晶化合物的極大吸收波長在300至400nm中，即便保存中曝露於紫外光下，亦可有效地抑制源自光聚合起始劑的反應活性種之產生及因該反應活性種而進行聚合性液晶化合物的聚合反應及凝膠化。因此，係有利於聚合性液晶組成物的長期穩定性，並可提高得到的液晶硬化膜之配向性及膜厚的均勻性。另外，聚合性液晶化合物的極大吸收波長可在溶劑中使用紫外可見分光光度計測定。該溶劑係可溶解聚合性液晶化合物的溶劑，可列舉例如氯仿等。

[正C板]

正C板係只要在厚度方向具有各向異性者即可並無特別限制，無傾斜配向(tilt orientation)或膽固醇配向時，其具有式(5)表示的光學特性。

nx≒ny<nz (5)

正C板在波長550nm中之面內相位差值Re(550)，通常係在0至10nm的範圍，以0至5nm的範圍為佳。又，波長550nm中的厚度方向之相位差值Rth(550)，通常係在-170nm以上-10nm以下的範圍，較佳係-150nm以上-20nm以下，更佳係-100nm以上-40nm以下的範圍。只要厚度方向的相位差值在此範圍，即可進一步提高源自傾斜方向的抗反射特性。

正C板為延伸膜時，其厚度通常係300μm以下，較佳係5μm以上100μm以下，更佳係10μm以上50μm以下。正C板為聚合性液晶聚合形成的塗層時，其厚度通常係10μm以下，較佳係5μm以下，更佳係0.3μm以上3μm以下。

較佳的正C板係將1個以上的聚合性液晶化合物聚合形成之塗層。形成正C板的聚合性液晶化合物係以棒狀的聚合性液晶化合物更佳。棒狀的聚合性液晶化合物可適用上述的說明。

[正波長分散性的1/2波長相位差層與正波長分散性的1/4波長相位差層之組合構成]

作為達成抗反射性能的方法之一，已知有將正波長分散性的1/2波長相位差層與正波長分散性的1/4波長相位差層組合之構成。例如可將具有上述式(1)、下述式(7)及式(8)表示的光學特性之層與具有下述式(6)、(7)及式(8)表示的光學特性之層，以特定的慢軸關係組合而得。

150nm<Re(550)<320nm‧‧‧(6)

Re(450)/Re(550)≧1.00‧‧‧(7)

1.00≧Re(650)/Re(550)‧‧‧(8)

上述構成的組合方法可列舉：日本特開2015-163935號公報或WO2013/137464號公報等周知的方法。從視角補償的觀點來看，係以使用屬於圓盤狀的聚合性液晶之1/2波長相位差層與屬於棒狀的聚合性液晶之1/4波長相位差層為佳。

圓盤狀的聚合性液晶化合物可列舉例如：含有式(W)表示的基之化合物[以下，亦稱為聚合性液晶化合物(C)]。

[式(W)中，R⁴⁰係表示下述式(W-1)至(W-5)。

X⁴⁰及Z⁴⁰係表示碳數1至12的烷二基，該烷二基中所含的氫原子可經碳數1至5的烷氧基取代，該烷氧基中所含的氫原子可經鹵素原子取代。又，構成該烷二基的-CH₂-可取代成-O-或-CO-。]

棒狀的聚合性液晶化合物可列舉例如：式(I)、式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)或式(VI)所示的化合物。

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)

[式中，A12至A14係分別獨立地與A11同義，B14至B16係分別獨立地與B12同義，B17係與B11同義，E12係與E11同義。F11係表示氫原子、碳數1至13的烷基、碳數1至13的烷氧基、氰基、硝基、三氟甲基、二甲基胺基、羥基、羥甲基、甲醯基、磺酸基(-SO₃H)、羧基、碳數1至10的烷氧基羰基或鹵素原子，構成該烷基及烷氧基的-CH₂-可取代成-O-。]

[其他構成]

除了將上述正波長分散性1/2波長相位差層與正波長分散性1/4波長相位差層組合構成以外，對於傾斜配向或膽固醇配向的構成，只要達成抗反射功能之構成，即無特別限制，可列舉例如WO2021/060378號公報、WO2021/132616號公報、WO2021/132624號公報等周知的構成。

[相位差膜形成用組成物]

相對於相位差膜形成用組成物的固形分100質量份，相位差膜形成用組成物中的聚合性液晶化合物之含量係例如70至99.5質量份，較佳係80至99質量份，更佳係85至98質量份，又更佳係90至95質量份。從得到的相位差膜之配 向性的觀點來看，聚合性液晶化合物的含量只要在上述範圍內即有利。另外，本說明書中相位差膜形成用組成物的固形分，係指從相位差膜形成用組成物中去除有機溶劑等揮發性成分之後的所有成分。

相位差膜形成用組成物又可含有溶劑或整平劑、聚合起始劑、光敏劑、聚合抑制劑、交聯劑、密合劑等反應性添加劑，從加工性的觀點來看，係以含有溶劑或整平劑較佳。

[溶劑]

相位差膜形成用組成物可含有溶劑。由於一般的聚合性液晶化合物之黏度高，故可因作成溶解於溶劑中的相位差膜形成用組成物而易於塗布，結果相位差膜形成用組成物大多容易形成。溶劑係以可將聚合性液晶化合物完全溶解者為佳，又，係以聚合性液晶化合物的聚合反應中不活性之溶劑為佳。

溶劑可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮等醯胺系溶劑等。此等溶劑可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

相對於前述相位差膜形成用組成物之總量，溶劑的含量較佳係50至98質量%。換言之，相位差膜形成用組成物中的固形分之含量，較佳係2至50質量%，更佳係5至30質量%。如該固形分的含量在50質量%以下時，將使 相位差膜形成用組成物的黏度變低，相位差膜的厚度成為大致均勻，會使該相位差膜有不易產生不均的傾向。又，此固形分的含量可考慮欲製造的相位差膜之厚度後確定。

[整平劑]

相位差膜形成用組成物中可含有整平劑。整平劑係具有調整組成物的流動性，並使塗布組成物而得的膜更平坦的功能之添加劑，可列舉例如：有機改質矽酮油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系的整平劑。其中，以聚丙烯酸酯系整平劑及全氟烷基系整平劑為佳。

相位差膜形成用組成物含有整平劑時，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，較佳係0.01至5質量份，更佳係0.05至3質量份。整平劑的含量在上述範圍內時，將使聚合性液晶化合物容易水平配向，且得到的相位差膜有更平滑的傾向。相對於聚合性液晶化合物，整平劑的含量超過上述範圍時，將使得到的相位差膜有容易產生不均的傾向。另外，相位差膜形成用組成物可含有2種以上的整平劑。

[聚合起始劑]

相位差膜形成用組成物可含有聚合起始劑。聚合起始劑係可開啟聚合性液晶化合物等的聚合反應之化合物。從不取決於熱致液晶的相狀態之觀點來看，聚合起始劑係以由光的作用而產生活性自由基之光聚合起始劑為佳。

光聚合起始劑只要係可開啟聚合性液晶化合物的聚合反應之化合物，即可使用已知的光聚合起始劑。具體上，可列舉經光的作用即可產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，係以經光的作用而產生自由基的光聚合起始劑為佳。光聚合起始劑可單獨使用，亦可將二種以上組合使用。

光聚合起始劑係可使用已知的光聚合起始劑，例如產生活性自由基的光聚合起始劑係可使用自行開裂型的安息香系化合物、苯乙酮系化合物、羥基苯乙酮系化合物、α-胺基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、醯基膦氧化物系化合物、偶氮系化合物等、奪氫型二苯甲酮系化合物、烷基苯酮系化合物、安息香醚系化合物、苯甲基縮酮系化合物、二苯并環庚酮(dibenzosuberone)系化合物、蒽醌系化合物、氧蒽酮系化合物、噻噸酮系化合物、鹵代苯乙酮系化合物、二烷氧基苯乙酮系化合物、鹵代雙咪唑系化合物、鹵代三

系化合物、三

系化合物等。產生酸的光聚合起始劑係可使用錪鹽及鋶鹽等。從低溫中的反應效率優異之觀點來看，較佳係自行開裂型的光聚合起始劑，特佳係苯乙酮系化合物、羥基苯乙酮系化合物、α-胺基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物。

相位差膜形成用組成物中的聚合起始劑之含量，係可依聚合性液晶化合物的種類及其量而適當地調整，惟相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，通常係0.1至30質量份，較佳係0.5至10質量份，更佳係0.5至8質量份。聚合起始劑的含量在上述範圍內時，可不干擾聚合性液晶化合物之配向而進行聚合。

[敏化劑]

相位差膜形成用組成物可含有敏化劑。敏化劑係以光敏劑為佳。該敏化劑可列舉例如：氧蒽酮及噻噸酮等氧蒽酮化合物(例如，2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等)；蒽及含有烷氧基的蒽(例如，二丁氧蒽等)等蒽化合物；啡噻

及紅螢烯等。

相位差膜形成用組成物含有敏化劑時，可更促進相位差膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物之聚合反應。相對於聚合性液晶化合物的含 量100質量份，此種敏化劑的使用量係以0.1至30質量份為佳，以0.5至10質量份更佳，以0.5至8質量份又更佳。

[聚合抑制劑]

從穩定地進行聚合反應之觀點來看，相位差膜形成用組成物可含有聚合抑制劑。藉由聚合抑制劑可控制聚合性液晶化合物的聚合反應之進行程度。

前述聚合抑制劑可列舉例如：氫醌、含烷氧基的氫醌、含烷氧基的兒茶酚(例如丁基兒茶酚等)、鄰苯三酚(pyrogallol)、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等自由基清除劑；苯硫酚(thiophenol)類；β-萘胺類及β-萘酚類等。

相位差膜形成用組成物含有聚合抑制劑時，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，聚合抑制劑的含量較佳係0.1至30質量份，更佳係0.5至10質量份，又更佳係0.5至8質量份。當聚合抑制劑的含量為上述範圍內時，可不干擾聚合性液晶化合物之配向而進行聚合。

[反應性添加劑]

相位差膜形成用組成物可含有反應性添加劑。反應性添加劑係以其分子內具有碳-碳不飽和鍵或活性氫反應性基者為佳。另外，此處所謂「活性氫反應性基」係指對羧基(-COOH)、羥基(-OH)、胺基(-NH₂)等具有活性氫之基具有反應性之基，其代表例有環氧丙基、

唑啉基、碳二亞胺基、氮環丙烷基、醯亞胺基、異氰酸酯基、硫代異氰酸酯基、順丁烯二酸酐基等。反應性添加劑具有的碳-碳不飽和鍵及活性氫反應性基的個數，通常係分別為1至20個，較佳係分別為1至10個。

反應性添加劑具有的碳-碳不飽和鍵可為碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵，或該等之組合，但以碳-碳雙鍵為佳。其中，反應性添加劑係以含有碳-碳不飽和 鍵作為乙烯基及/或(甲基)丙烯基為佳。更且，活性氫反應性基係以選自由環氧基、環氧丙基及異氰酸酯基所成群組中的至少1種反應性添加劑為佳，以具有丙烯醯基與異氰酸酯基的反應性添加劑更佳。

保護膜B及相位差膜A之間的剝離力(密合力)例如可為1.0N/25mm以上，較佳係1.5N/25mm以上，又更佳係2.0N/25mm以上。剝離力可依照後述實施例之欄中說明之方法測定。

[配向膜]

本發明中，配向膜係可使聚合性液晶化合物朝希望的方向液晶配向之具有配向控制力者。用以形成相位差膜A之配向膜A係與保護膜B直接相接而形成。用以形成相位差膜B之配向膜B可直接形成於相位差膜A上，亦可直接形成於保護膜B。

配向膜可促進聚合性液晶化合物的液晶配向。水平配向、垂直配向、混合配向、傾斜配向等液晶配向的狀態係依配向膜及聚合性液晶化合物的性質而改變，可任意選擇其組合。例如，只要配向膜可表現水平配向作為配向控制力的材料，聚合性液晶化合物即可形成水平配向或混合配向，只要可表現垂直配向的材料，聚合性液晶化合物即可形成垂直配向或傾斜配向。將相位差膜平面作為基準時，水平、垂直等的表現係表示配向的聚合性液晶化合物之長軸方向。例如，垂直配向係指於與相位差膜平面垂直之方向具有配向的聚合性液晶化合物之長軸。此處所言之垂直，係指與相位差膜平面成90°±20°。

配向膜由配向性聚合物形成時，配向控制力可依表面狀態或摩擦條件而任意地調整，由光配向性聚合物形成時，則可依偏光照射條件等而任意地 調整。又，可藉由選擇聚合性液晶化合物的表面張力或液晶性等物性而控制液晶、配向。

在保護膜B與相位差膜A或相位差膜B之間、或相位差膜A與相位差膜B之間形成的配向膜，係不溶於在配向膜上形成相位差膜時所使用的溶劑，此外，較佳係去除溶劑或液晶的配向用之加熱處理中具有耐熱性者。配向膜可列舉由配向性聚合物所構成之配向膜、光配向膜及溝槽(groove)配向膜、朝配向方向延伸的延伸膜等，應用在長條捲狀膜時，從容易控制配向方向之觀點來看，以光配向膜為佳。

配向膜的厚度通常係10nm至5,000nm的範圍，較佳係10nm至1,000nm的範圍，更佳係30nm至300nm。

摩擦配向膜中使用的配向性聚合物可列舉：分子內具有醯胺鍵的聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵的聚醯亞胺及其水解物的聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改質聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚

唑、聚乙亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類等。其中，係以聚乙烯醇為佳。此等配向性聚合物可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

摩擦方法可列舉：藉由將配向性聚合物組成物塗布在保護膜B或相位差膜A上並退火，使保護膜B或相位差膜A的表面所形成的配向性聚合物之膜與纏繞有摩擦布的旋轉摩擦輥接觸之方法。

光配向膜係由具有光反應性基的聚合物或寡聚物或單體所構成。光配向膜可因照射偏光而得到配向控制力。就可藉由選擇照射的偏光之偏光方向而任意控制配向控制力的方向而言，係以光配向膜更佳。

光反應性基係指可藉由照射光而產生液晶配向能之基。具體上係如同照射光而產生的分子之配向誘發或異構化反應、二聚反應、光交聯反應或光分解反應之成為液晶配向能的根源之產生光反應者。該光反應性基之中，從配向性優異之點而言，係以引起二聚反應或光交聯反應者為佳。產生如上述反應的光反應性基，係以具有不飽和鍵為佳，特別以具有雙鍵者為佳，以具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所成群組中的至少1個基更佳。

具有C=C鍵的光反應性基可列舉例如：乙烯基、多烯基、二苯乙烯基、芪唑(stilbazole)基、芪唑鎓(stilbazolium)基、查爾酮(chalcone)基及肉桂醯基(cirmamoyl)等。從容易控制反應性或表現光配向時的配向控制力之觀點來看，係以查爾酮基及肉桂醯基為佳。具有C=N鍵的光反應性基可列舉：具有芳香族希夫鹼(Schiff bases)及芳香族腙(hydrazone)等結構之基。具有N=N鍵的光反應性基可列舉：偶氮苯(azobenzene)基、偶氮萘(azonaphthalene)基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲臘(formazan)基等或將氧偶氮苯(azoxybenzene)作成基本結構者。具有C=O鍵的光反應性基可列舉：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基、順丁烯二醯亞胺基等。此等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基及鹵烷基等取代基。

在照射偏光時，可用從膜面照射直接偏光的形式，亦可從保護膜B(相位差膜A)側照射偏光，並使偏光穿透而照射的形式。此外，該偏光係以實際上為平行光者為特佳。照射的偏光之波長較佳係具有光反應性基的聚合物或單體之光反應性基為可吸收光能的波長區域者。具體上，係以波長250至400nm的範圍之UV(紫外光)為特佳。該偏光照射時使用的光源可列舉：氙氣燈、高壓 水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等，以高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈更佳。此等燈因波長313nm的紫外光之發光強度大，故佳。藉由將源自前述光源的光通過適當之偏光片而照射，即可照射偏光。此種偏光片係可使用偏光鏡、格蘭-湯普森(Glan-Thompson)、格蘭-泰勒(Glan-Taylor)等偏光稜鏡或線柵型偏光片。

[相位差膜的形成方法]

相位差膜可由包含下述步驟製造：在配向膜上塗布含有聚合性液晶化合物的相位差膜形成用組成物而形成塗膜之步驟，及使塗膜硬化且使聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化而得相位差膜之步驟。

相位差膜形成用組成物的調製中，將聚合性液晶化合物與視情況的溶劑等添加劑攪拌時之溫度，通常係0至50℃，較佳係10至40℃。攪拌方法並無特別限制，可用傳統已知的方法攪拌。

相位差膜形成用組成物的塗膜形成，例如，可藉由在配向膜上塗布相位差膜形成用組成物而進行。

相位差膜形成用組成物的塗布方法，可列舉：旋轉塗布法、擠出法、凹版塗布法、模塗法、棒塗法、撒布法等塗布法、柔版印刷法等印刷法等已知的方法。

接著，經乾燥等將溶劑去除，藉此形成乾燥塗膜。乾燥方法可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。此時，藉由將由液晶組成物所得的塗膜加熱，可從塗膜中使溶劑乾燥去除，並且使聚合性液晶化合物朝垂直於塗膜平面的方向配向。塗膜的加熱溫度雖可考量使用的聚合性液晶化合物及形成塗膜的熱塑性樹脂膜等材質等而適當地決定，然為了使聚合性液 晶化合物相轉移至液晶層狀態，必需為液晶相轉移溫度以上的溫度。為了一邊去除包含在用以形成光吸收各向異性膜之相位差膜形成用組成物中的溶劑，一邊將聚合性液晶化合物作成垂直配向狀態，例如可加熱至相位差膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物之液晶相轉移溫度(層列(smectic)相轉移溫度或向列相轉移溫度)程度以上的溫度。

另外，液晶相轉移溫度可使用例如：具備控溫載台的偏光顯微鏡或微差掃描熱析儀(DSC)、熱重量微差熱分析儀(TG-DTA)等測定。又，使用2種以上的組合作為聚合性液晶化合物時，上述相轉移溫度係指使用將構成用以形成光吸收各向異性膜之相位差膜形成用組成物之全聚合性液晶化合物以與上述相位差膜形成用組成物中的組成相同比率混合之聚合性液晶化合物的混合物，與使用1種聚合性液晶化合物的情形同樣的操作而測定之溫度。另外，通常上述相位差膜形成用組成物中的聚合性液晶化合物之液晶相轉移溫度，已知有低於作為聚合性液晶化合物單體之液晶相轉移溫度的情形。

加熱時間係可依據加熱溫度、使用的聚合性液晶化合物之種類、溶劑的種類或其沸點及其量等而適當地決定，惟通常係15秒至10分鐘，以0.5至5分鐘為佳。

接著，所得的乾燥塗膜中，藉由保持在聚合性液晶化合物的配向狀態使聚合性液晶化合物聚合，即可形成相位差膜。聚合方法可列舉熱聚合法或光聚合法，但從容易控制聚合反應的觀點來看，係以光聚合法為佳。光聚合中，照射在乾燥塗膜上的光可依據該乾燥塗膜中所含的光聚合起始劑之種類、聚合性液晶化合物的種類(尤其係該聚合性液晶化合物具有的聚合性基之種類)及其量而適當地選擇。其具體例可列舉選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α 線、β線及γ線所成群組中的1種以上之光及活性電子束。其中，就容易控制聚合反應的進行而言，或可使用在該領域中廣泛應用的光聚合裝置而言，係以紫外光為佳，以可經紫外光而光聚合之方式選擇形成相位差膜用之相位差膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物或光聚合起始劑的種類為佳。又，聚合時，亦可用適當的冷卻方式冷卻乾燥塗膜同時照射光以控制聚合溫度。藉由採用此種冷卻方式，只要在較低的溫度下實施聚合性液晶化合物的聚合，則即便使用耐熱性較低的熱塑性樹脂膜，亦可適當地形成相位差膜。又，在不發生因光照射時的熱引起之問題(因熱塑性樹脂膜的熱而變形等)之範圍中，亦可藉由提高聚合溫度而促進聚合反應。光聚合時，亦可經進行掩膜、顯影等而得圖案化的光吸收各向異性膜。

上述活性能量線的光源可列舉例如：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子激光、發射波長範圍380至440nm之光的LED光源、化學燈、黑光燈、激發微波水銀燈、金屬鹵化物燈等。

紫外線照射強度通常係10至3,000mW/cm²。紫外線照射強度係以對光聚合起始劑的活化有效之波長區域中的強度為佳。照射光的時間通常係0.1秒至10分鐘，較佳係0.1秒至5分鐘，更佳係0.1秒至3分鐘，又更佳係0.1秒至1分鐘。以如此的紫外線照射強度照射1次或複數次時，其累積光量係10至3,000mJ/cm²，較佳係50至2,000mJ/cm²，更佳係100至1,000mJ/cm²。

相位差膜的厚度可依據使用的顯示裝置而適當地選擇，較佳係0.2至5μm，更佳係0.2至3μm。相位差膜的厚度可使用例如雷射顯微鏡、觸針式膜厚計等測定。

[貼合層]

光學積層體可具備例如貼合層。貼合層可為黏著劑層，亦可為接著層。貼合層係以黏著劑層為佳。

形成黏著劑層的黏著劑組成物，並無特別的限制，可使用傳統已知的光學透明性優異之黏著劑組成物，可使用例如：具有丙烯酸系樹脂、胺基甲酸乙酯系樹脂、有機矽系樹脂、聚乙烯醚系樹脂等基礎聚合物的黏著劑組成物。又，亦可為活性能量線硬化型黏著劑組成物、熱硬化型黏著劑組成物等。此等之中，適用將透明性、黏著力、再剝離性、耐候性、耐熱性等優異的丙烯酸系樹脂作成基礎聚合物之黏著劑組成物。

黏著劑組成物又可含有交聯劑、矽烷化合物、抗靜電劑等。

[(甲基)丙烯酸系樹脂]

黏著劑組成物中所含的(甲基)丙烯酸系樹脂較佳係將源自下述式(Y)所示的(甲基)丙烯酸烷酯之結構單元(以下亦稱「結構單元(Y)」。)作為主成分(例如，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂的結構單元100質量份含有50質量份以上。)之聚合物(以下亦稱「(甲基)丙烯酸酯聚合物。)。

此外，本說明書中，(甲基)丙烯酸系樹脂係指丙烯酸樹脂或甲基丙烯酸樹脂的任一種。

[式中，R¹⁰係表示氫原子或甲基，R²⁰係表示碳數1至20的烷基，前述烷基可具有直鏈狀、分枝狀或環狀的任一種結構，前述烷基的氫原子可經碳數1至10的烷氧基取代。]

式(Y)表示的(甲基)丙烯酸酯可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正-及異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯等。含有烷氧基的丙烯酸烷酯之具體例可列舉(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等。其中，較佳係包含(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，特佳係包含(甲基)丙烯酸正丁酯。

(甲基)丙烯酸酯聚合物可含有源自結構單元(Y)以外的其他單體之結構單元。源自其他單體的結構單元可為1種，亦可為2種以上。(甲基)丙烯酸酯聚合物可含有的其他單體，可列舉具有極性官能基的單體、具有芳香族基的單體、丙烯醯胺系單體。

具有極性官能基的單體可列舉具有極性官能基的(甲基)丙烯酸酯。極性官能基可列舉羥基；羧基；經碳數1至6的烷基取代之取代胺基或未取代胺基；環氧基等雜環基等。

相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的所有結構單元100質量份，源自(甲基)丙烯酸酯聚合物中的具有極性官能基之單體的結構單元的含量較佳係10 質量份以下，更佳係0.5質量份以上10質量份以下，又更佳係0.5質量份以上5質量份以下，特佳係1質量部以上5質量部以下。

具有芳香族基的單體可列舉分子內具有1個(甲基)丙烯醯基與1個以上的芳香環(例如，苯環、萘環等)，並具有苯基、苯氧乙基、或苯甲基的(甲基)丙烯酸酯。因含有此等結構單元，故可抑制高溫、高濕環境中產生的偏光板之白點現象。

相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的所有結構單元100質量份，(甲基)丙烯酸酯聚合物中源自具有芳香族基的單體之結構單元的含量較佳係20質量份以下，更佳係4質量份以上20質量份以下，又更佳係4質量份以上15質量份以下。

丙烯醯胺系單體可列舉N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。因含有此等結構單元，故可抑制後述的抗靜電劑等添加物之滲出。

更且，作為源自結構單元(Y)以外的其他單體之結構單元，亦可包含源自苯乙烯系單體的結構單元、源自乙烯系單體的結構單元、源自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體之結構單元等。

(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量(以下，亦簡稱「Mw」)係以50萬至250萬為佳。重量平均分子量為50萬以上時，可改善高溫、高濕環境下的第1黏著劑層之耐久性。重量平均分子量為250萬以下時，塗布含有黏著劑組成物的塗布液時之操作性良好。重量平均分子量(Mw)與數平均分子量(以下，亦簡稱「Mn」。)之比表示的分子量分布(Mw/Mn)通常係2至10。本說明書中「重 量平均分子量」及「數平均分子量」係指可用凝膠滲透層析儀(GPC)法測定的換算聚苯乙烯之值。

(甲基)丙烯酸系樹脂在作成溶解於乙酸乙酯中濃度20質量%的溶液時，25℃中的黏度較佳係20Pa‧s以下，更佳係0.1至15Pa‧s。(甲基)丙烯酸樹脂在25℃中之黏度為前述範圍內時，有助於改善含有由前述樹脂形成的黏著劑層之偏光板的耐久性及再加工性。前述黏度可用布氏(Brookfield)黏度計測定。

(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度(Tg)係例如-60至20℃，較佳係-50至15℃，更佳係-45至10℃，又更佳係-40至0℃。另外，玻璃轉移溫度可用微差掃描熱析儀(DSC)測定。

(甲基)丙烯酸系樹脂可含有2種以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。該等(甲基)丙烯酸酯聚合物可列舉例如：將源自前述(甲基)丙烯酸酯的結構單元(Y)作成主成分者，且重量平均分子量為5萬至30萬的範圍之較低分子量的(甲基)丙烯酸酯聚合物。

(甲基)丙烯酸系樹脂通常可用溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等已知的聚合方法製造。(甲基)丙烯酸系樹脂的製造中，通常可在聚合起始劑的存在下進行聚合。相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂的所有單體之合計100質量份，聚合起始劑的使用量通常係0.001至5質量份。(甲基)丙烯酸系樹脂亦可用紫外線等活性能量線聚合的方法製造。

[交聯劑]

黏著劑組成物係以含有交聯劑為佳。交聯劑可列舉常用的交聯劑(例如，異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮環丙烷化合物、金屬螯合物化合物、過氧化物等)， 尤其從黏著劑組成物的適用期、交聯速度及偏光板的耐久性等觀點來看，係以異氰酸酯系化合物為佳。

異氰酸酯化合物係分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)的化合物。具體上可列舉甲苯二異氰酸酯、六亞甲二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，亦可列舉使此等異氰酸酯與甘油或三羥甲基丙烷等多元醇反應而得的加成物，或此等異氰酸酯化合物的二聚物或三聚物。亦可將2種以上的異氰酸酯化合物組合。

相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，交聯劑的比率係例如0.01至10質量份，較佳係0.05至5質量份，更佳係0.1至1質量份。

[矽烷化合物]

黏著劑組成物又可含有矽烷化合物。

矽烷化合物可列舉乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。

又，矽烷化合物可包含源自上述矽烷化合物的寡聚物。

相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，黏著劑組成物中的矽烷化合物之含量通常係0.01至10質量份，較佳係0.05至5質量份。矽烷化合物的 含量為0.01質量份以上時，有改善黏著劑層與被黏物間的密合性之傾向，含量為10質量份以下時，則有抑制矽烷化合物從黏著劑層中滲出的傾向。

[抗靜電劑]

黏著劑組成物又可含有抗靜電劑。抗靜電劑可列舉已知者，以離子性抗靜電劑為佳。構成離子性抗靜電劑的陽離子成分，可列舉有機陽離子及無機陽離子。有機陽離子可列舉吡啶陽離子、咪唑啉陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子可列舉鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子；鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。構成離子性抗靜電劑的陰離子成分可為無機陰離子及有機陰離子的任一種，就抗靜電性能優異之點而言，係以含有氟原子的陰離子成分為佳。含有氟原子的陰離子成分可列舉六氟磷酸根陰離子(PF₆ ^-)、雙(三氟甲磺醯基)亞胺陰離子[(CF₃SO₂)₂N^-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO₂)₂N^-]陰離子等。

就黏著劑組成物的抗靜電性能之經時穩定性優異之點而言，係以在室溫為固體的離子性抗靜電劑為佳。

相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，抗靜電劑的含量係例如0.01至20質量份，較佳係0.1至10質量份，更佳係1至7質量份。

黏著劑組成物可含有單獨或2種以上之紫外線吸收劑、溶劑、交聯觸媒、賦予黏著的樹脂(增黏劑(tackifier))、塑化劑等添加劑。又，將紫外線硬化性化合物調配在黏著劑組成物中形成黏著劑層之後，照射紫外線使其硬化，有利於作成較硬的黏著劑層。

黏著劑層係例如將前述黏著劑組成物溶解或分散在溶劑中，作成含有溶劑的黏著劑組成物，接著，將此塗布在例如剝離片、保護膜B及相位差膜A等的表面，使其乾燥即可形成。

黏著劑層的厚度通常係0.1至30μm，較佳係3至30μm，更佳係5至25μm。

構成接著層的接著劑可使用任何適當的接著劑。接著劑可使用水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等。作為接著劑，可適用形成上述接著劑層的接著劑及接著劑層的厚度之例示及較佳範圍。

為了提高接著性，可在貼合層及要貼合之層的貼合面施加上述表面活化處理。

[保護膜]

光學積層體可含有保護其表面(典型的係光學積層體的保護膜A側之表面)用之保護膜。例如使光學積層體貼合於圖像顯示元件或光學構件之後，保護膜可連同具有該膜的黏著劑層剝離去除。

保護膜係由例如基材膜與積層在其上的黏著劑層所構成。黏著劑層可引用上述之記載。構成基材膜的樹脂可為例如：如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、聚丙烯等聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等熱塑性樹脂。較佳係聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂。

保護膜的厚度並無特別限制，以作成20μm以上200μm以下的範圍為佳。基材膜的厚度為20μm以上時，有容易賦予光學積層體強度的傾向。

<光學積層體的製造方法>

本發明的光學積層體的製造方法可包括以下的步驟(a)至(f)：

(a)在保護膜B上形成配向膜A之步驟，

(b)在配向膜A上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物A，而形成塗膜A之步驟，

(c)使塗膜A硬化而得到相位差膜A之步驟，

(d)在相位差膜A上，或保護膜B之與配向膜A側為相反之側的面形成配向膜B之步驟，

(e)在配向膜B上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物B，而形成塗膜B之步驟，及

(f)使塗膜B硬化而形成相位差膜B之步驟。相位差膜A及相位差膜B的詳細製作方法可適用上述的說明。光學積層體為長條狀時，可使用以輥對輥形式的方法。

本發明的光學積層體之第1製造方法可進一步包括以下的步驟。

(1)隔著接著劑層A貼合偏光片與保護膜A之步驟，

(2)隔著接著劑層B貼合偏光片與具有相位差膜A、配向膜A、相位差膜B、配向膜B、及保護膜B之積層體，而得到光學積層體之步驟。

第1製造方法包含上述步驟(a)至(f)。第1製造方法中，在步驟(2)之前可以進行上述步驟(a)至(f)。步驟(2)中，積層體中形成與偏光片的貼合面之層係相位差膜A、相位差膜B、或保護膜B，較佳係相位差膜B。

本發明的光學積層體之其他態樣的第2製造方法可進一步包含以下步驟。

(1)隔著接著劑層A貼合偏光片與保護膜A之步驟，

(2)隔著接著劑層B貼合偏光片之與保護膜A側為相反之側與具有相位差膜A、配向膜A、及保護膜B之積層體，而得到積層膜之步驟。

第2製造方法包含上述步驟(a)至(f)。第2製造方法中，可在步驟(2)之前進行上述步驟(a)至(c)，並在步驟(2)之後進行上述步驟(d)至(f)。步驟(2)中，積層體中形成與偏光片的貼合面之層係相位差膜A、或保護膜B。

依據本發明，將2個相位差膜積層在於偏光片之兩側具有保護膜之線性偏光板之製造方法中，相較於使2個相位差膜貼合而製作相位差層積層體，接著使相位差膜積層體貼合在線性偏光板之方法或依序轉印2個相位差膜至線性偏光板之方法，可減少貼合步驟數，視情況亦可減少從相位差膜將基材膜剝離去除之轉印步驟。

相位差膜A與相位差膜B的組合係將正波長分散性的1/2波長相位差層與正波長分散性的1/4波長相位差層組合而構成時，1/2波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度係10°以上20°以下，較佳係12°以上18°以下，更佳係約15°，1/4波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度較佳係70°以上80°以下，更佳係72°以上78°以下，又更佳係約75°。

在另一實施型態中，1/2波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度係-10°以上-20°以下，較佳係-12°以上-18°以下，更佳係約-15°，1/4波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度較佳係-70°以上-80°以下，更佳係-72°以上-78°以下，又更佳係約-75°。

在又另一實施型態中，1/2波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度係70°以上80°以下，較佳係72°以上78°以下，更佳係約75°，1/4波長相位差 層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度較佳係10°以上20°以下，更佳係12°以上18°以下，又更佳係約15°。

在又另一實施型態中，1/2波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度係-70°以上-80°以下，較佳係-72°以上-78°以下，更佳係約-75°，1/4波長相位差層的快軸與偏光片的透射軸形成之角度較佳係-10°以上-20°以下，更佳係-12°以上-18°以下，又更佳係約-15°。

又，1/2波長相位差層的慢軸與1/4波長相位差層的慢軸形成之角度較佳係55°以上65°以下，更佳係57°以上63°以下，又更佳係約60°。

藉由積層為如此的角度，光學積層體可適用作成圓偏光板。

步驟(1)及步驟(2)中，接著劑層可使用傳統已知的塗布方法、乾燥方法及聚合方法形成。例如偏光片形成用組成物的塗布方法可採用線棒塗布法、擠出塗布法、直接凹版塗布法、反向凹版塗布法及模塗法等。接著劑為水系接著劑時，可將接著劑塗布在被黏物的一邊或兩邊的貼合面，與被黏物貼合之後乾燥。乾燥的方法可用例如傳統已知的方法進行。接著劑為活性能量線硬化型接著劑時，貼合後可用上述的方法使其硬化。

光學積層體具有黏著劑層作為貼合層時，黏著劑層可準備作為黏著片。黏著片可藉由例如：使黏著劑組成物溶解或分散在甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中調製黏著劑液，並將此液在施加有離型處理的剝離膜上以片狀形成由黏著劑所構成之層，再在該黏著劑層上貼合另一個剝離膜之方式等而製作。

將黏著劑液塗布在剝離膜上的方法可採用使用模塗機、缺角輪塗布機、反向輥塗布機、凹版塗布機、棒式塗布機、線棒塗布機、刮刀塗布機、氣刀塗布機等一般的塗布技術。

剝離膜係以由塑膠膜與剝離層所構成者為佳。塑膠膜可列舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜及聚萘二甲酸乙二酯膜等聚酯膜，或聚丙烯膜等聚烯烴膜。又，剝離層可由例如剝離層形成用組成物所形成。構成剝離層形成用組成物的主成分(樹脂)，並無特別的限制，可列舉有機矽樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸樹脂及長鏈烷基樹脂等。

黏著劑層的厚度可依各別黏著劑液的塗布條件調整。為了使黏著劑層的厚度變薄，使塗布厚度變小為有效。

黏著劑層係藉由將已剝離一方剝離膜的黏著片貼合在一方之層上，接著剝離另一方的剝離膜，並貼合另一方之層的方法，而可貼合各層。

對各層的貼合面之一方或兩方係以施加例如表面活化處理為佳。表面活化處理可列舉如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子束處理等)的乾式處理等。可單獨進行此等表面活化處理，亦可將2種以上組合進行。其中係以電暈處理為佳。可用例如1kJ/m²以上50kJ/m²以下的輸出進行電暈處理。進行電暈處理的時間，可為例如1秒以上1分鐘以下。

<圖像顯示裝置>

圖像顯示裝置包含光學積層體與圖像顯示元件(有機EL顯示元件等)。光學積層體係配置在圖像顯示元件的觀看側。可使用黏著劑層，將光學積層體貼合在圖像顯示元件。

圖像顯示裝置並無特別限制，可列舉例如：有機電激發光(有機EL)顯示裝置、無機電激發光(無機EL)顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置。

圖像顯示裝置可作成智慧型手機、平板電腦等移動設備、電視、數位電子相框、電子看板、測定器或儀表類、辦公設備、醫療設備、計算設備等使用。

[實施例]

以下，藉由實施例以更詳細說明本發明。例中的「%」及「份」如無特別說明，係指質量%及質量份。

[抗正面反射特性的評定]

隔著黏著劑使光學積層體之與保護膜A(附硬塗層之環狀聚烯烴系樹脂膜)側為相反之側的面與反射板(鏡面鋁板)貼合，準備測定試樣品。從正面方向觀察試樣品，並依據以下基準評定。

A：看起來很黑

B：觀察到稍呈紅色或綠色

C：觀察到呈紅色或綠色

[抗斜反射特性的評定]

隔著黏著劑使光學積層體之與保護膜A(附硬塗層之環狀聚烯烴系樹脂膜)側為相反之側的面與反射板(鏡面鋁板)貼合，準備測定試樣品。從傾斜方向(大約35°至55°)觀察試樣品，並依據以下基準評定。

A：看起來很黑

B：觀察到稍呈紅色或綠色

C：觀察到呈紅色或綠色

[密合性的評定]

隔著黏著劑層使光學積層體之與保護膜A(附硬塗層之環狀聚烯烴系樹脂膜)側為相反之側的面貼合於無鹼玻璃。藉由使用Autograph(商品名(產品編號)：「AGS-50NX」，島津製作所股份有限公司製)，Autograph之一個握持部夾持無鹼玻璃，另一個握持部夾持本體部，在溫度23℃相對溼度55%之環境下，以剝離幅：25mm、剝離角度：180°、剝離速度300mm/min進行密合力之測定。評定基準如以下。

A：1.0N/25mm以上

B：0.5N/25mm以上且未達1.0N/25mm

C：未達0.5N/25mm

[抗刮性的評定]

將所得之光學積層體之相位差膜側的外表面以螢光燈的反射光進行觀察。評定基準係如以下。

A：未確認到擦傷。

B：在從相對於光學積層體的外表面之正面的觀察未確認到擦傷，但在從傾斜方向的觀察確認到擦傷。

C：在從相對於光學積層體的外表面之正面及傾斜方向的觀察皆確認到擦傷。

[加工性的評定]

依據用以製造光學積層體之必要的步驟數，評定加工性。評定基準係如以下。

A：步驟數未達5

B：步驟數為5以上且未達7

C：步驟數為7以上

[透濕度的測定]

使用恆溫恆濕槽，在溫度40℃、相對濕度90%RH、測定時間24小時的測定條件下，以透濕度試驗方法(杯法，依據JIS Z 0208)測定水蒸氣透過率。將測得的水蒸氣透過率作成溫度40℃、相對濕度90%RH中的透濕度。

[偏光片之製作]

一邊連續搬運長條之厚度20μm的聚乙烯醇系樹脂膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)，一邊以乾式延伸使其進行縱向單軸延伸約5倍，就保持拉緊狀態浸泡在溫度60℃的純水中1分鐘。將聚乙烯醇系樹脂膜浸泡在碘/碘化鉀/水的質量比為0.05/5/100的溫度28℃之水溶液中60秒。然後，將聚乙烯醇系樹脂膜浸泡在碘化鉀/硼酸(交聯劑)/水的質量比為8.5/8.5/100的溫度72℃之水溶液中300秒。接著用溫度26℃的純水清洗聚乙烯醇系樹脂膜20秒之後，在溫度65℃中進行乾燥處理，得到聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向有碘的厚度8μm之長條的偏光片。

[水系接著劑的調製]

相對於水100質量份，將3質量份的羧基改質聚乙烯醇〔Kuraray股份有限公司製造的「KL-318」〕溶解，調製聚乙烯醇水溶液。相對於水100質量份，將水溶性聚醯胺環氧樹脂(田岡化學工業股份有限公司製造的「Sumirez Resin 650(30)」，固形分濃度30質量%)以1.5質量份比例混合在所得之水溶液中，得到水系接著劑。

[紫外線硬化型接著劑的調製]

混合以下所示的陽離子硬化性成分，調製成紫外線硬化型接著劑。

3’,4’-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷羧酸酯(商品名：CEL2021P，Daicel股份有限公司製造)：70質量份

新戊二醇二環氧丙基醚(商品名：EX-211，長瀨Chemtex股份有限公司製造)：20質量份

2-乙基己基環氧丙基醚(商品名：EX-121，長瀨Chemtex股份有限公司製造)：10質量份

陽離子聚合起始劑(商品名：CPI-100，50%溶液，San Apro股份有限公司製造)：4.5質量份(實質固形分2.25質量份)

1,4-二乙氧基萘：2.0質量份

[配向性聚合物組成物(1)的調製]

在市售的聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型，和光純藥工業股份有限公司製造)中加水，且在100℃中加熱1小時，得到配向性聚合物組成物(1)。

[光配向性聚合物組成物(1)的調製]

依照日本特開2021-196514所記載之方法製造下述結構的光配向性材料(重量平均分子量：50,000，m：n=50：50)。將光配向性材料2份與丙二醇單甲醚(PGME，溶劑)98份作為成分混合，藉由將所得的混合物在80℃中攪拌1小時，調製成光配向性聚合物組成物(1)。

光配向性材料：

[聚合性液晶化合物的製造]

分別調製具有下述所示的結構之聚合性液晶化合物(A1)及聚合性液晶化合物(A2)。聚合性液晶化合物(A1)及聚合性液晶化合物(A2)係與日本特開2010-244038號公報所記載之同樣方法準備。

聚合性液晶化合物(A1)：

聚合性液晶化合物(A2)：

[相位差膜形成用組成物(Y1)的調製]

使用Paliocolor LC242(日本BASF公司製造)作為聚合性液晶化合物。相對於聚合性液晶化合物100份，添加整平劑「BYK-361N」(BYK-Chemie公司製造)2.6份與光聚合起始劑「Omnirad 907」(IGM Resin B.VV.公司製造)0.5份。再添加丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯(PGME)，藉由在80℃中攪拌此混合物1小時，調製成相位差膜形成用組成物(Y1)。Paliocolor LC242具有下述式所示的結構。

[表1]

[相位差膜形成用組成物(Y2)的調製]

將聚合性液晶化合物(A1)及聚合性液晶化合物(A2)以80：20的質量比混合，得到混合物。在所得的混合物100份中，添加整平劑「Megafac F-556」(DIC公司製造)0.1份、光聚合起始劑「Omnirad 907」(IGM Resin B.V.公司製造)2.5份與離子性化合物(B)0.1份。再添加丙二醇單甲醚乙酸酯(PEGMEA)，藉由在80℃中攪拌此混合物1小時，調製成相位差膜形成用組成物(Y2)。離子性化合物(B)具有下述式所示的結構。

[表2]

<實施例1>

一邊連續搬運長條狀的三乙醯基纖維素膜(TAC1)(透濕度：1211g/m²‧24小時，波長550nm之厚度方向之相位差值：0nm)，一邊以凹版塗布機塗布光配向 性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫，形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC1的MD方向呈-75°之方式連續照射偏光紫外光100mJ(313nm基準)，形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得乾燥覆膜。接著，使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X1)。如此即得由TAC1/光配向膜/相位差膜(X1)(水平配向液晶硬化膜)所構成之長條狀的相位差膜(Z1)。以雷射顯微鏡測定所得的相位差膜(X1)之膜厚時，係1.8μm。面內相位差值係使用王子計測機器股份有限公司製造的KOBRA-WR測定。其結果為波長550nm中的面內相位差值係Re(550)=270nm。另外，由於TAC1的波長550nm中的面內相位差值約為0，故不影響該光學特性。配向角相對於前述長條狀的TAC1的MD方向係-75°。相位差膜(X1)係正波長分散性的1/2波長相位差層。

在長條狀的相位差膜(Z1)之相位差膜(X1)上，連續施加電暈處理並以凹版塗布機塗布光配向性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫而形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC1的MD方向呈-15°之方式連續照射偏光紫外光100mJ(313nm基準)而形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X2)。相位差膜(X2)以成為1.0μm之方式塗布。如此，得到 由TAC1/光配向膜/相位差膜(X1)/光配向膜/相位差膜(X2)所構成之長條狀的相位差膜(Z2)。為了求得相位差膜(X2)的面內相位差值，另外使用以與上述相同的條件所形成的TAC1/光配向膜/相位差膜(X2)，並使用王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WR所測定的結果係波長550nm的面內相位差值為Re(550)=140nm。另外，從HC-COP面側觀看時，相對於MD方向，線性偏光片之吸收軸為0°，相位差膜(X1)之慢軸為75°，相位差膜(X2)之慢軸為15°。

連續搬運上述得到的長條狀的偏光片之同時，在其兩面塗布上述所得之水系接著劑。準備附有長條狀的硬塗(HC)層之環狀聚烯烴系樹脂膜(HC-COP)(透濕度：7.7g/m²‧24hr)。一邊使HC-COP之COP面側成為偏光片側，而使HC-COP連續貼合至偏光片之一面，一邊使在上述得到的長條狀的相位差膜(Z2)之TAC1面側成為偏光片側，而使相位差膜(Z2)連續貼合至偏光片之另一面。藉由在溫度80℃中乾燥5分鐘而得積層體(1)。

接著，在上述得到的長條狀的積層體(1)之相位差膜(X2)上使黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/TAC1/光配向膜/相位差膜(X1)/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體1。光學積層體1係經過相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例2>

一邊連續搬運長條狀的三乙醯基纖維素膜(TAC1)(透濕度：1211g/m²‧24hr，波長550nm的厚度方向之相位差值：0nm)，一邊以凹版塗布機塗布光配向性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫而形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC1的MD方向呈15°之方式連續照 射偏光紫外光100mJ(313nm基準)而形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X2)。相位差膜(X2)係正波長分散性之1/4波長相位差層。如此，得到由TAC1/光配向膜/相位差膜(X2)所構成之長條狀的相位差膜(Z3)。

接著，在相位差膜(X2)上以凹版塗布機連續塗布光配向性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫而形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC1的MD方向呈75°之方式連續照射偏光紫外光100mJ(313nm基準)而形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X1)。相位差膜(X1)係正波長分散性之1/2波長相位差層。如此，得到由TAC1/光配向膜/相位差膜(X2)/光配向膜/相位差膜(X1)所構成之長條狀的相位差膜(Z4)。

連續搬運上述得到的長條狀的偏光片之同時，在其兩面塗布上述所得之水系接著劑。準備附有長條狀的硬塗(HC)層之環狀聚烯烴系樹脂膜(HC-COP)(透濕度：7.7g/m²‧24hr)。使HC-COP之COP面側成為偏光片側，一邊使HC-COP貼合至偏光片之一面，一邊使上述得到的長條狀的相位差膜(Z4)之相位 差膜(X1)面側成為偏光片側，而使相位差膜(Z4)連續貼合至偏光片之另一面。藉由在溫度80℃中乾燥5分鐘而得積層體(2)。

接著，在上述得到的長條狀的積層體(2)之TAC1上使黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合，而得具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/相位差膜(X1)/光配向膜/相位差膜(X2)/光配向膜/TAC1/黏著劑層之層構成之光學積層體2。光學積層體2係經過相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例3>

除了使用相位差膜形成用組成物(Y2)以取代實施例1中為了形成正波長分散性之1/2波長相位差層所使用的相位差膜形成用組成物(Y1)而得到相位差膜(X3)以外，與實施例1同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/TAC1/光配向膜/相位差膜(X3)/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成的光學積層體3。相位差膜(X3)係正波長分散性之1/2波長相位差層。光學積層體3係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例4>

除了使用相位差膜形成用組成物(Y2)以取代實施例2中為了形成正波長分散性之1/2波長相位差層所使用的相位差膜形成用組成物(Y1)而得到相位差膜(X3)以外，與實施例2同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/相位差膜(X3)/光配向膜/相位差膜(X2)/光配向膜/TAC1/黏著劑層之層構成之光學積層體4。相位差膜(X3)係正波長分散性之1/2波長相位差層。光學積 層體4係經過相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例5>

實施例3中，除了將TAC1取代成三乙醯基纖維素膜(TAC2)(柯尼卡美能達(Konica Minolta)股份有限公司製，KC4UA，透濕度：827g/m²‧24hr，波長550nm的厚度方向之相位差值：-25nm)以外，與實施例3同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/TAC2/光配向膜/相位差膜(X3)/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體5。光學積層體5係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例6>

實施例4中，除了將TAC1取代成三乙醯基纖維素膜(TAC2)(柯尼卡美能達股份有限公司製，KC4UA，透濕度：827g/m²‧24hr，波長550nm的厚度方向之相位差值：-25nm)以外，與實施例4同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/相位差膜(X3)/光配向膜/相位差膜(X2)/光配向膜/TAC2/黏著劑層之層構成之光學積層體6。光學積層體6係經過相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例7>

一邊連續搬運長條狀的三乙醯基纖維素膜(TAC2)(柯尼卡美能達股份有限公司製，KC4UA，透濕度：827g/m²‧24hr，波長550nm的厚度方向之相位差值：-25nm)，一邊以凹版塗布機塗布光配向性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120 ℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫而形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC2之MD方向呈75°之方式，連續照射偏光紫外光100mJ(313nm基準)而形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y2)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X3)。相位差膜(X3)係正波長分散性之1/2波長相位差層。接著，在與形成TAC2之相位差膜(X3)之側的面為相反的面，以凹版塗布機連續塗布光配向性聚合物組成物(1)。使所得的塗膜在120℃中乾燥2分鐘之後，冷卻至室溫而形成乾燥覆膜。更且，使用UV照射裝置，以對TAC2之MD方向呈-15°之方式，連續照射偏光紫外光100mJ(313nm基準)而形成100nm的光配向膜。在其上以凹版塗布機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜(X2)。相位差膜(X2)係正波長分散性之1/4波長相位差層。如此，得到由相位差膜(X3)/光配向膜/TAC2/光配向膜/相位差膜(X2)所構成之長條狀的相位差膜(Z5)。

連續搬運上述得到的長條狀的偏光片之同時，在其兩面，塗布上述所得之水系接著劑。準備附有長條狀的硬塗(HC)層之環狀聚烯烴系樹脂膜(HC-COP)(透濕度：7.7g/m²‧24hr7.7g/m²‧24hr)。使HC-COP之COP面側成為偏光片側，一邊使HC-COP貼合至偏光片之一面，一邊使上述得到的長條狀的相 位差膜(Z5)之相位差膜(X3)面側成為偏光片側，而使相位差膜(Z5)連續貼合至偏光片之另一面。藉由在溫度80℃中乾燥5分鐘而得積層體(7)。

接著，在上述得到的長條狀的積層體(7)之相位差膜(X2)上使黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/相位差膜(X3)/光配向膜/TAC2/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體7。光學積層體7係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例8>

實施例7中，除了將TAC2取代成COP(日本Zeon股份有限公司製)以外，與實施例7同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/相位差膜(X3)/光配向膜/COP/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體8。光學積層體8係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<實施例9>

實施例3中，除了將TAC1取代成三乙醯基纖維素膜(TAC3)(柯尼卡美能達股份有限公司製，KC4UY，透濕度：825g/m²‧24hr，波長550nm的厚度方向之相位差值：-6nm)以外，與實施例3同樣的操作，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/TAC3/光配向膜/相位差膜(X3)/光配向膜/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體9。光學積層體9係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作及黏著劑層之貼合所構成之4步驟而製造。將結果呈示於表3。

<比較例1>

在上述所得之偏光片之一面塗布上述得到的水系接著劑，並積層附有硬塗(HC)層之環狀聚烯烴系樹脂膜(HC-COP)，在偏光片之另一面塗布上述得到的水系接著劑，並積層TAC膜。藉由在溫度80℃中乾燥5分鐘，而得到於偏光片之兩面具有保護膜之線性偏光板。線性偏光板之層構造係HC-COP/水系接著劑層/偏光片/水系接著劑層/TAC膜。

在長條狀的三乙醯基纖維素膜(TAC)(柯尼卡美能達股份有限公司製，KC4UY)連續塗布配向性聚合物組成物(1)，加熱乾燥後，形成厚度100nm的配向性聚合物之膜。在所得之配向性聚合物之膜的表面以從前述TAC之長邊方向呈-75°之角度施加摩擦處理，在其上使用棒塗機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜，得到由TAC/配向膜/相位差膜(X1)所構成之長條狀的1/2波長相位差膜。以雷射顯微鏡測定所得之相位差膜之膜厚為1.8μm。面內相位差值(X1)係使用王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WR測定。其結果為波長550nm的面內相位差值為Re(550)=270nm。相位差膜(X1)係正波長分散性之1/2波長相位差層。另外，由於TAC之波長550nm的相位差值大約為0，因此不影響該光學特性。相對於前述長條狀的TAC之MD方向之配向角為-75°。

將配向性聚合物組成物(1)連續塗布於長條狀的三乙醯基纖維素膜(TAC)(柯尼卡美能達股份有限公司製，KC4UY)，加熱乾燥後，形成厚度100nm的配向性聚合物之膜。在所得之配向性聚合物之膜的表面以從前述TAC之長邊 方向呈15°之角度施加摩擦處理，在其上使用棒塗機連續塗布相位差膜形成用組成物(Y1)。在100℃中將所得的塗膜乾燥1分鐘之後，冷卻至室溫而得到乾燥覆膜。接著，藉由使用高壓水銀燈，並在氮氣環境下將曝光量1000mJ/cm²(365nm基準)的紫外光連續照射在前述乾燥覆膜，形成聚合性液晶化合物以對基材面內朝水平方向配向的狀態硬化之相位差膜，得到由TAC/配向膜/相位差膜(X2)所構成之長條狀的1/4波長相位差膜。以雷射顯微鏡測定所得之相位差膜之膜厚為1.0μm。面內相位差值(X2)係使用王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WR測定。其結果為波長550nm的面內相位差值為，Re(550)=140nm。相位差膜(X2)係正波長分散性之1/4波長相位差層。另外，由於TAC之波長550nm的相位差值大約為0，因此不影響該光學特性。相對於前述長條狀的TAC之MD方向之配向角為15°。

於1/2波長相位差膜之相位差膜(X1)側及1/4波長相位差膜之相位差膜(X2)分別施行電暈處理後，隔著黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合。藉由從1/2波長相位差膜剝離去除TAC及配向膜，得到相位差層積層體。

將上述製作的線性偏光板之TAC膜側與相位差層積層體之相位差膜(X1)隔著黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合，製作成積層體(9)。從積層體(9)剝離去除1/4波長相位差膜之TAC及配向膜。使黏著劑層(丙烯酸系黏著劑層)貼合於相位差膜(X2)側，得到具有HC-COP/水系接著劑/偏光片/TAC膜/黏著劑層/相位差膜(X1)/黏著劑層/相位差膜(X2)/黏著劑層之層構成之光學積層體9。光學積層體9係經過由相位差膜之形成2次、線性偏光板之製作、黏著劑層之貼合3回及相位差膜之轉印2次所構成之8步驟而製造。將結果呈示於表3。

[表3]

1:光學積層體

11:保護膜A

12:接著劑層A

13:偏光片

14:接著劑層B

15:保護膜B

16:配向膜A

17:相位差膜A

18:配向膜B

19:相位差膜B

Claims (11)

1. 一種光學積層體，係依序積層保護膜A、接著劑層A、偏光片、接著劑層B及保護膜B，並具有

   配向膜A、相位差膜A及相位差膜B，其中，

   前述偏光片係於聚乙烯醇系樹脂膜中配向有二色性色素之膜，

   前述配向膜A係配置在前述保護膜B的一側，

   前述相位差膜A係配置在前述配向膜A之與前述保護膜B側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜，

   前述相位差膜B係直接或隔著配向膜B配置在前述保護膜B之與前述配向膜A側為相反之側或前述相位差膜A之與前述配向膜A側為相反之側，且聚合性液晶化合物在配向狀態中硬化之膜。
2. 如請求項1所述之光學積層體，其中，前述配向膜A為光配向膜。
3. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述相位差膜B係隔著配向膜B而配置在前述相位差膜A上。
4. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述相位差膜B係隔著配向膜B配置在前述保護膜B之與前述相位差膜A側為相反之側。
5. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述接著劑層A及前述接著劑層B的厚度為1μm以下，且前述偏光片含有交聯劑。
6. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述保護膜A及前述保護膜B之至少一者之於溫度40℃、相對溼度90%RH的透濕度為1000g/m²‧24hr以上。
7. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述保護膜B及前述相位差膜A之間的剝離力為1.0N/25mm以上。
8. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述相位差膜A及前述相位差膜B皆具有正波長分散性。
9. 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述保護膜B含有由三乙醯基纖維素所構成的樹脂膜，

   前述保護膜B滿足下式：

   -40nm≦Rth[550]≦-5nm

   式中，Rth[550]係表示溫度23℃、波長550nm中的樹脂膜之厚度方向的相位差值。
10. 一種圖像顯示裝置，係具有請求項1或2所述之光學積層體。
11. 一種光學積層體的製造方法，係請求項1所述之光學積層體的製造方法，其中包括：

    在前述保護膜B上形成前述配向膜A之步驟，

    在前述配向膜A上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物A，而形成塗膜A之步驟，

    使前述塗膜A硬化而得相位差膜A之步驟，

    在前述相位差膜A上或前述保護膜B之與前述配向膜A側為相反之側的面形成配向膜B之步驟，

    在前述配向膜B上塗布含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物B，而形成塗膜B之步驟，及

    使前述塗膜B硬化而形成相位差膜B之步驟。

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