TW202330421A - 玻璃 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 240
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 77
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 23
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910003069 TeO2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 4
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/19—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/21—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing titanium, zirconium, vanadium, tungsten or molybdenum
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本發明提供一種高折射率及高透過率且能夠適當成形之玻璃。玻璃(10)以氧化物基準之重量%表示含有5.0%~80.0%之Bi
2O
3、1.0%~15.0%之B
2O
3、0%~7.0%之TiO
2、0%~17.0%之Nb
2O
5、0%~30.0%之TeO
2,且(Li
2O+Na
2O+K
2O)之含量為0%~5.0%。
Description
本發明係關於一種玻璃。
近年來,不斷需要高折射率及高透過率之玻璃。尤其是於例如實現AR(Augumented Reality,擴增實境)、VR(Virtual Reality,虛擬實境)、MR(Mixed Reality,混合實境)等之頭戴式顯示器等可穿戴設備中,作為導光板而言,需要對可見光之高折射率性及高透過率性。又,例如於專利文獻1中記載有高折射率及高透過率之光學玻璃。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第5682171號公報
[發明所欲解決之問題]
然而,專利文獻1之光學玻璃於透過率性方面仍有改善空間。又,例如存在為了製造大面積之玻璃基板而進行加壓成形之情況,從而亦需要適當進行加壓成形等成形製程。
本發明係鑒於上述課題而完成者,其目的在於提供一種高折射率及高透過率且能夠適當成形之玻璃。
[解決問題之技術手段]
為了解決上述課題,達到目的,本發明之玻璃以氧化物基準之重量%表示含有
5.0%~80.0%之Bi
2O
3、
1.0%~15.0%之B
2O
3、
0%~7.0%之TiO
2、
0%~17.0%之Nb
2O
5、
0%~30.0%之TeO
2,且
(Li
2O+Na
2O+K
2O)之含量為0%~5.0%。
根據本發明,可提供一種高折射率及高透過率且能夠適當成形之玻璃。
以下,參照隨附圖式對本發明之較佳之實施方式詳細進行說明。再者,本發明不受該實施方式限定,又,於存在複數個實施方式之情形時,亦包括將各實施方式組合而構成者。又,數值包含四捨五入之範圍。
(玻璃)
圖1係本實施方式之玻璃之模式圖。如圖1所示,本實施方式之玻璃10為板狀玻璃板,但玻璃10之形狀不限於板狀,可為任意形狀。於本實施方式中,玻璃10用作導光板。更詳細而言,玻璃10用作頭戴式顯示器用之導光板。頭戴式顯示器係配戴在人頭部之顯示裝置(可穿戴裝置)。但是,玻璃10為任意用途,不限於用作導光板,又,亦不限於用於頭戴式顯示器。
(玻璃組成)
以下,對玻璃10之組成進行說明。
(Bi
2O
3)
Bi
2O
3係一種成分,能夠降低玻璃轉移溫度Tg,並且大幅提昇折射率,但若大量包含Bi
2O
3,則不僅會使製造特性變差,還會導致透過率下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Bi
2O
3之含量為5.0%以上,較佳為10.0%以上,更佳為15.0%以上,進而更佳為20.0%以上。藉由Bi
2O
3之下限值處於該範圍內,折射率變高,故而較佳。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Bi
2O
3之含量為80.0%以下,較佳為78.0%以下,更佳為76.0%以下。藉由Bi
2O
3之上限值處於該範圍內,而透過率變高,故而較佳。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Bi
2O
3之含量為5.0%以上80.0%以下,較佳為10.0%以上78.0%以下,更佳為15.0%以上77.0%以下,進而較佳為20.0%以上76.0%以下,進而更佳為57.0%以上75.1%以下。藉由Bi
2O
3之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。
再者,此處之含量係指以氧化物基準之重量%表示將玻璃10之總量之重量%設為100%之情形時氧化物之含量之重量%。即,例如「Bi
2O
3之含量為5.0%以上」係指以氧化物基準之重量%表示將玻璃10之總量之重量%設為100%之情形時含有5.0%以上之Bi
2O
3。
(B
2O
3)
B
2O
3係玻璃形成成分,且係有助於提昇玻璃之穩定性而提昇製造特性之成分,但若大量包含B
2O
3,則折射率容易下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,B
2O
3之含量為1.0%以上,較佳為2.0%以上,更佳為3.0%以上。藉由B
2O
3之下限值處於該範圍內,能夠維持玻璃之穩定性,故而較佳。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,B
2O
3之含量為15.0%以下,較佳為13.0%以下,更佳為11.0%以下。藉由Bi
2O
3之上限值處於該範圍內,折射率變高,故而較佳。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,B
2O
3之含量為1.0%以上15.0%以下,較佳為2.0%以上13.0%以下,更佳為3.0%以上11.0%以下,進而較佳為5.9%以上10.4%以下。藉由B
2O
3之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。
(TiO
2)
TiO
2係高折射率成分,但若大量包含TiO
2,則玻璃之內部透過率會下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TiO
2之含量為0%以上,較佳為0.2%以上,更佳為0.3%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TiO
2之含量為7.0%以下,較佳為5.0%以下,更佳為3.0%以下。藉由TiO
2之上限值處於該範圍內,透過率變高,故而較佳。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TiO
2之含量為0%以上7.0%以下,較佳為0.2%以上5.0%以下,更佳為0.3%以上3.0%以下,進而較佳為0%以上1.1%以下。藉由TiO
2之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含TiO
2。
(Nb
2O
5)
Nb
2O
5係提高玻璃之折射率之成分,且係提昇機械特性之成分,但若大量包含Nb
2O
5,則容易失透,導致製造特性變差。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Nb
2O
5之含量為0%以上,較佳為0.5%以上,更佳為1.0%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Nb
2O
5之含量為17.0%以下,較佳為15.0%以下,更佳為13.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Nb
2O
5之含量為0%以上17.0%以下,較佳為0.5%以上15.0%以下,更佳為1.0%以上13.0%以下,進而較佳為1.6%以上且未達7.7%。藉由Nb
2O
5之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含Nb
2O
5。
(TeO
2)
TeO
2係促進玻璃化並且有助於高折射率化之成分。另一方面,若大量包含TeO
2,則玻璃之機械特性會下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TeO
2之含量為0%以上,較佳為0.3%以上,更佳為1.0%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TeO
2之含量為30.0%以下,較佳為27.0%以下,更佳為25.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,TeO
2之含量為0%以上30.0%以下,較佳為0.3%以上27.0%以下,更佳為1.0%以上25.0%以下,進而較佳為1.49%以上19.6%以下。藉由TeO
2之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含TeO
2。
(Li
2O)
Li
2O係能夠提昇玻璃之機械物性並且降低玻璃轉移溫度Tg之成分。另一方面,若包含過多Li
2O,則容易失透,導致製造特性變差。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Li
2O之含量較佳為0%以上,更佳為0.05%以上,進而較佳為0.10%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Li
2O之含量較佳為5.0%以下,更佳為3.0%以下,進而較佳為1.5%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Li
2O之含量較佳為0%以上5.0%以下,更佳為0.05%以上3.0%以下,進而較佳為0.10%以上1.5%以下,進而更佳為0%以上1.39%以下。藉由Li
2O之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含Li
2O。
(Na
2O)
Na
2O係能夠降低玻璃之玻璃轉移溫度Tg之成分。另一方面,若包含過多Na
2O,則化學耐久性會下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Na
2O之含量較佳為0%以上,更佳為0.05%以上,進而較佳為0.10%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Na
2O之含量較佳為5.0%以下,更佳為3.0%以下,進而較佳為1.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Na
2O之含量較佳為0%以上5.0%以下,更佳為0.05%以上3.0%以下,進而較佳為0.10%以上1.0%以下,進而更佳為0%以上0.13%以下。藉由Na
2O之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含Na
2O。
(K
2O)
K
2O係提昇玻璃之熔融性之成分,但若包含過多K
2O,則化學耐久性會變差。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,K
2O之含量較佳為0%以上,更佳為0.01%以上,進而較佳為0.10%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,K
2O之含量較佳為3.0%以下,更佳為1.5%以下,進而較佳為1.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,K
2O之含量較佳為0%以上3.0%以下,更佳為0.01%以上1.5%以下,進而較佳為0.10%以上1.0%以下,進而更佳為0%以上0.2%以下。藉由K
2O之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含K
2O。
(ZrO
2)
ZrO
2係能夠提昇折射率並且亦提昇機械物性之成分,但若包含過多ZrO
2,則容易失透,導致製造特性變差。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,ZrO
2之含量較佳為0%以上,更佳為0.1%以上,進而較佳為0.5%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,ZrO
2之含量較佳為10.0%以下,更佳為7.0%以下,進而較佳為5.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,ZrO
2之含量較佳為0%以上10.0%以下,更佳為0.1%以上7.0%以下,進而較佳為0.5%以上5.0%以下,進而更佳為0%以上2.8%以下。藉由ZrO
2之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含ZrO
2。
(Ta
2O
5)
Ta
2O
5係能夠提高折射率之成分,但若包含過多Ta
2O
5,則容易失透,導致製造特性變差。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Ta
2O
5之含量較佳為0%以上,更佳為0.1%以上,進而較佳為0.3%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Ta
2O
5之含量較佳為5.0%以下,更佳為4.0%以下,進而較佳為3.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,Ta
2O
5之含量較佳為0%以上5.0%以下,更佳為0.1%以上4.0%以下,進而較佳為0.3%以上3.0%以下,進而更佳為0%以上1.87%以下。藉由Ta
2O
5之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含Ta
2O
5。
(WO
3)
WO
3係能夠提高玻璃之折射率之成分,但若包含過多WO
3,則不僅內部透過率會下降,而且容易失透。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,WO
3之含量較佳為0%以上,更佳為0.05%以上,進而較佳為0.1%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,WO
3之含量較佳為5.0%以下,更佳為3.0%以下,進而較佳為2.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,WO
3之含量較佳為0%以上5.0%以下,更佳為0.05%以上3.0%以下,進而較佳為0.1%以上2.0%以下,進而更佳為0%以上0.3%以下。藉由WO
3之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含WO
3。
(SiO
2)
SiO
2係能夠使玻璃穩定化之成分,但若大量包含SiO
2,則不僅折射率會下降,而且原料難以熔融。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,SiO
2之含量較佳為0%以上,更佳為0.1%以上,進而較佳為0.5%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,SiO
2之含量較佳為10.0%以下,更佳為7.0%以下,進而較佳為5.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,SiO
2之含量較佳為0%以上10.0%以下,更佳為0.1%以上7.0%以下,進而較佳為0.5%以上5.0%以下,進而更佳為0%以上3.92%以下。藉由SiO
2之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含SiO
2。
(P
2O
5)
P
2O
5係玻璃形成成分,使玻璃穩定化。另一方面,若包含過多P
2O
5,則折射率會下降。因此,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,P
2O
5之含量較佳為0%以上,更佳為0.1%以上,進而較佳為1.0%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,P
2O
5之含量較佳為10.0%以下,更佳為9.0%以下,進而較佳為8.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,P
2O
5之含量較佳為0%以上10.0%以下,更佳為0.1%以上9.0%以下,進而較佳為1.0%以上8.0%以下,進而更佳為2.0%以上6.8%以下。藉由P
2O
5之含量處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含P
2O
5。
(Li
2O+Na
2O+K
2O)
玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,(Li
2O+Na
2O+K
2O)即Li
2O、Na
2O及K
2O之合計含量為0%以上,較佳為0.1%以上,更佳為0.3%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,(Li
2O+Na
2O+K
2O)為5.0%以下,較佳為4.0%以下,更佳為3.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之重量%表示,(Li
2O+Na
2O+K
2O)為0%以上5.0%以下,較佳為0.1%以上4.0%以下,更佳為0.3%以上3.0%以下。藉由(Li
2O+Na
2O+K
2O)處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含Li
2O、Na
2O及K
2O中之至少1種。
(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)
玻璃10中,以氧化物基準之莫耳%表示,(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)即ZrO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5及WO
3之合計含量較佳為3.0%以上,更佳為3.2%以上,進而較佳為3.5%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之莫耳%表示,(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)較佳為15%以下,更佳為12.5%以下,進而較佳為10%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之莫耳%表示,(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)較佳為3.0%以上15%以下,更佳為3.2%以上12.5%以下,進而較佳為3.5%以上10%以下,進而更佳為3.88%以上8.7%以下。藉由(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含ZrO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5及WO
3中之至少1種。
(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)
玻璃10中,以氧化物基準之質量%表示,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)即SiO
2、B
2O
3及P
2O
5之合計含量較佳為5.0%以上,更佳為7.5%以上,進而較佳為10.0%以上。又,玻璃10中,以氧化物基準之質量%表示,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)較佳為未達15.0%,更佳為15.0%以下,進而較佳為14.5%以下,進而更佳為14.0%以下。
即,可認為玻璃10中,以氧化物基準之質量%表示,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)較佳為5.0%以上15.0%以下,更佳為7.5%以上14.5%以下,進而較佳為10.0%以上14.0%以下。藉由(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)處於該範圍內,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。但是,玻璃10亦可不含SiO
2及P
2O
5中之至少1種。
又,玻璃10較佳為,按氧化物基準之莫耳比率計,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)之含量即SiO
2、B
2O
3及P
2O
5之合計含量多於TeO
2之含量。藉由(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)多於TeO
2之含量,能夠使玻璃10對可見光維持高透過率同時具有高折射率。玻璃10中,以氧化物基準之莫耳%表示,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5-TeO
2)即SiO
2、B
2O
3及P
2O
5之合計含量減去TeO
2之含量所得之值較佳為超過0%,更佳為1.0%以上,進而較佳為2.0%以上,進而更佳為3.0%以上。另一方面,若(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5-TeO
2)為50.0%以上,則玻璃轉移溫度Tg升高,此外難以兼顧高折射率與高透過率。因此,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5-TeO
2)較佳為未達50%,更佳為46.0%以下,進而較佳為44.0%以下,進而更佳為41.75%以下。即,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5-TeO
2)較佳為大於0%且未達42%,更佳為1.0%以上38.0%以下,進而較佳為2.0%以上36.0%以下,進而更佳為2.3%以上41.75%以下。
進一步而言,玻璃10中,按氧化物基準之莫耳比率計,{(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)/TeO
2}即SiO
2、B
2O
3及P
2O
5之合計含量相對於TeO
2之含量之莫耳比率較佳為1.0以上30以下,更佳為1.05以上25以下,進而較佳為1.1以上22.5以下,進而更佳為1.1以上19.55以下。
(Fe、Cr、Ni之含量)
玻璃10中,Fe、Cr及Ni之合計含量按質量比計相對於玻璃10之整體未達4 ppm,較佳為3 ppm以下,更佳為2 ppm以下,進而較佳為1 ppm以下。此處之Fe、Cr及Ni並非僅指玻璃10中所含之Fe、Cr及Ni之單質金屬,而可包含Fe、Cr及Ni之單質金屬及化合物。即,可認為Fe、Cr及Ni之合計含量包含Fe、Cr及Ni之單質金屬之含量、以及化合物中之Fe、Cr及Ni之離子之含量。藉由著色性之過渡金屬即Fe、Cr及Ni之合計含量處於該範圍內,能夠抑制玻璃10對可見光之透過率下降,從而使玻璃10對可見光具有高透過率。Fe、Cr及Ni之合計含量可藉由ICP(Inductive Coupling Plasma,感應耦合電漿)質量分析法進行測定。作為測定器,例如可使用Agilent Technologies公司製造之Agilent8800。
玻璃10中,Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之合計含量按質量比計相對於玻璃10之整體較佳為未達4 ppm,更佳為3 ppm以下,進而較佳為2 ppm以下,進而更佳為1 ppm以下。此處之Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V與上述Fe、Cr及Ni同樣地,並非僅指玻璃10中所含之Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之單質金屬,而可包含Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之單質金屬及化合物。即,可認為Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之合計含量包含Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之單質金屬之含量、以及化合物中之Fe、Cr、Ni、Cu、Mn、Co及V之離子之含量。藉由著色性之過渡金屬即上述成分之合計含量處於該範圍內,能夠抑制玻璃10對可見光之透過率下降,從而使玻璃10對可見光具有高透過率。上述成分之合計含量可藉由ICP質量分析法進行測定。
(Pb之含量)
玻璃10中,Pb之合計含量按質量比計相對於玻璃10之整體較佳為未達1000 ppm,更佳為100 ppm以下,進而較佳為10 ppm以下。即,玻璃10較佳為實質上不含Pb。此處之Pb與上述Fe、Cr及Ni同樣地,並非僅指玻璃10中所含之Pb之單質金屬,而可包含Pb之單質金屬及化合物。即,可認為Pb之含量包含Pb之單質金屬之含量、及化合物中之Pb之離子之含量。Pb之含量可藉由ICP質量分析法進行測定。
(玻璃之特性)
其次,對玻璃10之特性進行說明。
(折射率n
d)
玻璃10之折射率n
d較佳為1.95以上,更佳為1.97以上,進而較佳為2.00以上。藉由折射率n
d處於該範圍內,能夠實現對可見光之高折射率。玻璃10之折射率n
d較佳為2.30以下,更佳為2.25以下,進而較佳為2.20以下。
即,可認為玻璃10之折射率n
d較佳為1.95以上2.30以下,更佳為1.97以上2.25以下,進而較佳為2.00以上2.20以下。
再者,折射率n
d係指氦之d射線(波長587.6 nm)下之折射率。折射率n
d可藉由V形塊法進行測定。
(波長λ
70)
此處,將板厚(厚度)10 mm時表現出內部透過率70%之波長設為波長λ
70。即,波長λ
70係指對於厚度10 mm之樣本,內部透過率成為70%之光之波長。板厚(厚度)10 mm時之玻璃10之波長λ
70較佳為未達450 nm,更佳為445 nm以下,進而較佳為440 nm以下。又,玻璃10之波長λ
70較佳為390 nm以上,更佳為395 nm以上,進而較佳為400 nm以上。
即,可認為玻璃10之波長λ
70較佳為390 nm以上且未達450 nm,更佳為395 nm以上445 nm以下,進而較佳為400 nm以上440 nm以下。
藉由波長λ
70處於該範圍內,能夠實現對可見光之高透過率。再者,用以計算出波長λ
70之內部透過率可根據板厚不同之2種外部透過率之測定值、及以下之式(1)求出。再者,外部透過率意指包含表面反射損失之透過率。於式(1)中,X係厚度10 mm之玻璃之內部透過率,T1及T2係外部透過率,Δd係試樣之厚度之差。外部透過率係可使用分光光度計(日立高新技術公司製造之U-4100)對經過雙面鏡面研磨而成為板厚10 mm之樣本進行測定。
[數1]
(光之透過率)
玻璃10中,板厚(厚度)10 mm時之波長450 nm之光之內部透過率較佳為84%以上,較佳為85%以上,進而較佳為86%以上。
藉由波長450 nm之光之內部透過率處於該範圍內,能夠實現對可見光之高透過率。厚度10 mm之玻璃之內部透過率可根據板厚不同之2種外部透過率之測定值及式(1)求出。
(玻璃轉移溫度)
玻璃10之玻璃轉移溫度Tg較佳為500℃以下,更佳為480℃以下,進而較佳為460℃以下。又,玻璃10之玻璃轉移溫度Tg較佳為326℃以上,更佳為380℃以上,進而較佳為400℃以上。
即,玻璃10之玻璃轉移溫度Tg較佳為326℃以上500℃以下,更佳為380℃以上480℃以下,進而較佳為400℃以上460℃以下。
藉由玻璃轉移溫度Tg處於該範圍內,例如能夠降低進行再熱壓製成形(一面加熱一面加壓之成形)時之加熱溫度,從而較佳。
再者,玻璃轉移溫度Tg係採用TMA(thermomechanical analysis,熱機械分析)測定所得之值,根據JIS R3103-3(2001年度)之標準求出。
(阿貝數)
玻璃10之阿貝數ν
d較佳為17以上,更佳為17.1以上,進而較佳為17.2以上。玻璃10之阿貝數ν
d較佳為未達25.0,更佳為24.0以下,進而較佳為23.0以下。
即,可認為玻璃10之阿貝數ν
d較佳為17以上且未達25.0,更佳為17.1以上24.0以下,進而較佳為17.2以上23.0以下。
藉由阿貝數ν
d處於該範圍內,能夠適當抑制色散。阿貝數ν
d可基於由V形塊法測定所得之折射率n
c(氦之c射線下之折射率)、折射率n
d、折射率n
F(氦之F射線下之折射率)而計算出。
(玻璃之形態)
本實施方式之玻璃10較佳為光學玻璃,且較佳為厚度為0.01 mm以上2.0 mm以下之玻璃板。若厚度為0.01 mm以上,則能夠抑制玻璃10於操作或加工時之破損。又,能夠抑制玻璃10因自重而彎曲。該厚度更佳為0.1 mm以上,進而較佳為0.2 mm以上,進而更佳為0.3 mm以上。另一方面,若厚度為2.0 mm以下,則能夠使利用玻璃10之光學元件輕量化。該厚度更佳為1.5 mm以下,進而較佳為1.0 mm以下,進而更佳為0.8 mm以下。
於本實施方式之玻璃10為玻璃板之情形時,主表面之面積較佳為8 cm
2以上。若該面積為8 cm
2以上,則能夠配置多個光學元件,提昇生產性。該面積更佳為30 cm
2以上,進而較佳為170 cm
2以上,進而更佳為300 cm
2以上,尤佳為1000 cm
2以上。另一方面,若面積為6500 cm
2以下,則容易操作玻璃板,能夠抑制玻璃板於操作或加工時之破損。該面積更佳為4500 cm
2以下,進而較佳為4000 cm
2以下,進而更佳為3000 cm
2以下,尤佳為2000 cm
2以下。
於本實施方式之玻璃10為玻璃板之情形時,主表面之25 cm
2中之LTV(Local Thickness Variation,局部厚度變動)較佳為2 μm以下。藉由具有該範圍內之平坦度,能夠採用壓印技術等在主表面形成所期望之形狀之奈米構造,又,能夠獲得所期望之導光特性。尤其是於導光體中,能夠防止因光程長之差異所引起之重影現象或變形。該LTV更佳為1.5 μm以下,進而較佳為1.0 μm以下,尤佳為0.5 μm以下。
將本實施方式之玻璃10製成直徑8英吋之圓形之玻璃板時,翹曲較佳為50 μm以下。若該玻璃10之翹曲為50 μm以下,則能夠採用壓印技術等在主表面形成所期望之形狀之奈米構造,又,可獲得所期望之導光特性。欲獲得複數個導光體時,可獲得品質穩定者。該玻璃10之翹曲更佳為40 μm以下,進而較佳為30 μm以下,尤佳為20 μm以下。
又,將本實施方式之玻璃10製成直徑6英吋之圓形之玻璃板時,翹曲較佳為30 μm以下。若該玻璃10之翹曲為30 μm以下,則能夠採用壓印技術等在主表面形成所期望之形狀之奈米構造,又,可獲得所期望之導光特性。欲獲得複數個導光體時,可獲得品質穩定者。該玻璃10之翹曲更佳為20 μm以下,進而較佳為15 μm以下,尤佳為10 μm以下。
又,將本實施方式之玻璃10製成各邊為6英吋之正方形之玻璃板時,翹曲較佳為100 μm以下。若該玻璃10之翹曲為100 μm以下,則能夠採用壓印技術等在主表面形成所期望之形狀之奈米構造,又,可獲得所期望之導光特性。欲獲得複數個導光體時,可獲得品質穩定者。該玻璃10之翹曲更佳為70 μm以下,進而較佳為50 μm以下,進而更佳為35 μm以下,尤佳為20 μm以下。
圖2係將本實施方式之玻璃製成玻璃板時之剖視圖。所謂「翹曲」,係於穿過將本實施方式之玻璃10製成玻璃板G1時之玻璃板G1之主表面G1F之中心且與玻璃板G1之主表面G1F正交的任意剖面上,玻璃板G1之基準線G1D與玻璃板G1之中心線G1C之垂直方向的距離之最大值B和最小值A之差C。
將上述正交之任意剖面與玻璃板G1之主表面G1F之交線設為底線G1A。將上述正交之任意剖面與玻璃板G1之另一主表面G1G之交線設為上線G1B。此處,中心線G1C係將玻璃板G1之板厚方向之中心連結之線。中心線G1C係藉由求出底線G1A與上線G1B之相對於下述雷射照射之方向的中點而計算出。
基準線G1D以如下方式求出。首先,基於消除自重之影響之測定方法計算出底線G1A。由該底線G1A,利用最小平方法求出直線。所求出之直線為基準線G1D。作為消除自重所產生之影響之測定方法,使用公知之方法。
例如,以3點支持玻璃板G1之主表面G1F,並利用雷射移位計對玻璃板G1照射雷射,測定玻璃板G1之主表面G1F及另一主表面G1G自任意基準面之高度。
繼而,使玻璃板G1翻轉,對與支持一主表面G1F之3點對向之另一主表面G1G之3點進行支持,測定玻璃板G1之主表面G1F及另一主表面G1G自任意基準面之高度。
藉由求出翻轉前後各測定點之高度之平均值來消除自重所產生之影響。例如翻轉前,如上所述測定主表面G1F之高度。使玻璃板G1翻轉後,於與主表面G1F之測定點對應之位置測定另一主表面G1G之高度。同樣地,翻轉前測定另一主表面G1G之高度。使玻璃板G1翻轉後,於與另一主表面G1G之測定點對應之位置測定主表面G1F之高度。
翹曲例如藉由雷射移位計進行測定。
又,於本實施方式之玻璃10中,主表面之表面粗糙度Ra較佳為2 nm以下。藉由具有該範圍內之Ra,能夠採用壓印技術等在主表面形成所期望之形狀之奈米構造,又,可獲得所期望之導光特性。尤其是於導光體中,能夠抑制界面處之漫反射,防止重影現象或變形。該Ra更佳為1.7 nm以下,進而較佳為1.4 nm以下,進而更佳為1.2 nm以下,尤佳為1 nm以下。此處,表面粗糙度Ra係由JIS B0601(2001年)定義之算術平均粗糙度。於本說明書中,表面粗糙度Ra係使用原子力顯微鏡(AFM)對10 μm×10 μm之區域測定所得之值。
(玻璃之製造方法)
本實施方式之玻璃10之製造方法並無特別限定,可使用既有之板玻璃製造方法。例如可使用浮式法、熔融法及滾壓法等公知之方法。但是,為了抑制玻璃10因混入雜質而導致透過率變差,較佳為將使原料熔解時供放入原料之容器(坩堝)之材料設為Au及Au合金。
進而,針對本實施方式之玻璃10,較佳為於熔融容器內將玻璃原料加熱、熔融而獲得熔融玻璃之熔融步驟中,進行提高熔融玻璃中之水分量之操作。提高玻璃中之水分量之操作並無限定,例如考慮對熔融氣體氛圍附加水蒸氣之處理、及向熔融物內通入包含水蒸氣之氣體之處理。提高水分量之操作並非必需,但可為了提昇透過率、提昇澄清性等而進行。
又,本實施方式之玻璃10中含有鹼金屬氧化物Li
2O或Na
2O者可藉由將Li離子置換成Na離子或K離子,將Na離子置換成K離子來進行化學強化。即,若進行化學強化處理,則能夠提昇光學玻璃之強度。
(效果)
如以上所說明,本實施方式之玻璃10以氧化物基準之重量%表示含有
5.0%~80.0%之Bi
2O
3、
1.0%~15.0%之B
2O
3、
0%~7.0%之TiO
2、
0%~17.0%之Nb
2O
5、
0%~30.0%之TeO
2,且
(Li
2O+Na
2O+K
2O)之含量為0%~5.0%。
玻璃10藉由成為此種組成,能夠對可見光維持高透過率同時具有高折射率。又,藉由成為此種組成,能夠使玻璃轉移溫度Tg成為500℃以下等之低溫,從而能夠適當成形。例如,為了有效率地製造玻璃10,有效的是自玻璃母材切取複數個玻璃10。於此情形時,藉由對玻璃母材進行再熱壓製成形來擴大面積,藉此增加所切出之玻璃10之數量,能夠更有效率地製造。於此情形時,若玻璃轉移溫度Tg較高,則需要提高再熱壓製成形時之加熱溫度,有可能會出現以下等問題:產距變長,玻璃母材與模具容易發生反應,金屬析出,容易與模具熔合。對此,於本實施方式中,藉由將玻璃10設為上述組成,能夠降低玻璃轉移溫度Tg,抑制該等問題發生,從而能夠適當實施再熱壓製成形。如此,可認為本實施方式之玻璃10為高折射率及高透過率且能夠適當成形。再者,由「~」表示之數值範圍意指包含~之前後之數值作為下限值及上限值的數值範圍,以下,當使用「~」時亦指同樣之含義。
玻璃10較佳為,按氧化物基準之莫耳比率計,(ZrO
2+Nb
2O
5+Ta
2O
5+WO
3)之含量為5%以上。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,以氧化物基準之重量%表示,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)之含量未達15%。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,按氧化物基準之莫耳比率計,(SiO
2+B
2O
3+P
2O
5)之含量多於TeO
2之含量。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,Fe、Cr及Ni之合計含量以質量表示少於4 ppm。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,折射率為1.95以上,板厚10 mm時表現出內部透過率70%之波長λ
70未達450 nm,且玻璃轉移溫度Tg為500℃以下。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,板厚10 mm時對波長450 nm之光之內部透過率為85%以上。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為,阿貝數為17以上且未達25。藉此,能夠更適宜地實現高折射率、高透過率及成形性。
玻璃10較佳為用作導光板。玻璃10由於為高折射率、高透過率,故而適合用作導光板。
(實施例)
其次,對實施例進行說明。再者,只要起到發明之效果,則亦可對實施態樣進行變更。
於實施例中,製作組成不同之玻璃。而且,對各個玻璃進行折射率、透過率及玻璃轉移溫度Tg之評估。以下,更詳細地進行說明。
表1及表2係表示實施例中之玻璃所使用之材料之表。表1及表2表示各例中用於製作玻璃之材料之以氧化物基準之重量%表示的含量。
[表1]
[表2]
(表1) | ||||||||||
例1 | 例2 | 例3 | 例4 | 例5 | 例6 | 例7 | 例8 | 例9 | ||
組成(wt%) | B 2O 3 | 6.40 | 6.42 | 6.38 | 6.34 | 6.48 | 6.44 | 5.90 | 7.70 | 9.00 |
P 2O 5 | 5.85 | 5.87 | 5.84 | 5.80 | 5.93 | 5.89 | 6.30 | 4.60 | 3.80 | |
Li 2O | 0.06 | |||||||||
Na 2O | 0.13 | |||||||||
K 2O | 0.20 | |||||||||
ZnO | 2.21 | 1.87 | 1.86 | 1.85 | 1.89 | 1.88 | 3.20 | 1.60 | 1.50 | |
ZrO 2 | 1.06 | 0.30 | 0.40 | 1.10 | ||||||
La 2O 3 | ||||||||||
TiO 2 | 0.69 | 0.34 | 0.69 | |||||||
Nb 2O 5 | 7.59 | 7.62 | 7.57 | 7.53 | 7.69 | 7.64 | 5.30 | 5.70 | 3.90 | |
WO 3 | ||||||||||
Bi 2O 3 | 60.56 | 60.78 | 60.41 | 60.05 | 61.37 | 60.97 | 60.00 | 62.00 | 64.00 | |
TeO 2 | 17.38 | 16.76 | 16.66 | 16.56 | 16.23 | 15.44 | 19.00 | 18.00 | 16.70 | |
Ta 2O 5 | 0.94 | 1.87 | ||||||||
SiO 2 | ||||||||||
SrO | ||||||||||
合計含量(wt%) | SiO 2+B 2O 3+P 2O 5 | 12.2 | 12.3 | 12.2 | 12.1 | 12.4 | 12.3 | 12.2 | 12.3 | 12.8 |
合計含量(mol%) | ZrO 2+Nb 2O 5+Ta 2O 5+WO 3 | 6.7 | 6.7 | 7.2 | 7.8 | 6.8 | 8.7 | 5.1 | 5.7 | 5.4 |
含有比率(mol%) | (SiO 2+B 2O 3+P 2O 5-TeO 2) | 5.7 | 6.7 | 6.7 | 6.7 | 7.8 | 8.7 | 2.3 | 7.0 | 11.7 |
含有比率(莫耳(mol)比) | {(SiO 2+B 2O 3+P 2O 5)/TeO 2} | 1.2 | 1.3 | 1.3 | 1.3 | 1.3 | 1.4 | 1.1 | 1.3 | 1.5 |
評估 | 折射率n d | 2.1023 | 2.1084 | 2.1057 | 2.1029 | 2.1013 | 2.1075 | 2.1039 | 2.0999 | 2.0904 |
波長λ 70(nm) | 416 | 423 | 420 | 417 | 418 | 423 | 411 | 418 | 422 | |
玻璃轉移溫度Tg(℃) | 430 | 434 | 435 | 435 | 426 | 450 | 442 | 416 | 403 | |
阿貝數ν d | 19.1 | 18.9 | 19.2 | 19.4 | 18.8 | 19.0 | 19.3 | 18.8 | 18.1 | |
波長λ 5(nm) | 393 | 399 | 396 | 393 | 394 | 399 | 394 | 397 | 404 | |
T% at 450 nm(450 nm時之T%) | 95 | 94 | 94 | 95 | 95 | 94 | 96 | 95 | 97 |
(表2) | ||||||||||
例10 | 例11 | 例12 | 例13 | 例14 | 例15 | 例16 | 例17 | 例18 | ||
組成(wt%) | B 2O 3 | 7.30 | 8.00 | 8.10 | 9.30 | 9.41 | 9.83 | 9.42 | 10.37 | 8.38 |
P 2O 5 | 5.50 | 2.00 | 6.80 | |||||||
Li 2O | 0.60 | 1.38 | 1.39 | 1.10 | 1.09 | 1.16 | 1.28 | |||
Na 2O | ||||||||||
K 2O | ||||||||||
ZnO | 2.30 | 3.20 | 2.10 | 3.00 | 3.04 | 2.24 | 2.22 | 2.37 | 2.10 | |
ZrO 2 | 2.80 | 2.10 | 1.90 | 2.27 | 2.30 | 2.25 | 2.23 | 2.37 | ||
La 2O 3 | 1.00 | 4.50 | 6.08 | 4.46 | 4.42 | 4.71 | ||||
TiO 2 | 1.10 | 0.60 | 1.00 | 0.74 | 0.73 | 0.72 | 0.77 | 0.69 | ||
Nb 2O 5 | 3.90 | 1.60 | 1.90 | |||||||
WO 3 | 0.30 | |||||||||
Bi 2O 3 | 57.00 | 68.00 | 67.00 | 75.10 | 73.86 | 74.49 | 73.84 | 69.46 | 84.08 | |
TeO 2 | 19.60 | 12.60 | 11.20 | 1.49 | 2.95 | 5.49 | ||||
Ta 2O 5 | 0.50 | |||||||||
SiO 2 | 2.77 | 3.92 | 2.46 | 2.16 | 2.30 | 2.71 | ||||
SrO | 0.95 | 0.95 | 0.94 | 1.00 | 0.93 | |||||
合計含量(wt%) | SiO 2+B 2O 3+P 2O 5 | 12.8 | 10.0 | 14.9 | 12.1 | 13.3 | 12.3 | 11.6 | 12.7 | 11.1 |
合計含量(mol%) | ZrO 2+Nb 2O 5+Ta 2O 5+WO 3 | 8.2 | 5.4 | 5.1 | 3.9 | 3.9 | 3.9 | 3.9 | 3.9 | 0.0 |
含有比率(mol%) | (SiO 2+B 2O 3+P 2O 5-TeO 2) | 4.4 | 11.2 | 21.4 | 37.9 | 41.7 | 37.1 | 33.1 | 31.1 | 38.0 |
含有比率(莫耳比) | {(SiO 2+B 2O 3+P 2O 5)/TeO 2} | 1.2 | 1.6 | 2.3 | 19.6 | 9.3 | 5.4 | |||
評估 | 折射率n d | 2.0793 | 2.1275 | 2.0506 | 2.0719 | 2.0532 | 2.0774 | 2.0857 | 2.0558 | 2.1262 |
波長λ 70(nm) | 423 | 429 | 431 | 438 | 433 | 435 | 436 | 431 | 480 | |
玻璃轉移溫度Tg(℃) | 451 | 445 | 387 | 343 | 327 | 348 | 360 | 327 | 365 | |
阿貝數ν d | 19.5 | 17.7 | 17.8 | 18.5 | 19.4 | 18.5 | 18.2 | 19.1 | 17 | |
波長λ 5(nm) | 393 | 410 | 412 | 416 | 411 | 415 | 416 | 410 | 430 | |
T% at 450 nm | 96 | 91 | 91 | 86 | 90 | 90 | 89 | 92 | 70 |
於實施例中,按表1、表2之各例中記載之組成製造厚度為10 mm及1 mm之玻璃。而且,將以此方式製造之玻璃作為樣本進行評估。具體而言,將表1、表2所示之組成之原料混合均勻,於950℃之金坩堝內熔解2小時,製成均勻之熔融玻璃。繼而,使熔融玻璃流入至縱×橫×高度=縱60 mm×橫50 mm×高度30 mm之碳製模具中。其後,於430℃下保持1小時後,以約1℃/分鐘之降溫速度冷卻至室溫,獲得玻璃磚。繼而,使用切割機(Maruto公司製造之小型切割機)將玻璃磚切割成縱×橫=30 mm×30 mm,並使用研削機(秀和工業公司製造之SGM-6301)及單面研磨機(日本Engis公司製造之EJ-380IN)進行板厚之調整及表面研磨,製造縱×橫=30 mm×30 mm、板厚10 mm及1 mm之玻璃板。
(評估)
針對各例之玻璃,進行對可見光之折射率及透過率以及玻璃轉移溫度Tg之評估。於折射率之評估中,對各個玻璃測定氦之d射線(波長587.6 nm)下之折射率n
d。對於折射率n
d之測定,使用Kalnew公司製造之KPR-2000。於折射率之評估中,將折射率n
d為1.95以上設為合格,將折射率n
d未達1.95設為不合格。
於透過率之評估中,對各個玻璃測定板厚10 mm時表現出外部透過率70%之波長λ
70。對於波長λ
70之測定,使用日立高新技術公司製造之U-4100。於透過率之評估中,將波長λ
70未達450 nm設為合格,將波長λ
70為450 nm以上設為不合格。
對於玻璃轉移溫度Tg之測定,Tg係採用TMA測定所得之值,根據JIS R3103-3(2001年度)之標準求出。於玻璃轉移溫度Tg之評估中,將500℃以下設為合格,將高於500℃之情形設為不合格。
(評估結果)
如表1、表2所示,關於作為實施例之例1~17可知,折射率n
d、波長λ
70、玻璃轉移溫度Tg均合格,能夠實現高折射率、高透過率及成形性。關於Bi
2O
3之含量多於80%之比較例即例18可知,折射率n
d、波長λ
70、玻璃轉移溫度Tg中之至少一者不合格,無法實現高折射率、高透過率及成形性。
作為可選之評估,測定阿貝數ν
d、波長λ
5、波長450 nm之光之內部透過率。將可選之評估結果示於表1、表2。
阿貝數ν
d係基於使用Kalnew公司製造之KPR-2000測定所得之折射率n
c、折射率n
d、折射率n
f而計算出。
對於板厚10 mm時表現出外部透過率5%之波長λ
5之測定,使用日立高新技術公司製造之U-4100。
波長450 nm之光之內部透過率係根據使用日立高新技術公司製造之U-4100測定所得之板厚不同之2種外部透過率的測定值及式(1)計算出。
以上,對本發明之實施方式進行了說明,但實施方式不受該實施方式之內容限定。又,上述構成要素中包含業者可容易地假定之要素、實質上相同之要素、所謂均等範圍之要素。進而,上述構成要素可適當進行組合。進而,可於不脫離上述實施方式之主旨之範圍內進行構成要素之各種省略、置換或變更。
10:玻璃
G1:玻璃板
G1A:底線
G1B:上線
G1C:中心線
G1D:基準線
G1F:主表面
G1G:另一主表面
圖1係本實施方式之玻璃之模式圖。
圖2係將本實施方式之玻璃製成玻璃板時之剖視圖。
10:玻璃
Claims (9)
- 一種玻璃,其以氧化物基準之重量%表示含有 5.0%~80.0%之Bi 2O 3、 1.0%~15.0%之B 2O 3、 0%~7.0%之TiO 2、 0%~17.0%之Nb 2O 5、 0%~30.0%之TeO 2,且 (Li 2O+Na 2O+K 2O)之含量為0%~5.0%。
- 如請求項1之玻璃,其中以氧化物基準之莫耳%表示,(ZrO 2+Nb 2O 5+Ta 2O 5+WO 3)之含量為3.5%以上。
- 如請求項1或2之玻璃,其中以氧化物基準之重量%表示,(SiO 2+B 2O 3+P 2O 5)之含量未達15%。
- 如請求項1至3中任一項之玻璃,其中按氧化物基準之莫耳比率計,(SiO 2+B 2O 3+P 2O 5)之含量多於TeO 2之含量。
- 如請求項1至4中任一項之玻璃,其中Fe、Cr及Ni之合計含量以質量表示少於4 ppm。
- 如請求項1至5中任一項之玻璃,其折射率為1.95以上,板厚10 mm時表現出內部透過率70%之波長λ 70未達450 nm,且玻璃轉移溫度Tg為500℃以下。
- 如請求項1至6中任一項之玻璃,其中板厚10 mm時對波長450 nm之光之內部透過率為85%以上。
- 如請求項1至7中任一項之玻璃,其阿貝數為17以上且未達25。
- 如請求項1至8中任一項之玻璃,其用作導光板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021206532 | 2021-12-20 | ||
JP2021-206532 | 2021-12-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202330421A true TW202330421A (zh) | 2023-08-01 |
Family
ID=86902625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111148880A TW202330421A (zh) | 2021-12-20 | 2022-12-20 | 玻璃 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW202330421A (zh) |
WO (1) | WO2023120415A1 (zh) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009203135A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム |
JP5740778B2 (ja) * | 2009-07-24 | 2015-07-01 | 日本電気硝子株式会社 | 光学ガラスの製造方法 |
JP2012232883A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 光学ガラス |
JP2012224496A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Ohara Inc | 光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子 |
JP2014015383A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-01-30 | Ohara Inc | 光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子 |
JPWO2020090051A1 (ja) * | 2018-10-31 | 2021-02-15 | Agc株式会社 | 導光板用光学材料及び導光板 |
-
2022
- 2022-12-16 WO PCT/JP2022/046398 patent/WO2023120415A1/ja active Application Filing
- 2022-12-20 TW TW111148880A patent/TW202330421A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023120415A1 (ja) | 2023-06-29 |
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