TW202328682A - 品質管理系統、對象物管理系統及對象物管理方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之品質管理系統，具有：取得部（100），取得濃縮期間資訊，該濃縮期間資訊顯示令濃縮手段將用以清洗對象物之清洗液中所含有之雜質加以濃縮的期間；資料庫（200），使得被獨特地賦予對象物之對象物識別資訊、與顯示清洗對象物之期間之清洗期間資訊相對應，儲存為相對應資訊；及識別部（300），依據取得部（100）所取得之濃縮期間資訊、及儲存於資料庫（200）之相對應資訊，識別出使用對應於「在濃縮期間資訊所示之濃縮期間對濃縮手段供給之清洗液」的清洗液所清洗之對象物。

Description

品質管理系統、對象物管理系統及對象物管理方法
本發明有關品質管理系統、對象物管理系統及對象物管理方法。
近年來，半導體裝置等電子元件使用於各式各樣方面，不斷朝高性能化及高密度化發展。此種電子元件有必要確保高品質，自不待言。為了對市場供應符合一般需求之電子元件，吾人進行精密的設計步驟、包含使用超純水之清洗處理的製造步驟、嚴格的檢查步驟等。例如，將各步驟之處理條件、與該步驟之後續步驟之品質管理條件兩者的關係預先儲存起來，依據所儲存的關係，選擇對應於偵測到之處理條件的品質管理條件，並依據所選擇之品質管理條件、與偵測到之品質，判斷半導體裝置的良劣（例如參照專利文獻1）。 ［先前技術文獻］
［專利文獻1］日本特開2004-296676號公報
［發明欲解決之課題］
上述技術之品質管理，為針對各步驟進行之品質管理。因此，難以依製造期間進行嚴格之品質管理，為其問題。
本發明之目的為：提供一種品質管理系統、對象物管理系統及對象物管理方法，可依期間進行嚴格之品質管理。 ［解決課題之手段］
本發明之品質管理系統，具有： 取得部，取得濃縮期間資訊，該濃縮期間資訊顯示令濃縮手段將用以清洗對象物之清洗液中所含有之雜質加以濃縮的期間； 資料庫，使得被獨特地賦予該對象物之對象物識別資訊、與顯示清洗該對象物之期間之清洗期間資訊相對應，儲存為相對應資訊；及 識別部，依據該取得部所取得之濃縮期間資訊、及儲存於該資料庫之相對應資訊，識別出使用對應於「在該濃縮期間資訊所示之濃縮期間對該濃縮手段供給之清洗液」的清洗液所清洗之對象物。
又，本發明之對象物管理系統，具有： 液體品質測定部，對用以清洗對象物之清洗液之液體品質進行測定； 調整閥，設置於對清洗槽供給該清洗液之流道上；及 開閉控制部，依據該液體品質測定部所測定到之液體品質，控制該調整閥之開閉。
又，本發明之對象物管理方法， 對用以清洗對象物之清洗液之液體品質進行測定， 依據該測定到之液體品質，利用設置於對清洗槽供給該清洗液之流道上的調整閥，控制該清洗液對清洗該對象物之清洗槽之供給。 ［發明之效果］
依本發明，可依期間進行嚴格之品質管理。
以下參照圖式，針對本發明之實施態樣進行說明。
圖1係顯示本發明之品質管理系統之一實施態樣之圖式。如圖1所示，本態樣之品質管理系統具有取得部100、資料庫200、識別部300、及輸出部400。
取得部100取得濃縮期間資訊，取得部100取得濃縮期間資訊，該濃縮期間資訊顯示將用以清洗對象物之清洗液藉由使該清洗液中所含的雜質濃縮的濃縮手段加以濃縮的期間。在此，對象物為例如半導體裝置等電子元件。又，濃縮手段為吸附雜質亦即金屬離子等金屬雜質的吸附體。濃縮手段可舉例如獨塊狀有機多孔質體。濃縮期間資訊係各個吸附體逐一記錄管理。濃縮期間資訊例如為將預先被獨特地賦予供清洗液通過之吸附體的吸附體識別資訊、與顯示清洗液通過該吸附體之期間（日期及時間）的濃縮期間資訊儲存於資料庫（未圖示，可為圖1所示之資料庫200）作為液體通過記錄的資訊。取得部100可從儲存有液體通過記錄的資料庫取得濃縮期間資訊。又，取得部100基於來自操作員以外之操作（輸入）取得亦可。又，為了令濃縮手段濃縮雜質而往濃縮手段供給的清洗液，為清洗對象物之清洗液中至少一部分，沒有必要供給清洗對象物之清洗液的全部。又，濃縮手段可藉由多層地設置日本特開2004-77299號公報記載之逆滲透膜裝置或電子式去離子裝置，而濃縮分析對象物質。又，濃縮手段亦可使用國際專利公開號第2012-073566號公報記載之滲透膜。又，濃縮手段亦可使用濃縮滲透於日本特開2004-101408號公報記載之試樣表面的方法。
資料庫200使得被獨特地賦予對象物之對象物識別資訊、與顯示清洗該對象物之期間之清洗期間資訊相對應，儲存為相對應資訊。
圖2係顯示圖1所示之資料庫200中儲存之相對應資訊一例之圖式。如圖2所示，圖1所示之資料庫200中儲存之相對應資訊，為對象物識別資訊與清洗期間資訊相對應之資訊。對象物識別資訊為預先被獨特地賦予使用清洗液清洗之對象物的識別資訊。利用此對象物識別資訊，可識別對象物。對象物識別資訊只要能識別對象物彼此即可。對象物識別資訊可為例如組合複數個字母或數字而成者。清洗期間資訊為以可識別出清洗對象物之期間（例如時段）方式，顯示清洗開始之年月日及時刻與清洗完畢之年月日及時刻的資訊。例如圖2所示，對象物識別資訊「A00010001」與清洗期間資訊「2021/3/1  00：00：00～2021/3/5  24：00：00」相對應。此相對應資訊顯示：被賦予對象物識別資訊「A00010001」之對象物，從2021年3月1日0時0分0秒直到2021年3月5日24時0分0秒為止的期間，使用清洗液進行了清洗。又，對象物識別資訊「A00020001」與清洗期間資訊「2021/3/6  00：00：00～2021/3/10  24：00：00」相對應。此相對應資訊顯示：被賦予對象物識別資訊「A00020001」之對象物，從2021年3月6日0時0分0秒直到2021年3月10日24時0分0秒為止的期間，使用清洗液進行了清洗。又，對象物識別資訊「A00030001」與清洗期間資訊「2021/3/11  00：00：00～2021/3/15  24：00：00」相對應。此相對應資訊顯示：被賦予對象物識別資訊「A00030001」之對象物，從2021年3月11日0時0分0秒直到2021年3月15日24時0分0秒為止的期間，使用清洗液進行了清洗。又，對象物識別資訊「A00040001」與清洗期間資訊「2021/3/16  00：00：00～2021/3/20  24：00：00」相對應。此相對應資訊顯示：被賦予對象物識別資訊「A00040001」之對象物，從2021年3月16日0時0分0秒直到2021年3月20日24時0分0秒為止的期間，使用清洗液進行了清洗。此相對應資訊在各對象物之清洗完畢後，基於操作員之操作（輸入）儲存於資料庫200。又，各對象物之清洗完畢後，將顯示清洗開始時間之資訊、及顯示清洗完畢時間之資訊輸入儲存於資料庫200亦可。在各對象物之清洗開始之時間點，將顯示清洗開始時間之資訊輸入儲存於資料庫200，在各對象物之清洗完畢之時間點，將顯示清洗完畢時間之資訊輸入儲存於資料庫200亦可。
識別部300依據取得部100所取得之濃縮期間資訊、及儲存於資料庫200之相對應資訊，識別出對象物。具體而言，識別部300從資料庫200檢索出對象物識別資訊，該對象物識別資訊和清洗期間資訊相對應，該清洗期間資訊顯示與取得部100所取得之濃縮期間資訊所顯示之濃縮期間相對應的清洗期間。然後，識別部300識別出被賦予檢索到之對象物識別資訊的對象物。濃縮期間與清洗期間之關係取決於：此系統中配置有取得部100之位置與清洗對象物之位置的距離（配管距離）、及此二位置間之配管內之流速（配管流速）。例如，配管距離為100m，配管流速為2m/秒時，濃縮期間後50秒即進入清洗期間。亦即，識別部300依據取得部100所取得之濃縮期間資訊所顯示之期間、與從此系統規格得到之處理時間，計算清洗期間。然後，識別部300以顯示所計算出來之清洗期間的清洗期間資訊為檢索關鍵詞，從資料庫200檢索出和該清洗期間資訊相對應之對象物識別資訊，識別對象物。藉此，識別部300識別出使用「在取得部100所取得之濃縮期間資訊所顯示之濃縮期間對濃縮手段供給至少一部分」的清洗液所清洗之對象物。
輸出部400輸出顯示識別部300所識別出來之對象物的對象物識別資訊。輸出部400可圖示出對象物識別資訊。又，輸出部400亦可對其他裝置發送對象物識別資訊。輸出部400之輸出態樣並不限定。
以下針對圖1所示之品質管理系統之處理進行說明。圖3係用以說明圖1所示之品質管理系統之處理一例之流程圖。首先，取得部100取得濃縮期間資訊（步驟S1）。取得部100取得濃縮期間資訊之時間點，可為預定之時間點（例如週期性時間點）。又，取得部100取得濃縮期間資訊之時間點，亦可為基於後續進行之水質分析之結果從外部有取得要求的時間點。取得部100可從儲存有濃縮期間資訊之資料庫取得濃縮期間資訊。又，取得部100亦可基於來自外部之操作（輸入）取得濃縮期間資訊。又，取得部100對於可與其通信之其他裝置要求濃縮期間資訊，接收從其他裝置發送過來之濃縮期間資訊亦可。
接著，識別部300計算出對應於取得部100所取得之濃縮期間資訊所顯示之濃縮期間的清洗期間。識別部300從資料庫200檢索出和「顯示所計算出來之清洗期間的清洗期間資訊」相對應之對象物識別資訊，識別對象物（步驟S2）。如此一來，輸出部400便輸出顯示識別部300所識別出來之對象物的對象物識別資訊（步驟S3）。輸出部400輸出可辨識出識別部300所識別出來之對象物的資訊亦可。在此，輸出部400不限定於輸出對象物識別資訊。
以下針對本發明之品質管理系統之適用例子進行說明。圖4係顯示適用本發明之品質管理系統之第一態樣之圖式。圖4所示之態樣為一種超純水供給系統，經由超純水製造設備內之非再生型離子交換裝置亦即CP20、及超過濾膜裝置亦即UF30，對半導體清洗裝置亦即Wet清洗機60-1、60-2（使用點）供給清洗水亦即超純水。Wet清洗機60-1、60-2可為清洗槽。供給至CP20之超純水，係從超純水製造設備之前處理系統供給至初級純水製造系統，在初級純水製造系統接受處理後供給。圖4之虛線，顯示水流道或控制信號之路徑，其為了檢查清洗水亦即超純水之水質，將被供給往使用點之超純水之一部分採水。又，可在清洗水往濃縮/溶離/回收裝置40分支之處設置分支閥，控制該閥之開閉。
濃縮/溶離/回收裝置40具備上述濃縮手段亦即吸附體，吸附取得CP20之出口水或UF30之出口水中含有的雜質。濃縮/溶離/回收裝置40藉由使溶離液通過於吸附雜質之吸附體，以使所吸附之雜質溶離，而回收含有溶離出來之雜質的溶離液。在此使用之溶離液，可舉例如硝酸、鹽酸或硫酸等酸性水溶液、或三甲基羥基銨、四甲基氫氧化銨（TMAH）等有機鹼之鹼性水溶液。回收溶離出來之雜質時的回收容器可採用回收瓶。ICP-MS50測定所回收之溶離液中之雜質的量，計算雜質濃度。資訊處理裝置10具有取得部100、資料庫200、識別部300及輸出部400。
圖5係顯示適用本發明之品質管理系統之第二態樣之圖式。圖5所示之態樣中，通過於濃縮/溶離/回收裝置40具備之吸附體的水，為緊接於供給至Wet清洗機60-1之前的水、或緊接於供給至Wet清洗機60-2之前的水，此點不同於圖4所示之態樣。又，使清洗液通過於吸附體的位置，只要是CP20之出口以後的位置即可。又，可在清洗水往濃縮/溶離/回收裝置40分支之處設置分支閥，控制該閥之開閉。圖4中，舉Wet清洗機60-1、60-2有兩台之情形為例子，但不限定於此台數。
以此方式，本發明之品質管理系統中，取得部100取得濃縮期間資訊，該濃縮期間資訊顯示使得用以清洗對象物之清洗液通過於吸附體之期間。識別部300依據濃縮期間資訊所示之期間，計算清洗期間。識別部300以顯示所計算出來之清洗期間的清洗期間資訊為檢索關鍵詞，從資料庫200檢索出對象物識別資訊，識別對象物。因此，可依清洗對象物之期間進行嚴格之品質管理。
圖6係顯示本發明之對象物管理系統之一實施態樣之圖式。如圖6所示，本態樣之對象物管理系統具有液體品質測定部500、調整閥600、及開閉控制部700。
液體品質測定部500對用以清洗對象物之清洗液之液體品質進行測定。液體品質測定部500測定清洗液所含之雜質的量（例如濃度）。使用吸附體濃縮清洗液所含之雜質時，液體品質測定部500對吸附於該吸附體之雜質之濃度進行測定。液體品質測定部500在吸附體吸附雜質亦即金屬雜質（例如金屬離子）時，可利用溶離液使得吸附於吸附體之金屬離子溶離出來，對通過於吸附體之溶離液所含之金屬離子之濃度進行測定。吸附體可為獨塊狀有機多孔質體。液體品質測定部500可為圖4及圖5所示之ICP-MS50。亦即，液體品質測定部500例如利用溶離液使得吸附於吸附體之雜質溶離而回收溶離液，對所回收之溶離液中之雜質量進行測定，計算清洗液中之雜質量。在此，依據液體品質測定部500測定到之結果，圖1所示之識別部300開始識別對象物。例如，液體品質測定部500測定到之雜質量超過預定量時，有必要識別出使用該清洗液所清洗之對象物。因此，識別部300開始識別對象物。
調整閥600設置於對清洗槽供給清洗液之流道。藉由調整閥600之開閉，可控制清洗液對該流道中相較於調整閥600下游處之供給。調整閥600可控制例如清洗水對使用清洗液清洗對象物之點的供給。調整閥600基於來自開閉控制部700之控制信號進行開閉。調整閥600之具體設置位置如後述。
開閉控制部700依據液體品質測定部500測定到之液體品質（亦即清洗液中之雜質量），控制調整閥600之開閉。液體品質測定部500測定到之液體品質達到預定之基準值時（亦即預定之基準值以下時），開閉控制部700將調整閥600設定成打開狀態。又，液體品質測定部500測定到之液體品質未達基準值時（亦即超過預定之基準值時），開閉控制部700將調整閥600設定成關閉狀態。又，只要每單位時間對吸附體之通水量未大幅度變動，開閉控制部700即可依據液體品質測定部500測定到之溶離液含有之雜質量，控制調整閥600之開閉。此外，開閉控制部700利用可從液體品質測定部500之測定值來判斷清洗液之水質等級的數值，控制調整閥600之開閉亦可。
圖7係顯示圖6所示之開閉控制部700進行判斷之基準與控制內容一例之圖式。圖7所示之例子中，判斷基準值採用雜質濃度C之值。如圖7所示，雜質濃度在預定之臨界值T以下的情形、與開閉資訊「開」相對應。基於此相對應關係，液體品質測定部500測定到之液體品質（雜質濃度）在基準值亦即臨界值T以下時，開閉控制部700判斷為達到基準值，將調整閥600設定成打開狀態。藉此，可對使用點（清洗槽）供給達到基準值之清洗液。又，液體品質測定部500測定到之液體品質（雜質濃度）超過基準值亦即臨界值T時，開閉控制部700判斷為未達基準值，將調整閥600設定成關閉狀態。藉此，可避免對使用點（清洗槽）供給未達基準值之清洗液。
以下針對圖6所示之對象物管理系統之對象物管理方法進行說明。圖8係用以說明圖6所示之對象物管理系統之對象物管理方法一例之流程圖。在此，液體品質測定部500以測定清洗液所含雜質之濃度的情形為例進行說明。
首先，液體品質測定部500測定用以清洗對象物之清洗液所含雜質之濃度（步驟S11）。接著，開閉控制部700判斷液體品質測定部500測定到之雜質濃度是否超過預定之臨界值（步驟S12）。判斷為液體品質測定部500測定到之雜質濃度未超過臨界值時，開閉控制部700將調整閥600設定成打開狀態（步驟S13）。此時，若調整閥600已處於打開狀態的話，開閉控制部700將調整閥600保持於打開狀態。另一方面，步驟S12中判斷為液體品質測定部500測定到之雜質濃度超過臨界值時，開閉控制部700將調整閥600設定成關閉狀態（步驟S14）。此時，若調整閥600已處於關閉狀態的話，開閉控制部700將調整閥600保持於關閉狀態。
以下針對本發明之對象物管理系統之適用例子進行說明。圖9係顯示適用本發明之對象物管理系統之第一態樣之圖式。圖9所示之態樣為一種超純水供給系統，經由配置於儲存初級純水之初級純水槽之後段的超純水製造設備內之非再生型離子交換裝置亦即CP20、超過濾膜裝置亦即UF30、及調整閥600，對半導體清洗裝置亦即Wet清洗機60-1、60-2（使用點）供給清洗水亦即超純水。CP20、UF30及Wet清洗機60-1、60-2分別與圖4所示者相同。又，初級純水槽與CP20之間，可設置例如泵浦、熱交換器、UV氧化裝置等。調整閥600為利用圖6所說明者，控制來自UF30之水對於Wet清洗機60-1、60-2之供給。對CP20供給之超純水，供給自設置於上游之液體製造供給設備。液體製造供給設備亦為製造超純水之設備。圖9所示之虛線，顯示用以檢查清洗水亦即超純水之水質的水流道或控制信號之路徑。又，可在清洗水往濃縮/溶離/回收裝置40分支之處設置分支閥，控制該閥之開閉。另外，設置有將來自UF30之水送回初級純水槽之回流配管。
濃縮/溶離/回收裝置40與圖4所示者相同，吸附取得CP20之出口水或UF30之出口水中含有的雜質。濃縮/溶離/回收裝置40藉由使溶離液通過於吸附雜質之吸附體，以使所吸附之雜質溶離，而回收含有溶離出來之雜質的溶離液。 資訊處理裝置11具有液體品質測定部500及開閉控制部700。液體品質測定部500依據濃縮/溶離/回收裝置40所回收之溶離液，測定清洗液之液體品質。資訊處理裝置11與調整閥600構成本發明之對象物管理系統。
圖10係顯示適用本發明之對象物管理系統之第二態樣之圖式。圖10所示之態樣中，通過於濃縮/溶離/回收裝置40具備之吸附體的水，除了從UF30流往調整閥600的水之外，進一步有緊接於供給至Wet清洗機60-1之前的水、或緊接於供給至Wet清洗機60-2之前的水，此點不同於圖9所示之態樣。又，使清洗液通過於吸附體的位置，只要是CP20之出口以後的位置即可。又，可在清洗水往濃縮/溶離/回收裝置40分支之處設置分支閥，控制該閥之開閉。圖10中，舉Wet清洗機60-1、60-2有兩台之情形為例子，但不限定於此台數。
以此方式，本發明之對象物管理系統中，液體品質測定部500測定用以清洗對象物之清洗液之液體品質。開閉控制部700依據液體品質測定部500測定到之液體品質，對設置於「供給清洗液至清洗半導體裝置之清洗點的流道」上之調整閥600，進行開閉控制。因此，可依清洗液之狀態，進行即時之品質管理。
又，作為測定對象之液體（水）不限於超純水，亦可為IPA（異丙醇）、PGMA（聚甲基丙烯酸甘油酯）、PGMEA（丙二醇單甲醚乙酸酯）等化學液。
以上，以各功能（處理）分別賦予各構成元素之方式進行說明，但本發明之功能分配不限於上述方式。關於構成元素之構成，上述態樣到底仍係舉例說明，也不限定於此。又，可組合各實施態樣來實現本發明。
以上，參照實施態樣說明本發明，但本發明不限定於上述實施態樣。本發明之構成及詳細內容，可在本發明範圍內，進行所屬技術區域中具通常知識者能理解之各式各樣變更。
本申請案以2021年8月10日申請之日本特願2021-130607為主張優先權之基礎案，將其全部揭示內容寫入本說明書。
10,11:資訊處理裝置 20:CP 30:UF 40:濃縮/溶離/回收裝置 50:ICP-MS 60-1,60-2:Wet清洗機 100:取得部 200:資料庫 300:識別部 400:輸出部 500:液體品質測定部 600:調整閥 700:開閉控制部 C:雜質濃度 S1~S3:步驟 S11~S14:步驟 T:臨界值
【圖1】係顯示本發明之品質管理系統之一實施態樣之圖式。 【圖2】係顯示圖1所示之資料庫中儲存之相對應資訊一例之圖式。 【圖3】係用以說明圖1所示之品質管理系統之處理一例之流程圖。 【圖4】係顯示適用本發明之品質管理系統之第一態樣之圖式。 【圖5】係顯示適用本發明之品質管理系統之第二態樣之圖式。 【圖6】係顯示本發明之對象物管理系統之一實施態樣之圖式。 【圖7】係顯示圖6所示開閉控制部進行判斷之基準與控制內容一例之圖式。 【圖8】係用以說明圖6所示對象物管理系統之對象物管理方法一例之流程圖。 【圖9】係顯示適用本發明之對象物管理系統之第一態樣之圖式。 【圖10】係顯示適用本發明之對象物管理系統之第二態樣之圖式。
100:取得部
200:資料庫
300:識別部
400:輸出部

Claims (9)

  1. 一種品質管理系統，具有： 取得部，取得濃縮期間資訊，該濃縮期間資訊顯示令濃縮手段將用以清洗對象物之清洗液中所含有之雜質加以濃縮的期間； 資料庫，使得被獨特地賦予該對象物之對象物識別資訊、與顯示清洗該對象物之期間之清洗期間資訊相對應，儲存為相對應資訊；及 識別部，依據該取得部所取得之濃縮期間資訊、及儲存於該資料庫之相對應資訊，識別出使用與在該濃縮期間資訊所示之濃縮期間對該濃縮手段供給之清洗液相對應的清洗液所清洗之對象物。
  2. 如請求項1之品質管理系統，更具有： 液體品質測定部，對該濃縮手段所濃縮之雜質的量進行測定； 該識別部，依據該液體品質測定部所測定到之結果，開始識別該對象物。
  3. 如請求項1或2之品質管理系統，其中， 該濃縮手段，供流通過設置於該清洗液之流道上的非再生型離子交換裝置之清洗液流通過其中。
  4. 如請求項1或2之品質管理系統，其中， 該濃縮手段濃縮該雜質亦即金屬雜質。
  5. 如請求項4之品質管理系統，其中， 該濃縮手段為獨塊狀有機多孔質體。
  6. 一種對象物管理系統，具有： 液體品質測定部，對用以清洗對象物之清洗液之液體品質進行測定； 調整閥，設置於對清洗槽供給該清洗液之流道上；及 開閉控制部，依據該液體品質測定部所測定到之液體品質，控制該調整閥之開閉。
  7. 如請求項6之對象物管理系統，其中， 該液體品質測定部，對通過於設置在該清洗液之流道上的非再生型離子交換裝置之清洗液之液體品質進行測定。
  8. 如請求項6或7之對象物管理系統，其中， 該開閉控制部，在該液體品質測定部所測定到之液體品質達到基準值時，將該調整閥設定成打開狀態；而在該液體品質測定部所測定到之液體品質未達基準值時，將該調整閥設定成關閉狀態。
  9. 一種對象物管理方法，依據用以清洗對象物之清洗液之液體品質，利用設置於對清洗槽供給該清洗液之流道上的調整閥，控制該清洗液對於清洗該對象物之清洗槽之供給。
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