TW202243891A - 積層體及圖像顯示面板之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種包含薄型之帶相位差層之偏光板，且在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性優異之積層體。本發明之實施方式之積層體依序具有表面保護膜、包含偏光元件與保護層之偏光板、相位差層、黏著劑層、及剝離膜，且自上述偏光板至上述黏著劑層之積層部分之厚度為70 μm以下，上述剝離膜之厚度為40 μm以上，上述剝離膜對於上述黏著劑層之剝離力Fr為0.04 N/25 mm以下，上述表面保護膜對於上述偏光板之剝離力Fp大於上述Fr且為0.1 N/25 mm以下。

Description

積層體及圖像顯示面板之製造方法
本發明係關於一種積層體及圖像顯示面板之製造方法。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之圖像顯示裝置正在迅速普及。在搭載於圖像顯示裝置之圖像顯示面板中，就代表性而言使用偏光板及相位差板。於實際應用中，廣泛使用使偏光板與相位差板一體化而成之帶相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。近年來，對圖像顯示裝置之薄型化之需求越來越高。又，已對圖像顯示裝置之彎曲、彎折、摺疊、捲繞之可能性進行了研究。作為用於此種圖像顯示裝置之帶相位差層之偏光板，而需要一種薄型之帶相位差層之偏光板。然而，於將此種帶相位差層之偏光板貼合至圖像顯示面板本體時，其作業性可能較差。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為解決上述先前問題而完成者，其主要目的在於提供一種包含薄型之帶相位差層之偏光板，且在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性優異之積層體。 [解決問題之技術手段]
根據本發明之實施方式，提供一種積層體。該積層體依序具有表面保護膜、包含偏光元件與保護層之偏光板、相位差層、黏著劑層、及剝離膜，且自上述偏光板至上述黏著劑層之積層部分之厚度為70 μm以下，上述剝離膜之厚度為40 μm以上，上述剝離膜對於上述黏著劑層之剝離力Fr為0.04 N/25 mm以下，上述表面保護膜對於上述偏光板之剝離力Fp大於上述Fr且為0.1 N/25 mm以下。 一實施方式中，上述表面保護膜之厚度為60 μm以上。 一實施方式中，上述表面保護膜之厚度大於上述積層部分之厚度。 一實施方式中，上述偏光板僅於上述偏光元件之未配置上述相位差層之側配置有保護層。 一實施方式中，上述偏光元件之厚度為8 μm以下。 一實施方式中，上述相位差層為液晶化合物之配向固化層。 一實施方式中，上述積層體之翹曲為5%以下。 根據本發明之另一實施方式，提供一種圖像顯示面板之製造方法。該製造方法依序包括：準備上述積層體；將自上述黏著劑層剝下上述剝離膜後之上述積層體貼合至圖像顯示面板本體；及自上述偏光板剝下上述表面保護膜。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，藉由對帶相位差層之偏光板使用具有滿足特定剝離力之表面保護膜及剝離膜之積層體，能夠明顯地提高在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性。
以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。
(術語及符號之定義) 本說明書中之術語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) ｢nx｣係面內之折射率達到最大之方向(即遲相軸方向)上之折射率，｢ny｣係於面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)上之折射率，｢nz｣係厚度方向上之折射率。 (2)面內相位差(Re) ｢Re(λ)｣係23℃下以波長λ nm之光進行測定所得之面內相位差。例如，｢Re(550)｣係23℃下以波長550 nm之光進行測定所得之面內相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據公式：Re(λ)＝(nx－ny)×d而求出Re(λ)。 (3)厚度方向上之相位差(Rth) ｢Rth(λ)｣係23℃下以波長λ nm之光進行測定所得之厚度方向上之相位差。例如，｢Rth(550)｣係23℃下以波長550 nm之光進行測定所得之厚度方向上之相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據公式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d而求出Rth(λ)。 (4)Nz係數 Nz係數係根據Nz＝Rth/Re而求出。 (5)角度 於本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向之順時針方向角度及逆時針方向角度兩者。因此，例如｢45°｣係指±45°。
A.積層體 圖1係表示本發明之一實施方式之積層體之概略構成之模式性剖視圖。積層體100依序具有表面保護膜30、偏光板10、相位差層20、黏著劑層40及剝離膜(隔離膜)50。就代表性而言，利用積層體100而獲得之帶相位差層之偏光板配置成偏光板10較相位差層20更靠近視認側。
表面保護膜30包含基材31及形成於基材31一側之黏著劑層32，且以可剝離之方式貼合於偏光板10。相位差層20具有包含第一相位差層21及第二相位差層22之積層構造。於圖示例中，偏光板10包含偏光元件11、及配置於偏光元件11之視認側(未配置相位差層20之側)之保護層12，且於偏光元件11與相位差層20之間未配置保護層。根據此種形態，例如，能夠良好地達成下述帶相位差層之偏光板之厚度及偏光板之厚度。剝離膜50以可剝離之方式貼合於黏著劑層40，能夠保護黏著劑層40。藉由使用剝離膜50，例如能夠進行積層體100之輥壓形成。
雖然未圖示，但亦可於偏光元件11之另一側(偏光元件11與相位差層20之間)進而包含保護層。又，與圖示例不同，相位差層20可為單層，亦可具有三層以上之積層構造。
雖然未圖示，但積層體亦可進而具有其他功能層。關於積層體能夠具有之功能層之種類、特性、數量、組合、配置等，可視目的適當地設定。例如，積層體亦可進而具有導電層或帶導電層之各向同性基材。就代表性而言，導電層或帶導電層之各向同性基材配置於相位差層20與黏著劑層40之間。再者，具有導電層或帶導電層之各向同性基材之積層體(帶相位差層之偏光板)例如係應用於在圖像顯示面板內部組裝有觸控感測器之圖像顯示裝置。作為另一例，積層體亦可進而具有其他相位差層。關於其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置等，可視目的適當地設定。作為具體例，亦可於偏光板10中所包含之偏光元件11之視認側設置改善透過偏光太陽鏡進行視認時之視認性之其他相位差層(就代表性而言，為賦予(橢)圓偏光功能之層、賦予超高相位差之層)。藉由具有此種層，即便於透過偏光太陽鏡等偏光透鏡來視認顯示畫面之情形時，亦能夠實現優異之視認性。因此，所獲得之帶相位差層之偏光板亦適用於可在室外使用之圖像顯示裝置。
構成積層體之各構件可介隔任意適當之接著層(未圖示)而積層。作為接著層之具體例，可列舉接著劑層、黏著劑層。例如，相位差層20介隔接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)而貼合至偏光板10。如圖示例所示，於相位差層20具有兩層以上之積層構造之情形時，各相位差層介隔接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)而貼合在一起。
自偏光板10至黏著劑層40之積層部分之厚度(有時簡稱為｢帶相位差層之偏光板之厚度｣)為70 μm以下，較佳為60 μm以下，更佳為50 μm以下。另一方面，帶相位差層之偏光板之厚度例如為25 μm以上。再者，帶相位差層之偏光板之厚度亦包含上述接著層之厚度。
A-1.偏光板 上述偏光板包括偏光元件及保護層。偏光板之厚度雖然亦取決於所包含之保護層之數量，但較佳為20 μm以上，更佳為25 μm以上。另一方面，偏光板之厚度較佳為40 μm以下，更佳為36 μm以下，進而較佳為33 μm以下。再者，於積層偏光元件與保護層時使用接著層(例如接著劑層)之情形時，偏光板之厚度不包含其厚度。
就代表性而言，上述偏光元件係包含二色性物質(例如碘)之樹脂膜。作為樹脂膜，例如，可列舉聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為12 μm以下，進而較佳為10 μm以下，特佳為8 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm中之任一波長處表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～46.0%，較佳為42.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
上述保護層可由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主要成分之材料之具體例，可列舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯等環烯烴系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等樹脂。
就代表性而言，藉由本發明之實施方式而獲得之帶相位差層之偏光板配置於圖像顯示裝置之視認側，保護層12配置於視認側。因此，亦可視需要對保護層12實施硬塗(HC)處理、抗反射處理、抗沾黏處理、抗眩處理等表面處理。
保護層12之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。再者，於實施上述表面處理之情形時，保護層12之厚度係包含表面處理層之厚度在內之厚度。
於一實施方式中，配置於偏光元件11與相位差層20之間之保護層(未圖示)較佳為在光學上具有各向同性。本說明書中，｢在光學上具有各向同性｣係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向上之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。配置於偏光元件11與相位差層20之間之保護層之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。
偏光板可藉由任意適當之方法進行製作。具體而言，偏光板可包含由單層樹脂膜製作而成之偏光元件，亦可包含使用兩層以上之積層體所獲得之偏光元件。
關於由上述單層樹脂膜來製造偏光元件之方法，就代表性而言，包括利用碘或二色性染料等二色性物質對樹脂膜實施染色處理以及進行延伸處理。作為樹脂膜，如上所述，例如可使用聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法可進而包含不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。藉由在所獲得之偏光元件之至少一者積層保護層，可獲得偏光板。由於此種製造方法係本領域中眾所周知且慣用之方法，故省略詳細說明。
作為上述使用兩層以上之積層體所獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用下述積層體所獲得之偏光元件：樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體；或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體。關於使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件，例如可藉由以下方式而製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；以及對該積層體進行延伸及染色，而將PVA系樹脂層製成偏光元件。本實施方式中，較佳為於樹脂基材之一側形成包含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。就代表性而言，延伸包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。進而，延伸可視需要進而包括：於硼酸水溶液中之延伸之前，將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。除此之外，於本實施方式中，較佳為將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一面沿長度方向進行搬送一面進行加熱，藉此使其在寬度方向上收縮2%以上。就代表性而言，本實施方式之製造方法包括對積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便於在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦能夠提高PVA之結晶性，能夠達成較高之光學特性。又，藉由同時預先提高PVA之配向性，可於後續染色步驟或拉伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之配向性下降或溶解等問題，能夠達成較高之光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情形相比，可抑制聚乙烯醇分子之配向之紊亂、及配向性之下降。藉此，能夠提高經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中而進行之處理步驟所獲得之偏光元件之光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理使積層體沿寬度方向收縮，能夠提高光學特性。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可於自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材後之剝離面、或剝離面之相反面積層符合目的之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳情例如已記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。該等公報之所有記載內容係作為參考而引用至本說明書中。
A-2.相位差層 上述相位差層之厚度雖然亦取決於其構成(為單層或具有積層構造)，但較佳為10 μm以下，更佳為8 μm以下，進而較佳為5 μm以下。另一方面，相位差層之厚度例如為1 μm以上。再者，於相位差層為積層構造之情形時，｢相位差層之厚度｣係指各相位差層之厚度之總和。具體而言，｢相位差層之厚度｣不包含接著層(例如接著劑層)之厚度。
作為上述相位差層，較佳為使用液晶化合物之配向固化層(液晶配向固化層)。藉由使用液晶化合物，能夠使所獲得之相位差層之nx與ny之差明顯大於非液晶材料，因此能夠使用於獲得所需面內相位差之相位差層之厚度明顯變小。因此，能夠實現帶相位差層之偏光板之顯著薄型化。本說明書中，｢配向固化層｣係指液晶化合物於層內沿特定方向配向且其配向狀態固定之層。再者，｢配向固化層｣之概念包含如後所述般使液晶單體固化而獲得之配向固化層。於相位差層中，就代表性而言，棒狀液晶化合物以沿相位差層之遲相軸方向排列之狀態配向(水平配向)。
上述液晶配向固化層可藉由以下方式而形成，即，對特定之基材表面實施配向處理，於該表面上塗佈包含液晶化合物之塗佈液，使該液晶化合物沿著與上述配向處理對應之方向配向，並固定該配向狀態，藉此形成上述液晶配向固化層。作為配向處理，可採用任意適當之配向處理。具體而言，可列舉機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例，可列舉摩擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例，可列舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例，可列舉斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件可視目的採用任意適當之條件。
液晶化合物之配向係藉由以下方式而進行，即，根據液晶化合物之種類，以顯示液晶相之溫度進行處理。藉由進行此種溫度處理，使得液晶化合物成為液晶狀態，該液晶化合物根據基材表面之配向處理方向進行配向。
一實施方式中，配向狀態之固定係藉由冷卻按照上述方式配向所得之液晶化合物而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定係藉由對按照上述方式配向所得之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。
液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳情已記載於日本專利特開2006-163343號公報。該公報之記載內容係作為參考而引用至本說明書中。
如上所述，相位差層20可為單層，亦可具有兩層以上之積層構造。
與圖示例不同，於相位差層20為單層時之一實施方式中，相位差層20可作為λ/4板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～160 nm。可調整相位差層之厚度，以獲得λ/4板所需之面內相位差。於相位差層為上述液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為1.0 μm～2.5 μm。本實施方式中，相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為44°～46°。本實施方式中，相位差層較佳為表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。再者，該實施方式中，積層體可進而具有配置於相位差層20與黏著劑層40之間且顯示nz＞nx＝ny之折射率特性之層(其他相位差層，未圖示)。
於相位差層20為單層時之另一實施方式中，相位差層20可作為λ/2板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm。可調整相位差層之厚度，以獲得λ/2板所需之面內相位差。於相位差層為上述液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為2.0 μm～4.0 μm。本實施方式中，相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°。
如圖1所示，於相位差層20具有積層構造之情形時，相位差層20例如具有自偏光板側起依序配置有第一相位差層(H層)21及第二相位差層(Q層)22之二層積層構造。H層代表性而言可作為λ/2板發揮功能，Q層代表性而言可作為λ/4板發揮功能。具體而言，H層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為220 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm；Q層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～150 nm。可調整H層之厚度，以獲得λ/2板所需之面內相位差。於H層為上述液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為2.0 μm～4.0 μm。可調整Q層之厚度，以獲得λ/4板所需之面內相位差。於Q層為上述液晶配向固化層之情形時，其厚度例如為1.0 μm～2.5 μm。本實施方式中，H層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°；Q層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為72°～76°。於相位差層20具有積層構造之情形時，各層(例如H層及Q層)可表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性，亦可表現出相位差值根據測定光之波長而變小之正波長色散特性，亦可表現出相位差值幾乎不會因測定光之波長而發生變化之平坦波長色散特性。
就代表性而言，相位差層20(於具有積層構造之情形時為各層)之折射率特性顯示nx＞ny＝nz之關係。再者，｢ny＝nz｣不僅包含ny與nz完全相等之情形，亦包含實質上相等之情形。因此，於不損害本發明之效果之範圍內，可存在ny＞nz或ny＜nz之情形。相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。
如上所述，相位差層較佳為液晶配向固化層。作為上述液晶化合物，例如可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為溶致型或熱致型中之任一者。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可進行組合。
於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於，藉由使液晶單體聚合或交聯(即硬化)，可固定液晶單體之配向狀態。於使液晶單體配向後，例如，只要使液晶單體彼此聚合或交聯，藉此可固定上述配向狀態。此處，雖然藉由聚合而形成聚合物，藉由交聯而形成立體網狀結構，但其等為非液晶性。因此，所形成之相位差層不會出現例如液晶性化合物所特有之因溫度變化而向液晶相、玻璃相、結晶相轉移。其結果為，相位差層成為不受溫度變化影響之穩定性極為優異之相位差層。
液晶單體表現出液晶性之溫度範圍根據其種類而有所不同。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。
作為上述液晶單體，可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等中所記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可列舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，較佳為向列性液晶單體。
A-3.表面保護膜 上述表面保護膜之基材可由任意適當之材料形成。作為形成材料之具體例，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系聚合物；聚降冰片烯等環烯烴系聚合物。其等可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
表面保護膜之基材之厚度例如為10 μm以上100 μm以下，較佳為15 μm以上90 μm以下，更佳為25 μm以上80 μm以下。
作為上述表面保護膜之黏著劑層，可採用任意適當之構成。作為具體例，可列舉丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑及聚醚系黏著劑。藉由調整形成黏著劑之基底樹脂之單體之種類、數量、組合及調配比、以及交聯劑之調配量、反應溫度、反應時間等，可製備具有符合目的之所需特性之黏著劑。黏著劑之基底樹脂可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。基底樹脂較佳為丙烯酸系樹脂(具體而言，黏著劑層較佳為包含丙烯酸系黏著劑)。黏著劑層之厚度例如為5 μm～15 μm。黏著劑層在25℃下之儲存模數例如為1.0×10 5Pa～1.0×10 7Pa。
表面保護膜之厚度例如為40 μm以上，較佳為50 μm以上，更佳為60 μm以上，進而較佳為70 μm以上。一實施方式中，表面保護膜之厚度大於上述帶相位差層之偏光板之厚度。根據此種表面保護膜，能夠充分地保護薄型之帶相位差層之偏光板免受外部應力影響。具體而言，能夠防止所獲得之帶相位差層之偏光板因外部應力而產生凹痕等外觀上之缺陷。又，可進一步提高於將剝離膜自下述積層體剝離時之作業性。另一方面，表面保護膜之厚度較佳為100 μm以下。
A-4.黏著劑層 黏著劑層40之厚度較佳為10 μm～20 μm。關於構成黏著劑層40之黏著劑之詳情，其與上述表面保護膜中所含之黏著劑層相同。
A-5.剝離膜 上述剝離膜可包含任意適當之塑膠膜。作為塑膠膜之具體例，可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜。剝離膜可作為隔離膜發揮功能。具體而言，作為剝離膜，可較佳地使用表面經剝離劑塗佈之塑膠膜。作為剝離劑之具體例，可列舉矽酮系剝離劑、氟系剝離劑、丙烯酸長鏈烷基酯系剝離劑。
剝離膜之厚度為40 μm以上，較佳為45 μm以上。根據此種剝離膜，能夠保護薄型之帶相位差層之偏光板(尤其是黏著劑層40)不受外部應力影響。具體而言，能夠防止所獲得之帶相位差層之偏光板因外部應力而產生凹痕等外觀上之缺陷。另一方面，剝離膜之厚度較佳為80 μm以下。
A-6.剝離力之關係 表面保護膜30對於偏光板10之剝離力Fp大於剝離膜50對於黏著劑層40之剝離力Fr。Fr為0.04 N/25 mm以下，較佳為0.03 N/25 mm以下，更佳為0.02 N/25 mm以下。根據此種剝離力之關係，能夠明顯提高下述在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性。於剝離膜之厚度較厚之情形時，能夠顯著地獲得此種效果。具體而言，薄型之帶相位差層之偏光板有塑性較低之傾向，貼合至薄型之帶相位差層之偏光板上之厚實(例如40 μm以上)之剝離膜之剝離性容易變低。其結果為，可能因此導致在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性下降，使良率下降。藉由滿足上述剝離力之關係，即便於在薄型之帶相位差層之偏光板上貼合有厚實之剝離膜之情形時，亦能夠使其剝離性變得優異。又，Fp為0.1 N/25 mm以下，較佳為0.07 N/25 mm以下，更佳為0.05 N/25 mm為以下。根據此種剝離力，能夠明顯提高在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性。具體而言，能夠使表面保護膜之剝離性變得優異。
上述Fr較佳為0.005 N/25 mm以上，較佳為0.01 N/25 mm以上。上述Fp較佳為0.02 N/25 mm以上，較佳為0.03 N/25 mm以上。再者，Fr例如可藉由適當地選擇黏著劑層40之構成、剝離膜50之種類而進行調整。Fp例如可藉由適當地選擇表面保護膜30之種類而進行調整。
A-7.積層體之製作 積層體100例如可藉由以下方式而獲得，即，積層偏光板10與相位差層20而製作積層體前驅物，於所獲得之積層體前驅物積層表面保護膜30及剝離膜50，由此獲得上述積層體100。
偏光板10與相位差層20之積層例如係一面對其等進行輥搬送(藉由所謂之卷對卷製程)一面進行。就代表性而言，積層係藉由對形成於基材之液晶配向固化層進行轉印而進行。如圖示例所示，於相位差層具有積層構造之情形時，可將各相位差層依序積層(轉印)至偏光板，亦可將相位差層之積層物積層(轉印)至偏光板。
上述轉印例如係使用活性能量線硬化型接著劑而進行。活性能量線硬化型接著劑之硬化後之厚度(接著劑層之厚度)例如為0.2 μm～3.0 μm，較佳為0.4 μm～2.0 μm，更佳為0.6 μm～1.5 μm。例如，偏光板與相位差層之積層中所使用之接著劑(具體而言，係活性能量線硬化型接著劑之固化時之收縮)可能導致積層偏光板10與相位差層20所獲得之積層體前驅物產生翹曲。
圖2係表示積層體前驅物之翹曲狀態之一例之剖視圖。再者，圖2中，為了便於觀察圖，積層體前驅物之剖面省略了影線。圖2所示之例中，積層體前驅物90於偏光板10側產生了凸翹曲。翹曲有沿偏光板10(偏光元件11)之吸收軸方向產生之傾向。
偏光板10與相位差層20之積層較佳為於水蒸氣量為10.2 g/m 3以下之環境下進行。積層時之水蒸氣量更佳為6.0 g/m 3～10.0 g/m 3，進而較佳為8.0 g/m 3～9.5 g/m 3。藉由在水蒸氣量處於此種範圍內之環境下進行積層，例如使得下述加濕處理下之效果變得顯著。積層時之此種水蒸氣量例如可藉由在溫度18℃～25℃之範圍內使相對濕度根據溫度進行變化而實現。關於水蒸氣量，例如於溫度為18℃之情形時，可藉由將相對濕度設為65%RH以下而實現；又，例如於溫度為20℃之情形時，可藉由將相對濕度設為55%RH以下而實現；又，例如於溫度為23℃之情形時，可藉由將相對濕度設為45%RH以下而實現。再者，相對濕度之下限例如可為30%RH。
如上所述，於積層體進而具有其他功能層(例如導電層、其他相位差層)之情形時，可於特定位置藉由任意適當之方法來積層或形成功能層。
對至少包含偏光板10及相位差層20之積層體前驅物積層表面保護膜30及剝離膜50。此處，表面保護膜30以黏著劑層32成為積層體前驅物側之方式配置。剝離膜50介隔黏著劑層40而積層於積層體前驅物。由此獲得之積層體可能會產生翹曲(例如，於剝離膜50側產生凸翹曲)。積層體之翹曲可能會對在圖像顯示面板之製造步驟中之作業性(例如，將剝離膜自下述積層體剝離時之作業性)產生影響。積層體之翹曲較佳為7%以下，更佳為5%以下，進而較佳為3%以下。關於翹曲(%)之測定方法，將於下文進行說明。
B.圖像顯示面板之製造方法 代表性而言，上述積層體用於製造圖像顯示面板。圖3A～圖3E係表示一實施方式之圖像顯示面板之製造步驟例之圖。再者，於圖3A～圖3E中，將偏光板10、相位差層20及黏著劑層40之積層構造簡化並記載為帶相位差層之偏光板110。
圖3A示出了自積層體100剝下剝離膜50之狀態。於將剝離用膠帶T1貼附至吸附於吸附板A之積層體100之最下面(剝離膜50)後，自剝離膜50之端部向180°方向(向箭頭方向)拉拽剝離用膠帶T1，藉此自積層體100剝下剝離膜50。如上所述，表面保護膜30對於偏光板10之剝離力Fp大於剝離膜50對於黏著劑層40之剝離力Fr，Fr為0.04 N/25 mm以下。藉由滿足此種關係，能夠使剝離膜50之剝離性變得優異。具體而言，可防止自積層體100剝下剝離膜50時，帶相位差層之偏光板110自表面保護膜30剝落。
圖3B示出了將剝下剝離膜50後之積層體100貼合至吸附於吸附板B之圖像顯示面板(例如有機EL面板)本體70表面之狀態，圖3C示出了將積層體100貼合至圖像顯示面板本體70後，將吸附板A自積層體100分離之狀態。
圖3D示出了自積層體100剝下表面保護膜30之狀態。於將剝離用膠帶T2貼附至貼合於圖像顯示面板本體70表面之積層體100之最上面(表面保護膜30)後，自表面保護膜30之端部向180°方向(向箭頭方向)拉拽剝離用膠帶T2，藉此自積層體100剝下表面保護膜30。如上所述，Fp為0.1 N/25 mm以下。藉由滿足此種關係，能夠使表面薄膜30之剝離性變得優異。具體而言，可防止以下情況，即，於自積層體100剝下表面保護膜30時，表面保護膜30不自積層體100剝落，而使圖像顯示面板本體70自吸附板B脫落。由此，獲得圖3E所示之圖像顯示面板80。具體而言，獲得於圖像顯示面板本體70貼合有帶相位差層之偏光板110之圖像顯示面板80。 [實施例]
以下，藉由實施例來具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例限定。再者，厚度係藉由下述測定方法所測得之值。又，除非另有說明，否則實施例及比較例中之｢份｣及｢%｣為重量基準。 ＜厚度＞ 10 μm以下之厚度係使用掃描式電子顯微鏡(日本電子公司製造，製品名｢JSM-7100F｣)而測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(安利知公司製造，製品名｢KC-351C｣)而測定。
[實施例1] (偏光板之製作) 使用長條狀且Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)作為熱塑性樹脂基材，對該樹脂基材之單面實施電暈處理。 向以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名｢GOHSEFIMER｣)而成之PVA系樹脂100重量份中添加13重量份之碘化鉀，將由此所得者溶於水中而製備出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下進行乾燥，藉此形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作出積層體。 於130℃之烘箱內，將所獲得之積層體沿縱向(長度方向)單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體於液溫40℃之不溶化浴(對於水100重量份調配4重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴(對於水100重量份以1:7之重量比調配碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)中一面調整濃度一面浸漬60秒，以使最終獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)成為所需值(染色處理)。 繼而，於液溫40℃之交聯浴(對於水100重量份調配3重量份之碘化鉀，並調配5重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一面使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)中，一面進行單軸延伸以使總延伸倍率於周速不同之輥之間在縱向(長度方向)上成為5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體於液溫20℃之洗淨浴(對於水100重量份調配4重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中浸漬(洗淨處理)。 然後，於保持在約90℃之烘箱中一面乾燥一面使其接觸表面溫度保持在約75℃之SUS(Steel Use Stainless，鋼用不鏽鋼)製加熱輥(乾燥收縮處理)。 如此，於樹脂基材上形成厚度約5 μm之偏光元件，從而獲得具有樹脂基材/偏光元件之構成之積層體。
於所獲得之積層體之偏振元件側，介隔紫外線硬化型接著劑貼合丙烯酸系膜(厚度20 μm)作為保護層。繼而，自偏光元件剝離樹脂基材而獲得具有丙烯酸系膜(保護層)/偏光元件之構成之偏光板。
(相位差層之製作) 將顯示向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名｢Paliocolor LC242｣，由下述式表示)10 g、針對該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名｢Irgacure 907｣)3 g溶解於甲苯40 g中，從而製備出液晶組合物(塗佈液)。 [化1]
Figure 02_image001
使用摩擦布對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面進行摩擦，而實施配向處理。關於配向處理之方向，使其於貼合至偏光板時自視認側進行觀察相對於偏光元件之吸收軸之方向為15°方向。藉由在該配向處理表面利用棒式塗佈機塗佈上述液晶塗佈液，並於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，而使液晶化合物配向。藉由使用金屬鹵素燈向如此形成之液晶層照射1 mJ/cm 2之光，使該液晶層硬化，而於PET膜上形成液晶配向固化層A(H層)。液晶配向固化層A之厚度為2.5 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，液晶配向固化層A表現出nx＞ny＝nz之折射率特性。
變更塗佈厚度，以及使配向處理方向成為自視認側進行觀察相對於偏光元件之吸收軸之方向為75°方向，除此以外，以與上述相同之方式於PET膜上形成液晶配向固化層B(Q層)。液晶配向固化層B之厚度為1.5 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。進而，液晶配向固化層B表現出nx＞ny＝nz之折射率特性。
(積層體之製作) 將所獲得之液晶配向固化層A(H層)及液晶配向固化層B(Q層)依序轉印至所獲得之偏光板之偏光元件側。此時，以使偏光元件之吸收軸與配向固化層A之遲相軸所成之角度為15°、偏光元件之吸收軸與配向固化層B之遲相軸所成之角度為75°之方式進行轉印(貼合)。液晶配向固化層A(H層)之轉印係介隔紫外線硬化型接著劑(厚度0.5 μm)而進行。液晶配向固化層B(Q層)之轉印係介隔紫外線硬化型接著劑(厚度1.5 μm)而進行。由此，獲得積層體前驅物。再者，轉印係一面進行輥搬送一面進行。進而，轉印係於水蒸氣量為9.3 g/m 3之環境下(23℃及45%RH)進行。
將厚度90 μm之表面保護膜(藤森工業公司製造，｢PPF-911｣，基材(PET)之厚度75 μm，黏著劑層之厚度15 μm)一面進行輥搬送一面貼合至所獲得之積層體前驅物之偏光板之保護層側。進而，將厚度50 μm之剝離膜(Mitsubishi Chemical公司製造，｢MHE50｣，PET系膜)一面進行輥搬送一面介隔丙烯酸系黏著劑層(厚度15 μm)貼合至積層體前驅物之液晶配向固化層B(Q層)側，從而獲得積層體。 所獲得之積層體之自偏光板至黏著劑層之積層部分之厚度(帶相位差層之偏光板之厚度)為46 μm。
[實施例2] 於積層體前驅物之偏光板之保護層側貼合厚度48 μm之表面保護膜(日東電工公司製造，｢RP109F｣，基材(PET)之厚度38 μm，黏著劑層之厚度10 μm)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
[實施例3] 除了變更貼合表面保護膜時對表面保護膜施加之張力以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
[比較例1] 於積層體前驅物之液晶配向固化層B(Q層)側貼合厚度38 μm之剝離膜(Mitsubishi Chemical公司製造，｢MHE38｣，PET系膜)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
[比較例2] 於積層體前驅物之液晶配向固化層B(Q層)側貼合厚度50 μm之剝離膜(Mitsubishi Chemical公司製造，｢MRF50｣，PET系膜)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
[比較例3] 於積層體前驅物之偏光板之保護層側貼合厚度48 μm之表面保護膜(日東電工公司製造，｢RP1010M｣，基材(PET)之厚度38 μm，黏著劑層之厚度10 μm)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
＜評價＞ 1.剝離力 將所獲得之積層體切成寬25 mm、長50 mm之尺寸，將該尺寸樣品於23℃×50%RH之環境下放置30分鐘以上後，利用萬能拉伸試驗機測定於剝離速度300 mm/分鐘、剝離角度180°之條件下沿長度方向剝離時之剝離力(N/25 mm)。具體而言，測定剝離膜對於黏著劑層之剝離力Fr及表面保護膜對於偏光板之剝離力Fp。再者，測定係於23℃×50%RH之環境下進行。 2.翹曲 自所獲得之積層體切取171 mm×127 mm之尺寸之試驗片。此時，以偏光元件之吸收軸方向為長邊方向之方式進行切取。將所切取之試驗片以其剝離膜側成為平面側之方式靜置於平面上時，測定此時之距離平面最高之部分之高度，求出翹曲量。此處，將翹曲向靜置面側凸起之情形記為｢負(-)｣，將向靜置面之相反側凸起之情形記為｢正(+)｣。再者，表1所示之值(單位：%)係藉由翹曲量(mm)/長邊(171 mm)×100而求出之值。 3.剝離試驗 將所獲得之積層體切割成171 mm×127 mm之尺寸，而獲得單片狀積層體。此時，以偏光元件之吸收軸方向相對於長邊為45°之方向之方式進行切割。 如圖3所示，自所獲得之單片狀積層體剝下剝離膜及表面保護膜，將帶相位差層之偏光板貼合至有機EL面板本體，確認是否發生剝離不良。
[表1]
   表面保護膜 剝離膜 翹曲 % 剝離性 外觀
厚度 μm 剝離力Fp N/25 mm 厚度 μm 剝離力Fr N/25 mm 剝離膜 表面保護膜
實施例1 90 0.03 50 0.01 5 非常良好 非常良好 非常良好
實施例2 48 0.03 50 0.01 5 良好 非常良好 良好
實施例3 90 0.03 50 0.01 3 非常良好 非常良好 非常良好
比較例1 90 0.03 38 0.01 5 非常良好 非常良好 不良
比較例2 90 0.03 50 0.08 5 不良 不良 非常良好
比較例3 48 0.2 50 0.01 5 非常良好 不良 非常良好
可知，即便於積層體產生負翹曲(例如1%以上)之狀態下，各實施例之剝離性亦優異。 於比較例1之積層體中，在配置於相位差層與剝離膜之間之黏著劑層(糊劑)確認到大量凹痕。 比較例2中，於將剝離膜剝離時，剝離膜未自黏著劑層剝落，而於表面保護膜與偏光板之間發生剝離。比較例3中，於將表面保護膜剝離時，表面保護膜未自偏光板剝落，而使有機EL面板本體自吸附板脫落。 [產業上之可利用性]
由本發明之一實施方式之積層體所獲得之帶相位差層之偏光板可用作圖像顯示裝置之帶相位差層之偏光板，尤其可較佳地用於彎曲之、或者可彎折、可摺疊或可捲繞之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置，代表性而言，可列舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置。
10:偏光板 11:偏光元件 12:保護層 20:相位差層 21:第一相位差層(H層) 22:第二相位差層(Q層) 30:表面保護膜 31:基材 32:黏著劑層 40:黏著劑層 50:剝離膜 70:圖像顯示面板本體 80:圖像顯示面板 90:積層體前驅物 100:積層體 110:帶相位差層之偏光板 A:吸附板 B:吸附板 T1:剝離用膠帶 T2:剝離用膠帶
圖1係表示本發明之一實施方式之積層體之概略構成之模式性剖視圖。 圖2係表示積層體前驅物之翹曲狀態之一例之剖視圖。 圖3A係表示一實施方式之複合基板之製造步驟例之圖。 圖3B係圖3A之續圖。 圖3C係圖3B之續圖。 圖3D係圖3C之續圖。 圖3E係圖3D之續圖。
10:偏光板
11:偏光元件
12:保護層
20:相位差層
21:第一相位差層(H層)
22:第二相位差層(Q層)
30:表面保護膜
31:基材
32:黏著劑層
40:黏著劑層
50:剝離膜
100:積層體

Claims (8)

  1. 一種積層體，其依序具有表面保護膜、包含偏光元件與保護層之偏光板、相位差層、黏著劑層、及剝離膜，且 自上述偏光板至上述黏著劑層之積層部分之厚度為70 μm以下， 上述剝離膜之厚度為40 μm以上， 上述剝離膜對於上述黏著劑層之剝離力Fr為0.04 N/25 mm以下， 上述表面保護膜對於上述偏光板之剝離力Fp大於上述Fr且為0.1 N/25 mm以下。
  2. 如請求項1之積層體，其中上述表面保護膜之厚度為60 μm以上。
  3. 如請求項1或2之積層體，其中上述表面保護膜之厚度大於上述積層部分之厚度。
  4. 如請求項1至3中任一項之積層體，其中上述偏光板僅於上述偏光元件之未配置上述相位差層之側配置有保護層。
  5. 如請求項1至4中任一項之積層體，其中上述偏光元件之厚度為8 μm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之積層體，其中上述相位差層為液晶化合物之配向固化層。
  7. 如請求項1至6中任一項之積層體，其翹曲為5%以下。
  8. 一種圖像顯示面板之製造方法，其依序包括： 準備如請求項1至7中任一項之積層體； 將自上述黏著劑層剝下上述剝離膜後之上述積層體貼合至圖像顯示面板本體；及 自上述偏光板剝下上述表面保護膜。
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