TW202239814A - 包含具有氟聚醚基之矽烷化合物的組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本發明係關於包含具有氟聚醚基之矽烷化合物的組成物。
已知一種含氟矽烷化合物,若用於基材的表面處理,可提供優良的撥水性、撥油性、防污性等。由含有含氟矽烷化合物的組成物(例如表面處理劑)所得之層(以下亦稱為「表面處理層」),作為所謂的機能性薄膜而施用於例如玻璃、塑膠、纖維、建材等各式各樣的基材上。
作為這樣的含氟化物,已知一種含全氟聚醚基之矽烷化合物,其係在分子主鏈具有全氟聚醚基、且在分子末端或末端部具有鍵結於Si原子的可水解之基(專利文獻1、2)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特表2008-534696號公報
[專利文獻2]國際公開第97/07155號
對於包含具有上述矽烷化合物之組成物的組成物,要求由該組成物所形成之表面處理層具有更良好的摩擦耐久性。
本揭示提供下述[1]至[24]。
[1]
一種組成物,其包含下述式(A1)或(A2)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物、及具有下述式(B)所表示之基且分子量為300至500的具有氟烷基之矽烷化合物;
-SiR31 n3R32 3-n3 (B)
前述具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於前述具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數的比率為0.001至1.5;[式中:
RF1為Rf1-RF-Oq-;
RF2為-Rf2 p-RF-Oq-;
Rf1為可經1個以上的氟原子取代的C1-16烷基;
Rf2為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基;
RF在每次出現時分別獨立地為下式所表示之基,
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-;
a、b、c、d、e及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意;
RFa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子;
p為0或1;
q獨立地為0或1;
RSi在每次出現時分別獨立地為下述式(S1)至(S2)所表示之基的任一者;
-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1 (S1)
-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2 (S2)
Ra1在每次出現時分別獨立地為-Z1-SiR41 r1R42 r2R43 r3;
Z1在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;
R41在每次出現時分別獨立地為-Z1’-SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’;
Z1’在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;
R41’在每次出現時分別獨立地為-Z1”-SiR41” r1”R42” r2”;
Z1”在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;
R41”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
R42”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
r1”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
r2”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
R42’在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
R43’在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
r1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
r2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
r3’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
R42在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
R43在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
r1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
r2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
r3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
Rb1在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
Rc1在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
k1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
l1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
m1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
惟式(S1)中,至少存在1個與羥基或可水解之基鍵結的Si原子;
Rd1在每次出現時分別獨立地為-Z2-CR51 s1R52 s2R53 s3;
Z2在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;
R51在每次出現時分別獨立地為-Z2’-CR51’ s1’R52’ s2’;
Z2’在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;
R51’在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;
Z3在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;
R51”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
R52”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
m1”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
R52’在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;
s1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
s2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
R52在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;
R53在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;
s1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
s2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
s3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
Re1在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;
Rf1在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;
k2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
l2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
m2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
惟式(S2)中,至少存在1個m1”為1至3的-SiR51” m1”R52” 3-m1”;
Rn在每次出現時分別獨立地為-X1-RSi所表示之基、氫原子、苯基或C1-6烷基;
X1在每次出現時分別獨立地為單鍵或2價之有機基;
R31在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;
R32在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
n3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;
惟前述具有氟烷基之矽烷化合物中,至少1個n3為1以上]。
[2]
如[1]所述之組成物,其中,
RF在每次出現時分別獨立地為下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所表示之基:
-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)
[式中,d為1至200的整數,e為0或1];
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[式中,c及d分別獨立地為0以上30以下的整數,e及f分別獨立地為1以上200以下的整數,
c、d、e及f的和為2以上,
標註c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意];
-(R6-R7)g- (f3)
[式中,R6為OCF2或OC2F4,
R7係選自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10及OC6F12之中的基,或是從此等之基獨立選擇的2或3個基的組合,
g為2至100的整數];
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)
[式中,e為1以上200以下的整數,a、b、c、d及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意];
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[式中,f為1以上200以下的整數,a、b、c、d及e分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意]。
[3]
如[1]或[2]所述之組成物,其中X1在每次出現時分別獨立地為-(R21)p1-(Xa)q1-所表示之基;
[式中:
R21為單鍵、可經1個以上的氟原子取代的-(CH2)p2-或是鄰、間或對伸苯基,
p2為1至20的整數,
Xa表示-(Xb)q2-、
Xb在每次出現時分別獨立地為選自由-O-、-S-、鄰、間或對伸苯基、-(OR35)n4-、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CON(R34)-、-O-CON(R34)-、-N(R34)-及-(CH2)n’-所成群組中的基,
R33在每次出現時分別獨立地為苯基、C1-6烷基或C1-6烷氧基,
R34在每次出現時分別獨立地為氫原子、苯基或C1-6烷基,
R35在每次出現時分別獨立地為C1-6伸烷基,
n4在每次出現時分別獨立地為1至5的整數,
m’在每次出現時分別獨立地為1至100的整數,
n’在每次出現時分別獨立地為1至20的整數,
q2為1至10的整數,
p1為0或1,
q1為0或1,
此處,標註p1或q1並以括弧括起之各重複單元的存在順序為任意]。
[4]
如[1]至[3]中任一項所述之組成物,其中Z1及Z3在每次出現時分別獨立地為C1-6伸烷基。
[5]
如[1]至[4]中任一項所述之組成物,其中k1為2或3,且r2為2或3。
[6]
如[1]至[4]中任一項所述之組成物,其中k1為0,l1為2或3。
[7]
如[1]至[4]中任一項所述之組成物,其中l2為2或3,且m1”為2或3。
[8]
如[1]至[4]中任一項所述之組成物,其中l2為2,m2為1。
[9]
如[1]至[8]中任一項所述之組成物,其中Rn為氫原子、苯基或C1-6烷基。
[10]
如[1]至[8]中任一項所述之組成物,其中Rn係以-X1-RSi所表示。
[11]
如[10]所述之組成物,其中Rn係以-X1-RSi所表示,式(A1)或(A2)中RSi係以式(S1)所表示,k1為0。
[12]
如[1]至[10]中任一項所述之組成物,其中RSi係以式(S1)所表示。
[13]
如[1]至[10]中任一項所述之組成物,其中RSi係以式(S2)所表示。
[14]
如[1]至[13]中任一項所述之組成物,其中前述具有氟烷基之矽烷化合物係由式(B1)所表示:
Rf3-X31-SiR31 n3R32 3-n3 (B1)
Rf3為可經1個以上的氟原子取代的C1-6烷基;
X31為單鍵、氧原子或2價之有機基;
R31分別獨立地為羥基或可水解之基;
R32分別獨立地為氫原子或1價之有機基;
n3為1至3的整數。
[15]
如[14]所述之組成物,其中Rf3為C1-6全氟烷基。
[16]
如[14]或[15]所述之組成物,其中,
X31係以-(X311)z11-(Z31)z12-所表示,
X311為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基,
Z31分別獨立地為氧原子或硫原子,
z11為1至3的整數,
z12為0至2的整數,
惟以括弧括起之各重複單元的存在順序在X31中為任意。
[17]
如[1]至[16]中任一項所述之組成物,其中n3為3。
[18]
如[1]至[17]中任一項所述之組成物,其更具有含氟油。
[19]
如[18]所述之組成物,其中前述含氟油係以下式所表示,
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6
Rf5及Rf6分別獨立地為可經1個以上的氟原子取代的碳數1至16烷基,
a’及b’分別獨立地為0以上30以下的整數,c’及d’分別獨立地為1以上200以下的整數,a’、b’、c’及d’的和至少為5以上,標註a’、b’、c’或d’並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。
[20]
如[1]至[19]中任一項所述之組成物,其包含式(A1)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物及式(A2)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物以作為具有氟聚醚基之矽烷化合物,
並且更具有含氟油。
[21]
如[1]至[20]中任一項所述之組成物,其不包含選自由前述具有氟烷基之矽烷化合物所成群組中的化合物之寡聚物。
[22]
一種表面處理劑,其包含如[1]至[21]中任一項所述之組成物。
[23]
如[22]所述之表面處理劑,其為濕潤被覆用。
[24]
一種物品,其具有:基材、及藉由如[1]至[21]中任一項所述之組成物或如[22]至[23]中任一項所述之表面處理劑形成於該基材表面上的層。
本揭示提供一種表面處理劑,其有助於形成具有更良好之摩擦耐久性的表面處理層。
於本說明書使用時,「烴基」係指含碳及氫之基,其係使1個氫原子從烴脫離而成的基。此烴基並未特別限定,可列舉可經1個以上的取代基取代的碳數1至20的烴基,例如脂肪族烴基、芳香族烴基等。上述「脂肪族烴基」可為直鏈狀、分枝鏈狀或環狀的任一者,亦可為飽和或不飽和的任一者。又,烴基亦可含有1個以上的環構造。此外,該烴基在其末端或分子鏈中亦可具有1個以上的N、O、S、Si、醯胺、磺醯基、矽氧烷、羰基、羰氧基等。
於本說明書使用時,「烴基」的取代基並未特別限定,可列舉例如:鹵素原子;可經1個以上的鹵素原子取代的選自C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員的雜環基、5至10員的不飽和雜環基、C6-10芳基及5至10員的雜芳基之中的1個以上的基。
於本說明書使用時,「有機基」係指含碳之基。有機基並未特別限定,可為烴基。又,「2至10價之有機基」係指含碳的2至10價之基。此2至10價之有機基並未特別限定,可列舉進一步使1至9個氫原子從烴基脫離而成的2至10價之基。例如,2價之有機基並未特別限定,可列舉進一步使1個氫原子從烴基脫離而成的2價之基。
本說明書中,所謂「可水解之基」,於本說明書使用時,係指可接受水解反應之基,亦即係指可藉由水解反應而從化合物的主骨架脫離之基。作為可水解之基的例子,可列舉:-ORh1、-OCORh1、-O-N=CRh1 2、-NRh1 2、-NHRh1、-NCO、鹵素(此等式中,Rh1表示經取代或未經取代的碳數1至4之烷基)等,較佳為-ORh1(亦即烷氧基)。Rh1的例子包含:甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基等未經取代之烷基;氯甲基等經取代之烷基。此等之中,較佳為烷基,尤其是未經取代之烷基,更佳為甲基或乙基。一態樣中,可水解之基為甲氧基。另一態樣中,可水解之基為乙氧基。
(組成物)
本揭示的組成物包含具有氟聚醚基之矽烷化合物與具有氟烷基之矽烷化合物。
具有氟聚醚基之矽烷化合物係以下述式(A1)或(A2)所表示:
具有氟烷基之矽烷化合物係具有下述式(B)所表示之基且分子量為300至500的化合物:
-SiR31 n3R32 3-n3 (B)。
本揭示的組成物中,具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數的比率([具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數]/[具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數])為0.001至1.5。
用於形成表面處理層的組成物中形成有微膠粒(micelle)的情況,可能導致表面處理層的摩擦耐久性變低。對此,認為本揭示的組成物係藉由以上述的量包含具有氟烷基之矽烷化合物而可抑制具有氟聚醚基之矽烷化合物形成微膠粒,並提升組成物的流平(leveling)性。結果,認為使所形成之表面處理層的表面變得更為平坦,而可抑制摩擦耐久性降低。
另外,所謂的未形成微膠粒,係指在動態光散射法中測量溶質之平均流體力學直徑時,該平均流體力學直徑100nm以上之中不存在散射強度的峰值。具體而言,係指在平均流體力學直徑100nm以上之中不存在散射強度。
另外,係使用下述樣本進行動態光散射法的測量:將包含50質量%之具有氟聚醚基之矽烷化合物的溶液與具有氟烷基之矽烷化合物混合,並將其靜置至測量溫度25℃。溶劑可使用例如HFE7200。
(具有氟聚醚基之矽烷化合物)
具有氟聚醚基之矽烷化合物係以下述式(A1)或(A2)所表示。
上述式(A1)中,RF1為Rf1-RF-Oq-。
上述式(A2)中,RF2為-Rf2 p-RF-Oq-。
上述式中,Rf1在每次出現時分別獨立地為可經1個以上的氟原子取代的C1-16烷基。
上述可經1個以上的氟原子取代的C1-16烷基中的「C1-16烷基」可為直鏈,亦可為分枝鏈,較佳為直鏈或分枝鏈的C1-6烷基,尤其是C1-3烷基,更佳為直鏈的C1-6烷基,尤其是C1-3烷基。
上述Rf1較佳為經1個以上的氟原子取代的C1-16烷基,更佳為CF2H-C1-15全氟伸烷基,再佳為C1-16全氟烷基。
上述C1-16全氟烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,較佳為直鏈或分枝鏈的C1-6全氟烷基,尤其是C1-3全氟烷基,更佳為直鏈的C1-6全氟烷基,尤其是C1-3全氟烷基,具體為-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。
上述式中,Rf2為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基。
上述可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基中的「C1-6伸烷基」可為直鏈,亦可為分枝鏈,較佳為直鏈或分枝鏈的C1-3伸烷基,更佳為直鏈的C1-3伸烷基。
上述Rf2較佳為經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基,更佳為C1-6全氟伸烷基,再佳為C1-3全氟伸烷基。
上述C1-6全氟伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,較佳為直鏈或分枝鏈的C1-3全氟伸烷基,更佳為直鏈的C1-3全氟伸烷基,具體為-CF2-、-CF2CF2-或-CF2CF2CF2-。
上述式中,p為0或1。一態樣中,p為0。另一態樣中p為1。
上述式中,q在每次出現時分別獨立地為0或1。一態樣中,q為0。另一態樣中q為1。
上述式中,RF在每次出現時分別獨立地為2價之氟聚醚基。RF在每次出現時分別獨立地為下式所表示之基:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-。本說明書中,記載為RF的基,左側鍵結於Rf1或Rf2,右側鍵結於O(q為0時為C=O)。
上述式中,RFa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子,較佳為氫原子或氟原子,更佳為氟原子。
上述式中,a、b、c、d、e及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1。較佳係a、b、c、d、e及f分別獨立地為0以上100以下的整數。a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上,更佳為10以上,例如為10以上100以下。標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。
此等重複單元可為直鏈狀,亦可為分枝鏈狀,但較佳為直鏈狀。例如-(OC6F12)-亦可為-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等,較佳為-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC5F10)-可為-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等,較佳為-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC4F8)-可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-(亦即,上述式中RFa為氟原子)可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2CF2)-。又,-(OC2F4)-亦可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2)-。
一態樣中,RF在每次出現時分別獨立地為下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所表示之基:
-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)
[式中,d為1至200的整數,e為0或1]。
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[式中,c及d分別獨立地為0以上30以下的整數,e及f分別獨立地為1以上200以下的整數,
c、d、e及f的和為2以上,
標註c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意]
-(R6-R7)g- (f3)
[式中,R6為OCF2或OC2F4,
R7為選自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10及OC6F12之中的基,或是從此等之基獨立選擇的2或3個基的組合,
g為2至100的整數]。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)
[式中,e為1以上200以下的整數,a、b、c、d及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意]。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[式中,f為1以上200以下的整數,a、b、c、d及e分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意]。
上述式(f1)中,d較佳為5至200,更佳為10至100,再佳為15至50,例如為25至35的整數。上述式(f1)中的(OC3F6)較佳為以(OCF2CF2CF2)或(OCF(CF3)CF2)所表示之基,更佳為以(OCF2CF2CF2)所表示之基。上述式(f1)中的(OC2F4)較佳為以(OCF2CF2)或(OCF(CF3))所表示之基,更佳為以(OCF2CF2)所表示之基。一態樣中,e為0。另一態樣中,e為1。
上述式(f2)中,e及f分別獨立,較佳為5以上200以下,更佳為10至200的整數。又,c、d、e及f的和較佳為5以上,更佳為10以上,可為例如15以上或20以上。一態樣中,上述式(f2)較佳為以-(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-所表示之基。另一態樣中,式(f2)可為以-(OC2F4)e-(OCF2)f-所表示之基。
上述式(f3)中,R6較佳為OC2F4。上述(f3)中,R7較佳為選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之中的基,或是從此等之基獨立選擇的2或3個基的組合,更佳為選自OC3F6及OC4F8之中的基。從OC2F4、OC3F6及OC4F8獨立選擇的2或3個基的組合並未特別限定,可列舉例如:-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-及-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述式(f3)中,g較佳為3以上,更佳為5以上的整數。上述g較佳為50以下的整數。上述式(f3)中,OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10及OC6F12可為直鏈或分枝鏈的任一者,較佳為直鏈。此態樣中,上述式(f3)較佳為-(OC2F4-OC3F6)g-或-(OC2F4-OC4F8)g-。
上述式(f4)中,e較佳為1以上100以下,更佳為5以上100以下的整數。a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上,更佳為10以上,例如10以上100以下。
上述式(f5)中,f較佳為1以上100以下,更佳為5以上100以下的整數。a、b、c、d、e及f的和較佳為5以上,更佳為10以上,例如10以上100以下。
一態樣中,上述RF係以上述式(f1)所表示之基。
一態樣中,上述RF係以上述式(f2)所表示之基。
一態樣中,上述RF係以上述式(f3)所表示之基。
一態樣中,上述RF係以上述式(f4)所表示之基。
一態樣中,上述RF係以上述式(f5)所表示之基。
較佳的態樣中,RF係下式(f2)所表示之基:
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
式中,c及d分別獨立地為0以上30以下的整數,e及f分別獨立地為1以上200以下,較佳為5以上200以下,更佳為10以上200以下的整數,標註e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。RF更具體為以-(OC2F4)e-(OCF2)f-所表示之基。
RF中,e相對於f的比(以下稱為「e/f比」)為0.1至10,較佳為0.2至5,更佳為0.2至2,再佳為0.2至1.5,再更佳為0.2至0.85。藉由使e/f比在10以下,由含此化合物之組成物所得之硬化層(例如表面處理層)的平滑性、摩擦耐久性及耐化學性(例如對於人工汗的耐久性)更加提升。e/f比越小,則硬化層的平滑性及摩擦耐久性越提升。另一方面,藉由使e/f比為0.1以上,可更加
提高化合物的穩定性。e/f比越大,則具有氟聚醚基之矽烷化合物的穩定性更加提升。此情況中,f的值為1以上。
一態樣中,上述e/f比較佳為0.2至0.95,更佳為0.2至0.9。
一態樣中,e/f比小於0.9,較佳為0.8以下、0.7以下,可為0.65以下。e/f比例如為0.2以上、0.3以上、0.4以上、0.5以上、0.55以上。e/f比可列舉例如0.2以上且小於0.9,具體為0.4以上0.8以下,更具體為0.5以上0.8以下。藉由具有上述e/f比,本揭示的組成物(例如表面處理劑)可形成具有更良好之平滑性的表面處理層。
一態樣中,e/f比可為0.4以上0.7以下,可為0.5以上0.7以下,可為0.55以上0.7以下,亦可為0.55以上0.65以下。
一態樣中,從耐熱性的觀點來看,上述e/f比較佳為1.0以上,更佳為1.0以上2.0以下。
-RF-部分的數量平均分子量並未特別限定,例如為500至30,000,較佳為1,500至30,000,更佳為2,000至10,000。上述數量平均分子量係藉由19F-NMR所測量的值。
另一態樣中,-RF-部分的數量平均分子量為500至30,000,較佳為1,000至20,000,更佳為2,000至15,000,再更佳為2,000至10,000,例如可為3,000至6,000。
另一態樣中,-RF-部分的數量平均分子量可為4,000至30,000,較佳為5,000至10,000,更佳為6,000至10,000。
上述X1可理解為將「主要提供撥水性及表面平滑性等的氟聚醚部分(RF1及RF2)」和「提供與基材之結合能力的部分(RSi)」予以連結的連結子
(linker)。因此,只要式(A1)及(A2)所表示的化合物可穩定存在,則該X1可為單鍵,亦可為任意之基。
較佳係X1在每次出現時分別獨立地為單鍵或2價之有機基。此外,上述X1中,F各式的左側鍵結於N,右側鍵結於RSi。
一態樣中,X1為單鍵。
一態樣中,X1為2價之有機基。
一態樣中,X1可列舉例如單鍵或下述式所表示的2價之有機基:
-(R21)p1-(Xa)q1-
R21為單鍵、-(CH2)p2-或是鄰、間或對伸苯基,較佳為-(CH2)p2-,
p2為1至20的整數,較佳為1至6的整數,更佳為1至3的整數,再更佳為1或2,
Xa表示(Xb)q2-,
Xb在每次出現時分別獨立地表示選自由-O-、-S-、鄰、間或對伸苯基、-(OR35)n4-、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-、-O-CONR34-、-NR34-及-(CH2)n’-所成群組中的基,
R33在每次出現時分別獨立地表示苯基、C1-6烷基或C1-6烷氧基,較佳為苯基或C1-6烷基,更佳為甲基,
R34在每次出現時分別獨立地表示氫原子、苯基或C1-6烷基(較佳為甲基),
R35在每次出現時分別獨立地為C1-6伸烷基,
n4在每次出現時分別獨立地為1至5的整數,
m’在每次出現時分別獨立地為1至100的整數,較佳為1至20的整數,
n’在每次出現時分別獨立地為1至20的整數,較佳為1至6的整數,更佳為1至3的整數,
q2為1至10的整數,較佳為1至5的整數,更佳為1至3的整數,
p1為0或1,
q1為0或1,
標註p1或q1並以括弧括起之各重複單元的存在順序為任意。
此處,p1及q1的至少一者為1。
此處,X1(典型而言係X1的氫原子)可經選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基之中的1個以上的取代基所取代。較佳的態樣中,X1未經此等基所取代。
較佳的態樣中,上述X1分別獨立地為-(R21)p1-(Xa)q1-R22-。
R22表示單鍵、-(CH2)p3-或鄰、間或對伸苯基,較佳為-(CH2)p3-。p3為1至20的整數,較佳為2至6的整數,更佳為2至3的整數。此處,R22(典型而言係R22的氫原子)可經選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基之中的1個以上的取代基所取代。較佳的態樣中,R22未經此等基所取代。R21、p1、Xa、q1與上述同義。
較佳係上述X1可分別獨立地為單鍵、C1-20伸烷基、-R21-Xa-R22-或-Xa1-R22-
[式中,R21及R22與上述同義,
Xa表示:-O-、
-S-、-C(O)O-、-CONR34-、-O-CONR34-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-O-(CH2)u5-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-O-(CH2)u5-Si(R33)2-O-Si(R33)2-CH2CH2-Si(R33)2-O-Si(R33)2-、-O-(CH2)u5-Si(OCH3)2OSi(OCH3)2-、-CONR34-(CH2)u5-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-(CH2)u5-N(R34)-或-CONR34-(鄰、間或對伸苯基)-Si(R33)2-
(式中,R33、R34及m’與上述同義,
u5為1至20的整數,較佳為2至6的整數,更佳為2至3的整數),
Xa1表示:-S-、-C(O)O-或-O-CONR34-
(式中,各記號與上述同義)]。
一態樣中,X1分別獨立地為單鍵或C1-6伸烷基,較佳為C1-6伸烷基,更佳為C1-3伸烷基,例如亞甲基。
上述X1分別獨立地可經選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基(較佳為C1-3全氟烷基)之中的1個以上的取代基所取代。一態樣中,X1為未經取代者。
X1的具體例可列舉例如:單鍵、-CH2OCH2-、-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)4-、-CH2O(CH2)5-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2DHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-、-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、
-CO-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、
上述式中,RSi在每次出現時分別獨立地為以下述(S1)至(S2)所表示之基的任一者。
-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1 (S1)
-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2 (S2)
一態樣中,RSi係以式(S1)所表示。
一態樣中,RSi係以式(S2)所表示。
式(S1)中,
上述Ra1在每次出現時分別獨立地為-Z1-SiR41 r1R42 r2R43 r3。
上述Z1在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基。另外,以下記載為Z1的構造,右側鍵結於(SiR41 r1R42 r2R43 r3)。
較佳的態樣中,Z1為2價之有機基。
較佳的態樣中,Z1不包含與Z1所鍵結之Si原子形成矽氧烷鍵者。亦即,式(S1)中,(Si-Z1-Si)不含矽氧烷鍵。
上述Z1較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(式中,z1為0至6的整數,例如1至6的整數,z2為0至6的整數,例如1至6的整數)或-(CH2)z3-伸苯基-(CH2)z4-(式中,z3為0至6的整數,例如1至6的整數,z4為0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但較佳為直鏈。此等之基,例如,可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z1為C1-6伸烷基或-(CH2)z3-伸苯基-(CH2)z4-,較佳為-伸苯基-(CH2)z4-。Z1為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,Z1為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z1可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z1可為-CH2CH2-。
上述R41在每次出現時分別獨立地為-Z1’-SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’。
上述Z1’在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基。此外,以下記載為Z1’的構造,右側鍵結於(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)。
較佳的態樣中,Z1’為2價之有機基。
較佳的態樣中,Z1’不包含與Z1’所鍵結之Si原子形成矽氧烷鍵者。亦即,式(S1)中,(Si-Z1’-Si)不含矽氧烷鍵。
上述Z1’較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z1’-O-(CH2)z2’-(式中,z1’為0至6的整數,例如1至6的整數,z2’為0至6的整數,例如1至6的整數)或-(CH2)z3’-伸苯基-(CH2)z4’-(式中,z3’為0至6的整數,例如1至6的整數,z4’為0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但較佳為直鏈。此等之基,例如可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z1’為C1-6伸烷基或-(CH2)z3’-伸苯基-(CH2)z4’-,較佳為-伸苯基-(CH2)z4’-。Z1’為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,上述Z1’為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z1’可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z1’可為-CH2CH2-。
上述R41’在每次出現時分別獨立地為-Z1”-SiR41” r1”R42” r2”。
上述Z1”在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基。
Z1”在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基。此外,以下記載為Z1”的構造,右側鍵結於(SiR41” r1”R42” r2”)。
較佳的態樣中,Z1”為2價之有機基。
較佳的態樣中,Z1”不包含與Z1”鍵結之Si原子形成矽氧烷鍵者。亦即,式(S1)中,(Si-Z1”-Si)不含矽氧烷鍵。
上述Z1”較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z1”-O-(CH2)z2”-(式中,z1”為0至6的整數,例如1至6的整數,z2”為0至6的整數,例如1至6的整數)、或-(CH2)z3”-伸苯基-(CH2)z4”-(式中,z3”為0至6的整數,例如1至6的整數,z4”為
0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但較佳為直鏈。此等之基,例如,可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z1”為C1-6伸烷基或-(CH2)z3”-伸苯基-(CH2)z4”-,較佳為-伸苯基-(CH2)z4”-。Z1”為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,上述Z1”為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z1”可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z1”可為-CH2CH2-。
上述R41”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。
R41”較佳係在每次出現時分別獨立地為可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述R42”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述R42”中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述r1”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述r2”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。此外,在(SiR41” r1”R42” r2”)單元中,r1”與r2”合計為3。
r1”在每個(SiR41” r1”R42” r2”)單元中分別獨立地較佳為1至3的整數,更佳為2至3,再佳為3。
上述R42’在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。
R42’較佳係在每次出現時分別獨立地為可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述R43’在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述R43’中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述r1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述r2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述r3’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。此外,在(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)單元中,r1’、r2’及r3’合計為3。
一態樣中,r1’為0。
一態樣中,r1’在每個(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)單元中分別獨立地為1至3的整數,可為2至3的整數,或可為3。較佳的態樣中,r1’為3。
一態樣中,r2’在每個(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,更佳為3。
一態樣中,在每個(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)單元中分別獨立,r1’為0,r2’為1至3的整數,r3’為0至2的整數,較佳係r1’為0,r2’為2至3的整數,r3’為0至1的整數,更佳係r2’為3。
一態樣中,r2’為0,r3’在每個(SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,再佳為3。
上述R42在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。
R42較佳係在每次出現時分別獨立地為可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述R43在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述R43中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述r1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述r2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述r3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。此外,在(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中,r1、r2及r3合計為3。
一態樣中,r1為0。
一態樣中,r1為0,r2為0至3的整數,r3為0至3的整數。
一態樣中,r1在每個(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中分別獨立地為1至3的整數,可為2至3的整數,或可為3。較佳的態樣中,r1為3。
一態樣中,在每個(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中分別獨立,r1為1至3的整數,r2為0至2的整數,r3為0至2的整數;另一態樣中,r1為2或3,r2為0或1,r3為0或1。
一態樣中,r2在每個(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,更佳為3。
一態樣中,在每個(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中分別獨立,r1為0至2的整數,r2為1至3的整數,r3為0至2的整數;另一態樣中,r1為0或1,r2為2或3,r3為0或1;另一態樣中,r2為3。
一態樣中,r1為0,r2在每個(SiR41 r1R42 r2R43 r3)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,再佳為3。
一態樣中,r1為0,r2為1至3的整數,r3為0至2的整數,較佳係r1為0,r2為2或3,r3為0或1,更佳係r1及r3為0,r2為3。
上述式中,Rb1在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。
上述Rb1較佳係在每次出現時分別獨立地為可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述式中,Rc1在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述Rc1中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述k1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述l1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述m1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。此外,在(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)單元中,k1、l1及m1合計為3。
一態樣中,k1在每個(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。較佳的態樣中,k1為3。
一態樣中,在每個(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)單元中分別獨立,k1為1至3的整數,l1為0至2的整數,m1為0至2的整數;另一態樣中,k1為2或3,l1為0或1,m1為0或1;另一態樣中,k1為3。
一態樣中,在每個(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)單元中分別獨立,k1為1或2,l1為2或1,m1為0。
一態樣中,在每個(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)單元中分別獨立,k1為1或2,l1為0,m1為2或1。
一態樣中,k1為0。換言之,以-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1所表示之基為-SiRb1 l1Rc1 m1,l1與m1合計為3。惟,本態樣中,式(A1)及式(A2)的末端部分中,至少存在1個與羥基或可水解之基鍵結的Si原子。
上述l1在每次出現時分別獨立地較佳為1至3的整數,更佳為2或3,再佳為3。
一態樣中,k1為0,l1較佳為2或3,更佳係k1為0,l1為3。
式(S1)中,至少存在1個與羥基或可水解之基鍵結的Si原子。亦即,以式(S1)所表示之基具有下述任一者:-SiRb1 l1Rc1 m1(式中,l1為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3,l1與m1合計為3)、-SiR42 r2R43 r3(式中,r2為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3,r2與r3合計為3)、-SiR42’ r2’R43’ r3’(式中,r2’為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3,r2’與r3’合計為3)、或-SiR41” r1”R42” r2”(式中,r1”為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3、r1”與r2”合計為3)。
較佳的態樣中,式(A1)及式(A2)的末端部分中,RSi係以(S1)所表示時,至少存在2個與羥基或可水解之基鍵結的Si原子。
較佳的態樣中,式(S1)中存在Ra1時,在至少1個、較佳為所有的Ra1中,r2為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S1)中存在Ra1時,在至少1個、較佳為所有的Ra1中,r1為0至2的整數,r2為1至3的整數,r3為0至2的整數,較佳係r1為0或1,r2為2或3,r3為0或1,更佳係r2為3。
較佳的態樣中,式(S1)中存在R41時,在至少1個、較佳為所有的R41中,r2’為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S1)中存在R41時,在至少1個、較佳為所有的R41中,r1’為0至2的整數,r2’為1至3的整數,r3’為0至2的整數,較佳係r1’為0或1,r2’為2或3、r3’為0或1,更佳係r2’為3。
較佳的態樣中,式(S1)中存在R41’時,在至少1個、較佳為所有的R41’中,r1”為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S1)中,k1為2或3,較佳為3,r1為0,r2為2或3,較佳為3。
較佳的態樣中,在式(S1)中,k1為2或3,l1為0或1,m1為0或1,r1為0,r2為2或3,r3為0或1;較佳係k1為3,r1為0,r2為2或3,r3為0或1;更佳係k1為3,r2為3。
式(S2)中,
上述Rd1在每次出現時分別獨立地為-Z2-CR51 s1R52 s2R53 s3。
上述Z2在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基。另外,以下記載為Z2的構造,右側鍵結於(CR51 s1R52 s2R53 s3)。
較佳的態樣中,Z2為2價之有機基。
上述Z2較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(式中,z5為0至6的整數,例如1至6的整數,z6為0至6的整數,例如1至6的整數)、或-(CH2)z7-伸苯基-(CH2)z8-(式中,z7為0至6的整數,例如1至6的整數,z8為0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但較佳為直鏈。此等之基,例如,可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z2為C1-6伸烷基或-(CH2)z7-伸苯基-(CH2)z8-,較佳為-伸苯基-(CH2)z8-。Z2為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,Z2為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z2可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z2可為-CH2CH2-。
上述R51在每次出現時分別獨立地為-Z2’-CR51’ s1’R52’ s2’。
上述Z2’在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基。另外,以下記載為Z2’的構造,右側鍵結於(CR51’ s1’R52’ s2’)。
Z2’較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z5’-O-(CH2)z6’-(式中,z5’為0至6的整數,例如1至6的整數,z6’為0至6的整數,例如1至6的整數)、或-(CH2)z7’-伸苯基-(CH2)z8’-(式中,z7’為0至6的整數,例如1至6的整數,z8’為0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但較佳為直鏈。此等之基,例如,可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z2’為C1-6伸烷基或-(CH2)z7’-伸苯基-(CH2)z8’-,較佳為-伸苯基-(CH2)z8’-。Z2’為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,上述Z2’為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z2’可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z2’可為-CH2CH2-。
上述R51’在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”。
上述Z3在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基。此外,以下記載為Z3的構造,右側鍵結於(SiR51” m1”R52” 3-m1”)。
一態樣中,Z3為氧原子。
一態樣中,Z3為2價之有機基。
上述Z3較佳為C1-6伸烷基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中,z5”為0至6的整數,例如1至6的整數,z6”為0至6的整數,例如1至6的整數)、或-(CH2)z7”-伸苯基-(CH2)z8”-(式中,z7”為0至6的整數,例如1至6的整數,z8”為0至6的整數,例如1至6的整數)。此C1-6伸烷基可為直鏈,亦可為分枝鏈,但
較佳為直鏈。此等之基,例如,可經選自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之中的1個以上的取代基所取代,但較佳為未經取代。
較佳的態樣中,Z3為C1-6伸烷基或-(CH2)z7”-伸苯基-(CH2)z8”-,較佳為-伸苯基-(CH2)z8”-。Z3為此基時,耐光性、尤其是紫外線耐性變得更高。
另一較佳態樣中,上述Z3為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基。一態樣中,Z3可為-CH2CH2CH2-。另一態樣中,Z3可為-CH2CH2-。
上述R51”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。
R51”較佳係在每次出現時分別獨立地為可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述R52”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述R52”中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述m1”,在每個(SiR51” m1”R52” 3-m1”)單元中分別獨立地為0至3的整數。式(S2)中,至少存在1個m1”為1至3的-SiR51” m1”R52” 3-m1”。亦即,此末端部分中,所有的m1”皆不為0。換言之,式(A1)及(A2)的末端部分中,至少存在1個鍵結於羥基或可水解之基的Si原子。
m1”在每個(SiR51” m1”R52” 3-m1”)單元中分別獨立地較佳為1至3的整數,更佳為2至3,再佳為3。
上述R52’在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
R52’中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
一態樣中,R52’為羥基。
另一態樣中,R52’為1價之有機基,較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基。
上述s1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述s2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。另外,在(CR51’ s1’R52’ s2’)單元中,s1’與s2’合計為3。
s1’在每個(CR51’ s1’R52’ s2’)單元中分別獨立地較佳為1至3的整數,更佳為2至3的整數,再佳為3。
上述R52在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”。此-Z3-SiR51” m1”R52” 3 m1”與上述R51’中的-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”同義。
上述R53在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述R53中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
一態樣中,R53為羥基。
另一態樣中,R53中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基。
上述s1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述s2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;上述s3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。另外,在(CR51 s1R52 s2R53 s3)單元中,s1、s2及s3合計為3。
一態樣中,s1為0。
一態樣中,s1為0,s2為0至3的整數,s3為0至3的整數。一態樣中,s1為0,s2為2至3的整數,s3為0至1的整數,另一態樣中,s1為0,s2為3的整數,s3為0。
一態樣中,s1在每個(CR51 s1R52 s2R53 s3)單元中分別獨立地為1至3的整數,可為2至3的整數,或可為3。較佳的態樣中,s1為3。
一態樣中,s2在每個(CR51 s1R52 s2R53 s3)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,更佳為3。
一態樣中,s1為0,s2在每個(CR51 s1R52 s2R53 s3)單元中分別獨立地為1至3的整數,較佳為2至3的整數,再佳為3。
上述Re1在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”。此-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”與上述R51’中的-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”同義。
上述Rf1在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
上述Rf1中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
一態樣中,Rf1為羥基。
另一態樣中,Rf1為-O(Rf11O)n1Rf12所表示之基。Rf11為C1-6伸烷基,較佳為C1-3伸烷基,n1為1至10的整數,較佳為1至6的整數,Rf12為C1-10烷基,較佳為C1-3烷基,例如甲基。
上述k2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數,l2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數,m2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。此外,在(CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2)單元中,k2、l2及m2合計為3。
一態樣中,RSi為式(S2)所表示之基時,在式(A1)及式(A2)的各末端部分中,較佳係存在2個以上、例如2至27個、較佳為2至9個、更佳為2至6個、再佳為2至3個、特佳為3個「m1”為1至3、較佳為2或3、更佳為3的(SiR51” m1”R52” 3-m1”)單元」。
較佳的態樣中,式(S2)中存在R51’時,在至少1個、較佳為所有的R51’中,m1”為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S2)中存在R52時,在至少1個、較佳為所有的R52中,m1”為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S2)中存在Re1時,在至少1個、較佳為所有的Re1中,m1”為1至3的整數,較佳為2或3,更佳為3。
較佳的態樣中,式(S2)中,k2為0,l2為2或3,較佳為3,m1”為2或3,較佳為3。
較佳的態樣中,式(S2)中,k2為0,l2為2或3,m2為0或1,較佳係l2為3。本態樣中,m1”為2或3,較佳為3。
一態樣中,式(S2)中,k2為0,m2為1,l2為2,m1”為2或3,較佳為3。例如,Rf係以-O(Rf11O)n1Rf12所表示之基。Rf11、n1、Rf12與上述同義。
上述Rn在每次出現時分別獨立地為-X1-RSi所表示之基、氫原子、苯基或C1-6烷基。
一態樣中,Rn為氫原子、苯基或C1-6烷基,較佳為氫原子或甲基,更佳為氫原子。
一態樣中,Rn為氫原子。一態樣中,Rn為苯基。一態樣中,Rn為C1-6烷基。
一態樣中,Rn為-X1-RSi所表示之基。Rn中的-X1-RSi與式(A1)或(A2)中的-X1-RSi同義。
一態樣中,Rn為氫原子或甲基,較佳為氫原子;RSi係以式(S1)所表示之基。
式(S1)中,較佳係k1為2或3,l1為0或1,m1為0或1(惟k1、l1及m1合計為3),更佳係k1為3。此處,r2為2或3,較佳為3。另外,r1、r2及r3合計為3。
一態樣中,Rn為氫原子或甲基,較佳為氫原子;RSi係以式(S2)所表示之基。
式(S2)中,較佳係l2為2或3,m2為0或1(惟l2及m2合計為3),更佳係l2為3。此處,m1”為2或3,較佳為3。
一態樣中,Rn為氫原子或甲基,較佳為氫原子;RSi係以式(S2)所表示之基。
式(S2)中,較佳係l2為2,m2為1。此處,m1”為2或3,較佳為3。
一態樣中,Rn為-X1-RSi所表示之基,式(A1)或(A2)中RSi係以式(S1)所表示之基。
式(S1)中,較佳係k1為2或3,l1為0或1,m1為0或1(惟k1、l1及m1合計為3),更佳係k1為3。此處,r2為2或3,較佳為3。另外,r1、r2及r3合計為3。
一態樣中,Rn為-X1-RSi所表示之基,式(A1)或(A2)中RSi係以式(S2)所表示之基。
式(S2)中,較佳係l2為2或3,m2為0或1(惟l2及m2合計為3),更佳係l2為3。此處,m1”為2或3,較佳為3。
一態樣中,Rn為-X1-RSi所表示之基,式(A1)或(A2)中RSi係以式(S1)所表示之基,k1為0。較佳係l1為2或3,更佳係l1為3。
一態樣中,本揭示的組成物中,具有氟聚醚基之矽烷化合物係式(A1)所表示的化合物。
另一態樣中,本揭示的組成物中,具有氟聚醚基之矽烷化合物係式(A2)所表示的化合物。
上述式(A1)或式(A2)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物並未特別限定,可具有5×102至1×105的平均分子量。在此範圍中,從摩擦耐久性的觀點來看,較佳係具有2,000至32,000、更佳為2,500至12,000的平均分子量。另外,此「平均分子量」係指數量平均分子量,「平均分子量」係以19F-NMR所測量的值。
具有氟聚醚基之矽烷化合物的含量,相對於組成物,例如可為含有10質量%以下,亦可為含有3質量%以下。上述含量可為例如0.5質量%以上,亦可為0.01質量%以上。
(具有氟烷基之矽烷化合物)
具有氟烷基之矽烷化合物具有式:
-SiR31 n3R32 3-n3所表示之基。具有氟烷基之矽烷化合物的分子量為300至500。
較佳為具有氟烷基之矽烷化合物係以式(B1)所表示。
Rf3-X31-SiR31 n3R32 3-n3 (B1)
上述R31在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基。可水解之基與上述同義。
上述R32在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基。此1價之有機基係排除上述可水解之基的1價之有機基。
R32中,1價之有機基較佳為C1-20烷基,更佳為C1-6烷基,再佳為甲基。
上述n3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數。惟具有氟烷基之矽烷化合物中,至少1個n3為1以上。
n3較佳為1至3的整數,更佳為2或3,再佳為3。
上述Rf3為可經1個以上的氟原子取代的C1-6烷基,較佳為C1-6全氟烷基,更佳為C2-6全氟烷基。
一態樣中Rf3為C2-5全氟烷基。一態樣中Rf3為C3-5全氟烷基。
上述X31為單鍵、氧原子或2價之有機基。
一態樣中,X31為單鍵。
一態樣中,X31為氧原子。
一態樣中,X31為2價之有機基。
X31較佳為-(X311)z11-(Z31)z12-。以括弧括起之各重複單元的存在順序在X31中為任意。另外,X31中,左側鍵結於Rf3。
上述X311為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基,較佳係未經氟原子取代的C1-3伸烷基。
上述Z31分別獨立地為氧原子或硫原子,較佳為氧原子。
上述z11為1至3的整數。一態樣中,z11為1。一態樣中,z11為2。一態樣中,z11為3。
上述z12為0至2的整數。一態樣中,z12為0。一態樣中,z12為1。
一態樣中,上述z11為1至5的整數。
X31較佳係以-X311-Z31-X311-或-X311-表示。可列舉例如:C1-5伸烷基-O-C1-5伸烷基、C1-5伸烷基。
X31具體可列舉以下的構造。-CH2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CH2-O-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)4-
具有氟烷基之矽烷化合物可列舉例如以下的構造:C4F9(CH2)2Si(OCH3)3、C4F9CH2O(CH2)2Si(OCH3)3、
C4F9CH2O(CH2)3Si(OCH3)3、C5F11(CH2)2Si(OCH3)3、C5F11CH2O(CH2)2Si(OCH3)3、C5F11CH2O(CH2)3Si(OCH3)3、C6F13(CH2)2Si(OCH3)3、C6F13CH2O(CH2)2Si(OCH3)3、C6F13CH2O(CH2)3Si(OCH3)3。
具有氟烷基之矽烷化合物的含有率,相對於具有氟聚醚基之矽烷化合物,以莫耳比([具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數]/[具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數])計為0.001至1.5,較佳為0.001至0.5,更佳為0.001至0.1,再佳為0.001至0.02。
具有氟烷基之矽烷化合物的含量,相對於組成物,例如可含有0.02質量%以下,亦可為0.0002質量%以下。上述含量,例如可為0.00002質量%以上,亦可為0.000002質量%以上。
一態樣中,本揭示的組成物不包含具有氟烷基之矽烷化合物的寡聚物。
(其他化合物)
本揭示的組成物可更包含溶劑、可理解為含氟油的(非反應性)氟聚醚化合物、較佳為全氟(聚)醚化合物(以下統稱「含氟油」)、可理解為矽酮油(silicone oil,亦稱為聚矽氧油)的(非反應性)矽酮化合物(以下稱為「矽酮油」)、觸媒、界面活性劑、聚合抑制劑、敏化劑等。
上述溶劑,相對於本揭示的組成物,可含有50至99.8質量%,亦可含有90至99.8質量%。
溶劑可列舉例如:己烷、環己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷、礦油精等脂肪族烴類;苯、甲苯、二甲苯、萘、溶劑油(solvent naphtha)等芳香族烴類;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丙酯、乙酸異丁酯、乙酸賽路蘇、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸卡必醇酯、草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、丁酸乙基-2-羥酯、乙醯乙酸乙酯、乙酸戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、2-羥基異丁酸甲酯、2-羥基異丁酸乙酯等酯類;丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、2-己酮、環己酮、甲胺基酮、2-庚酮等酮類;乙基賽路蘇、甲基賽路蘇、甲基賽路蘇乙酸酯、乙基賽路蘇乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單***、丙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單***乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚、乙二醇單烷醚等二醇醚類;甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第三丁醇、第二丁醇、3-戊醇、辛醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、第三戊醇等醇類;乙二醇、丙二醇等二醇類;四氫呋喃、四氫吡喃、二烷等環狀醚類;N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等醯胺類;甲基賽路蘇、賽路蘇、異丙基賽路蘇、丁基賽路蘇、二乙二醇單甲醚等醚醇類;二乙二醇單***乙酸酯;1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷、1,2-二氯-1,1,2,2-四氟乙烷、二甲基亞碸、1,1-二氯-1,2,2,3,3-五氟丙烷(HCFC225)、1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(例如,日本ZEON股份有限公司製的ZEORORA(註冊商標)H)、全氟丁基甲醚(C4F9OCH3)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7100)、全氟丁基***(C4F9OC2H5)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7200)、全氟
己基甲醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7300)等含氟溶劑等。或此等的2種以上之混合溶劑等。
溶劑較佳為含氟溶劑,更佳為氫氟醚,再佳為選自由全氟丁基甲醚、全氟丁基***及全氟己基甲醚所成群組中的至少一者,特佳為全氟丁基甲醚(C4F9OCH3)及/或全氟丁基***(C4F9OC2H5)。
上述含氟油並未特別限定,可列舉例如:以下述通式(3)所表示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6...(3)
式中,Rf5表示可經1個以上的氟原子取代的碳數1至16烷基(較佳為C1-16的全氟烷基)、Rf6表示可經1個以上的氟原子取代的碳數1至16烷基(較佳為C1-16全氟烷基)、氟原子或氫原子,Rf5及Rf6更佳係分別獨立地為C1-3全氟烷基。
a’、b’、c’及d’分別表示構成聚合物之主骨架的全氟(聚)醚之4種重複單元數,其互相獨立地為0以上300以下的整數,a’、b’、c’及d’的和至少為1,較佳為1至300,更佳為20至300。標註a’、b’、c’或d’並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。此等重複單元之中,-(OC4F8)-可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及(OCF2CF(C2F5))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及(OCF2CF(CF3))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)-可為-(OCF2CF2)-及(OCF(CF3))-的任一者,較佳為-(OCF2CF2)-。
上述通式(3)所表示的全氟(聚)醚化合物的例子可列舉以下述通式(3a)及(3b)的任一者所示之化合物(可為1種或2種以上的混合物)。
Rf5-(OCF2CF2CF2)b”-Rf6...(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2CF2)b”-(OCF2CF2)c”-(OCF2)d”-Rf6...(3b)
此等式中,Rf5及Rf6如上所述;式(3a)中,b”為1以上100以下的整數;式(3b)中,a”及b”分別獨立地為0以上30以下的整數,c”及d”分別獨立地為1以上300以下的整數。標註a”、b”、c”、d”並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。
又,從另一觀點來看,含氟油可為通式Rf4-F(式中,Rf4為C5-16全氟烷基)所表示的化合物。又,亦可為氯三氟乙烯寡聚物。
上述含氟油可具有500至10000的平均分子量。含氟油的分子量可使用GPC測量。
相對於本揭示的組成物,例如可含有0至50質量%的含氟油,較佳為0至30質量%,更佳為0至5質量%。一態樣中,本揭示的組成物中實質上不具有含氟油。實質上不具有含氟油,係指完全不具有含氟油,或是可具有極微量的含氟油。
一態樣中,可使含氟油的平均分子量大於具有氟聚醚基之矽烷化合物的平均分子量。藉由成為這樣的平均分子量,尤其是在藉由真空蒸鍍法形成表面處理層時,可得到更優良的摩擦耐久性與表面平滑性。
一態樣中,亦可使含氟油的平均分子量小於具有氟聚醚基之矽烷化合物的平均分子量。藉由成為這樣的平均分子量,可抑制由此化合物所得之表
面處理層的透明性降低,並且可形成具有高摩擦耐久性及高表面平滑性的硬化物。
含氟油有助於提升由本揭示之組成物所形成之層的表面平滑性。
一態樣中,相對於具有氟聚醚基之矽烷化合物及具有氟烷基之矽烷化合物的合計,含有0.001至50莫耳%的含氟油,例如可含有0.01至40莫耳%的含氟油。
一態樣中,本揭示的組成物含有式(A1)所表示的化合物及式(A2)所表示的化合物以作為具有氟聚醚基之矽烷化合物,並且更含有含氟油。
一態樣中,相對於式(A1)所表示的化合物、式(A2)所表示的化合物、具有氟烷基之矽烷化合物及含氟油的合計,較佳係含有0.001至70莫耳%的式(A2)所表示的化合物以及0.001至50莫耳%的含氟油,更佳係含有0.01至60莫耳%的式(A2)所表示的化合物以及0.01至40莫耳%的含氟油,再佳係含有0.1至50莫耳%的式(A2)所表示的化合物以及0.1至30莫耳%的含氟油。另外,具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數的比率為0.001至1.5。
一態樣中,相對於式(A1)所表示的化合物、式(A2)所表示的化合物、具有氟烷基之矽烷化合物及含氟油的合計,較佳係含有0.001至70莫耳%的式(A1)所表示的化合物以及0.001至50莫耳%的含氟油,更佳係含有0.01至60莫耳%的式(A1)所表示的化合物以及0.01至40莫耳%的含氟油,再佳係含有0.1至50莫耳%的式(A1)所表示的化合物以及0.1至30莫耳%的含氟油。另外,具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數的比率為0.001至1.5。
作為上述矽酮油,可使用例如矽氧烷鍵在2,000以下的直鏈狀或環狀的矽酮油。直鏈狀的矽酮油,可為所謂的直鏈矽酮油(straight silicone oil)及改質矽酮油。直鏈矽酮油可列舉:二甲基矽酮油、甲基苯基矽酮油、甲基氫矽酮油。改質矽酮油可列舉:以烷基、芳烷基、聚醚、高級脂肪酸酯、氟烷基、胺基、環氧基、羧基、醇等將直鏈矽酮油改質而成者。環狀的矽酮油可列舉例如:環狀二甲基矽氧烷油等。
本揭示的組成物(例如表面處理劑)中,相對於上述本揭示的具有氟聚醚基之矽烷化合物的合計100質量份(2種以上時為此等的合計,以下亦同),可含有例如0至300質量份、較佳為50至200質量份的該矽酮油。
矽酮油有助於提升表面處理層的表面平滑性。
上述觸媒可列舉:酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、鹼(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、過渡金屬(例如Ti、Ni、Sn等)等。
觸媒係促進本揭示的具有氟聚醚基之矽烷化合物的水解及脫水縮合,並促進由本揭示的組成物(例如表面處理劑)所形成之層的形成。
作為其他成分,除了上述以外,亦可列舉例如:四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷等。
(表面處理劑)
本揭示的組成物可使用作為對基材進行表面處理的表面處理劑。
一態樣中,本揭示的表面處理劑可含浸於作為多孔質物質之例如多孔質的陶瓷材料、作為金屬纖維之例如鋼絲絨經硬化成綿狀者,然後形成顆粒。該顆粒可用於例如真空蒸鍍。
一態樣中,本揭示的表面處理劑可用於濕潤被覆。
(物品)
以下說明本揭示的物品。
本揭示的物品包含基材、以及由包含本揭示的具有氟聚醚基之矽烷化合物的表面處理劑形成於該基材表面上的層(表面處理層)。
一態樣中,本揭示的物品亦可包含基材與由本揭示的具有氟聚醚基之矽烷化合物形成於該基材表面上的層。
本揭示中可使用的基材可以例如玻璃、樹脂(天然或合成樹脂,例如可為一般的塑膠材料,亦可為板狀、膜、其他型態)、金屬,陶瓷、半導體(矽、鍺等)、纖維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築構件等任意適當材料所構成。
例如,欲製造之物品為光學構件時,構成基材表面的材料可為光學構件用材料,例如玻璃或透明塑膠等。又,欲製造之物品為光學構件時,可在基材表面(最外層)上形成任意層(或膜)、例如硬塗層及抗反射層等。抗反射層可使用單層抗反射層及多層抗反射層的任一者。可用於抗反射層的無機物的例子可列舉:SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。此等無機物可單獨使用,或是將此等2種以上組合(例如作為混合物)使用。多層抗反射層的情況,其最外層較佳係使用SiO2及/或SiO。欲製造的物品為觸控面板用的光學玻璃零件時,基材(玻璃)表面的一部分可具有透明電極,例如使用有氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅等的薄膜。又,基材亦可因應其具體規格等而具有絕緣層、黏著層、保護層、裝飾框層(I-CON)、霧化膜層、硬塗層、偏光膜、相位差膜及液晶表示模組等。
基材的形狀並未特別限定。又,欲形成表面處理層之基材的表面區域,只要為基材表面的至少一部分即可,可因應欲製造之物品的用途及具體規格等適當決定。
此基材可為至少其表面部分由原本就具有羥基的材料所構成者。此材料可列舉玻璃,又可列舉表面形成有自然氧化膜或熱氧化膜的金屬(尤其是卑金屬)、陶瓷、半導體等。或是如樹脂等,雖具有羥基卻不充分的情況或是原本就不具有羥基的情況,藉由對基材實施某種前處理,可將羥基導入基材的表面,或使羥基增加。此前處理的例子可列舉電漿處理(例如電暈放電)或離子束照射。電漿處理係可將羥基導入基材表面或使羥基增加,並且亦可理想地用於潔淨基材表面(去除異物等)。又,該前處理的其他例子可列舉:藉由LB法(朗謬-布洛傑(Langmuir-Blodgett)法)或化學吸附法等,使具有碳-碳不飽和鍵的界面吸附劑預先以單分子膜的型態形成於基材表面,之後在包含氧或氮等的環境下使不飽和鍵開裂的方法。
又或是作為此基材,亦可為至少其表面部分由包含其他反應性基、例如具有1個以上的Si-H基的矽酮化合物或烷氧基矽烷的材料所構成者。
接著,在此基材表面形成上述本揭示之表面處理劑的層,因應需求對該層進行後處理,藉此可由本揭示之表面處理劑形成層。
本揭示的表面處理劑的層形成,可藉由對基材表面以被覆該表面的方式施用上述組成物來實施。被覆方法並未特別限定。例如,可使用濕潤被覆法及乾燥被覆法。
濕潤被覆法的例子可列舉:浸漬塗布法、旋塗法、流動塗布法、噴塗法、輥塗法、凹版塗布及類似的方法。
乾燥被覆法的例子可列舉:蒸鍍(通常為真空蒸鍍)、濺鍍、CVD及類似的方法。蒸鍍法(通常為真空蒸鍍法)的具體例可列舉:使用有電阻加熱、電子束、微波等的高頻加熱、離子束及類似的方法。CVD法的具體例可列舉:電漿-CVD、光學CVD、熱CVD及類似的方法。
再者,亦可由常壓電漿法來進行被覆。
使用濕潤被覆法時,可用溶劑將本揭示之表面處理劑稀釋後再施用於基材表面。從本揭示的組成物的穩定性及溶劑的揮發性的觀點來看,較佳係使用下述溶劑:碳數5至12的全氟脂肪族烴(例如,全氟己烷、全氟甲基環己烷及全氟-1,3-二甲基環己烷);聚氟芳香族烴(例如雙(三氟甲基)苯);聚氟脂肪族烴(例如,C6F13CH2CH3(例如旭硝子股份有限公司製的ASAHIKLIN(註冊商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(例如日本ZEON股份有限公司製的ZEORORA(註冊商標)H);氫氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲醚(C3F7OCH3)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7000)、全氟丁基甲醚(C4F9OCH3)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7100)、全氟丁基***(C4F9OC2H5)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7200)、全氟己基甲醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如Sumitomo 3M股份有限公司製的Novec(商標)7300)等烷基全氟烷醚(全氟烷基及烷基可為直鏈或分枝狀)、或CF3CH2OCF2CHF2(例如旭硝子股份有限公司製的ASAHIKLIN(註冊商標)AE-3000))等。此等的溶劑可單獨使用或作為2種以上的混合物使用。其中,較佳為氫氟醚,特佳為全氟丁基甲醚(C4F9OCH3)及/或全氟丁基***(C4F9OC2H5)。
較佳係使用與本揭示之組成物的溶劑相同的溶劑來作為濕潤被覆法中所使用的溶劑。
使用乾燥被覆法時,本揭示的表面處理劑可直接使用於乾燥被覆法,或是以上述溶劑稀釋後再用於乾燥被覆法。
本揭示的表面處理劑,從可得到良好分散性的觀點來看,可有效地用於濕潤被覆法,尤其是噴塗法。
表面處理劑的層形成,較佳係以在層中使本揭示的表面處理劑與用以水解及脫水縮合的觸媒共存的方式實施。簡而言之,以濕潤被覆法進行時,可在以溶劑稀釋本揭示的表面處理劑後,在即將施用於基材表面之前,在本揭示之表面處理劑的稀釋液中添加觸媒。以乾燥被覆法進行時,直接將添加有觸媒的本揭示之表面處理劑進行蒸鍍(通常為真空蒸鍍),或是可使用使添加有觸媒的本揭示之表面處理劑含浸於鐵或銅等金屬多孔體而成的顆粒狀物質來進行蒸鍍(通常為真空蒸鍍)處理。
觸媒可使用任何適當的酸或鹼。酸觸媒可使用例如乙酸、甲酸、三氟乙酸等。又,鹼觸媒可使用例如氨、有機胺類等。
如上所述,在基材表面形成源自本揭示之表面處理劑的層,製造本揭示的物品。藉此所得之上述層兼具高的表面平滑性與高的摩擦耐久性。又,上述層,除了高的摩擦耐久性以外,雖亦與所使用之表面處理劑的組成有關,但可具有撥水性、撥油性、防污性(例如防止指紋等污漬附著)、防水性(防止水浸入電子零件等)、表面平滑性(或潤滑性,例如指紋等污漬的擦除性、以及對手指的優良觸感)等,而可理想地用作機能性薄膜。
亦即本揭示亦進一步關於一種在最外層具有上述表面處理層的光學材料。
作為光學材料,除了與後述例示之顯示器等相關的光學材料以外,可較佳地列舉各式各樣的光學材料,例如:陰極射線管(CRT;例如,個人電腦顯示器)、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、無機薄膜EL點陣顯示器、背面投影型顯示器、螢光顯示管(VFD)、場發射顯示器(FED;Field Emission Display)等顯示器或該等的顯示器之保護板,或是在該等的表面實施有抗反射膜處理者。
具有由本揭示所得之層的物品並未特別限定,可為光學構件。作為光學構件的例子,可列舉如下:眼鏡等鏡片;PDP、LCD等顯示器之前保護板、抗反射板、偏光板、抗眩光板;行動電話、行動資訊終端等設備的觸控面板薄片;藍光(Blu-ray(註冊商標))碟、DVD碟、CD-R、MO等光碟的碟面;光纖;時鐘的顯示面等。
又,具有由本揭示所得之層的物品可為醫療設備或醫療材料。
又,具有由本揭示所得之層的物品可為汽車內外裝構件。外裝材的例子可列舉如下:窗戶、燈罩、車外攝影機罩。作為內裝材的例子,可列舉如下:儀錶板蓋、導航系統觸控面板、裝飾內裝材料。
上述層的厚度並未特別限定。光學構件的情況,從光學性能、表面平滑性、摩擦耐久性及防污性的觀點來看,上述層的厚度較佳為1至50nm、1至30nm,較佳為1至15nm的範圍。
以上詳述使用本揭示之組成物(例如表面處理劑)所得之物品。另外,包含本揭示之具有氟聚醚基之矽烷化合物或具有氟聚醚基之矽烷化合物的組成物之用途、使用方法以及物品的製造方法等,不限於上述例示者。
以上雖說明實施型態,但應理解只要不脫離申請專利範圍的主旨及範圍,及可進行型態及細節的各種變更。
[實施例]
通過以下的實施例更具體說明本發明的表面處理劑,但本發明不限於此等實施例。另外,本實施例中,以下所示的化學式皆表示平均組成。本實施例中,構成全氟聚醚的重複單元之存在順序為任意。
(實施例1至7)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A1)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200)。再者,以表1所述之比率在該溶液中添加具有氟烷基之矽烷化合物(化合物B1至B3),製備表面處理劑。另外,表中記載為「莫耳比」的數值,係指具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於化合物A1之莫耳數的比率(莫耳比)。
(m≒21,n≒35)
化合物B1:
C2F5CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
化合物B2:
C4F9CH2CH2Si(OCH3)3
化合物B3:
C6F13CH2CH2Si(OCH3)3
(實施例8至14)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A2)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200)。再者,以表2所述之比率在該溶液中添加具有氟烷基之矽烷化合物(化合物B1至B3),製備表面處理劑。另外,表中記載為「莫耳比」的數值,係指具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於化合物A2之莫耳數的比率(莫耳比)。
(m≒21,n≒35)
(比較例1)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A1)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200),製備表面處理劑。
(比較例2)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A1)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200)。再者,以表1所述之量在該溶液中添加具有氟烷基之矽烷化合物(化合物B2),製備表面處理劑。
(比較例3)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A2)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200),製備表面處理劑。
(比較例4)
以成為固形分濃度0.06質量%的方式使具有氟聚醚基之矽烷化合物(化合物A2)溶解於氫氟醚(3M公司製,Novec HFE-7200)。再者,以表2所述之量在該溶液中添加具有氟烷基之矽烷化合物(化合物B2),製備表面處理劑。
(表面處理層的形成)
使用搭載有雙流體噴嘴的噴塗裝置(東邦化成公司製),將上述製備的表面處理劑均勻地噴塗在基材(化學強化玻璃(Corning公司製,「Gorilla」玻璃,厚度0.7mm)的表面。表面處理劑的塗布量為48g/m2。於150℃將塗布後的基材加熱30分鐘,形成硬化膜。
(評價)
測量上述實施例1至14及比較例1至4中所得之硬化膜的磨耗耐久性。
(耐橡皮擦摩擦耐久性試驗)
使用摩擦試驗機(新東科學公司製),以下述條件每摩擦2500次即測量對水的接觸角,持續試驗至小於100°為止。試驗環境條件為25℃,濕度40%RH。將小於100°時的摩擦次數視為橡皮擦摩擦耐久性試驗的結果並呈示於表1及2。
橡皮擦:Raber Eraser(Minoan公司製)
移動距離(單向):30mm
移動速度:40來回/分鐘
[產業上的可利用性]
本揭示的表面處理劑可理想地用於在各式各樣的基材、尤其是要求穿透性的光學構件表面形成表面處理層。
Claims (24)
- 一種組成物,包含下述式(A1)或(A2)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物、及具有下述式(B)所表示之基且分子量為300至500的具有氟烷基之矽烷化合物;-SiR31 n3R32 3-n3 (B)前述具有氟烷基之矽烷化合物之莫耳數相對於前述具有氟聚醚基之矽烷化合物之莫耳數的比率為0.001至1.5;式中:RF1為Rf1-RF-Oq-;RF2為-Rf2 p-RF-Oq-;Rf1為可經1個以上的氟原子取代的C1-16烷基;Rf2為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基;RF在每次出現時分別獨立地為下式所表示之基,-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-;a、b、c、d、e及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意;RFa在每次出現時分別獨立地為氫原子、氟原子或氯原子;p為0或1;q獨立地為0或1;RSi在每次出現時分別獨立地為下述式(S1)至(S2)所表示之基的任一者;-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1 (S1)-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2 (S2)Ra1在每次出現時分別獨立地為-Z1-SiR41 r1R42 r2R43 r3;Z1在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;R41在每次出現時分別獨立地為-Z1’-SiR41’ r1’R42’ r2’R43’ r3’;Z1’在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;R41’在每次出現時分別獨立地為-Z1”-SiR41” r1”R42” r2”;Z1”在每次出現時分別獨立地為氧原子或2價之有機基;R41”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;R42”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;r1”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;r2”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;R42’在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;R43’在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;r1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;r2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;r3’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;R42在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;R43在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;r1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;r2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;r3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;Rb1在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;Rc1在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;k1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;l1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;m1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;惟式(S1)中,至少存在1個與羥基或可水解之基鍵結的Si原子;Rd1在每次出現時分別獨立地為-Z2-CR51 s1R52 s2R53 s3;Z2在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;R51在每次出現時分別獨立地為-Z2’-CR51’ s1’R52’ s2’;Z2’在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;R51’在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;Z3在每次出現時分別獨立地為單鍵、氧原子或2價之有機基;R51”在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;R52”在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;m1”在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;R52’在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;s1’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;s2’在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;R52在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;R53在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;s1在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;s2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;s3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;Re1在每次出現時分別獨立地為-Z3-SiR51” m1”R52” 3-m1”;Rf1在每次出現時分別獨立地為氫原子、羥基或1價之有機基;k2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;l2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;m2在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;惟式(S2)中,至少存在1個m1”為1至3的-SiR51” m1”R52” 3-m1”;Rn在每次出現時分別獨立地為-X1-RSi所表示之基、氫原子、苯基或C1-6烷基;X1在每次出現時分別獨立地為單鍵或2價之有機基;R31在每次出現時分別獨立地為羥基或可水解之基;R32在每次出現時分別獨立地為氫原子或1價之有機基;n3在每次出現時分別獨立地為0至3的整數;惟前述具有氟烷基之矽烷化合物中,至少1個n3為1以上。
- 如請求項1所述之組成物,其中,RF在每次出現時分別獨立地為下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所表示之基:-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)式中,d為1至200的整數,e為0或1;-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)式中,c及d分別獨立地為0以上30以下的整數,e及f分別獨立地為1以上200以下的整數,c、d、e及f的和為2以上,標註c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意;-(R6-R7)g- (f3)式中,R6為OCF2或OC2F4,R7係選自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10及OC6F12之中的基,或是從此等之基獨立選擇的2或3個基的組合,g為2至100的整數;-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)式中,e為1以上200以下的整數,a、b、c、d及f分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意;-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)式中,f為1以上200以下的整數,a、b、c、d及e分別獨立地為0以上200以下的整數,a、b、c、d、e及f的和至少為1,又,標註a、b、c、d、e或f並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。
- 如請求項1或2所述之組成物,其中X1在每次出現時分別獨立地為-(R21)p1-(Xa)q1-所表示之基;式中:R21為單鍵、可經1個以上的氟原子取代的-(CH2)p2-或是鄰、間或對伸苯基,p2為1至20的整數,Xa表示-(Xb)q2-、Xb在每次出現時分別獨立地為選自由-O-、-S-、鄰、間或對伸苯基、-(OR35)n4-、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CON(R34)-、-O-CON(R34)-、-N(R34)-及-(CH2)n’-所成群組中的基,R33在每次出現時分別獨立地為苯基、C1-6烷基或C1-6烷氧基,R34在每次出現時分別獨立地為氫原子、苯基或C1-6烷基,R35在每次出現時分別獨立地為C1-6伸烷基,n4在每次出現時分別獨立地為1至5的整數,m’在每次出現時分別獨立地為1至100的整數,n’在每次出現時分別獨立地為1至20的整數,q2為1至10的整數,p1為0或1,q1為0或1,此處,標註p1或q1並以括弧括起之各重複單元的存在順序為任意。
- 如請求項1至3中任一項所述之組成物,其中Z1及Z3在每次出現時分別獨立地為C1-6伸烷基。
- 如請求項1至4中任一項所述之組成物,其中k1為2或3,且r2為2或3。
- 如請求項1至4中任一項所述之組成物,其中k1為0,l1為2或3。
- 如請求項1至4中任一項所述之組成物,其中l2為2或3,且m1”為2或3。
- 如請求項1至4中任一項所述之組成物,其中l2為2,m2為1。
- 如請求項1至8中任一項所述之組成物,其中Rn為氫原子、苯基或C1-6烷基。
- 如請求項1至8中任一項所述之組成物,其中Rn係以-X1-RSi所表示。
- 如請求項10所述之組成物,其中Rn係以-X1-RSi所表示,式(A1)或(A2)中RSi係以式(S1)所表示,k1為0。
- 如請求項1至10中任一項所述之組成物,其中RSi係以式(S1)所表示。
- 如請求項1至10中任一項所述之組成物,其中RSi係以式(S2)所表示。
- 如請求項1至13中任一項所述之組成物,其中前述具有氟烷基之矽烷化合物係由式(B1)所表示:Rf3-X31-SiR31 n3R32 3-n3 (B1)Rf3為可經1個以上的氟原子取代的C1-6烷基;X31為單鍵、氧原子或2價之有機基;R31分別獨立地為羥基或可水解之基;R32分別獨立地為氫原子或1價之有機基;n3為1至3的整數。
- 如請求項14所述之組成物,其中Rf3為C1-6全氟烷基。
- 如請求項14或15所述之組成物,其中,X31係以-(X311)z11-(Z31)z12-所表示,X311為可經1個以上的氟原子取代的C1-6伸烷基,Z31分別獨立地為氧原子或硫原子,z11為1至3的整數,z12為0至2的整數,惟,以括弧括起之各重複單元的存在順序在X31中為任意。
- 如請求項1至16中任一項所述之組成物,其中n3為3。
- 如請求項1至17中任一項所述之組成物,其更具有含氟油。
- 如請求項18所述之組成物,其中前述含氟油係以下式所表示,Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6Rf5及Rf6分別獨立地為可經1個以上的氟原子取代的碳數1至16烷基,a’及b’分別獨立地為0以上30以下的整數,c’及d’分別獨立地為1以上200以下的整數,a’、b’、c’及d’的和至少為5以上,標註a’、b’、c’或d’並以括弧括起之各重複單元在式中的存在順序為任意。
- 如請求項1至19中任一項所述之組成物,其包含式(A1)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物及式(A2)所表示的具有氟聚醚基之矽烷化合物以作為具有氟聚醚基之矽烷化合物,且更具有含氟油。
- 如請求項1至20中任一項所述之組成物,其不包含選自由前述具有氟烷基之矽烷化合物所成群組中的化合物之寡聚物。
- 一種表面處理劑,其包含如請求項1至21中任一項所述之組成物。
- 如請求項22所述之表面處理劑,其為濕潤被覆用。
- 一種物品,具有基材、及藉由如請求項1至21中任一項所述之組成物或如請求項22至23中任一項所述之表面處理劑形成於該基材表面上的層。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021-012428 | 2021-01-28 | ||
JP2021012428 | 2021-01-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202239814A true TW202239814A (zh) | 2022-10-16 |
TWI851958B TWI851958B (zh) | 2024-08-11 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022115807A (ja) | 2022-08-09 |
CN116529322A (zh) | 2023-08-01 |
WO2022163319A1 (ja) | 2022-08-04 |
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