TW202122471A - 光學膜及可撓性顯示裝置 - Google Patents

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大松一喜
中小路崇
西岡宏司
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種包含聚醯胺系樹脂之耐彎曲性優異且具有高彈性模數之光學膜。 一種光學膜，其係包含聚醯胺系樹脂者，將該光學膜之厚度設為A μm，將該光學膜之一表面上之任意位置設為D0 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/4 μm之位置設為D1 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/2 μm之位置設為D2 ，將厚度方向上與D0 相距A×3/4 μm之位置設為D3 ，將D1 ～D3 之各位置上藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度分別設為I1 ～I3 時，該光學膜滿足式(1)及式(2)中至少一者： I1 /I2 ≦0.97       (1) I3 /I2 ≦0.97       (2)。

Description

光學膜及可撓性顯示裝置
本發明係關於一種包含聚醯胺系樹脂之光學膜、及具備該光學膜之可撓性顯示裝置。
液晶顯示裝置及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置等圖像顯示裝置廣泛活用於行動電話及智慧型手錶等各種用途中。一直以來使用玻璃作為此種圖像顯示裝置之前面板，但玻璃非常剛直，容易破裂，故難以用作例如可撓性顯示器等之前面板材料。作為代替玻璃之光學膜，例如對包含聚醯胺醯亞胺樹脂之塑膠膜進行了研究(例如專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻１]日本專利特開2018-119132號公報
[發明所欲解決之問題]
已知有使用聚醯胺系樹脂之各種光學膜，但仍需要進一步提高耐彎曲性。又，就防止光學膜之損傷等觀點而言，亦仍需要提高彈性模數。因此，本發明之課題在於提供一種包含聚醯胺系樹脂之耐彎曲性優異之光學膜。 [解決問題之技術手段]
本發明人為了解決上述課題而潛心研究，結果發現，製造光學膜時之製造條件可能會影響光學膜之耐彎曲性及彈性模數，而進一步進行了研究。結果發現，於在光學膜中藉由拉曼分光法測得之峰強度滿足特定式之情形時，能夠進一步提高光學膜之耐彎曲性及彈性模數，從而完成了本發明。即，本發明包括如下態樣。 [1]一種光學膜，其係包含聚醯胺系樹脂者，將該光學膜之厚度設為A μm，將該光學膜之一表面上之任意位置設為D0 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/4 μm之位置設為D1 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/2 μm之位置設為D2 ，將厚度方向上與D0 相距A×3/4 μm之位置設為D3 ，將D1 ～D3 之各位置上藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度分別設為I1 ～I3 時，該光學膜滿足式(1)及式(2)中至少一者： [數1]
Figure 02_image001
。 [2]如上述[1]所記載之光學膜，其中滿足上述式(1)之I1 /I2 或滿足上述式(2)之I3 /I2 為0.3以上。 [3]如上述[1]或[2]所記載之光學膜，其中光學膜之彈性模數為5.5 GPa以上。 [4]如上述[1]至[3]中任一項所記載之光學膜，其中光學膜之全光線透過率為80%以上。 [5]如上述[1]至[4]中任一項所記載之光學膜，其中聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為250,000以上。 [6]如上述[1]至[5]中任一項所記載之光學膜，其中聚醯胺系樹脂係聚醯胺醯亞胺樹脂。 [7]如上述[1]至[6]中任一項所記載之光學膜，其係可撓性顯示裝置之前面板用膜。 [8]一種可撓性顯示裝置，其具備如上述[1]至[7]中任一項所記載之光學膜。 [9]如上述[8]所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。 [10]如上述[8]或[9]所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。 [發明之效果]
根據本發明，能夠提供一種耐彎曲性優異且具有高彈性模數之光學膜。
以下，對本發明之實施方式詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於本文所說明之實施方式，可在不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
＜光學膜＞ 本發明之光學膜係包含聚醯胺系樹脂者，將該光學膜之厚度設為A μm，將該光學膜之一表面上之任意位置設為D0 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/4 μm之位置設為D1 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/2 μm之位置設為D2 ，將厚度方向上與D0 相距A×3/4 μm之位置設為D3 ，將D1 ～D3 之各位置上藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度分別設為I1 ～I3 時，該光學膜滿足式(1)及式(2)中至少一者。 [數2]
Figure 02_image003
換言之，可使I1 /I2 及I3 /I2 中任一者為0.97以下，另一者超過0.97，亦可使I1 /I2 及I3 /I2 兩者為0.97以下。
認為藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰係歸屬於光學膜中所含聚醯胺系樹脂中所包含之醯胺鍵的峰。並且，認為D1 ～D3 之各位置上藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度相對地表示光學膜之D1 ～D3 之各位置上之聚醯胺系樹脂之量。因此，例如上述式(1)中之I1 /I2 ≦0.97表示I1 之強度以特定比率小於I2 之強度，這意味著，表現出強度I1 之位置D1 上之聚醯胺系樹脂之量以特定比率少於表現出強度I2 之位置D2 上之聚醯胺系樹脂之量。同樣地，上述式(2)中之I3 /I2 ≦0.97意味著，表現出強度I3 之位置D3 上之聚醯胺系樹脂之量以特定比率少於表現出強度I2 之位置D2 上之聚醯胺系樹脂之量。此處，關於位置D0 ～D3 之各位置，如上所述，當光學膜之一表面上之任意位置為D0 ，將光學膜之厚度設為A μm時，厚度方向上與D0 相距A×1/4 μm之位置為D1 ，厚度方向上與D0 相距A×1/2 μm之位置為D2 ，厚度方向上與D0 相距A×3/4 μm之位置為D3 。因此，光學膜滿足上述式(1)及式(2)中至少一者表示，厚度方向上與表面上之位置D0 相距A×1/4 μm及/或A×3/4 μm之位置(D1 及/或D3 )上存在聚醯胺系樹脂之量以特定比率少於厚度方向上與表面上之位置D0 相距A×1/2 μm之位置D2 上之聚醯胺系樹脂之量的部分。
包含聚醯胺系樹脂之光學膜滿足上述式(1)及式(2)中至少一者時光學膜之耐彎曲性及彈性模數提高之理由雖不明確，但認為於上述位置D1 及/或D3 上存在聚醯胺系樹脂量較少之部分之情形時，該部分中存在除聚醯胺系樹脂以外之其他成分、例如溶劑等。因此，認為位置D1 及/或D3 與例如位置D2 相比，樹脂量更少，進而存在例如溶劑等除樹脂以外之成分，結果更具柔軟性。認為光學膜於一部分厚度區域中包含具有柔軟性之層，結果能夠維持光學膜之物理強度，並且提高耐彎曲性。又，認為具有柔軟性之層僅存在於一部分區域中，由此能夠使光學膜整體兼具高耐彎曲性與高彈性模數。
作為D1 ～D3 之各位置上由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度之測定方法，可列舉使用共聚聚焦拉曼顯微鏡之方法。具體而言，將共聚聚焦拉曼顯微鏡對焦於本發明之光學膜之表面上之後，在厚度方向上每隔一定間隔進行測定直至到達另一表面為止。然後，由所得結果獲得光學膜之厚度(A μm)，並且根據厚度相當於A×1/4 μm、A×2/4 μm、A×3/4 μm之位置上之測定結果，讀取1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度。作為拉曼分光法之測定條件，例如可使用實施例所記載之條件。
以上述方式測得之I1 /I2 及I3 /I2 中至少一者為0.97以下。於I1 /I2 及I3 /I2 均超過0.97之情形時，無法獲得充分之耐彎曲性及彈性模數。再者，I1 /I2 及I3 /I2 可均為0.97以下，但就容易進一步提高光學膜之強度之觀點而言，較佳為I1 /I2 及I3 /I2 中任一者為0.97以下。I1 /I2 及I3 /I2 中至少一者較佳為0.95以下，更佳為0.93以下，進而較佳為0.92以下，進而更佳為0.8以下，尤佳為0.6以下，尤其更佳為0.5以下。又，以上述方式測得之I1 /I2 及I3 /I2 之下限並無特別限定，就容易充分提高光學膜之強度之觀點而言，滿足上述式(1)之I1 /I2 及/或滿足上述式(2)之I3 /I2 較佳為0.3以上，更佳為0.35以上，進而較佳為0.40以上，進而更佳為0.45以上。
於光學膜中，只要能夠獲得具有上述特徵之膜，則將I1 /I2 或I3 /I2 調整為上述範圍之方法並無特別限定，例如可列舉：製造光學膜時所採用之清漆中使用之溶劑之種類及量、製造光學膜時之乾燥條件、拉幅條件等光學膜製造條件之調整方法。具體而言，製造光學膜時，進行如下步驟：使聚醯胺系樹脂溶解於溶劑中，將由此獲得之樹脂溶液(清漆)塗佈於基材上，使其乾燥，自基材將乾燥後之膜剝離，但於將樹脂溶液塗佈於基材上並使其乾燥之情形時，清漆中所包含之溶劑會自塗膜之基材側之面之相反側之與空氣相接之表面揮發。因此，塗膜之表面側之面可謂處於溶劑易揮發之環境中。另一方面，溶劑不易自塗膜之基材側之面揮發。若繼而剝離基材，則溶劑亦會自基材側之面揮發。並且，認為根據光學膜之製造條件不同，將光學膜之厚度設為1時，厚度方向上距所獲得之光學膜之與基材相接之面1/4之位置上最不容易乾燥，會產生溶劑不揮發而殘存之部分。藉由如上所述之方法，厚度方向上距光學膜之與基材相接之面1/4之位置上產生溶劑不揮發而殘存之部分，從而獲得了滿足上述式(1)及式(2)中至少一者之光學膜。可藉由調整光學膜之製造條件、尤其是乾燥條件而將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍以便形成如上所述之層。
用於製造光學膜之基材通常自光學膜剝離。因此，有時亦不明確光學膜之哪一個面係與基材相接之面，但考慮上述機制，較佳為D0 係光學膜之與基材相接之面上之位置，且光學膜滿足式(1)。作為判斷光學膜之哪一個面與基材相接之方法，例如可列舉表面粗糙度，例如可利用干涉式顯微鏡對光學膜之兩面測定其表面粗糙度，將該值較低之面設為與基材相接之面。又，關於滿足式(1)及式(2)中任一者之光學膜，於滿足式(1)之情形時，判斷靠近D1 之表面(具有D0 之面)係與基材相接之表面，於滿足式(2)之情形時，判斷靠近D3 之表面(具有D0 之面之相反側之面)係與基材相接之表面。
於本發明之一實施方式中，光學膜之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為83%以上，進而較佳為85%以上，進而更佳為88%以上，尤佳為89%以上，尤其更佳為90%以上。若全光線透過率為上述下限以上，則將光學膜尤其作為前面板組裝於圖像顯示裝置時，容易提高視認性。本發明之光學膜通常顯示出較高之全光線透過率，因此例如與使用透過率較低之膜之情形相比，能夠抑制獲得一定明度所需之顯示元件等之發光強度。因此，能夠減少耗電。例如，於將本發明之光學膜組裝於圖像顯示裝置之情形時，即便減少背光裝置之光量，亦趨於獲得明亮之顯示，能夠有助於節約能量。全光線透過率之上限通常為100%以下。再者，全光線透過率例如可依據JIS K 7105：1981或JIS K 7361-1：1997使用霧度電腦進行測定。又，全光線透過率可為下述光學膜之厚度範圍內之全光線透過率。
於本發明之一實施方式中，光學膜之霧度較佳為3%以下，更佳為2.5%以下，進而較佳為1.5%以下，進而更佳為1.0%以下，尤佳為0.5%以下，尤其更佳為0.2%以下。若光學膜之霧度為上述上限以下，則將光學膜尤其作為前面板組裝於圖像顯示裝置時，容易提高視認性。又，霧度之下限通常為0.01%以上。再者，霧度可依據JIS K 7105：1981或JIS K 7136：2000使用霧度電腦進行測定。
於本發明之一實施方式中，光學膜之黃度(YI值)較佳為3.0以下，更佳為2.5以下，進而較佳為2.2以下。若光學膜之黃度為上述上限以下，則透明性良好，在用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，能夠有助於獲得較高之視認性。又，黃度較佳為-5以上，更佳為-2以上。再者，關於黃度(YI值)，可使用紫外可見近紅外分光光度計對300～800 nm之光進行透過率測定，求出三刺激值(X,Y,Z)，並基於YI＝100×(1.2769X-1.0592Z)/Y之式算出。
於本發明之一實施方式中，光學膜之彈性模數較佳為5.3 GPa以上，更佳為5.5 GPa以上，進而較佳為5.7 GPa以上，進而更佳為5.9 GPa以上，尤佳為6.0 GPa以上，通常為100 GPa以下。彈性模數可使用拉伸試驗機(例如，夾頭間距離50 mm、拉伸速度10 mm/分鐘之條件)進行測定，例如可利用實施例所記載之方法進行測定。
就容易提高光學膜之透明性、視認性之觀點而言，本發明之光學膜之亮度L* 值較佳為90以上，更佳為93以上，進而較佳為95以上，且通常為100以下。上述亮度L* 值可使用分光光度計進行測定。具體而言，可使用分光光度計，於無樣本之狀態下進行背景測定後，將光學膜設置於樣本保持器，對波長300～800 nm之光進行透過率測定來進行測定。
本發明之光學膜之厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為25 μm以上，進而更佳為30 μm以上，且較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為60 μm以下，可為該等上限與下限之組合。若光學膜之厚度處於上述範圍內，則容易進一步提高光學膜之耐衝擊性。再者，光學膜之厚度可使用測微計進行測定，例如可利用實施例所記載之方法進行測定。
本發明之光學膜於耐彎曲性試驗中之彎曲次數(彎曲半徑R＝1 mm)較佳為20,000次以上，更佳為22,000次以上，進而較佳為24,000次以上。若彎曲次數為上述下限以上，則具有作為可撓性顯示裝置等之前面板材料之充分耐彎曲性。再者，本發明之耐彎曲性試驗中之彎曲次數係表示使用彎折試驗機於彎曲半徑(曲率半徑)R為1 mm之條件下使光學膜反覆彎折(正反兩方向)時，至該膜發生破裂之時點為止之往返彎折次數(將1個往返設為1次)，例如可利用實施例所記載之方法進行測定。
＜聚醯胺系樹脂＞ 本發明之光學膜包含聚醯胺系樹脂。光學膜中所包含之聚醯胺系樹脂只要至少含有包含醯胺基之重複結構單元，則並無特別限定，例如可為選自由如下聚合物所組成之群中之至少1種聚合物：含有包含醯胺基之重複結構單元之聚合物(以下，亦稱為聚醯胺樹脂)；及含有包含醯胺基之重複結構單元及包含醯亞胺基之重複結構單元兩者之聚合物(以下，亦稱為聚醯胺醯亞胺樹脂)。光學膜可含有1種聚醯胺系樹脂，亦可含有2種以上之聚醯胺系樹脂。就成膜性之觀點而言，基材層中所包含之聚醯胺系樹脂較佳為聚醯胺醯亞胺樹脂。
於本發明之一實施方式中，聚醯胺系樹脂係具有式(2)所表示之結構單元之聚醯胺樹脂、或具有式(1)所表示之結構單元及上述式(2)所表示之結構單元之聚醯胺醯亞胺樹脂。 [化1]
Figure 02_image005
[式(2)中，Z及X相互獨立地表示二價有機基，*表示鍵結鍵] [化2]
Figure 02_image007
[式(1)中，Y表示四價有機基，X表示二價有機基，*表示鍵結鍵] 就成膜性、透明性及耐彎曲性之觀點而言，聚醯胺系樹脂較佳為具有式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之聚醯胺醯亞胺樹脂。以下，對式(1)及式(2)進行說明，式(2)之相關說明係關於聚醯胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂兩者(聚醯胺系樹脂)，式(1)之相關說明係關於聚醯胺醯亞胺樹脂。
式(2)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物發生反應所形成之結構單元，式(1)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物發生反應所形成之結構單元。
式(2)中，Z表示二價有機基，較佳為表示可經碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子))取代的碳數4～40之二價有機基，更佳為表示可經碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子))取代的具有環狀結構之碳數4～40之二價有機基。再者，作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基之例，下述式(3)中之R3a 及R3b 之相關例示同樣適用。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。作為Z之有機基，可列舉式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵中不相鄰之2個鍵結鍵被取代為氫原子而成之基、及碳數6以下之二價鏈式烴基。 [化3]
Figure 02_image009
[式(20)～式(29)中，W1 表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-，其中，Ar相互獨立地表示氫原子可被取代為氟原子之碳數6～20之伸芳基(例如伸苯基)，*表示鍵結鍵] 作為Z之雜環結構，可列舉具有噻吩環骨架之基。就容易抑制光學積層體之黃度(降低YI值)之觀點而言，較佳為式(20)～式(29)所表示之基、及具有噻吩環骨架之基，更佳為式(26)、式(28)及式(29)所表示之基。
作為Z之有機基，更佳為式(20')、式(21')、式(22')、式(23')、式(24')、式(25')、式(26')、式(27')、式(28')及式(29')所表示之二價有機基。 [化4]
Figure 02_image011
[式(20')～式(29')中，W1 及*如式(20)～式(29)中所定義] 再者，式(20)～式(29)及式(20')～式(29')中之環上之氫原子可被取代為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子)取代)。
於聚醯胺系樹脂具有式(2)中之Z由上述式(20')～式(29')中任一式所表示之結構單元之情形時，尤其是具有式(2)中之Z由下述式(3')所表示之結構單元之情形時，就容易提高清漆之成膜性，容易提高光學膜之均勻性之觀點而言，較佳為除了該結構單元以外，聚醯胺系樹脂進而具有下式(d1)所表示之源自羧酸之結構單元。 [化5]
Figure 02_image013
[式(d1)中，R24 係針對下述式(3)中之R3a 所定義之基或氫原子，R25 表示R24 或-C(=O)-*，*表示鍵結鍵] 作為結構單元(d1)，具體而言，可列舉：R24 及R25 均為氫原子之結構單元(源自二羧酸化合物之結構單元)；R24 均為氫原子且R25 表示-C(=O)-*之結構單元(源自三羧酸化合物之結構單元)等。
聚醯胺系樹脂可包含複數種Z作為式(2)中之Z，複數種Z可彼此相同，亦可不同。尤其就容易提高本發明之光學膜之耐彎曲性、耐衝擊性，且容易提高光學特性之觀點而言，聚醯胺系樹脂較佳為至少具有如下結構單元，即式(2)中之Z由較佳為式(3)、更佳為式(3')所表示之結構單元。 [化6]
Figure 02_image015
[式(3)中，R3a 及R3b 相互獨立地表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R3a 及R3b 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，W相互獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之一價烴基，s係0～4之整數，t係0～4之整數，u係0～4之整數，*表示鍵結鍵] [化7]
Figure 02_image017
[式(3')中，R3a 、R3b 、s、t、u、W及*如式(3)中所定義] 再者，於本說明書中，聚醯胺系樹脂具有式(2)中之Z由式(3)所表示之結構單元、及聚醯胺系樹脂具有式(3)所表示之結構作為式(2)中之Z含義相同，意指聚醯胺系樹脂中所包含之複數個式(2)所表示之結構單元中之至少一部分結構單元中之Z由式(3)所表示。該記載亦適用於其他相同之記載。
式(3)及式(3')中，W相互獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，就光學積層體之耐彎曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。 R3a 及R3b 相互獨立地表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。作為碳數1～6之烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基等。作為碳數6～12之芳基，例如可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。就光學積層體之表面硬度及柔軟性之觀點而言，R3a 及R3b 較佳為相互獨立地表示碳數1～6之烷基，更佳為表示碳數1～3之烷基。此處，R3a 及R3b 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。 R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之一價烴基。作為碳數1～12之一價烴基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，其等可經鹵素原子取代。作為上述鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
式(3)及式(3')中之t及u相互獨立為0～4之整數，較佳為0～2之整數，更佳為0或1，進而更佳為0。
式(3)及式(3')中之s係0～4之範圍內之整數，若s處於該範圍內，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。就容易進一步提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，式(3)及式(3')中之s較佳為0～3之範圍內之整數，更佳為0～2之範圍內之整數，進而較佳為0或1，進而更佳為0。包含s為0之式(3)或式(3')所表示之結構作為式(2)中之Z的結構單元例如為源自對苯二甲酸或間苯二甲酸之結構單元，該結構單元尤佳為包含式(3)或式(3')中之s為0且u為0之結構的結構單元。就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，聚醯胺系樹脂較佳為包含源自對苯二甲酸之結構單元。聚醯胺系樹脂可包含1種或2種以上之Z由式(3)或式(3')所表示之結構單元。就提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，降低黃度(YI值)之觀點而言，聚醯胺系樹脂較佳為包含式(3)或式(3')中之s之值不同之2種以上之結構，更佳為包含式(3)或式(3')中之s之值不同之2種或3種結構作為式(2)中之Z。於此情形時，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易降低光學膜之黃度(YI值)之觀點而言，聚醯胺系樹脂進而較佳為含有s為0之式(3)所表示之結構作為式(2)所表示之結構單元中之Z，除了包含該結構之結構單元以外，進而含有包含s為1之式(3)所表示之結構的結構單元。又，亦較佳為除了具有s為0之式(3)所表示之Z的式(2)所表示之結構單元以外，進而具有上述式(d1)所表示之結構單元。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂具有s＝0且u＝0之結構作為式(3)或式(3')所表示之結構(二價基)。於本發明之更佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂具有s＝0且u＝0之結構、及式(3")所表示之結構作為式(3)或式(3')所表示之結構。 [化8]
Figure 02_image019
於此情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低黃度。
於聚醯胺系樹脂具有式(2)中之Z由式(3)或式(3')所表示之結構單元之情形時，將聚醯胺系樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，其比率較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為40莫耳%以上，進而更佳為50莫耳%以上，尤佳為60莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而較佳為80莫耳%以下。若式(2)中之Z由式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。若式(2)中之Z由式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則容易抑制源自式(3)之醯胺鍵間氫鍵所導致之含樹脂清漆之黏度上升，從而提高膜之加工性。
又，於聚醯胺系樹脂具有s＝1～4之式(3)或式(3')所表示之結構作為式(2)中之Z之情形時，將聚醯胺系樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z的式(2)所表示之結構單元之比率較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為7莫耳%以上，進而更佳為9莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，進而更佳為30莫耳%以下。若具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z的式(2)所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。若具有s為1～4之式(3)所表示之Z的式(2)所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則容易抑制源自式(3)或式(3')所表示之結構的醯胺鍵間氫鍵所導致之含樹脂清漆之黏度上升，從而提高膜之加工性。再者，式(1)、式(2)、式(2)中之Z由式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可利用1 H-NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂中之s為0～4之式(3)或式(3')所表示之Z較佳為30莫耳%以上，更佳為40莫耳%以上，進而較佳為45莫耳%以上，進而更佳為50莫耳%以上。若s為0～4之式(3)或式(3')所表示之Z為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。又，只要聚醯胺系樹脂中之s為0～4之式(3)或式(3')所表示之Z為100莫耳%以下即可。再者，樹脂中之具有s為0～4之式(3)或式(3')所表示之Z的式(2)所表示之結構單元之比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂中之s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z較佳為5莫耳%以上，更佳為8莫耳%以上，進而較佳為10莫耳%以上，進而更佳為12莫耳%以上。於聚醯胺系樹脂之s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z為上述下限以上之情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。又，s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，進而更佳為30莫耳%以下。於s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z為上述上限以下之情形時，容易抑制源自s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構的醯胺鍵間氫鍵所導致之含樹脂清漆之黏度上升，從而提高膜之加工性。再者，樹脂中之具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z的式(2)所表示之結構單元之比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
式(1)及式(2)中，X相互獨立地表示二價有機基，較佳為碳數4～40之二價有機基，更佳為具有環狀結構之碳數4～40之二價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。關於上述有機基，有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基，於此情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，本發明之聚醯胺系樹脂可包含複數種X，複數種X可彼此相同，亦可不同。作為X，可列舉：式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子由甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基取代而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
[化9]
Figure 02_image021
式(10)～式(18)中，*表示鍵結鍵， V1 、V2 及V3 相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-CO-或-N(Q)-。其中，Q表示可經鹵素原子取代之碳數1～12之一價烴基。作為碳數1～12之一價烴基，可列舉上文關於R9 所述之基。 一例中，V1 及V3 為單鍵、-O-或-S-，且V2 為-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -或-SO2 -。V1 及V2 與各環之鍵結位置、以及V2 及V3 與各環之鍵結位置相互獨立地相對於各環較佳為間位或對位，更佳為對位。
式(10)～式(18)所表示之基之中，就容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，較佳為式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及式(17)所表示之基，更佳為式(14)、式(15)及式(16)所表示之基。又，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及柔軟性之觀點而言，V1 、V2 及V3 相互獨立地較佳為單鍵、-O-或-S-，更佳為單鍵或-O-。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂包含式(4)所表示之結構作為式(1)中之X或式(2)中之X。 [化10]
Figure 02_image023
[式(4)中，R10 ～R17 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R10 ～R17 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] 若式(1)及式(2)所表示之複數個結構單元中之X之至少一部分係式(4)所表示之結構，則容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及透明性。
式(4)中，R10 、R11 、R12 、R13 、R14 、R15 、R16 及R17 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，可列舉式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基所例示之基。R10 ～R17 較佳為相互獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，其中，R10 ～R17 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為鹵素原子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。就光學膜之耐衝擊性、彈性模數、透明性及耐彎曲性之觀點而言，R10 ～R17 進而較佳為相互獨立地表示氫原子、甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基，進而更佳為R10 、R12 、R13 、R14 、R15 及R16 表示氫原子，R11 及R17 表示氫原子、甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基，尤佳為R11 及R17 表示甲基或三氟甲基。
於本發明之較佳之一實施方式中，式(4)所表示之結構單元係式(4')所表示之結構單元，即，式(1)及式(2)所表示之複數個結構單元中之X之至少一部分係式(4')所表示之結構單元。 [化11]
Figure 02_image025
於此情形時，藉由含有氟元素之骨架而提高聚醯胺系樹脂於溶劑中之溶解性，容易提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提高光學膜之光學特性。
於本發明之較佳之一實施方式中，上述聚醯胺系樹脂中之X之較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(4)、尤其是式(4')所表示。於聚醯胺系樹脂中之上述範圍內之X由式(4)、尤其是式(4')所表示之情形時，所獲得之光學膜藉由含有氟元素之骨架，容易提高樹脂於溶劑中之溶解性，容易提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，亦容易提高光學膜之光學特性。再者，較佳為上述聚醯胺系樹脂中之X之100莫耳%以下由式(4)、尤其是式(4')所表示。上述樹脂中之X可為式(4)、尤其是式(4')。上述樹脂中之X之由式(4)所表示之結構單元的比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
式(1)中，Y表示四價有機基，較佳為表示碳數4～40之四價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之四價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構，就容易提高耐衝擊性及彈性模數之觀點而言，可較佳地列舉芳香環。上述有機基係有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基，於此情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，聚醯胺系樹脂係聚醯胺醯亞胺樹脂，該聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y，複數種Y可彼此相同，亦可不同。作為Y，可列舉：以下之式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基而成之基；以及碳數6以下之四價鏈式烴基。
[化12]
Figure 02_image027
式(20)～式(29)中，*表示鍵結鍵，W1 表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示氫原子可被取代為氟原子之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。
式(20)～式(29)所表示之基之中，就容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，較佳為式(26)、式(28)或式(29)所表示之基，更佳為式(26)所表示之基。又，就容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低光學膜之黃度之觀點而言，W1 相互獨立地較佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，更佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，進而較佳為單鍵、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，進而更佳為單鍵或-C(CF3 )2 -。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(26)所表示。若聚醯胺醯亞胺樹脂中之上述範圍內之Y由式(26)、較佳為W1 為單鍵、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -之式(26)、更佳為W1 為單鍵或-C(CF3 )2 -之式(26)所表示，則容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低光學膜之黃度。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y由式(26)所表示之結構單元之比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
於本發明之較佳之一實施方式中，複數個式(1)中之Y之至少一部分由式(5)及/或式(9)所表示。 [化13]
Figure 02_image029
[式(5)中，R18 ～R25 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R18 ～R25 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] [化14]
Figure 02_image031
[式(9)中，R35 ～R40 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、或碳數6～12之芳基，R35 ～R40 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] 若複數個式(1)中之Y之至少一部分由式(5)所表示及/或由式(9)所表示，則容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及光學特性。
式(5)中，R18 、R19 、R20 、R21 、R22 、R23 、R24 及R25 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，可列舉上文中式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基所例示者。R18 ～R25 較佳為相互獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，其中，R18 ～R25 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為該鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點而言，R18 ～R25 進而較佳為相互獨立地表示氫原子、甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基，進而更佳為R18 、R19 、R20 、R23 、R24 及R25 表示氫原子，R21 及R22 表示氫原子、甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基，尤佳為R21 及R22 表示甲基或三氟甲基。
式(9)中，就容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點而言，R35 ～R40 較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為表示氫原子。其中，R35 ～R40 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，作為該鹵素原子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。作為R35 ～R40 中之碳數1～6之烷基及碳數6～12之芳基，分別可列舉上文所例示者。
於本發明之較佳之一實施方式中，式(5)由式(5')所表示，式(9)由式(9')所表示。 [化15]
Figure 02_image033
即，複數個Y之至少一部分由式(5')及/或式(9')所表示。於此情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。進而，於式(5)由式(5')所表示之情形時，藉由含有氟元素之骨架，容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂於溶劑中之溶解性，容易提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提高光學膜之光學特性。
於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(5)、尤其是式(5')所表示。若聚醯胺醯亞胺樹脂中之上述範圍內之Y由式(5)、尤其是式(5')所表示，則藉由含有氟元素之骨架，容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂於溶劑中之溶解性，容易降低含有該樹脂之清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提高光學膜之光學特性。再者，較佳為上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之100莫耳%以下由式(5)、尤其是式(5')所表示。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y可為式(5)、尤其是式(5')。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y由式(5)所表示之結構單元之比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
於本發明之較佳之一實施方式中，式(1)所表示之複數個結構單元較佳為除了Y由式(5)所表示之結構單元以外，進而包含Y由式(9)所表示之結構單元。於進而包含Y由式(9)所表示之結構單元之情形時，容易進一步提高光學膜之耐衝擊性及彈性模數。
聚醯胺醯亞胺樹脂可包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元，又，亦可除了式(1)及視情況式(2)所表示之結構單元以外，還包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元。 [化16]
Figure 02_image035
式(30)中，Y1 表示四價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為Y1 ，可列舉：式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基而成之基；以及碳數6以下之四價鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y1 ，複數種Y1 可彼此相同，亦可不同。
式(31)中，Y2 表示三價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為Y2 ，可列舉：上述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵中任一者被取代為氫原子而成之基；及碳數6以下之三價鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y2 ，複數種Y2 可彼此相同，亦可不同。
式(30)及式(31)中，X1 及X2 相互獨立地表示二價有機基，較佳為表示有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為X1 及X2 ，可列舉：上述式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟代基、氯代基或三氟甲基而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
於本發明之一實施方式中，聚醯胺系樹脂包含式(1)及/或式(2)所表示之結構單元、以及視情況式(30)及/或式(31)所表示之結構單元。又，就容易提高光學膜之光學特性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，上述聚醯胺系樹脂中，以式(1)及式(2)、以及視情況式(30)及式(31)所表示之全部結構單元為基準，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，進而較佳為95莫耳%以上。再者，聚醯胺系樹脂中，以式(1)及式(2)、以及視情況式(30)及/或式(31)所表示之全部結構單元為基準，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率通常為100%以下。再者，上述比率例如可利用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。
於本發明之一實施方式中，光學膜中之聚醯胺系樹脂之含量相對於光學膜100質量份，較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，進而較佳為50質量份以上，較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯胺系樹脂之含量處於上述範圍內，則容易提高光學膜之化學穩定性、光學特性、耐衝擊性及彈性模數。
就容易提高光學膜之化學穩定性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，聚醯胺系樹脂之重量平均分子量以標準聚苯乙烯換算計較佳為200,000以上，更佳為230,000以上，進而較佳為250,000以上，進而更佳為270,000以上，尤佳為280,000以上。又，就容易提高該樹脂於溶劑中之溶解性，並且容易提高光學膜之延伸性及加工性之觀點而言，聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為1,000,000以下，更佳為800,000以下，進而較佳為700,000以下，進而更佳為500,000以下。重量平均分子量例如可進行GPC測定，藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可利用實施例所記載之方法算出。再者，亦可藉由提高光學膜中所包含之聚醯胺系樹脂之重量平均分子量而提高光學膜之耐彎曲性，但若聚醯胺系樹脂之重量平均分子量過高，則有損光學膜之加工性，例如亦存在光學膜之物理性質及光學性質容易產生偏差之情形。具有上述特徵之本發明之光學膜即便於該光學膜中所包含之聚醯胺系樹脂之重量平均分子量相對較低之情形時，亦容易提高耐彎曲性，故而容易進一步提高光學膜之物理性質及光學性質之均質性。
於本發明之較佳之一實施方式中，於聚醯胺系樹脂為聚醯胺醯亞胺樹脂之情形時，該聚醯胺醯亞胺樹脂中之式(2)所表示之結構單元之含量相對於式(1)所表示之結構單元1莫耳，較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，進而更佳為1.5莫耳以上，較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，進而較佳為4.5莫耳以下。若式(2)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性及彈性模數。又，若式(2)所表示之結構單元之含量為上述上限以下，則容易抑制式(2)中之醯胺鍵間之氫鍵所導致之增黏，從而提高光學膜之加工性。
於本發明之較佳之一實施方式中，光學膜中所包含之聚醯胺系樹脂例如可包含可由上述含氟取代基等導入的氟原子等鹵素原子。於聚醯胺系樹脂包含鹵素原子之情形時，容易提高光學膜之彈性模數，且降低黃度(YI值)。若光學膜之彈性模數較高，則容易抑制損傷及皺褶等之發生。又，若光學膜之黃度較低，則容易提高該膜之透明性及視認性。鹵素原子較佳為氟原子。作為用以使聚醯亞胺系樹脂含有氟原子之較佳之含氟取代基，例如可列舉氟代基及三氟甲基。
以聚醯胺系樹脂之質量為基準，聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量分別較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為上述下限以上，則容易進一步提高光學膜之彈性模數，降低吸水率，進一步降低黃度，進一步提高透明性及視認性。若鹵素原子之含量為上述上限以下，則容易合成。
聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，進而較佳為96%以上。就容易提高光學膜之光學特性之觀點而言，醯亞胺化率較佳為上述下限以上。又，醯亞胺化率之上限為100%以下。醯亞胺化率表示聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值的比率。再者，於聚醯胺醯亞胺樹脂包含三羧酸化合物之情形時，醯亞胺化率表示聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值與源自三羧酸化合物之結構單元之莫耳量之合計的比率。又，醯亞胺化率可藉由IR(infrared spectroscopy，紅外分光)法、NMR法等求出。
(樹脂之製造方法) 聚醯胺樹脂例如可將二胺化合物及二羧酸化合物作為主要原料而製造。聚醯胺醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺前驅物樹脂例如可將四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物作為主要原料而製造，其中，二羧酸化合物較佳為至少包含式(3")所表示之化合物。 [化17]
Figure 02_image037
[式(3")中，R1 ～R8 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R1 ～R8 中所包含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， A表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-， R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之一價烴基， m係0～4之整數， R31 及R32 相互獨立地表示羥基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基或氯原子]
於本發明之較佳之一實施方式中，二羧酸化合物係m為0之式(3")所表示之化合物。作為二羧酸化合物，更佳為除了m為0之式(3")所表示之化合物以外還使用A為氧原子之式(3")所表示之化合物。又，於另一較佳之一實施方式中，二羧酸化合物係R31 及R32 為氯原子之式(3")所表示之化合物。又，亦可使用二異氰酸酯化合物來代替二胺化合物。
作為用以製造樹脂之二胺化合物，例如可列舉：脂肪族二胺、芳香族二胺及其等之混合物。再者，於本實施方式中，「芳香族二胺」表示胺基與芳香環直接鍵結之二胺，其結構之一部分可包含脂肪族基或其他取代基。該芳香環可為單環，亦可為縮合環，可列舉苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於其等。其中，較佳為苯環。又，「脂肪族二胺」表示胺基與脂肪族基直接鍵結之二胺，其結構之一部分可包含芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉：六亞甲基二胺等非環式脂肪族二胺；以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺及4,4'-二胺二環己甲烷等環式脂肪族二胺等。其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(有時記為TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。
作為芳香族二胺，可較佳地列舉：4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯，可更佳地列舉：4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯。其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。
上述二胺化合物之中，就光學膜之高彈性模數、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之1種以上。更佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群中之1種以上，進而更佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)。
作為用以製造樹脂之四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物可單獨使用，或者亦可將2種以上組合使用。除了二酐以外，四羧酸化合物亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物相關物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐、單環式之芳香族四羧酸二酐及縮合多環式之芳香族四羧酸二酐。作為非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(有時記為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐、4,4'-(間苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。又，作為單環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉1,2,4,5-苯四羧酸二酐，作為縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉2,3,6,7-萘四羧酸二酐。
其中，可較佳地列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐，可更佳地列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。環式脂肪族四羧酸二酐係指具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及其等之位置異構物。其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，其等可單獨使用或者將2種以上組合使用。又，可將環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐組合使用。
上述四羧酸二酐之中，就光學膜之高耐衝擊性、高彈性模數、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性、及低著色性之觀點而言，較佳為4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及其等之混合物，更佳為3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及其等之混合物，進而較佳為4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)及3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(BPDA)。
作為用以製造樹脂之二羧酸化合物，可較佳地使用對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或其等之醯氯化合物。除了對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或其等之醯氯化合物以外，還可使用其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可列舉：芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及與其等類似之醯氯化合物、酸酐等，可將2種以上組合使用。作為具體例，可列舉：間苯二甲酸；萘二甲酸；4,4'-聯苯二羧酸；3,3'-聯苯二羧酸；碳數8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸由單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結之化合物、以及其等之醯氯化合物。作為具體例，較佳為4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)、對苯二甲醯氯或間苯二甲醯氯，進而較佳為將4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)與對苯二甲醯氯組合使用。
再者，上述聚醯胺醯亞胺樹脂亦可為在無損光學膜之各種物性之範圍內除了上述四羧酸化合物以外進而使四羧酸及三羧酸以及其等之酐及衍生物發生反應而成者。
作為四羧酸，可列舉上述四羧酸化合物之酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及其等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將2種以上組合使用。作為具體例，可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酐；1,3,5-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸由單鍵、-O-、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結之化合物。
製造樹脂時，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量可根據所期望之聚醯胺系樹脂之各結構單元之比率而適當選擇。
製造樹脂時，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5～350℃，較佳為20～200℃，更佳為25～100℃。反應時間亦並無特別限定，例如為30分鐘～10小時左右。可視需要於惰性氣體氛圍或減壓之條件下進行反應。於較佳之態樣中，反應係於常壓及/或惰性氣體氛圍下一面攪拌一面進行。又，反應較佳為於對反應呈惰性之溶劑中進行。作為溶劑，只要不對反應造成影響，則並無特別限定，例如可列舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、γ-戊內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及其等之組合(混合溶劑)等。其中，就溶解性之觀點而言，可較佳地使用醯胺系溶劑。
於聚醯胺醯亞胺樹脂製造時之醯亞胺化步驟中，可於醯亞胺化觸媒之存在下進行醯亞胺化。作為醯亞胺化觸媒，例如可列舉：三丙胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-picoline)、3-甲基吡啶(3-picoline)、4-甲基吡啶(4-picoline)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。又，就容易促進醯亞胺化反應之觀點而言，較佳為與醯亞胺化觸媒一併使用酸酐。關於酸酐，可列舉用於醯亞胺化反應之慣用酸酐等，作為其具體例，可列舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等脂肪族酸酐、鄰苯二甲酸等芳香族酸酐等。
聚醯胺系樹脂可利用慣用之方法、例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析法等分離方法、或該等方法組合而成之分離方法進行單離(分離精製)，於較佳之態樣中，可藉由向包含透明聚醯胺系樹脂之反應液中添加大量甲醇等醇，使樹脂析出，並進行濃縮、過濾、乾燥等而進行單離。
於本發明之一實施方式中，除了聚醯胺系樹脂以外，光學膜亦可包含至少1種填料。作為填料，例如可列舉有機粒子、無機粒子等，可較佳地列舉無機粒子。作為無機粒子，可列舉：氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物粒子、氟化鎂、氟化鈉等金屬氟化物粒子等，其中，就容易提高光學膜之彈性模數及/或撕裂強度，提高耐衝擊性之觀點而言，可較佳地列舉氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子，可更佳地列舉氧化矽粒子。該等填料可單獨使用或者將2種以上組合使用。
填料、較佳為氧化矽粒子之平均一次粒徑通常為1 nm以上，較佳為5 nm以上，更佳為10 nm以上，進而較佳為15 nm以上，尤佳為20 nm以上，較佳為100 nm以下，更佳為90 nm以下，進而較佳為80 nm以下，進而更佳為70 nm以下，尤佳為60 nm以下，尤其更佳為50 nm以下，尤其進而較佳為40 nm以下。若氧化矽粒子之平均一次粒徑處於上述範圍內，則容易抑制氧化矽粒子之凝聚，提高光學膜之光學特性。填料之平均一次粒徑可利用BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法進行測定。再者，可藉由穿透式電子顯微鏡或掃描式電子顯微鏡之圖像解析來測定平均一次粒徑。
於本發明之一實施方式中，於光學膜含有填料、較佳為氧化矽粒子之情形時，填料之含量相對於光學膜100質量份通常為0.1質量份以上，較佳為1質量份以上，更佳為5質量份以上，進而較佳為10質量份以上，進而更佳為20質量份以上，尤佳為30質量份以上，較佳為60質量份以下。若填料之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之彈性模數。又，若填料之含量為上述上限以下，則容易提高光學膜之光學特性。又，於光學膜包含氧化矽粒子等填料之情形時，容易提高彈性模數，但存在彎曲性因其機械強度之增加而降低之虞。本發明之光學膜於內部具有可撓性優異之層，故而即便於光學膜含有填料之情形時，亦可具有較高之彎曲性。
於本發明之一實施方式中，光學膜可進而含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可自樹脂材料領域中通常用作紫外線吸收劑者中適當選擇。紫外線吸收劑可包含吸收400 nm以下波長光之化合物。作為紫外線吸收劑，例如可列舉選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并***系化合物、及三𠯤系化合物所組成之群中之至少1種化合物。紫外線吸收劑可單獨使用或者將兩種以上組合使用。藉由使光學膜含有紫外線吸收劑，樹脂之劣化得以抑制，故而將光學膜應用於圖像顯示裝置等時能夠提高視認性。於本說明書中，「系化合物」係指附帶有「系化合物」這一表述之化合物之衍生物。例如，「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮、及與二苯甲酮鍵結之取代基的化合物。
於光學膜含有紫外線吸收劑之情形時，紫外線吸收劑之含量相對於光學膜100質量份較佳為1質量份以上，更佳為2質量份以上，進而較佳為3質量份以上，較佳為10質量份以下，更佳為8質量份以下，進而較佳為6質量份以下。較佳之含量根據所使用之紫外線吸收劑而有所差異，但若以400 nm之光線透過率為20～60%左右之方式調節紫外線吸收劑之含量，則光學膜之耐光性得以提高，並且容易提高透明性。
於本發明之一實施方式中，光學膜可進而含有除填料、紫外線吸收劑以外之其他添加劑。作為其他添加劑，例如可列舉：抗氧化劑、脫模劑、穩定劑、上藍劑、阻燃劑、pH調整劑、氧化矽分散劑、滑劑、增黏劑、及調平劑等。於含有其他添加劑之情形時，其含量可相對於光學膜100質量份較佳為0.001～20質量份，更佳為0.01～15質量份，進而較佳為0.1～10質量份。
(光學膜之製造方法) 本發明之光學膜之製造方法並無特別限定，該製造方法可至少包含例如以下之步驟： (a)製備至少包含聚醯胺系樹脂及溶劑之樹脂組合物(以下，亦稱為「清漆」)的步驟(清漆製備步驟)； (b)將清漆塗佈於支持材而形成塗膜之步驟(塗佈步驟)；及 (c)使上述塗膜乾燥而形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。
於清漆製備步驟中，藉由使聚醯胺系樹脂溶解於溶劑中，視需要添加上述填料、紫外線吸收劑等添加劑並進行攪拌混合而製備清漆。再者，於使用氧化矽粒子作為填料之情形時，可將包含氧化矽粒子之矽溶膠之分散液替換成可溶解上述樹脂之溶劑、例如下述用以製備清漆之溶劑，將由此獲得之矽溶膠添加至樹脂中。
用以製備清漆之溶劑只要可溶解上述樹脂，則並無特別限定，就容易製造具有上述特徵之本發明之光學膜之觀點而言，作為溶劑，例如較佳為使用N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(DMF)等醯胺系溶劑；γ-丁內酯(GBL)、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及其等之組合，更佳為使用選自由醯胺系溶劑及內酯系溶劑所組成之群中之溶劑。該等溶劑可單獨使用或者將兩種以上組合使用。又，清漆可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%，進而較佳為5～15質量%。
於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法於支持材上塗佈清漆而形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈法、凹版塗佈法等輥式塗佈法、模嘴塗佈法、卡馬塗佈法、模唇塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流延成形法等。
於膜形成步驟中，可藉由使塗膜乾燥，並將其自支持材剝離而形成光學膜。亦可設置剝離後進而使光學膜乾燥之步驟。塗膜之乾燥通常可於50～350℃之溫度下進行。可視需要於惰性氣體氛圍或減壓之條件下進行塗膜之乾燥。
作為支持材之例，金屬系可列舉SUS(Steel Use Stainless，不鏽鋼)板，樹脂系可列舉PET膜、PEN(polyethylene naphthalate，聚萘二甲酸乙二酯)膜、其他聚醯胺系樹脂膜、聚醯亞胺系樹脂膜、環烯烴系聚合物(COP)膜、丙烯酸系膜等、或具有硬塗層之該等樹脂膜、玻璃基板等。其中，就容易將光學膜之I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍之觀點、以及光學膜之平滑性及耐熱性優異之觀點而言，作為支持材，較佳為PET膜、COP膜、具有硬塗層之樹脂膜、SUS板、玻璃基板等，進而，就容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍之觀點、成本、及生產性之觀點而言，支持材更佳為SUS板、具有硬塗層之樹脂膜，進而較佳為SUS板、具有硬塗層之PET膜。
就容易將上述I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍之觀點而言，較佳為藉由如下製造方法來進行上述膜形成步驟中之塗膜之乾燥，該製造方法包括如下步驟：使塗膜乾燥至特定溶劑量為止之後，將支持材(基材)剝離而獲得原料膜的步驟；及在內部分成複數個空間之拉幅爐內對該原料膜進行加熱之加熱步驟。進而，於拉幅爐中，較佳為於至少1個空間內以熱風處理方式進行加熱步驟，且於至少1個空間內以輻射線處理方式進行加熱步驟。再者，拉幅爐係指將膜寬度方向之兩端固定而進行加熱之爐。再者，於本說明書中，包括拉幅爐在內之用以加熱原料膜之加熱裝置亦稱為烘箱。
一面參照圖，一面對本實施方式之光學膜之製造方法進行說明。圖1係模式性地表示本發明之一實施方式中之光學膜之製造方法之較佳實施方式的步驟剖視圖。於圖1中，至少包含聚醯胺系樹脂之原料膜20被搬入至拉幅爐100內，於拉幅爐100內之加熱區中進行加熱，其後自拉幅爐100搬出。於本說明書中，將經加熱步驟之前、及溶劑量等發生經時變化但處於加熱步驟中或在烘箱中搬送之膜稱為原料膜，將經加熱步驟且自烘箱搬出之膜稱為光學膜。
原料膜20可自捲取有原料膜之輥捲出並搬入至拉幅爐100內，亦可自其緊鄰之前一步驟起連續地搬入至拉幅爐內。圖2係模式性地表示本發明之光學膜之製造方法中之加熱步驟之較佳實施方式的步驟剖視圖。如圖2所示，原料膜20較佳為在與膜之搬送方向(亦稱為MD方向(Machine direction，機械方向)、長度方向)垂直之方向(亦稱為TD方向(Transverse Direction，橫向方向)、寬度方向)上之膜兩端被固定之狀態下於拉幅爐內搬送。固定例如利用固持裝置18進行。
可使用針板、夾子及膜夾頭等一般用於膜製造裝置之固持裝置來固定兩端。固定之兩端可根據所使用之固持裝置而適當進行調整，較佳為以距膜端部50 cm以內之距離固定。如圖2所示，原料膜可一面利用複數個固持裝置18固持其兩端，一面進行搬送。關於設置於膜之一端之複數個固持裝置18，其相鄰之固持裝置間之距離較佳為能夠抑制膜之晃動或加熱導致之尺寸變化所引起之破裂等缺陷。相鄰之固持裝置間18之距離較佳為1～50 mm，更佳為3～25 mm，進而較佳為5～10 mm。又，固持裝置較佳為以如下方式設置：將與膜搬送軸正交之直線對準膜之一端之任意固持裝置之固持部中央時，該直線與膜之另一端之交點和最靠近該交點之固持裝置之固持部中央之距離較佳為3 mm以下，更佳為2 mm以下，進而較佳為1 mm以下。藉此，能夠減小對抗之膜兩端部各者之應力之差，因此，能夠抑制所獲得之光學膜中之光學性質發生偏差。又，藉由在此種條件下一面使用固持裝置固定膜一面進行乾燥，膜乾燥時之晃動得以抑制，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜。
作為用固持裝置固定膜兩端之操作例，可列舉如下方法：在搬入至拉幅爐內之前或搬入至拉幅爐內之後之適當時機，利用膜之寬度方向上對向設置之複數個膜夾頭固定膜之寬度方向之兩端。藉由該等操作，膜之晃動等得到抑制，能夠獲得厚度不均或損傷等缺陷充分得到抑制之光學膜。又，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜。膜兩端之固定只要在進行加熱步驟後適時解除即可，可於拉幅爐內進行，亦可自拉幅爐搬出後進行。
用於加熱步驟之拉幅爐之膜搬送方向之全長通常為10～100 m，較佳為15～80 m，更佳為15～60 m。拉幅爐之內部可為1個空間，亦可分為複數個空間，但於本發明之實施方式中，進行加熱步驟之拉幅爐採用內部分成複數個空間者。上述空間可為溫度條件或風速條件等可控之空間，亦可不具備間隔板等物理邊界。於拉幅爐之內部分成複數個空間之情形時，可與膜之搬送方向垂直或平行地分成複數個空間。空間之數量通常為2～20個，較佳為3～18個，更佳為4～15個，進而較佳為5～10個。不管拉幅爐之內部構造如何，可使拉幅爐整體為加熱區，亦可使內部之一部分為加熱區。參照圖1，可使區域10、12及14這3個區域皆為加熱區，亦可使其中1個區域、例如區域14為加熱區。
亦可使用複數個拉幅爐。此情況下之拉幅爐之數量並無特別限定，例如可設為2～12個。各拉幅爐之內部可為上文所述之構造。複數個拉幅爐能夠以不與外部大氣接觸地搬送膜之方式連續地設置。於使用複數個拉幅爐之情形時，可使所有拉幅爐為加熱區，亦可使一部分拉幅爐為加熱區。又，除了拉幅爐以外，亦可併用烘箱作為其他機器。於本說明書中，烘箱意指可對膜進行加熱之機器，包含加熱爐及乾燥爐。加熱爐可採用熱風處理或輻射線處理中任一者，亦可為併用其等之加熱爐。於併用烘箱之情形時，烘箱之內部構造、所使用之數量及進行加熱之條件只要在能獲得本發明之光學膜之範圍內適當調整即可，較佳為與本說明書所記載之拉幅爐相同。
於拉幅爐之內部分成複數個空間之情形時，拉幅爐內部之空氣之循環與排氣較佳為於各空間內進行，於存在複數個拉幅爐之情形時，較佳為於各拉幅爐內進行。拉幅爐內部之溫度較佳為可針對每個拉幅爐進行調整，於拉幅爐之內部分成複數個空間之情形時，較佳為可在各空間內獨立地調整溫度。各個空間之溫度設定可相同，亦可不同。但是，各個拉幅爐或空間之溫度較佳為滿足下述溫度範圍。
進行加熱步驟之拉幅爐100於至少1個空間內以熱風處理方式進行加熱步驟，且於至少1個空間內以輻射線處理方式進行加熱步驟。加熱步驟較佳為進行該步驟之所有空間均以熱風處理方式進行。輻射線處理方式之加熱步驟可在不同於熱風處理方式之另一空間內進行，但較佳為與熱風處理方式併用而進行加熱步驟。
熱風處理方式之加熱步驟可藉由將吹出熱風之噴嘴設置於拉幅爐內來進行。輻射線處理方式之加熱步驟可藉由將IR加熱器等設置於拉幅爐內並使輻射線照射至膜上來進行。
以下，作為本發明之實施方式之一例，針對使用噴嘴之熱風處理方式、及使用IR加熱器之輻射線處理方式，從使用噴嘴之熱風處理方式開始依序進行說明。
參照圖1，進行加熱步驟之拉幅爐100於其內部之上表面100a設置有複數個上側噴嘴30，於其內部之下表面100b設置有複數個下側噴嘴32。上側噴嘴30與下側噴嘴32於上下方向上對向設置。噴嘴例如可如圖1之區域14般設置4對噴嘴(共8個)，亦可如圖1之區域12般設置10對噴嘴(共20個)，可根據烘箱之構造而適當進行設置。就簡化拉幅爐之構造並且均勻地對原料膜進行加熱之觀點、及容易將光學膜之I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍之觀點而言，相鄰噴嘴之間隔較佳為0.1～1 m，更佳為0.1～0.5 m，進而較佳為0.1～0.3 m。
於拉幅爐之內部分成複數個區間之情形時，設置於各空間中之熱風吹出用噴嘴之個數通常可設為5～30個。就容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，又，容易提高光學膜之光學均勻性之觀點而言，噴嘴之個數較佳為8～20個。若噴嘴個數處於上述範圍內，則往往浮動之膜之曲率不容易變得過大，又，往往膜容易在噴嘴之間漂浮，即容易浮動。
設置於拉幅爐100之上表面100a之上側噴嘴30於下部具有吹出口，可向下方向(箭頭B方向)吹出熱風。另一方面，分別設置於拉幅爐100之下表面之下側噴嘴32於上部具有吹出口，可向上方向(箭頭C方向)吹出熱風。再者，雖未示於圖1中，但上側噴嘴30及下側噴嘴32在與圖1之紙面垂直之方向上具有特定尺寸之深度，以便能夠在寬度方向上對原料膜均勻地加熱。
於本實施方式之光學膜之製造方法中，來自設置於加熱區之所有上側噴嘴30及所有下側噴嘴32的吹出口中之熱風之吹出風速較佳為2～25 m/秒。就容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，又，容易提高光學膜之光學均勻性之觀點而言，吹出風速更佳為2～23 m/秒，進而較佳為8～20 m/秒。又，就相同觀點而言，沿原料膜寬度方向之噴嘴之長度每1 m中，自噴嘴30或32每一個噴嘴之吹出口吹出之風量較佳為0.1～3 m3 /秒，更佳為0.1～2.5 m3 /秒，進而較佳為0.2～2 m3 /秒。
若自噴嘴吹出之風速及風量處於上述範圍內，則原料膜之加熱可均勻地進行，因此，往往容易獲得膜整個面上光學及物理物性均勻之膜，並且容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，故而較佳。具體而言，若於上述條件下進行加熱步驟，則膜寬度方向上之面內相位差值之偏差變小，容易獲得膜整個面具有更均勻之面內相位差值之光學膜。因此，應用於顯示裝置時，對比度之偏差得以抑制，而成為視認性優異之前面板。 又，若於上述條件下進行加熱步驟，則容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，並且均勻地加熱，因此，膜中所殘留之溶劑量之偏差變小，容易獲得膜整個面上彈性模數更均勻之光學膜。因此，膜整個面上彎曲性不容易發生偏差，能夠抑制膜面上之彎曲性差異所引起之破損之發生。
於拉幅爐內，將原料膜20自室溫加熱至原料膜中所包含之溶劑蒸發之溫度，但以原料膜之寬度方向上之長度幾乎不發生變化之方式用固持裝置18保持原料膜20，故而往往容易因熱膨脹而導致下垂。若吹出風速及吹出風量處於上述範圍內，則能夠對原料膜20充分地進行加熱，且能夠抑制原料膜20之下垂或晃動。
熱風之吹出風速可使用市售之熱式風速計於噴嘴30、32之熱風吹出口進行測定。又，自吹出口吹出之風量可根據吹出風速與吹出口之面積之積而求出。再者，就測定精度之觀點而言，熱風之吹出風速較佳為於各噴嘴之吹出口進行10處左右之測定，並設為其平均值。
熱風之吹出風速及吹出風量可根據要製造之光學膜之物性(光學特性、機械物性等)而適當調整，但於任一形態中，均較佳為處於上述範圍內。藉此，能夠獲得相位差更充分均勻且軸精度進而夠高之光學膜。關於加熱區，更佳為於所有加熱區中吹出風速為25 m/秒以下且吹出風量為2 m3 /秒以下。
於本實施方式中，於不將原料膜20導入至拉幅爐100內之狀態下，應保持原料膜20之位置上之熱風之風速較佳為5 m/秒以下，更佳為至少於加熱區中為此種風速。藉由使用此種熱風對原料膜20進行加熱，容易獲得滿足上述式之本發明之光學膜，且能夠獲得光學均勻性更加足夠優異之光學膜。
於加熱區中，各個噴嘴30、32之吹出口中之熱風之吹出風速之寬度方向(與圖1之紙面垂直之方向)上之最大值與最小值之差較佳為4 m/秒以下。藉由使用像這樣寬度方向上風速之偏差較少之熱風，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，且能夠獲得寬度方向上之光學均勻性更高之光學膜。又，藉由使用像這樣風速之偏差較少之熱風，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，且能夠獲得光學均勻性更高之光學膜。
於本實施方式中，對膜吹送之熱風之風速較佳為剛搬入至烘箱後之風速大於烘箱內之其他搬送路徑之風速。於烘箱之內部未被分隔成複數個之情形時，剛搬入至烘箱後(以下，稱為搬送路徑1)係指與烘箱搬入口相距未達烘箱長度(自烘箱搬入口至搬出口之長度)之1/10的距離。於烘箱之內部被分成複數個空間之情形時，搬送路徑1係指膜最先通過之空間。於使用複數個烘箱之情形時，可根據最先使用之烘箱之內部構造，與上文記載同樣地設定，亦可將最先通過之烘箱之風速設定為大於第2個以後之烘箱內之風速。
於烘箱之內部未被分隔成複數個之情形時，其他搬送路徑係指與烘箱搬入口相距烘箱長度之1/10以上的搬送路徑部。於烘箱之內部被分成複數個空間之情形時，係指膜通過之第2個空間以後之任意空間。於使用複數個烘箱之情形時，可根據最先使用之烘箱之內部構造，與上文記載同樣地設定，亦可將第2個以後之烘箱中任意烘箱內之風速設定為小於最先通過之烘箱之風速。
搬送路徑1之風速與烘箱內之其他搬送路徑之風速之差較佳為0.1～15 m/秒之範圍。上述風速之差更佳為0.2 m/秒以上，又，更佳為12 m/秒以下，進而較佳為8 m/秒以下，進而更佳為5 m/秒以下，尤佳為3 m/秒以下。若以風速之差成為上述範圍內之方式使剛搬入至烘箱後之風速大於烘箱內之其他搬送路徑之風速，則往往能夠更高效率地去除膜中之溶劑。若風速之差過大，則有時會因風速差而使膜發生晃動，而存在不易製造滿足上述式之本發明之光學膜之情形。又，有可能會導致所獲得之光學膜之表面形狀缺陷或相位差等光學特性之偏差。
關於搬送路徑1之風速與烘箱內之其他搬送路徑之風速之差，可以自設置於搬送路徑1上之噴嘴吹出之熱風風速與自設置於其他搬送路徑上之噴嘴吹出之熱風風速之差的形式求出。於對膜吹送之熱風之風速與自噴嘴吹出之熱風風速存在2 m/秒以上之差的情形時，亦可以搬送路徑1及其他搬送路徑各者上之膜附近之熱風風速之差的形式求出。
其他搬送路徑較佳為位於搬送路徑1之下一個之搬送路徑(稱為搬送路徑2)。於烘箱之內部被未分隔成複數個之情形時，搬送路徑2係指與烘箱搬入口相距烘箱長度之2/10之位置上之搬送路徑部。於烘箱之內部被分成複數個空間之情形時，搬送路徑2係指膜通過之第2個空間。於使用複數個烘箱之情形時，可根據最先使用之烘箱之內部構造，與上文記載同樣地設定，亦可將第2個烘箱之風速設定為小於最先通過之烘箱。
於如上所述設定搬送路徑1與搬送路徑2之風速之差之情形時，搬送路徑2以後之搬送路徑之風速只要處於上述熱風吹出風速之範圍內即可。搬送路徑2以後之搬送路徑之風速與搬送路徑1或搬送路徑2各者之風速之差較佳為0.1～12 m/秒，更佳為0.2～8 m/秒。若風速之差處於此種範圍內，則往往能夠抑制風速差所引起之膜之晃動，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，又，容易將所獲得之光學膜之重量損失率調整為所期望之範圍。
於烘箱之內部未分成複數個空間之情形時，上述風速之差只要藉由調整噴嘴之設置位置、噴嘴之熱風吹出速度及風量、烘箱內之氣流流向等來調整即可。於烘箱之內部分成複數個空間之情形時，只要藉由在第一個空間及其以後之空間中調整噴嘴之設置位置、噴嘴之熱風吹出速度及風量、烘箱內之氣流流向等來調整即可。於使用複數個烘箱之情形時，可根據第一個烘箱之構造與上文記載同樣地進行，只要以第一個烘箱與第2個以後之烘箱中風速不同之方式設定噴嘴之設置位置、噴嘴之熱風吹出速度及風量、烘箱內之氣流等即可。
於拉幅爐100中之加熱區中，相互對向之上側噴嘴30與下側噴嘴32之間隔L(最短距離)較佳為150 mm以上，更佳為150～600 mm，進而較佳為150～400 mm。藉由以此種間隔L配置上側噴嘴與下側噴嘴，能夠更確實地抑制各步驟中之膜之晃動，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜。
又，設置於加熱區之各個噴嘴30、32之吹出口中之熱風之寬度方向(與圖1之紙面垂直之方向)上之最高溫度與最低溫度之差(ΔT)較佳為皆為2℃以下，更佳為皆為1℃以下。藉由使用像這樣寬度方向上之溫度差足夠小之熱風對膜進行加熱，能夠進一步抑制寬度方向之配向性之偏差。再者，熱風之溫度較佳為150～400℃，更佳為150～300℃，進而較佳為150～250℃。
作為光學膜之製造方法中可使用之噴嘴，可使用一般用於膜製造裝置之噴嘴，作為其例，可列舉：射流噴嘴(亦稱為狹縫噴嘴)，其係具有沿原料膜寬度方向延伸之狹縫狀吹出口之噴嘴；及穿孔噴嘴(亦稱為多孔噴嘴)，其係具有原料膜搬送方向及原料膜寬度方向上分別配置有複數個開口之吹出口的噴嘴。
噴嘴成為設置於拉幅爐100內之上表面100a且朝下向膜吹出熱風之構造、及設置於拉幅爐100內之下表面100b且朝上向膜吹出熱風之構造。
射流噴嘴具有沿膜寬度方向延伸之狹縫作為熱風之吹出口。狹縫之狹縫寬度較佳為5 mm以上，更佳為5～20 mm。藉由將狹縫寬度設為5 mm以上，能夠進一步提高所獲得之光學膜之光學均勻性。再者，每一個射流噴嘴之吹出口之面積可根據射流噴嘴之噴嘴寬度方向上之長度與狹縫寬度之積來求出。該每一個噴嘴之吹出口之面積與吹出風速之積為每一個噴嘴之熱風吹出風量。藉由將該熱風吹出風量除以沿膜寬度方向之狹縫之長度，能夠求出沿膜寬度方向之噴嘴之長度每1 m之熱風吹出風量。
關於穿孔噴嘴，與其長度方向垂直之剖面可具有長方形形狀，或者可為朝著與原料膜20對向之面逐漸擴展狀之梯形形狀。穿孔噴嘴於與膜對向之面即下側之面上具有複數個開口(例如圓形開口)。穿孔噴嘴之熱風之吹出口包含設置於吹出面之複數個開口。複數個開口為熱風之吹出口，熱風自開口以特定風速吹出。開口於膜之長度方向上配置有複數個，並且於寬度方向上亦配置有複數個。開口例如可以錯位狀配置。
每一個穿孔噴嘴之吹出口之面積可根據設置於一個穿孔噴嘴之所有開口之面積之和而求出。該每一個噴嘴之吹出口之面積與吹出風速之積為每一個噴嘴之熱風吹出風量。藉由將該熱風吹出風量除以沿膜寬度方向之狹縫之長度，能夠求出沿膜寬度方向之噴嘴之長度每1 m之熱風吹出風量。
於使用穿孔噴嘴之情形時，噴嘴之吹出口中之熱風之寬度方向上之最大吹出風速與最小吹出風速之差可作為自設置於同一噴嘴上之複數個開口吹出之熱風之最大吹出速度與最小吹出速度之差而求出。噴嘴之吹出口中之熱風之寬度方向上之最高溫度與最低溫度之差亦可同樣地求出。
若設置於拉幅爐100內之所有噴嘴均為穿孔噴嘴，則能夠增大整個拉幅爐100內之熱風吹出口之面積之合計。因此，能夠減小吹到膜上之熱風之風壓，能夠進一步減小膜之晃動。藉此，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，且能夠進一步提高所獲得之光學膜之光學均勻性。於拉幅爐內或加熱區中，將原料膜20自室溫加熱至原料膜中所包含之溶劑蒸發之溫度，但以原料膜之寬度方向上之長度幾乎不發生變化之方式用固持裝置18保持原料膜20，故而往往容易因熱膨脹而導致下垂。藉由在加熱區中使用穿孔噴嘴，能夠進一步抑制原料膜20之下垂或晃動，容易製造滿足上述式之本發明之光學膜。
設置於穿孔噴嘴之面上之各個開口之尺寸及數量可在如下範圍內適當進行調整：各開口中之熱風之吹出風速為2～25 m/秒，且沿膜寬度方向之噴嘴之長度每1 m中自各個噴嘴吹出之風量為0.1～3 m3 /秒。
就使自穿孔噴嘴之各開口吹出之風速更均勻之觀點而言，開口之形狀較佳為圓形。於此情形時，開口之直徑較佳為2～10 mm，更佳為3～8 mm。
於使用穿孔噴嘴之情形時，每一個噴嘴之面之膜搬送方向上之長度較佳為50～300 mm。進而，與相鄰穿孔噴嘴之間隔較佳為0.3 m以下。又，穿孔噴嘴之開口之面積之總和(吹出口之面積)相對於穿孔噴嘴之膜寬度方向上之長度的比(穿孔噴嘴之開口之面積之總和(m2 )/穿孔噴嘴之膜寬度方向上之長度(m))較佳為0.008 m以上。
藉由使用此種穿孔噴嘴，能夠增大熱風之吹出口之面積。藉此，能夠充分降低熱風之風速，且以充分之風量吹出熱風，能夠更均勻地對膜進行加熱。結果容易製造滿足上述式之本發明之光學膜，且容易製造相位差更均勻且具有更高軸精度之膜。
與噴嘴同樣地，進行加熱步驟之拉幅爐100可於其內部之上表面100a或其內部之下表面100b設置IR加熱器，於上下方向上對向設置。又，IR加熱器可設置複數個。作為IR加熱器，只要使用一般用於膜製造裝置之IR加熱器即可。
作為照射至膜上之輻射線，較佳為其波長為3～7 μm之熱射線。又，於輻射線處理方式中，若進行加熱步驟之空間之溫度處於上述溫度範圍內，則亦可使溫度較空間溫度高30℃以上之輻射線照射至原料膜上。
於本發明之實施方式中，較佳為於進行加熱步驟之拉幅爐100中併用上述噴嘴(熱風處理方式)與IR加熱器(輻射線處理方式)。於此情形時，只要於相鄰噴嘴之間或噴嘴與拉幅爐之內部壁(亦包括分隔空間之壁)之間設置IR加熱器即可。
於此情形時，只要進行加熱步驟之空間之溫度處於上述溫度範圍內即可，於輻射線處理方式中，可使溫度高於空間溫度之輻射線照射至膜上。輻射線之溫度例如可為較空間溫度高30℃以上之溫度，亦可為較空間溫度高150℃以上之溫度。此處，輻射線之溫度係指像例如IR加熱器之設定溫度那樣發射輻射熱之機器所設定之溫度。輻射線之溫度與照射至膜上之輻射線之溫度之差較佳為5℃以下，更佳為3℃以下，進而較佳為1℃以下。
若於拉幅爐100內併用噴嘴(熱風處理方式)與IR加熱器(輻射線處理方式)，則雖然將溫度高於加熱區或拉幅爐內溫度(氣體氛圍之溫度)之輻射線照射至原料膜上，但是能夠在抑制加熱區或拉幅爐內溫度過高的同時進行加熱步驟。藉此，與僅採用其中任一種處理方式進行加熱步驟之情形相比，能夠保持所獲得之光學膜之黃度(YI)為較小之值，更快地將重量損失率調整為特定範圍。又，藉由使溫度高於加熱區或拉幅爐內溫度之輻射線照射至原料膜上，原料膜中之樹脂容易配向或再配向，因此，往往所獲得之光學膜之面內相位差值之偏差會在中心部與膜兩端部變小。因此，如上所述，所獲得之光學膜在應用於顯示裝置時圖像之視認性更優異。
併用熱風處理方式與輻射線處理方式之加熱步驟較佳為在拉幅爐內進行加熱步驟之複數個空間中原料膜最先通過之空間至位於拉幅爐全長之大致中間之空間之間進行。藉此，不僅能夠縮短加熱步驟所需之時間，而且能夠製造面內相位差之均勻性更優異之光學膜。
加熱步驟較佳為於150～350℃之範圍內進行。於本發明之實施方式中，若加熱步驟處於該溫度範圍內，則往往容易將原料膜調整為下述重量損失率M。又，往往容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍。該溫度範圍更佳為170℃以上，進而較佳為180℃以上，更佳為300℃以下，進而較佳為250℃以下，尤佳為230℃以下。若加熱步驟之溫度處於上述範圍內，則容易將所獲得之光學膜之黃度調整為上述較佳之範圍內。又，進行加熱步驟之空間之溫度更佳為170℃以上，進而較佳為180℃以上。關於進行加熱步驟之拉幅爐內之溫度，只要加熱區處於上述範圍內即可。於存在複數個拉幅爐及拉幅爐內分成複數個空間之情形時，可適當進行調整，但較佳為所有拉幅爐或空間處於上述範圍內。
拉幅爐100內之原料膜20之移動速度通常可於0.1～50 m/分鐘之範圍內適當進行調整。上述移動速度之上限較佳為20 m/分鐘，更佳為15 m/分鐘。上述移動速度之下限較佳為0.2 m/分鐘，更佳為0.5 m/分鐘，進而較佳為0.7 m/分鐘，尤佳為0.8 m/分鐘。若移動速度較快，則為了確保所期望之乾燥時間，往往拉幅爐長度會加長，設備會變大。於本發明之實施方式中，若拉幅爐100內之原料膜20之移動速度處於上述範圍內，則往往容易將原料膜調整為下述重量損失率M。又，往往膜之晃動得以抑制，容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍，並且能夠抑制膜面產生損傷。
加熱步驟之處理時間通常為60秒～2小時，較佳為10分鐘～1小時。處理時間只要考慮上述拉幅爐之溫度、移動速度、熱風之風速及風量等條件而適當調整即可。
於本發明之一實施方式中，光學膜之製造方法可於加熱步驟中進行改變膜寬之操作或保持膜寬而搬送之操作。作為改變膜寬之操作例，可列舉使膜沿寬度方向延伸之操作。延伸倍率較佳為0.7～1.3倍，更佳為0.8～1.2倍，進而較佳為0.8～1.1倍。作為保持膜寬而搬送之操作例，可列舉以膜寬度方向上之長度幾乎不發生變化之方式保持的操作。經該等操作所獲得之光學膜可相對於原料膜之寬度方向上之長度設為0.7～1.3倍左右之長度，可為自原料膜之寬度方向上之長度延伸、等倍或收縮而成之長度。延伸倍率係作為延伸後之膜寬(固持之部分除外)相對於除固持之部分以外之膜寬的比而求出。 再者，於圖2中，用實線表示在膜寬度方向上延伸之操作中延伸倍率超過1倍的情形，用虛線表示延伸倍率為等倍或未達1倍之情形。
經加熱步驟之光學膜自拉幅爐搬出後，可被連續供給至下一步驟，亦可以卷狀捲取而供給至下一步驟。於將光學膜捲取至輥上之情形時，可積層表面保護膜及其他光學膜等其他膜而進行捲取。作為積層於光學膜上之表面保護膜，可使用與下述原料膜上所積層之表面保護膜相同者。積層於光學膜上之表面保護膜之厚度通常為10～100 μm，較佳為10～80 μm。
＜原料膜＞ 供給至上述加熱步驟之原料膜至少包含聚醯胺系樹脂。原料膜較佳為包含與下述用以形成原料膜之清漆中所含成分相同的成分，但由於可能會發生成分之結構變化或一部分溶劑之蒸發，故而亦可不相同。原料膜只要為自支撐膜即可，可為凝膠膜。
就容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍之觀點而言，較佳為不論原料膜是否含有無機材料，均以由熱重量-示差熱測定(以下，有時稱為「TG-DTA測定」)求出之120℃至250℃之重量損失率M較佳為1～40%左右、更佳為3～20%、進而較佳為5～15%、尤佳為5～12%之方式自上述清漆去除一部分溶劑。原料膜之重量損失率M可使用市售之TG-DTA之測定裝置利用以下之方法進行測定。作為TG-DTA之測定裝置，可使用Hitachi High-Tech Science公司製造之TG/DTA6300。
首先，自原料膜取約20 mg之試樣，將試樣以10℃/分鐘之升溫速度自室溫升溫至120℃，以120℃保持5分鐘後，以10℃/分鐘之升溫速度升溫至400℃，一面於該條件下進行加熱，一面測定試樣之重量變化。其次，只要根據TG-DTA測定之結果由下述式算出120℃至250℃之重量損失率M(%)即可。下述式中，W0 表示以120℃保持5分鐘後之試樣之重量，W1 表示250℃下之試樣之重量。 M(%)＝100－(W1 /W0 )×100
若原料膜之重量損失率M一定程度上較大，則將原料膜捲取為與基材或表面保護膜之積層體時，往往積層體之彎折等變形得以抑制，積層體之捲取性提高。又，容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍內。
若原料膜之重量損失率M一定程度上較小，則將原料膜捲取為與基材或表面保護膜之積層體時，往往原料膜不容易貼附於基材或表面保護膜。因此，能夠在維持原料膜之均勻之透明性的同時，容易地將積層體自輥捲出。又，容易將I1 /I2 及/或I3 /I2 調整為上述範圍內。
原料膜可藉由使上述塗膜乾燥，並將其自基材剝離而形成。塗膜之乾燥通常可於50～350℃之溫度下進行。可視需要於惰性氣體氛圍或減壓之條件下進行塗膜之乾燥。可將以上述方式獲得之原料膜供給至上述加熱步驟，從而製造本發明之光學膜。原料膜可連續搬送而供給至加熱步驟，亦可暫時先捲取後供給。
＜功能層＞ 可於本發明之光學膜之至少一面上積層1層以上之功能層。作為功能層，例如可列舉：紫外線吸收層、硬塗層、底塗層、阻氣層、黏著層、色相調整層、折射率調整層等。功能層可單獨使用或者將兩種以上組合使用。
可於本發明之光學膜之至少一面上設置硬塗層。硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2～100 μm。若上述硬塗層之厚度處於上述範圍內，則往往能夠進一步提高耐衝擊性，並且耐彎曲性不容易降低，不容易發生硬化收縮引起之捲縮之問題。硬塗層可藉由活性能量線照射或熱能賦予使包含可形成交聯結構之反應性材料之硬塗組合物硬化而形成，較佳為利用活性能量線照射所獲得者。活性能量線定義為可分解產生活性種之化合物而產生活性種之能量線，可列舉：可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，可較佳地列舉紫外線。上述硬塗組合物含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中至少1種聚合物。
上述自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基之化合物。作為上述自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，只要為可發生自由基聚合反應之官能基即可，可列舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可列舉：乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於上述自由基聚合性化合物具有2個以上之自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基可分別相同，亦可不同。就提高硬塗層之硬度之方面而言，上述自由基聚合性化合物於1分子中具有之自由基聚合性基之數量較佳為2以上。作為上述自由基聚合性化合物，就反應性之高低之方面而言，可較佳地列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言，可列舉：1分子中具有2～6個(甲基)丙烯醯基之被稱為多官能丙烯酸酯單體之化合物、或被稱為環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯之分子內具有數個(甲基)丙烯醯基之分子量為數百至數千之低聚物，可較佳地列舉：選自環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯中之1種以上。
上述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁基、乙烯醚基等陽離子聚合性基之化合物。就提高硬塗層之硬度之方面而言，上述陽離子聚合性化合物於1分子中具有之陽離子聚合性基之數量較佳為2以上，更佳為3以上。 又，作為上述陽離子聚合性化合物，其中，較佳為具有環氧基及氧雜環丁基中至少1種作為陽離子聚合性基之化合物。就伴隨聚合反應之收縮較小之方面而言，較佳為環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物具有如下優點：容易獲得各種結構之化合物，不會對所獲得之硬塗層之耐久性造成不良影響，亦容易控制與自由基聚合性化合物之相容性。又，環狀醚基中之氧雜環丁基具有如下等優點：與環氧基相比，聚合度更容易提高，毒性較低，加快由所獲得之硬塗層之陽離子聚合性化合物取得之網狀結構形成速度，即便在與自由基聚合性化合物混合存在之區域中，亦不會於膜中殘留未反應之單體，從而形成獨立之網狀結構。 作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可列舉：具有脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚、或藉由將含有環己烯環、環戊烯環之化合物以過氧化氫、過酸等適當之氧化劑進行環氧化而獲得之脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或者其等之環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與表氯醇之反應而製造之縮水甘油醚、及酚醛清漆環氧樹脂等，即自雙酚類衍生之縮水甘油醚型環氧樹脂等。
上述硬塗組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可列舉：自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱中至少一種方式分解，產生自由基或陽離子而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。 自由基聚合起始劑只要可藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者而釋出使自由基聚合開始之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑，可列舉：過氧化氫、過苯甲酸等有機過氧化物、偶氮雙丁腈等偶氮化合物等。 作為活性能量線自由基聚合起始劑，有如下之種類，即：由分子之分解生成自由基之Type1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存地藉由奪氫型反應生成自由基之Type2型自由基聚合起始劑，其等可單獨使用或者一併使用。 陽離子聚合起始劑只要可藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者而釋出使陽離子聚合開始之物質即可。作為陽離子聚合起始劑，可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。其等根據結構之不同，可藉由活性能量線照射或加熱之任一者而開始陽離子聚合，或藉由活性能量線照射或加熱兩者均可開始陽離子聚合。
相對於上述硬塗組合物整體100質量%，可較佳地包含0.1～10質量%之上述聚合起始劑。若上述聚合起始劑之含量處於上述範圍內，則往往能夠使硬化充分地進行，能夠使最終獲得之塗膜之機械物性或密接力處於良好之範圍內，又，不容易發生硬化收縮引起之接著力不良或破裂現象及捲縮現象。
上述硬塗組合物可進而包含選自由溶劑及添加劑所組成之群中之一種以上。 上述溶劑可使上述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散，只要為本技術領域中作為硬塗組合物之溶劑而為人所知之溶劑，則可在不阻礙本發明效果之範圍內使用。 上述添加劑可進而包含無機粒子、調平劑、穩定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤滑劑、防污劑等。
紫外線吸收層係具有紫外線吸收功能之層，例如包含：主材，其選自紫外線硬化型透明樹脂、電子束硬化型透明樹脂、及熱硬化型透明樹脂；及紫外線吸收劑，其分散於該主材中。
黏著層係具有黏著性功能之層，具有使光學膜接著於其他構件之功能。作為黏著層之形成材料，可使用通常已知者。例如可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於此情形時，可藉由事後進行能量供給而將樹脂組合物高分子化並硬化。
黏著層可為被稱為感壓型接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)之藉由按壓而貼合於對象物之層。感壓型接著劑可為黏著劑，即「於常溫下具有黏著性且以較小之壓力接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)，亦可為膠囊型接著劑，即「保護被膜(微膠囊)中包含特定成分，能夠以適當方法(壓力、熱等)保持穩定性直至破壞被膜為止之接著劑」(JIS K 6800)。
色相調整層係具有色相調整功能之層，係可將包含光學膜之積層體調整為目標色相之層。色相調整層例如為含有樹脂及著色劑之層。作為該著色劑，例如可列舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系煅燒顏料、群青、鋁酸鈷、及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖啶酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、蒽(Threne)系化合物、及吡咯并吡咯二酮系化合物等有機顏料；硫酸鋇、及碳酸鈣之體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料、及媒染染料等染料。
折射率調整層係具有折射率調整功能之層，係具有例如不同於光學膜之折射率，且能夠對光學積層體賦予特定折射率之層。折射率調整層例如可為含有適當選擇之樹脂、及視情況進而含有顏料之樹脂層，亦可為金屬之薄膜。作為調整折射率之顏料，例如可列舉：氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鋯及氧化鉭。該顏料之平均一次粒徑可為0.1 μm以下。藉由將顏料之平均一次粒徑設為0.1 μm以下，能夠防止透過折射率調整層之光之漫反射，從而防止透明度降低。作為用於折射率調整層之金屬，例如可列舉：氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化矽、氧化銦、氮氧化鈦、氮化鈦、氮氧化矽、氮化矽等金屬氧化物或金屬氮化物。
於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之光學膜作為圖像顯示裝置之前面板、其中之可撓性顯示裝置之前面板(視窗膜)、其中之可捲顯示器或可摺疊顯示器之前面板非常有用。可撓性顯示裝置例如具有可撓性功能層、及與可撓性功能層重疊且作為前面板發揮功能之光學膜。即，可撓性顯示裝置之前面板配置於可撓性功能層之上之視認側。該前面板具有保護可撓性功能層、例如可撓性顯示器內之圖像顯示元件之功能。
作為圖像顯示裝置，可列舉：電視、智慧型手機、行動電話、汽車導航、平板PC(pesonal computer，個人電腦)、可攜式遊戲機、電子紙、量錶、指示板、鐘錶、及智慧型手錶等可穿戴裝置等。作為可撓性顯示裝置，可列舉具有可撓性之所有圖像顯示裝置。
[可撓性顯示裝置] 本發明亦提供一種具備本發明之光學膜之可撓性顯示裝置。本發明之光學膜較佳為於可撓性顯示裝置中用作前面板，該前面板有時稱為視窗膜。可撓性顯示裝置包含可撓性顯示裝置用積層體及有機EL顯示面板，且係相對於有機EL顯示面板，將可撓性顯示裝置用積層體配置於視認側，可彎折地構成。可撓性顯示裝置用積層體可含有本發明之光學膜(視窗膜)、圓偏光板、觸控感測器，其等以任意順序積層，但較佳為自視認側起以視窗膜、圓偏光板、觸控感測器或視窗膜、觸控感測器、圓偏光板之順序來積層。若觸控感測器之視認側存在圓偏光板，則不易視認出觸控感測器之圖案，顯示圖像之視認性變好，故而較佳。各個構件可使用接著劑、黏著劑等進行積層。又，可具備形成於視窗膜、圓偏光板、觸控感測器之任一層之至少一面上之遮光圖案。
[偏光板] 本發明之可撓性顯示裝置可進而具備偏光板、較佳為圓偏光板。圓偏光板係具有如下功能之功能層：藉由在直線偏光板上積層λ/4相位差板而僅使右旋圓偏振光分量或左旋圓偏振光分量透射。例如係為了以下目的而使用：將外界光轉換成右旋圓偏振光，將被有機EL面板反射而成為左旋圓偏振光之外界光遮斷，僅使有機EL之發光分量透射，藉此抑制反射光之影響而易於觀察圖像。為了達成圓偏振光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸理論上需要為45°，但實用上為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板未必需要相鄰地積層，吸收軸與遲相軸之關係只要滿足上述範圍即可。較佳為於所有波長下實現完整之圓偏振光，但於實用上未必需要，因此本發明中之圓偏光板亦包括楕圓偏光板。亦較佳為於直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，使出射光成為圓偏振光，藉此提高佩戴偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性。
直線偏光板係具有如下功能之功能層：使於透射軸方向上振動之光通過，但將與其垂直之振動分量之偏光遮斷。上述直線偏光板可為直線偏光元件單獨之構成、或具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜的構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則往往柔軟性不容易降低。 上述直線偏光元件可為藉由將聚乙烯醇(PVA)系膜進行染色、延伸而製造之膜型偏光元件。可使碘等二色性色素吸附於藉由延伸而配向之PVA系膜，或者在碘等二色性色素吸附於PVA之狀態下進行延伸而使二色性色素配向，從而發揮偏光性能。製造上述膜型偏光元件時，亦可另外具有膨潤、利用硼酸之交聯、利用水溶液之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可以PVA系膜單獨進行，亦可於與聚對苯二甲酸乙二酯之類的其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。 進而，作為上述偏光元件之另一例，可為塗佈液晶偏光組合物所形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有顯示出液晶狀態之性質即可，尤其是若具有層列相等高次之配向狀態，則能夠發揮較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物亦較佳為具有聚合性官能基。
上述二色性色素係與上述液晶化合物一併配向而顯示出二色性之色素，二色性色素本身可具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組合物之中任一化合物具有聚合性官能基。 上述液晶偏光組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶偏光層係藉由在配向膜上塗佈液晶偏光組合物來形成液晶偏光層而製造。 液晶偏光層可形成得厚度較膜型偏光元件薄。上述液晶偏光層之厚度可較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。 上述配向膜例如可藉由在基材上塗佈配向膜形成組合物，並進行摩擦、偏光照射等來賦予配向性而製造。除了配向劑以外，上述配向膜形成組合物亦可包含溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可使用聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量可為10,000～1,000,000左右。就配向限制力之觀點而言，上述配向膜之厚度較佳為5～10,000 nm，更佳為10～500 nm。上述液晶偏光層可自基材剝離進行轉印而積層，亦可直接將上述基材積層。上述基材亦較佳為作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材發揮作用。
作為上述保護膜，只要為透明高分子膜即可，具體而言，作為所使用之高分子膜，可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、具有包含降𦯉烯或環烯烴之單體單元的環烯烴系衍生物等聚烯烴類、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素、丙醯基纖維素等(改性)纖維素類、甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物等丙烯酸類、苯乙烯(共)聚合物等聚苯乙烯類、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物類、丙烯腈-苯乙烯共聚物類、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類、聚氯乙烯類、聚偏二氯乙烯類、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯類、尼龍等聚醯胺類、聚醯亞胺類、聚醯胺醯亞胺類、聚醚醯亞胺類、聚醚碸類、聚碸類、聚乙烯醇類、聚乙烯醇縮醛類、聚胺基甲酸酯類、環氧樹脂類等之膜，就透明性及耐熱性優異之方面而言，可較佳地列舉聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺、聚酯、烯烴、丙烯酸或纖維素系之膜。該等高分子可分別單獨使用或者將2種以上混合使用。該等膜可保持未延伸狀態使用，或者以單軸或雙軸延伸膜之形式使用。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並進行硬化所獲得之塗佈型保護膜。可視需要包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑、溶劑等。上述保護膜之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若上述保護膜之厚度處於上述範圍內，則保護膜之柔軟性不容易降低。
上述λ/4相位差板係對與入射光之行進方向正交之方向(膜之面內方向)賦予λ/4之相位差的膜。上述λ/4相位差板可為纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜經延伸所製得之延伸型相位差板。可視需要包含相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑、溶劑等。上述延伸型相位差板之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則往往膜之柔軟性不容易降低。 進而，作為上述λ/4相位差板之另一例，可為塗佈液晶組合物所形成之液晶塗佈型相位差板。上述液晶組合物包含液晶性化合物，該液晶性化合物具有顯示出向列型、膽固醇狀、層列型等液晶狀態之性質。包含液晶組合物中之液晶性化合物的任一化合物具有聚合性官能基。上述液晶塗佈型相位差板可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。上述液晶塗佈型相位差板可與上述液晶偏光層之記載同樣地藉由在配向膜上塗佈液晶組合物並使其硬化形成液晶相位差層而製造。液晶塗佈型相位差板可形成得厚度較延伸型相位差板薄。上述液晶偏光層之厚度通常可為0.5～10 μm，較佳為1～5 μm。上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離進行轉印而積層，亦可直接將上述基材積層。上述基材亦較佳為作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材發揮作用。
一般而言，波長越短雙折射越大且波長越長雙折射越小之材料較多。於此情形時，全可見光區域中無法達成λ/4之相位差，故而多數情況下設計成相對於視感度較高之560 nm附近為λ/4之面內相位差、即100～180 nm、較佳為130～150 nm。採用逆頻散λ/4相位差板，即使用具有與通常相反之雙折射率波長分散特性之材料所成者能夠改善視認性，故而較佳。作為此種材料，於延伸型相位差板之情形時，亦較佳為使用日本專利特開2007-232873號公報等所記載者，於液晶塗佈型相位差板之情形時，亦較佳為使用日本專利特開2010-30979號公報所記載者。 又，作為其他方法，亦已知有與λ/2相位差板組合而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(日本專利特開平10-90521號公報)。λ/2相位差板亦利用與λ/4相位差板同樣之材料及方法製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板可任意組合，皆使用液晶塗佈型相位差板能夠使厚度變薄，故而較佳。 關於上述圓偏光板，為了提高斜向之視認性，亦已知有積層正型C板之方法(日本專利特開2014-224837號公報)。正型C板亦同樣地，液晶塗佈型相位差板及延伸型相位差板均可。厚度方向之相位差通常為-200～-20 nm，較佳為-140～-40 nm。
[觸控感測器] 本發明之可撓性顯示裝置可進而具備觸控感測器。觸控感測器用作輸入機構。作為觸控感測器，提出了電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種樣式，任一方式均可。其中，較佳為靜電電容方式。靜電電容方式觸控感測器分成活性區域及位於上述活性區域之外廓部之非活性區域。活性區域係與顯示面板上顯示畫面之區域(顯示部)對應之區域，係感知使用者之觸控之區域，非活性區域係與顯示裝置中未顯示畫面之區域(非顯示部)對應之區域。觸控感測器可包含：基板，其具有可撓特性；感知圖案，其形成於上述基板之活性區域；各感測線，其等形成於上述基板之非活性區域，用以經由上述感知圖案及焊墊部與外部之驅動電路連接。作為具有可撓特性之基板，可使用與上述高分子膜相同之材料。關於觸控感測器之基板，就抑制觸控感測器之龜裂之方面而言，較佳為其韌性為2,000 MPa%以上之基板。韌性亦可更佳為2,000～30,000 MPa%。此處，韌性係定義為經高分子材料之拉伸實驗所獲得之應力(MPa)-應變(%)曲線(Stress-strain curve)中至破裂點為止之曲線之下部面積。
上述感知圖案可具備形成於第1方向上之第1圖案及形成於第2方向上之第2圖案。第1圖案與第2圖案配置於彼此不同之方向上。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為了感知要觸控之地點，必須將各個圖案電性連接。第1圖案係各單位圖案經由接頭相互連接之形態，但第2圖案係各單位圖案以島嶼分佈形態相互分離之構造，故而為了將第2圖案電性連接，需要另外之橋接電極。感知圖案可應用周知之透明電極原材料。例如可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-伸乙基二氧噻吩))、碳奈米管(CNT)、石墨烯、金屬線等，其等可單獨使用或者將2種以上混合使用。可較佳地使用ITO。用於金屬線之金屬並無特別限定，例如可列舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、硒、鉻等。其等可單獨使用或者將2種以上混合使用。
橋接電極可於感知圖案上部介隔絕緣層而形成於上述絕緣層上部，於基板上形成有橋接電極，可於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可利用與感知圖案相同之原材料形成，亦可利用鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或其中之2種以上之合金等金屬形成。第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間形成有絕緣層。絕緣層亦可僅形成於第1圖案之接頭與橋接電極之間，亦可形成於覆蓋感知圖案之層之構造中。於後者之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔而連接第2圖案。上述觸控感測器可於基板與電極之間進而包含光學調節層作為用以適當地補償形成有圖案之圖案區域與未形成有圖案之非圖案區域間之透過率差、具體而言由該等區域中之折射率差所誘發之光透過率差的機構，上述光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。藉由上述無機粒子，可使光學調節層之折射率上升。 上述光硬化性有機黏合劑例如可包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如可為包含含環氧基重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等彼此不同之各重複單元的共聚物。 上述無機粒子例如可包含氧化鋯粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化輔助劑等各添加劑。
[接著層] 形成上述可撓性顯示裝置用積層體之各層(視窗膜、偏光板、觸控感測器)以及構成各層之膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)可利用接著劑接著。作為接著劑，可使用水系接著劑、有機溶劑系接著劑、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型接著劑、水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等通用者。其中，經常使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著層之厚度可根據所求出之接著力等而適當調節，例如為0.01～500 μm，較佳為0.1～300 μm。接著層可於上述可撓性圖像顯示裝置用積層體中存在複數層，但各者之厚度及所使用之接著劑之種類可相同，亦可不同。
作為上述水系溶劑揮散型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散狀態之聚合物作為主劑聚合物。除了水、上述主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於利用上述水系溶劑揮散型接著劑進行接著之情形時，可藉由將上述水系溶劑揮散型接著劑注入至被接著層間而將被接著層貼合後，使其乾燥而賦予接著性。於使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時，接著層之厚度可為0.01～10 μm，較佳為0.1～1 μm。於將上述水系溶劑揮散型接著劑用於形成複數層之情形時，各層之厚度及上述接著劑之種類可相同，亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由照射活性能量線使活性能量線硬化組合物硬化而形成，上述活性能量線硬化組合物包含形成接著劑層之反應性材料。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中至少1種聚合物。上述自由基聚合性化合物與硬塗組合物同樣地，可使用與硬塗組合物相同種類者。作為用於接著層之自由基聚合性化合物，較佳為具有丙烯醯基之化合物。為了降低接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物。
上述陽離子聚合性化合物與硬塗組合物同樣地，可使用與硬塗組合物相同種類者。作為用於活性能量線硬化組合物之陽離子聚合性化合物，更佳為環氧化合物。為了降低接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。 活性能量線組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，有自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱中至少一種方式分解，產生自由基或陽離子而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。可使用硬塗組合物之記載中可藉由活性能量線照射來開始自由基聚合或陽離子聚合中至少任一種聚合的起始劑。
上述活性能量線硬化組合物可進而包含離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑進行接著之情形時，可藉由如下方法進行接著：將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層中任一層或兩層後進行貼合，經由任一被接著層或兩層被接著層照射活性能量線而使其硬化。於使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，接著層之厚度通常可為0.01～20 μm，較佳為0.1～10 μm。於將上述活性能量線硬化型接著劑用於形成複數層之情形時，各層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同，亦可不同。
作為上述黏著劑，根據主劑聚合物而分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑等，可使用其中任一種。除了主劑聚合物以外，黏著劑中亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。使構成上述黏著劑之各成分溶解、分散於溶劑中而獲得黏著劑組合物，將該黏著劑組合物塗佈於基材上後進行乾燥，藉此形成黏著層(接著層)。黏著層可直接形成，亦可轉印另外形成於基材上者。為了覆蓋接著前之黏著面，亦較佳為使用脫模膜。於使用上述黏著劑之情形時，接著層之厚度通常可為1～500 μm，較佳為2～300 μm。於將上述黏著劑用於形成複數層之情形時，各層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同，亦可不同。
[遮光圖案] 上述遮光圖案可用作上述可撓性圖像顯示裝置之邊框或殼體之至少一部分。藉由遮光圖案，上述可撓性圖像顯示裝置之邊緣部中所配置之配線被隱藏，不容易被視認出，由此圖像之視認性得以提高。上述遮光圖案可為單層或複層之形態。遮光圖案之顏色並無特別限制，可具有黑色、白色、金屬色等各種顏色。遮光圖案可由用以具現顏色之顏料、及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、矽酮等高分子所形成。其等可單獨使用或者以2種以上之混合物來使用。上述遮光圖案可利用印刷、平版印刷、噴墨等各種方法形成。遮光圖案之厚度通常為1～100 μm，較佳為2～50 μm。又，亦較佳為於遮光圖案之厚度方向上賦予傾斜等形狀。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進一步詳細地進行說明。只要無特別記載，則例中之「%」及「份」分別意指質量%及質量份。首先，對物性值之測定方法進行說明。
＜重量平均分子量＞ 樹脂之重量平均分子量係使用凝膠滲透層析法(GPC)所測得。測定試樣之製備方法及測定條件如下所述。 (1)試樣製備方法 稱取樹脂20 mg，添加10 mL之DMF(10 mmol/L之溴化鋰)，使其完全溶解。利用層析盤(孔徑0.45 μm)對該溶液進行過濾，而製成試樣溶液。 (2)測定條件 裝置：HLC-8020GPC 管柱：保護管柱+TSKgelα-M(300 mm×7.8 mm直徑)×2個+α-2500(300 mm×7.8 mm直徑)×1個 溶離液：DMF(添加10 mmol/L之溴化鋰) 流量：1.0 mL/分鐘 檢測器：RI(Refractive Index，折射率)檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：100 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯
＜厚度＞ 針對實施例及比較例中所獲得之光學膜，使用ABS數位式量錶(Mitutoyo(股)製造之「ID-C112BS」)來測定光學膜之厚度。
＜彈性模數＞ 使用啞鈴切割機將實施例及比較例中所獲得之光學膜切成10 mm×100 mm之短條狀，而獲得試驗樣本。針對該試驗樣本之彈性模數，使用島津製作所(股)製造之Autograph AG-IS，於夾頭間距離50 mm、拉伸速度10 mm/分鐘之條件下測定應力-應變曲線(S-S曲線)，根據應力之5～20 MPa下之梯度算出光學膜之彈性模數(GPa)。
＜彎曲試驗＞ 使用啞鈴切割機將實施例及比較例中所獲得之膜切成10 mm×100 mm之大小。此時，針對實施例1、2，以TD方向為長邊側之方式將膜切割。針對比較例，以膜之長度方向為長邊側之方式將膜切割。將經切割之膜設置於MIT耐折疲勞試驗機(東洋精機製作所(股)製造之「MIT-DA」，型號：0530)本體，於試驗速度175 cpm、彎折角度135°、負荷750 g、彎折夾具之R為1.0 mm之條件下，實施向正反兩方向之彎折試驗，測定各膜之耐彎曲次數(可不斷裂地彎折之次數)。再者，於本實施例中，評價向MD方向之彎折。
＜拉曼分光測定＞ (測定試樣之製作) 使用切割器將實施例及比較例中所獲得之膜切成2 mm×5 mm之大小。此時，針對實施例1、2，以TD方向為長邊側之方式將膜切割。針對比較例，以膜之長度方向為長邊側之方式將膜切割。將經切割之剖面配置於表面，利用環氧系常溫硬化樹脂53型(Acura製造)進行包埋處理。利用超薄切片機EM UC7(Leica製造)對光學積層體之剖面側進行處理，而進行剖面製作。 (拉曼分光測定) 針對切斷之膜，使用日本分光(股)製造之NRS-5100，於下文所示之條件下，於膜之厚度方向中央部、1/4地點、1/2地點、3/4地點實施拉曼分光測定。再者，對焦於膜之表面後，照射雷射2分鐘以上，基準線穩定時開始測定。又，將與PET基材相接之表面上之點設為D0 。根據所獲得之結果讀取1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度。 (測定條件) 曝光時間：10秒 累計次數：2次 激發波長：532.23 nm 分光器：單光束 狹縫寬度：100×1000 μm 分辨率：13.80 cm-1 、3.64 cm-1 /像素 物鏡：MPLFLN 100× 雷射強度：2.6 mW 減光器：50%(OD0.3)
＜矽溶膠之製備＞ 向1,000 mL之燒瓶中加入甲醇分散矽溶膠(平均一次粒徑27 nm，氧化矽粒子固形物成分30.5%)442.6 g及GBL 301.6 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進而，於250 hPa下升溫至70℃加熱30分鐘，而獲得GBL分散矽溶膠1。所獲得之GBL分散矽溶膠1之固形物成分濃度為29.1%。
＜合成例1：聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之製備＞ 向經充分乾燥之具備攪拌機及溫度計之反應容器中導入氮氣，對容器內進行氮氣置換。向該反應容器中添加二甲基乙醯胺(DMAc)1907.2質量份，並加入2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺(TFMB)111.94質量份及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)46.84質量份而使其進行反應。 繼而，加入4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)(OBBC)10.37質量份及對苯二甲醯氯(TPC)42.79質量份而使其進行反應。繼而，添加無水乙酸37.66質量份，攪拌15分鐘後，添加4-甲基吡啶11.45質量份，將反應容器升溫至70℃，進而攪拌3小時，從而獲得反應液。 將反應液冷卻，加入甲醇3794.5質量份，繼而，滴加離子交換水1419.4質量份，而使白色固體析出。藉由離心過濾捕獲析出之白色固體，利用甲醇進行洗淨，藉此獲得包含聚醯胺醯亞胺樹脂之濕濾餅。於減壓下以78℃使所獲得之濕濾餅乾燥而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂之粉體。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之重量平均分子量為466,000。
＜實施例1＞ (樹脂組合物1之製造) 於室溫下向GBL溶劑中添加GBL分散表面修飾矽溶膠1並充分攪拌、混合，向其中以相對於樹脂及氧化矽粒子之合計量100質量份分別為5.7質量份及35 ppm之方式添加Sumisorb(註冊商標)340[2-(2-羥基-5-第三辛基苯基)苯并***，Sumika Chemtex(股)製造]及Sumiplast(註冊商標)Violet B(上藍劑，Sumika Chemtex(股)製造)，並加以混合。其後，以樹脂與氧化矽粒子之組成比為60：40之方式添加聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並加以混合，攪拌直至均勻，從而獲得固形物成分為10質量%之樹脂組合物1(以下，有時稱為樹脂清漆1)。
(光學膜1之製造) 於PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜(東洋紡(股)製造之「COSMOSHINE(註冊商標)A4100」，厚度188 μm，厚度分佈±2 μm)上，藉由流延成形將所獲得之樹脂清漆1成形為塗膜。此時，線速為0.3 m/分鐘。又，於80℃下加熱10分鐘後，於100℃下加熱10分鐘，繼而，於90℃下加熱10分鐘，最後，於80℃下加熱10分鐘，於該條件下使塗膜乾燥。其後，自PET膜將塗膜剝離，從而獲得厚58 μm、寬700 mm之原料膜1。 採用具備夾子作為固持具之拉幅式乾燥機(由1～6室構成)，對所獲得之原料膜1進行加熱，去除溶劑，而獲得厚度49.5 μm之樹脂膜1。此時，乾燥爐內之條件係調整為：乾燥爐內之溫度200℃、夾子之固持寬度25 mm、膜之搬送速度0.9 m/分鐘、乾燥爐出口之膜寬相對於乾燥爐入口之膜寬(夾子間距離)之比為0.98，將拉幅式乾燥機之各室中之風速調整為：1室為13.5 m/秒，2室為13 m/秒，3～6室為11 m/秒。熱風係自膜之上方及下方吹送。對所獲得之樹脂膜1之剖面上之拉曼分光測定、彈性模數、耐彎曲性進行評價。
＜實施例2＞ (樹脂組合物2之製造) 於室溫下向GBL溶劑中添加聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並充分攪拌、混合，向其中以相對於樹脂之合計量100質量份分別為5.7質量份及35 ppm之方式添加Sumisorb 340[2-(2-羥基-5-第三辛基苯基)苯并***，Sumika Chemtex(股)製造]及Sumiplast Violet B(上藍劑，Sumika Chemtex(股)製造)，並加以混合。攪拌直至均勻，從而獲得固形物成分為15質量%之樹脂組合物2(以下，有時稱為樹脂清漆2)。
(光學膜2之製造) 使用樹脂清漆2作為樹脂清漆，且使用基材厚度198 μm之兩面具有硬塗(HC)層之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(具有兩面易接著層之厚度188 μm之PET+兩面上厚度5 μm之硬塗層，流延製膜面側及相反面(即，硬塗層面側)之馬氏硬度為410 N/mm)，除此以外，利用與實施例1相同之方法獲得厚49.5 μm之樹脂膜2。對所獲得之樹脂膜2之剖面上之拉曼分光測定、彈性模數、耐彎曲性進行評價。
＜比較例1＞ (樹脂組合物3之製造) 於室溫下向GBL溶劑中添加GBL分散表面修飾矽溶膠1並充分攪拌、混合，其後，以樹脂與氧化矽粒子之組成比為60：40之方式添加聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並加以混合。攪拌直至均勻，從而獲得固形物成分為8.6質量%之樹脂組合物3(以下，有時稱為樹脂清漆3)。
(光學膜3之製造) 於PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜(東洋紡(股)製造之「COSMOSHINE A4100」，厚度188 μm，厚度分佈±2 μm)之平滑面上，以自支撐膜之厚度為55 μm之方式使用敷料器塗佈所獲得之樹脂清漆3，於50℃下乾燥30分鐘，繼而於140℃下乾燥15分鐘後，將所獲得之塗膜自聚酯基材剝離，而獲得自支撐膜。將自支撐膜固定於金屬框，使用全排氣烘箱(ESPEC(股)製造)作為乾燥機，進而於大氣下於200℃下乾燥40分鐘，而獲得厚度50 μm之樹脂膜3。此時，關於乾燥爐內之條件，乾燥爐內之溫度為200℃，以膜不收縮之方式利用金屬框固定膜側面(延伸倍率1倍)。熱風係自膜之橫向(與厚度方向剖面垂直之方向)吹送。對所獲得之樹脂膜3之剖面上之拉曼分光測定、彈性模數、耐彎曲性進行評價。
＜比較例2＞ (樹脂組合物4之製造) 於室溫下向GBL溶劑中添加聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並充分攪拌、混合，從而獲得固形物成分為9質量%之樹脂組合物4(以下，有時稱為樹脂清漆4)。
(光學膜4之製造) 使用樹脂清漆4作為樹脂清漆，除此以外，利用與比較例1相同之方法獲得厚度50 μm之樹脂膜4。對所獲得之樹脂膜4之剖面上之拉曼分光測定、彈性模數、耐彎曲性進行評價。
針對實施例及比較例中所獲得之光學膜，測定上述項目，將其結果示於表1中。再者，雖未記載於表1中，但於實施例及比較例之光學膜中，I3 /I2 並不滿足式(2)。
[表1]
   氧化矽 延伸倍率 熱風之方向 中心 (I2 ) 1/4 (I1 ) I1 /I2 彎曲次數[次] 彈性模數 [GPa]
實施例 1 有 0.98 上下 1770 1628 0.92 ≧2.5萬 7.2
2 無 0.98 上下 2164 1061 0.49 ≧20萬 6.0
比較例 1 有 1.00 橫 2590 2550 0.98 ＜2萬 6.5
2 無 1.00 橫 1723 1712 0.99 ＜20萬 5.2
確認滿足上述式(1)及式(2)中至少一式之實施例之光學膜所具有之彎曲次數高於式(1)及式(2)皆超過0.97之比較例1及2，並且彈性模數亦更高。其中，確認含有氧化矽之光學膜通常難以提高彎曲次數，但根據本案發明之光學膜，即便於含有氧化矽之情形時，亦能夠獲得較高之耐彎曲性。
10:區域 12:區域 14:區域 18:固持裝置 20:原料膜 22:樹脂膜 30:上側噴嘴(噴嘴) 32:下側噴嘴(噴嘴) 35:噴嘴 37:IR加熱器 100:拉幅爐 100a:上表面 100b:下表面 A:膜之搬送方向
圖1係模式性地表示本發明之光學膜之製造方法之較佳實施方式的步驟剖視圖。 圖2係模式性地表示本發明之光學膜之製造方法中之加熱步驟之較佳實施方式的步驟剖視圖。 圖3係模式性地表示本發明之光學膜之製造方法中之拉幅爐內之較佳實施方式的步驟剖視圖。

Claims (10)

  1. 一種光學膜，其係包含聚醯胺系樹脂者，將該光學膜之厚度設為A μm，將該光學膜之一表面上之任意位置設為D0 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/4 μm之位置設為D1 ，將厚度方向上與D0 相距A×1/2 μm之位置設為D2 ，將厚度方向上與D0 相距A×3/4 μm之位置設為D3 ，將D1 ～D3 之各位置上藉由拉曼分光法測得之1,550～1,650 cm-1 之範圍內之最大峰之強度分別設為I1 ～I3 時，該光學膜滿足式(1)及式(2)中至少一者： [數3]
    Figure 03_image039
    。
  2. 如請求項1之光學膜，其中滿足上述式(1)之I1 /I2 或滿足上述式(2)之I3 /I2 為0.3以上。
  3. 如請求項1或2之光學膜，其中光學膜之彈性模數為5.5 GPa以上。
  4. 如請求項1或2之光學膜，其中光學膜之全光線透過率為80%以上。
  5. 如請求項1或2之光學膜，其中聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為250,000以上。
  6. 如請求項1或2之光學膜，其中聚醯胺系樹脂係聚醯胺醯亞胺樹脂。
  7. 如請求項1或2之光學膜，其係可撓性顯示裝置之前面板用膜。
  8. 一種可撓性顯示裝置，其具備如請求項1至7中任一項之光學膜。
  9. 如請求項8之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
  10. 如請求項8或9之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。
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